KR20130092429A - 화상 생성 장치 - Google Patents

화상 생성 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20130092429A
KR20130092429A KR1020127033467A KR20127033467A KR20130092429A KR 20130092429 A KR20130092429 A KR 20130092429A KR 1020127033467 A KR1020127033467 A KR 1020127033467A KR 20127033467 A KR20127033467 A KR 20127033467A KR 20130092429 A KR20130092429 A KR 20130092429A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
characteristic
laser
laser light
image
spatial modulation
Prior art date
Application number
KR1020127033467A
Other languages
English (en)
Inventor
히로토시 데라다
요시타케 이와키
도모노리 나카무라
데루오 다카하시
Original Assignee
하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 filed Critical 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤
Publication of KR20130092429A publication Critical patent/KR20130092429A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
    • G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
    • G01B11/022—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness by means of tv-camera scanning
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/0016—Technical microscopes, e.g. for inspection or measuring in industrial production processes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/0004—Microscopes specially adapted for specific applications
    • G02B21/002—Scanning microscopes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B21/00—Microscopes
    • G02B21/36—Microscopes arranged for photographic purposes or projection purposes or digital imaging or video purposes including associated control and data processing arrangements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/001—Axicons, waxicons, reflaxicons

Abstract

화상 생성 장치(1)는 레이저 광을 출사하는 레이저 광원(3)과, 레이저 광의 강도를 변조시키는 레이저 출력 제어부(11)와, 레이저 광의 피측정물 A로의 조사 위치를 주사하는 레이저 스캐너(5)와, 피측정물 A에 복수의 공간 변조 패턴의 조명광을 조사하도록 제어하는 변조 패턴 제어부(15)와, 복수의 공간 변조 패턴의 조명광의 조사에 따라서 피측정물 A로부터 생성되는 전기신호를 검출하는 전기신호 검출기(7)와, 조명광의 조사 위치에 관한 조명 위치 정보와 검출된 신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 포함하는 2차원 특성 화상을 생성하는 전기신호 화상화부(17)와, 복수의 공간 변조 패턴에 대응하여 생성된 복수의 특성 화상을 기본으로, 피측정물 A의 패턴 화상을 생성하는 화상 데이터 연산부(19)를 구비한다.

Description

화상 생성 장치{IMAGE GENERATION DEVICE}
본 발명은 피측정물에 공간 변조된 광을 조사하는 것에 의해 화상을 생성하는 화상 생성 장치에 관한 것이다.
종래부터, 반도체 디바이스 등에 공간 변조된 광을 조사하고 그 결과로 생긴 상(像)을 관찰하는 광학 장치가 사용되어 있다. 예를 들어, 하기 특허 문헌 1에는 광원 장치로부터의 광을 회절 격자를 통해 시료에 조사하고, 그 때의 시료 상을 CCD 카메라에서 촬상하는 광학 장치가 기재되어 있다. 또, 이 광원 장치는 회절 격자를 등속도로 회절 격자의 무늬와 수직인 방향으로 이동하면서 촬상하는 것에 의해 복수의 변조상(變調像)을 얻은 후에, 이들 변조상을 화상 처리하는 것에 의해 시료의 상을 형성한다. 또, 하기 특허 문헌 2에는 시료에 공간 변조된 광을 조사하기 위해서, 조명광의 광로 중에 SLM(Spatial Light Modulator)을 배치한 현미경 장치도 개시되어 있다.
선행 기술 문헌
특허 문헌
특허 문헌 1 : 특개 2001－117010호 공보
특허 문헌 2 : 특개 2007－199572호 공보
그렇지만, 상술한 종래의 화상 생성용의 장치에서는 시료에 공간 변조된 광을 조사하고, 그 결과로 생긴 시료의 상을, 대물 렌즈나 결상 렌즈 등을 포함하는 광학계를 통해서 촬상하기 때문에, 최종적으로 생성하는 시료의 2차원상(次元像)의 분해능(分解能)을 높이는 것에 한계가 발생한다. 즉, 시료의 2차원상의 분해능은 광학계의 광학적 성능과 2차원 촬상 장치의 픽셀 분해능과 감도에 의해 상한값이 결정되어 버리는 경향이 있다.
