JP5829415B2 - 電子線分析装置 - Google Patents
電子線分析装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5829415B2 JP5829415B2 JP2011076245A JP2011076245A JP5829415B2 JP 5829415 B2 JP5829415 B2 JP 5829415B2 JP 2011076245 A JP2011076245 A JP 2011076245A JP 2011076245 A JP2011076245 A JP 2011076245A JP 5829415 B2 JP5829415 B2 JP 5829415B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- analysis position
- electron beam
- sample surface
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Description
EPMA201は、試料Sが載置される試料ステージ10と、電子線Eを試料S表面上の分析位置に照射する電子線源20と、試料S表面上の分析位置から放出された特性X線Pによる信号を検出するX線検出部30と、試料S表面上の分析位置で反射した反射電子Qによる信号を検出する反射電子検出器40と、試料S表面上の分析位置を含む領域に可視光Lを照射するハロゲンランプ61と、試料S表面上の分析位置を含む領域で反射した可視光Lを検出する画像取得装置70と、EPMA201全体の制御を行うコンピュータ250とを備える。
試料台の上面には、試料Sを載せたり取り除いたりすることが可能となっている。このような試料台は、コンピュータ250の試料ステージ制御部51aによって駆動機構のパルスモータへ必要な駆動パルス信号が出力されることにより、所望のX方向とY方向とZ方向とに移動できるようになっている。
これにより、左方(X方向)に進行する可視光Lは有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域に所定方向(Z方向)から照射され、試料S表面上の分析位置を含む領域で所定方向と逆方向(−Z方向)に反射した可視光Lは有孔平面ミラー91によって進行方向を右方(−X方向)に変えるようになっている。一方、所定方向(Z方向)に進行する電子線Eは有孔平面ミラー91の孔部を通過し、試料S表面上の分析位置を含む領域に所定方向(Z方向)から照射されるようになっている。
CCDカメラ71は、ハロゲンランプ61から出射された可視光Lと同じ光軸で可視光Lを検出するために、CCDカメラ71の前方(X方向)には、平板形状のハーフミラー92が配置されている。
これにより、所定方向(Z方向)に進行する可視光Lの50%がハーフミラー92によって進行方向をX方向に変えるようになっている。一方、−X方向に進行する可視光Lの50%がハーフミラー92を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれるようになっている。
まず、分析者は、試料ステージ10の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、ハロゲンランプ61の電源を入れることにより、ハロゲンランプ61からZ方向に出射された可視光Lが、ハーフミラー92によって進行方向をX方向に変える。そして、X方向に進行する可視光Lが、有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に反射した可視光Lが有孔平面ミラー91によって進行方向を−X方向に変える。−X方向に進行する可視光Lがハーフミラー92を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部251bは、CCDカメラ71で検出された可視光Lに基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の光学像をモニタ53に表示する。これにより、分析者は、光学像を観察しながら、操作部54を用いて試料ステージ10をX方向やY方向やZ方向に移動させることにより、最適な焦点が得られるように配置するとともに、試料S表面上の分析範囲の位置(分析位置情報)を設定する。
その結果、分析制御部51cは、信号の強度に基づいて、試料S表面上の分析位置のX線画像や反射電子像を取得してモニタ53に表示する。
また、「赤色領域」としては、例えば、波長700nm以上の領域等が挙げられ、本願において「出射しない」とは、可能な限り出射しないことをいい、赤色領域の光を少しでも減光したものも含むものとする。
本発明の電子線分析装置によれば、落射光用光源部は、赤色領域の光を出射しないので、試料表面上の分析位置に所定方向から電子線と可視光とを同時に照射しても、反射電子検出器は、試料表面上で反射した可視光を検出することがなく、試料表面上の分析位置で反射した反射電子のみを検出することになる。
また、本発明の電子線分析装置は、試料表面上の分析位置に所定方向から電子線を照射する電子線源と、前記試料表面上の分析位置で反射した反射電子による信号を検出する赤色領域の光を多く検出するスペクトル応答特性を有する半導体検出器からなる反射電子検出器と、前記試料の分析位置を含む領域に前記所定方向と逆方向から偏光光を照射する透過光用光源部と、前記試料の分析位置を含む領域を前記所定方向と逆方向に透過した偏光光が検出面に入射して、前記試料の分析位置を含む領域の偏光像を取得する画像取得部と、前記試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、前記反射電子検出器で信号を収集し、前記信号の強度に基づいて前記試料表面上の一次元又は二次元範囲の反射電子像を取得する制御部とを備える電子線分析装置であって、前記透過光用光源部は、ハロゲンランプと青色領域の光のみを透過するブルーフィルタとを備えるもの、又は、青色発光ダイオードであるようにしている。