그래서, 본 발명은 이러한 과제에 감안하여 이루어진 것으로, 간이한 장치 구성으로 분해능이 향상된 시료의 패턴상을 얻는 것이 가능한 화상 생성 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 과제를 해결하기 위해 본 발명의 일 측면을 따른 화상 생성 장치는, 피측정물의 화상을 생성하는 화상 생성 장치로서, 레이저 광을 출사하는 레이저 광원과 레이저 광의 강도를 변조시키는 레이저 변조부와, 레이저 광의 피측정물로의 조사 위치를 주사하는 레이저 주사부와, 피측정물에 복수의 공간 변조 패턴의 조명광을 조사하도록, 레이저 변조부 및 레이저 주사부를 제어하는 제어부와, 복수의 공간 변조 패턴의 조명광의 조사에 따라서 피측정물로부터 생성되는 신호를 검출하는 검출부와, 제어부에 의해 제어된 조명광의 조사 위치에 관한 조사 위치 정보와, 조사 위치에 있어서의 레이저 광의 조사에 따라서 검출부에 의해 검출된 신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성하고, 공간 변조 패턴에 대응하여 복수의 특성 분포 정보를 포함하는 2차원 특성 화상을 생성하는 신호 생성부와, 복수의 공간 변조 패턴에 대응하여 생성한 복수의 2차원 특성 화상을 기본으로, 피측정물의 패턴 화상을 생성하는 화상 처리부를 구비한다.
이와 같은 화상 생성 장치에 의하면, 레이저 광원으로부터 발해진 레이저 광이, 레이저 변조부에 의해 그 강도가 변조되는 것과 동시에, 레이저 주사부에 의해, 반도체 디바이스나 생물 시료 등의 피측정물로의 조사 위치가 주사되면서, 피측정물에 조사된다. 이 때, 제어부에 의해, 피측정물에 복수의 2차원 공간 변조 패턴의 조명광이 조사되도록 레이저 변조부 및 레이저 주사부가 제어되면서, 검출부에 의해 피측정물로부터 생성되는 신호가 검출된다. 추가로, 신호 생성부에 의해, 각각의 공간 변조 패턴에 대응하여, 조명광의 조사 위치에 관한 정보와 그 조사 위치에 있어서의 조명광의 조사에 따라서 검출된 신호의 특성에 관한 정보가 대응지어진 특성 분포 정보가 생성되는 것과 동시에, 각각의 공간 변조 패턴에 대응하여 2차원 특성 화상이 생성되고, 화상 처리부에 의해, 복수의 2차원 특성 화상을 기본으로 피측정물의 패턴 화상이 생성된다. 이것에 의해, 피측정물로부터 패턴 화상을 취득할 때에 대물 렌즈나 결상 렌즈 등을 포함하는 광학계를 통할 필요가 없기 때문에, 시료의 패턴상의 분해능을 용이하게 향상시킬 수 있다. 이에 더하여, 피측정물에 조사하는 조명광의 공간 변조 패턴의 위상 및 방향을 용이하게 변경할 수 있고, 소망한 위치 및 방향의 고해상도 화상을 재빠르게 얻을 수 있다.
본 발명에 의하면, 간이한 장치 구성으로 분해능이 향상된 시료의 패턴상을 얻을 수 있다.
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 화상 생성 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 2는 도 1의 변조 패턴 제어부에 의해 규정되는 조명광의 공간 변조 패턴을 나타내는 개념도이다.
도 3은 도 1의 변조 패턴 제어부에 의해 규정되는 조명광의 공간 변조 패턴을 나타내는 개념도이다.
도 4는 도 1의 변조 패턴 제어부에 의해 규정되는 조명광의 공간 변조 패턴을 나타내는 개념도이다.
도 5는 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 화상 생성 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 6은 도 5의 화상 생성 장치의 광신호 검출기 주변의 상세 구성을 나타내는 개략 구성도이다.
도 7은 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 화상 생성 장치의 구성을 나타내는 블록도이다.
도 8은 도 7의 화상 생성 장치의 광신호 검출기 주변의 상세 구성을 나타내는 개략 구성도이다.
도 9는 본 발명의 변형예인 광학계를 나타내는 개략 구성도이다.
도 10은 본 발명의 변형예인 레이저 광원을 나타내는 개략 구성도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명에 관한 화상 생성 장치의 바람직한 실시 형태에 대해서 상세하게 설명한다. 또한, 도면의 설명에 있어서 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 부여하고, 중복하는 설명을 생략한다.
［제1 실시 형태］
도 1은 본 발명의 제1 실시 형태에 관한 화상 생성 장치(1)의 구성을 나타내는 블록도이다. 도 1에 나타내는 화상 생성 장치(1)는 반도체 디바이스 등의 전기 소자인 피측정물에 대해서 복수의 공간 변조 패턴에 기초하여 조명광을 주사하고, 이에 따라서 피측정물 A로부터 생성되는 전기신호의 복수의 특성 분포를 검출하고, 이들 복수의 특성 분포를 기본으로 하여 피측정물의 고해상도 패턴상을 얻기 위한 장치이다. 이 화상 생성 장치(1)는 레이저 광을 출사하는 레이저 광원(3)과, 레이저 스캐너(레이저 주사부; 5)와, 피측정물 A로부터 생성되는 전기신호를 검출하는 전기신호 검출기(검출부; 7)와, 레이저 광원(3)으로부터의 레이저 광을 피측정물 A를 향해서 도광(導光)하는 광학계(9)와, 레이저 광원(3)의 출력 강도를 제어하는 레이저 출력 제어부(레이저 변조부; 11)와, 레이저 스캐너(5)의 동작을 제어하는 스캐너 제어부(13)와, 피측정물 A에 조사되는 공간 변조 패턴을 제어하는 변조 패턴 제어부(15)와, 전기신호 검출기(7)에 의해 검출된 전기신호의 전기 특성을 화상화하는 전기신호 화상화부(신호 생성부; 17)와, 전기신호 화상화부(17)에 의해 생성된 화상화 신호를 사용하여 피측정물 A의 패턴 화상을 생성하는 화상 데이터 연산부(화상 처리부; 19)를 구비하고 있다.
상세하게, 광학계(9)는 릴레이 렌즈(21), 미러(23), 및 대물 렌즈(25)로 구성되어 있다. 릴레이 렌즈(21)는 레이저 스캐너(5)에 의해 조사 각도가 움직여진 레이저 광을 대물 렌즈(25)까지 효율적으로 이끌기 위한 광학계이며, 대물 렌즈(25)의 사출동(射出瞳)을 레이저 스캐너(5)의 반사면에 투영하는 것에 의해, 레이저 스캐너(5)가 반사한 레이저 광을 대물 렌즈(25)에 확실하게 도달시키는 역할을 가진다. 여기서, 미러(23)는 사용하지 않아도 좋다.
레이저 스캐너(5)는 레이저 광의 진행 방향을 변경하는 것에 의해 그 조사 위치를 2차원적으로 주사시키는 광학 장치이다. 즉, 레이저 스캐너(5)는 릴레이 렌즈(21)를 향해서 입사하는 레이저 광의 입사 각도를 변경하는 것에 의해, 광학계(9)를 통하여 조사되는 레이저 광의 조사 위치를, 피측정물 A의 표면 상에서 2차원적으로 주사시킨다. 이와 같은 레이저 스캐너(5)로서는 서로의 회전축이 직교하는 2개의 미러를 가지고, 이들의 회전각이 전기적으로 제어 가능하게 된 갈바노미터 미러(Galvanometer mirror)를 사용할 수 있다. 그 외, 레이저 스캐너(5)로서는 폴리곤 미러(polygon mirror), MEMS(Micro Electro Mechanical System) 미러, AOD(음향 광학 편향기), 레조넌트 스캐너(resonant scanner; 공진형 갈바노미터 스캐너), EO 스캐너(전기 광학적 광 편향기) 등을 채용할 수도 있다.
여기서, 레이저 광원(3)으로부터 출력되는 레이저 광의 강도는 레이저 광원(3)에 접속된 레이저 출력 제어부(11)로부터의 제어 신호에 의해 변조 가능하게 구성되어 있고, 레이저 스캐너(5)에 의한 레이저 광의 피측정물 A의 표면의 조사 위치는 레이저 스캐너(5)에 접속된 스캐너 제어부(13)로부터의 제어 신호에 의해 변경 가능하게 구성되어 있다. 추가로, 레이저 출력 제어부(11) 및 스캐너 제어부(13)에는 변조 패턴 제어부(15)가 접속되고, 변조 패턴 제어부(15)에 의해, 피측정물 A에 미리 결정된 복수의 공간 변조 패턴에 기초하여 조명광이 주사되도록, 레이저 출력 제어부(11) 및 스캐너 제어부(13)가 제어된다.