以上のように、本発明の電子線分析装置によれば、反射電子像と偏光像とを同時に取得することができる。
ここで、「青色領域」としては、例えば、波長700nm以下の領域等が挙げられ、本願において「のみ出射する」もしくは「のみ透過する」とは、可能な限り他の領域の光を出射もしくは透過しないことをいう。
以上のように、本発明の電子線分析装置によれば、X線画像と反射電子像と光学像もしくは偏光像とを同時に取得することができる。
図1は、第一の実施形態に係るEPMAの要部の構成を示す構成図である。なお、上述したEPMA201と同様のものについては、同じ符号を付している。
EPMA1は、試料Sが載置される試料ステージ10と、電子線Eを試料S表面上の分析位置に照射する電子線源20と、試料S表面上の分析位置から放出された特性X線Pによる信号を検出するX線検出部30と、試料S表面上の分析位置から放出された反射電子Qによる信号を検出する反射電子検出器40と、試料S表面上の分析位置を含む領域に光L’を照射する落射光用光源部60と、試料S表面上の分析位置を含む領域で反射した光L’を検出する画像取得装置70と、EPMA1全体の制御を行うコンピュータ50とを備える。
まず、分析者は、試料ステージ10の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、落射光用光源部60の電源を入れることにより、落射光用光源部60からZ方向に出射された光L’が、ハーフミラー92によって進行方向をX方向に変える。そして、X方向に進行する光L’が、有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に反射した光L’が有孔平面ミラー91によって進行方向を−X方向に変える。−X方向に進行する光L’がハーフミラー92を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部51bは、CCDカメラ71で検出された光L’に基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の光学像をモニタ53に表示する。これにより、分析者は、光学像を観察しながら、操作部54を用いて試料ステージ10をX方向やY方向やZ方向に移動させることにより、最適な焦点が得られるように配置するとともに、試料S表面上の分析範囲の位置(分析位置情報)を設定する。
その結果、分析制御部51cが、信号の強度に基づいて試料S表面上の分析範囲のX線画像や反射電子像を取得すると同時に、画像取得制御部51bは、光L’に基づいて試料S表面上の分析範囲の光学像を取得する。
図2は、第二の実施形態に係るEPMAの要部の構成を示す構成図である。なお、上述したEPMA1と同様のものについては、同じ符号を付している。
EPMA101は、試料Sが載置される試料ステージ110と、電子線Eを試料S表面上の分析位置に照射する電子線源20と、試料S表面上の分析位置から放出された特性X線Pによる信号を検出するX線検出器30と、試料S表面上の分析位置から放出された反射電子Qによる信号を検出する反射電子検出器40と、試料S表面上の分析位置を含む領域に光L’を照射する落射光用光源部84と、試料Sの分析位置を含む領域に偏光光L’’を照射する透過光用光源部80と、試料S表面上の分析位置を含む領域で反射したかもしくは試料Sの分析位置を含む領域を透過した光L’、L’’を検出する画像取得装置170と、EPMA101全体の制御を行うコンピュータ150とを備える。
試料台の中央部には、開口が形成されており、偏光光L’’が開口を通過するようになっている。
検光子73は、コンピュータ150の画像取得制御部151bによって検光子移動機構へ必要な駆動信号が出力されることにより、第一位置か、第一位置より下方に位置する第二位置かのいずれの位置に配置されるようになっている。
具体的には、検光子73は、透過光用光源部80から偏光光L’’が出射された際(落射光用光源部84から光L’が出射されない際)には、CCDカメラ71の検出面に向かう光が通過する第一位置(光学系への導入位置)に配置され、一方、落射光用光源部84から光L’が出射された際(透過光用光源部80から偏光光L’’が出射されない際)には、CCDカメラ71の検出面に向かう光が通過しない第二位置(退避位置)73’に配置されるようになっている。
なお、検光子移動機構は、上記のように分析者の操作によって検光子73を移動させる機構の他、落射光用光源部84や透過光用光源部80への電源投入を検知して自動的に検光子73を移動させる機構であってもよい。
まず、分析者は、試料ステージ110の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、落射光用光源部84の電源を入れることにより、落射光用光源部84からZ方向に出射された光L’が、ハーフミラー92によって進行方向をX方向に変える。そして、X方向に進行する光L’が、有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に反射した光L’が有孔平面ミラー91によって進行方向を−X方向に変える。−X方向に進行する光L’がハーフミラー92を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部151bは、CCDカメラ71で検出された光L’に基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の光学像をモニタ53に表示する。これにより、分析者は、光学像を観察しながら、操作部54を用いて試料ステージ110をX方向やY方向やZ方向に移動させることにより、最適な焦点が得られるように配置するとともに、試料S表面上の分析範囲の位置(分析位置情報)を設定する。