다음에, 도 2 ~ 도 4를 참조하여, 변조 패턴 제어부(15)에 의해 규정되는 조명광의 공간 변조 패턴에 대해서 예시한다.
도 2 ~ 4에는 변조 패턴 제어부(15)에 의해 규정된 공간 변조 패턴의 피측정물 A에 대한 조사 상태를 나타내고 있다. 도 2에 나타내는 바와 같이, 우선 변조 패턴 제어부(15)는 피측정물 A의 평면을 따른 소정 방향인 X축 방향을 따라서 레이저 광의 조사 위치를 이동시키도록 제어하는 것과 동시에, X축 방향의 강도 분포가 삼각 함수(sin 함수, 또는 cos 함수)에 따라서 주기적으로 증감하도록 레이저 광의 조사 강도를 변조시킨다. 동일 도면에 있어서, 화살표는 레이저 조사 위치의 변경 상태를 나타내고 있다. 이것에 의해, X축 방향을 따라서 폭 W1에서 주기적으로 변조된 띠형상 조사 패턴 L1이 형성된다. 계속해서, 변조 패턴 제어부(15)는 X축에 수직인 Y축을 따른 방향으로 레이저 조사 위치를 이동시킨 후에, 레이저 광의 조사 위치의 X축 방향을 따른 이동과 레이저 광 강도의 변조를 제어하여 띠형상 조사 패턴 L1의 형성을 반복한다. 그 결과, Y축 방향을 따른 소망한 피치 W1의 줄무늬를 가지는 공간 변조 패턴을 생성할 수 있다. 또한, 레이저 광의 강도는 주기적인 온-오프로 변조되어도 좋다.
또, 도 3에 나타내는 바와 같이, 변조 패턴 제어부(15)는 X축을 따른 띠형상 조사 패턴 L2의 공간적인 위상을, Y축 방향에 있어서 인접하는 패턴 사이에서 서서히 시프트시키도록 레이저 광 강도의 변조를 제어할 수도 있다. 이 경우는 Y축 방향에 대해서 소망한 각도 θ2만큼 경사지는 소망한 피치 W2의 줄무늬에 근사되는 공간 변조 패턴을 생성할 수 있다. 추가로, 도 4에 나타내는 바와 같이, 변조 패턴 제어부(15)는 X축을 따른 1회의 레이저 광의 주사의 동안 레이저 광의 조사 강도를 균일하게 하고, Y축 방향으로 배열되는 복수의 띠형상 조사 패턴 사이에서 조사 강도가 변조되도록 제어할 수도 있다. 이 경우, X축 방향을 따른 소망한 피치 W3의 줄무늬를 가지는 공간 변조 패턴을 생성할 수 있다. 또한, 공간 변조 패턴으로서는 n회 회전 대칭(n은 3 이상)의 호(縞)형상 패턴이 좋다.
상기와 같은 공간 변조 패턴을 가지는 조명광의 조사 타이밍에 맞추어, 전기신호 검출기(7)는 피측정물 A로부터 생성되는 광기전류 등의 전기신호를 검출한다. 예를 들어, 전기신호 검출기(7)는 레이저 광의 조사에 따라서 생성되는 광기전류의 전류치 등의 특성값을, 피측정물 A의 2개 단자간의 전압 변화로서 검출한다. 전기신호 화상화부(17)는 전기신호 검출기(7) 및 변조 패턴 제어부(15)에 접속되어 있고, 전기신호 검출기(7)에 의해 검출된 특성값을 화상화한다. 즉, 전기신호 화상화부(17)는 특성값이 검출되었을 때의 피측정물 A 상의 레이저 광의 조사 위치를 XY좌표 등의 조사 위치 정보로서 특정한다. 그리고, 전기신호 화상화부(17)는 그 조사 위치 정보와, 해당하는 조사 위치에 있어서의 레이저 광의 조사에 따라서 검출된 전기신호의 특성값에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성한다. 추가로, 전기신호 화상화부(17)는 피측정물 A에 조사된 각각의 공간 변조 패턴에 대응하여, 복수의 특성 분포 정보를 포함하는 2차원 특성 화상을 생성한다. 예를 들어, 전기신호 화상화부(17)는 각 특성값이 피측정물 A 상의 좌표마다 배열된 2차원의 특성 화상 신호를 생성한다. 도 2 ~ 도 4에 나타내는 공간 변조 패턴이 시간적으로 연속해서 형성되는 경우에, 전기신호 화상화부(17)는 각각의 공간 변조 패턴마다 다른 특성 화상을 생성한다.
전기신호 화상화부(17)에 의해 생성된 복수의 특성 화상은 화상 데이터 연산부(19)에 의해 화상 처리가 실시된다. 예를 들어, 화상 데이터 연산부(19)는 피측정물 A의 표면에 Y축 방향을 따른 줄무늬의 공간 변조 패턴을, 소망한 주파수에서 공간 위상을 변화시키면서 조사시켜서, 복수의 특성 화상을 얻는다. 그 때 얻어진 복수의 특성 화상은 조명광에 의한 줄무늬와 피측정물 A의 구조에 기인하는 특성 화상과의 무아레(moire; 간섭 무늬) 성분으로서 얻어지고, 피측정물 A의 미세 구조에 기인하는 공간 고주파 성분은 무아레로서 저주파 성분에 변환되어 나타난다. 그래서 화상 데이터 연산부(19)는 복수의 특성 화상으로부터 얻어진 특성 분포로부터, 조사된 공간 변조 패턴의 주파수 정보를 기초로, 실제의 피측정물 A의 구조에 기인하는 본래의 특성 분포 화상을 생성한다. 그리고, 화상 데이터 연산부(19)는 4개 방위를 따른 복수의 공간 변조 패턴을, 소망한 주파수에서 공간 위상을 변화시키면서 조사시키고, 동일한 화상 처리를 행하는 것에 의해 복수의 특성 분포 화상을 작성하고, 복수의 특성 분포 화상으로부터 4개 방위로 해상도가 높아진 고해상도의 패턴 화상을 생성할 수 있다.
이상 설명한 화상 생성 장치(1)에 의하면, 레이저 광원(3)으로부터 발해진 레이저 광이, 레이저 출력 제어부(11)에 의해 그 강도가 변조되는 것과 동시에, 레이저 스캐너(5)에 의해 피측정물 A로의 조사 위치가 주사되면서, 피측정물 A에 조사된다. 이 때, 변조 패턴 제어부(15)에 의해, 피측정물 A에 복수의 2차원 공간 변조 패턴의 조명광이 조사되도록 레이저 출력 제어부(11) 및 레이저 스캐너(5)가 제어되면서, 전기신호 검출기(7)에 의해 피측정물 A로부터 생성되는 전기신호가 검출된다. 추가로, 전기신호 화상화부(17)에 의해, 각각의 공간 변조 패턴에 대응하여, 조명광의 조사 위치에 관한 정보와 그 조사 위치에 있어서의 조명광의 조사에 따라서 검출된 전기신호의 특성에 관한 정보가 대응지어진 특성 분포 정보가 생성되는 것과 동시에, 각각의 공간 변조 패턴에 대응하여 2차원 특성 화상이 생성되고, 화상 데이터 연산부(19)에 의해, 복수의 2차원 특성 화상을 기본으로 피측정물 A의 패턴 화상이 생성된다. 이것에 의해, 피측정물 A로부터 패턴 화상을 취득할 때에 대물 렌즈나 결상 렌즈 등을 포함하는 광학계를 통할 필요가 없기 때문에, 시료의 패턴상의 분해능을 용이하게 향상시킬 수 있다.
또, 화상 생성 장치(1)에 의하면, 회절 격자 등을 구동하는 복잡한 구동 기구를 필요로 하지 않고, 피측정물 A의 고해상도 패턴 화상을 간이하게 취득할 수 있다. 즉, 본 실시 형태에서는 간단한 광학계와 레이저 스캐너 등을 탑재하는 것만으로 끝난다. 이에 더하여, 변조 패턴 제어부(15)의 제어에 의해, 피측정물에 조사하는 조명광의 공간 변조 패턴의 위상 및 방향을 용이하게 변경할 수 있고, 소망한 위치 및 방향의 고해상도 화상을 재빠르게 얻을 수 있다. 이것에 대해서, 공간 변조 패턴 생성용으로서 SLM(Spatial Light Modulator)을 사용한 종래 장치에서는 임의의 방향으로 임의의 각도로 회절시키기 위해서는 매우 미세한 SLM이 필요하다. 예를 들어, 시료 상에 투영하는 줄무늬의 위상을 3개 종류로 변경하는 경우는, 해상 한계의 무늬의 갯수×3의 일축 방향의 픽셀수가 필요하게 된다. 추가로, 축에 대한 경사 방향에도 무늬를 형성하고 싶은 경우에는, 픽셀 형상이 구형(矩形)이기 때문에, 무늬의 피치에 픽셀을 맞추는데 추가로 3배의 픽셀수가 필요하게 된다. 그 결과, 종래 장치에서는 고가의 SLM이 필요하게 된다. 또, SLM에 있어서의 광의 투과／반사 로스나, 픽셀의 연결고리에 있어서의 로스, 0차광, 고차광의 문제도 발생한다.
추가로, 레이저 광을 2차원적으로 주사해서 변조하는 수법을 취하는 것에 의해, 피측정물 A가 2 광자 흡수 등의 다광자 흡수를 일으키는 것이나, 제2차 고조파(SHG)를 생성하는 것 등, 비선형인 반응을 나타내는 것에 대해서는 이들 반응이 일어나기 쉽다. 그 결과, 예를 들어 2 광자 흡수 등을 사용하면 한층 더 고분해능화된 화상화도 가능하게 된다.
추가로, 레이저 출력 제어부(11)가 레이저 광의 강도를 삼각 함수에 따라서 변화하도록 변조시키므로, 공간 변조 패턴의 형성이 용이하게 된다.
［제2 실시 형태］
도 5는 본 발명의 제2 실시 형태에 관한 화상 생성 장치(101)의 구성을 나타내는 블록도이다. 동일 도면에 나타내는 화상 생성 장치(101)는 반도체 디바이스 등의 피측정물에 대해서 복수의 공간 변조 패턴의 조명광을 조사하고, 이에 따라서 피측정물 A로부터 생성되는 반사광을 광신호로서 검출하고, 그 광신호의 특성 분포를 기본으로 하여 피측정물의 고해상도 패턴상을 얻기 위한 장치이다. 이 화상 생성 장치(101)의 제1 실시 형태와의 차이점은 전기신호 검출기(7) 및 전기신호 화상화부(17) 대신에, 광신호 검출기(107) 및 광신호 화상화부(117)를 구비한다는 점이다.
즉, 광신호 검출기(107)는 피측정물 A로부터 생성되는 반사광 등을 광신호로서 검출한다. 예를 들어, 광신호 검출기(107)는 반사광의 강도 등의 특성값을 전기신호로서 출력하는 광전자 증배관이나 광전관 등의 광전 변환기이다. 또, 광신호 화상화부(117)는 광신호 검출기(107)에 의해 검출된 광신호의 특성값에 관한 특성 정보와 그 특성값이 검출되었을 때의 피측정물 A 상의 레이저 광의 조사 위치 정보가 대응지어진 특성 분포 정보로부터, 복수의 특성 분포 정보를 포함하는 2차원 특성 화상(특성 화상)을, 복수의 공간 변조 패턴마다 생성한다.
도 6에는 화상 생성 장치(101)의 광신호 검출기(107) 주변의 상세 구성을 나타내고 있다. 동일 도면에 나타내는 바와 같이, 광 파이버로 구성되는 레이저 광원(3)의 출사구 및 광신호 검출기(107)와, 레이저 스캐너(5)의 사이에는 빔 스플리터(beam splitter; 31)가 배치되어 있다. 이 빔 스플리터(31)는 레이저 스캐너(5)를 경유하여 입사하는 피측정물 A로부터의 반사광 및 산란광을 투과해서 광신호 검출기(107)에 이끄는 것과 동시에, 레이저 광원(3)으로부터의 레이저 광을 반사해서 레이저 스캐너(5)를 경유하여 피측정물 A측에 이끄는 것에 의해, 반사광 및 산란광의 광로를 레이저 광의 광로와 분리한다. 이와 같은 빔 스플리터(31)로서는 반사율 및 투과율이 1：1의 관계를 가지는 하프 미러나 8：2 등의 소정의 관계를 가지는 것이 사용된다. 또, 레이저 광이 소정의 편광 성분을 가지는 경우에는, 빔 스플리터(31)로서 편광빔 스플리터를 사용할 수도 있다. 이 경우는 편광빔 스플리터와 대물 렌즈(25)의 사이에, 1／4 파장판을 삽입한다. 이것에 의해, 편광빔 스플리터측으로부터 직선 편광의 레이저 광이 입사한 경우에, 원편광(円偏光)으로 변환해서 피측정물 A에 조사할 수 있는 것과 동시에, 피측정물 A로부터의 반사광이 다시 1／4 파장판을 투과할 때에, 그 반사광을 입사 시와는 90도 다른 직선 편광으로 변환할 수 있다. 그 결과, 반사광을 편광빔 스플리터에 투과시켜서 광신호 검출기(107)측에 이끌 수 있다.
또, 광신호 검출기(107)와 빔 스플리터(31)의 사이에는 공간 필터(35)와 집광 렌즈(33)가 배치되어 있다. 공간 필터(35)는 레이저 광원(3)의 파이버의 단면(端面)과 공역(共役)인 위치에 놓여져서 공초점 광학계를 형성하고, 그 필터 직경이 파이버 단면과 공역인 면에 만들어지는 빔 스폿 직경과 거의 동등해지도록 설정되어 있다. 이 공간 필터(35)는 피측정물 A로부터 광학계를 경유하여 돌아온 반사 산란광 중에서, 초점으로부터 벗어난 부분으로부터의 반사 산란 성분을 차단한다.
이상 설명한 화상 생성 장치(101)에 의하면, 피측정물 A로의 공간 변조 패턴의 조사에 수반하여 생성되는 반사 산란광의 특성을, 피측정물에 있어서의 분해능이 향상된 패턴상으로서 취득할 수 있다. 이에 더하여, 변조 패턴 제어부(15)의 제어에 의해, 피측정물에 조사하는 조명광의 공간 변조 패턴의 위상 및 방향을 용이하게 변경할 수 있고, 소망한 위치 및 방향의 고해상도 이미지 화상을 재빠르게 얻을 수 있다.
［제3 실시 형태］
도 7은 본 발명의 제3 실시 형태에 관한 화상 생성 장치(201)의 구성을 나타내는 블록도이다. 동일 도면에 나타내는 화상 생성 장치(201)는 세포(細胞) 등의 피측정물에 대해서 복수의 공간 변조 패턴의 여기광을 조사하고, 이에 따라서 피측정물 A로부터 생성되는 미약한 형광을 광신호로서 검출하고, 그 광신호의 특성 분포를 기본으로 하여 피측정물의 고해상도 패턴상을 얻기 위한 장치이다. 이 화상 생성 장치(201)는 광신호 검출기 주변의 구성이 제2 실시 형태와 다르다.
즉, 광신호 검출기(207)로서는 미약한 형광의 강도 등의 특성값을 전기신호로서 출력하는 것이 가능한 광전자 증배관 등의 광전 변환기가 사용된다. 또, 도 8에 나타내는 바와 같이, 레이저 광원(3)의 출사구 및 광신호 검출기(207)와, 레이저 스캐너(5)의 사이에는 빔 스플리터 대신에 다이크로익 미러(dichroic Mirror; 41)가 배치된다. 이 다이크로익 미러(41)는 레이저 스캐너(5)를 경유하여 입사하는 피측정물 A로부터의 형광을 투과해서 광신호 검출기(207)에 이끄는 것과 동시에, 레이저 광원(3)으로부터의 레이저 광을 반사해서 레이저 스캐너(5)를 경유하여 피측정물 A측에 이끄는 것에 의해, 형광의 광로를 레이저 광의 광로와 분리한다. 이 다이크로익 미러(41)는 여기광을 레이저 스캐너(5)를 향해서 반사하고, 피측정물 A로부터 생긴 형광을 투과하는 기능을 가지고, 단파장 반사 및 장파장 투과의 광학 특성을 가지는 유전체 다층막을 포함하는 미러이다.
또, 레이저 광원(3)과 다이크로익 미러(41)의 사이에는 여기 파장 선택용 필터(43)가 마련되어 있다. 이 여기 파장 선택용 필터(43)는 피측정물 A의 형광 여기 특성에 맞추어, 레이저 광원(3)의 파장으로부터 그 특성에 맞는 파장을 선택하기 위해서 마련된다.