その結果、分析制御部51cが、信号の強度に基づいて試料S表面上の分析範囲のX線画像や反射電子像を取得すると同時に、画像取得制御部151bは、偏光光L’’に基づいて試料S表面上の分析範囲の偏光像を取得する。
20 電子線源
40 反射電子検出器
51 CPU(制御部)
51b 画像取得制御部(画像取得部)
60 落射光用光源部
71 CCDカメラ(画像取得部)
Claims (4)
- 試料表面上の分析位置に所定方向から電子線を照射する電子線源と、
前記試料表面上の分析位置で反射した反射電子による信号を検出する赤色領域の光を多く検出するスペクトル応答特性を有する半導体検出器からなる反射電子検出器と、
前記試料表面上の分析位置を含む領域に前記所定方向から可視光を照射する落射光用光源部と、
前記試料表面上の分析位置を含む領域で前記所定方向と逆方向に反射した可視光が検出面に入射して、前記試料表面上の分析位置を含む領域の光学像を取得する画像取得部と、
前記試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、前記反射電子検出器で信号を収集し、前記信号の強度に基づいて前記試料表面上の一次元又は二次元範囲の反射電子像を取得する制御部とを備える電子線分析装置であって、
前記落射光用光源部は、ハロゲンランプと青色領域の光のみを透過するブルーフィルタとを備えるもの、又は、青色発光ダイオードであることを特徴とする電子線分析装置。 - 試料表面上の分析位置に所定方向から電子線を照射する電子線源と、
前記試料表面上の分析位置で反射した反射電子による信号を検出する赤色領域の光を多く検出するスペクトル応答特性を有する半導体検出器からなる反射電子検出器と、
前記試料の分析位置を含む領域に前記所定方向と逆方向から偏光光を照射する透過光用光源部と、
前記試料の分析位置を含む領域を前記所定方向と逆方向に透過した偏光光が検出面に入射して、前記試料の分析位置を含む領域の偏光像を取得する画像取得部と、
前記試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、前記反射電子検出器で信号を収集し、前記信号の強度に基づいて前記試料表面上の一次元又は二次元範囲の反射電子像を取得する制御部とを備える電子線分析装置であって、
前記透過光用光源部は、ハロゲンランプと青色領域の光のみを透過するブルーフィルタとを備えるもの、又は、青色発光ダイオードであることを特徴とする電子線分析装置。 - 前記試料表面上の分析位置から放出された特性X線による信号を検出するX線検出部を備え、
前記制御部は、前記試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、前記X線検出部で信号を収集し、前記信号の強度に基づいて前記試料表面上の一次元又は二次元範囲のX線画像を取得することを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子線分析装置。 - 前記X線検出部は、前記試料表面上の分析位置から放出される特性X線を分光するX線分光器と、当該X線分光器で波長分散されたX線を検出するX線検出器とを備える波長分散型のX線検出部であることを特徴とする請求項3に記載の電子線分析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011076245A JP5829415B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 電子線分析装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2011076245A JP5829415B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 電子線分析装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012211770A JP2012211770A (ja) | 2012-11-01 |
JP5829415B2 true JP5829415B2 (ja) | 2015-12-09 |
Family
ID=47265862
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011076245A Active JP5829415B2 (ja) | 2011-03-30 | 2011-03-30 | 電子線分析装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5829415B2 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5835191B2 (ja) * | 2012-11-16 | 2015-12-24 | パルステック工業株式会社 | 回折環形成装置及び回折環形成システム |
JP6733268B2 (ja) * | 2016-04-01 | 2020-07-29 | 株式会社島津製作所 | 電子線応用装置 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0756788B2 (ja) * | 1987-12-04 | 1995-06-14 | 株式会社日立製作所 | 電子顕微鏡 |
JPH04280053A (ja) * | 1991-03-06 | 1992-10-06 | Jeol Ltd | 走査電子顕微鏡 |
JP2001196020A (ja) * | 2000-01-12 | 2001-07-19 | Musashino Eng:Kk | Rheed装置およびその駆動方法 |
JP2003100247A (ja) * | 2001-09-27 | 2003-04-04 | Jeol Ltd | 荷電粒子ビーム装置 |
JP4874698B2 (ja) * | 2006-04-14 | 2012-02-15 | 日本電子株式会社 | 電子プローブマイクロアナライザ |
JP5102580B2 (ja) * | 2007-10-18 | 2012-12-19 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | 荷電粒子線応用装置 |
JP5770434B2 (ja) * | 2010-06-24 | 2015-08-26 | 株式会社堀場製作所 | 電子顕微鏡装置 |
-
2011
- 2011-03-30 JP JP2011076245A patent/JP5829415B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2012211770A (ja) | 2012-11-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US11009461B2 (en) | Defect investigation device simultaneously detecting photoluminescence and scattered light | |
KR102562181B1 (ko) | 합 주파수 진동 분광법을 통해 샘플의 스캐닝되는 표면을 이미지화하기 위한 표면 감지 시스템들 및 방법들 | |
TWI439684B (zh) | 具自晶圓或其他工件特定材料層所發射光致發光信號優先偵測之光致發光成像 | |
JP6382848B2 (ja) | 光線に対する分析物の相対位置を調節する方法 | |
JP6214323B2 (ja) | 異質な表面特徴と固有の表面特徴とを区別するための装置 | |
JP2008502929A (ja) | 反射または透過赤外光による微細構造の検査装置または検査方法 | |
JP2007179002A (ja) | 光学顕微鏡及びスペクトル測定方法 | |
JP6788298B1 (ja) | 蛍光観察機能を備えるラマン顕微装置 | |
KR20130138214A (ko) | 결함 검사 및 광발광 측정 시스템 | |
JP6642705B2 (ja) | 顕微鏡 | |
KR20130092429A (ko) | 화상 생성 장치 | |
JP2002196252A (ja) | 走査型顕微鏡検査における照明用光源装置、及び走査型顕微鏡 | |
JP2009109788A (ja) | レーザー走査型顕微鏡 | |
JP5829415B2 (ja) | 電子線分析装置 | |
KR101861919B1 (ko) | 반도체의 고속 광학 검사방법 | |
JP2012211771A (ja) | 電子線分析装置 | |
JP2007101476A (ja) | ラマンスペクトル取得方法 | |
JP2009002795A (ja) | 蛍光x線分析装置 | |
JP2010266452A (ja) | 走査型近接場光学顕微鏡 | |
JP2009244156A (ja) | 分光装置、及び分光共焦点顕微鏡 | |
JP2003050354A (ja) | 走査型レーザ顕微鏡 | |
JP6191636B2 (ja) | 電子線を用いた試料観察方法、および、電子顕微鏡 | |
JP6733268B2 (ja) | 電子線応用装置 | |
JP6977995B2 (ja) | 顕微ラマン分光測定装置、顕微ラマン分光測定の方法及びプログラム | |
US20230258918A1 (en) | Digital microscope with artificial intelligence based imaging |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20130606 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140128 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140131 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20140325 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20140708 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141007 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20141016 |
|
A912 | Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912 Effective date: 20141107 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20150911 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20151022 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 5829415 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |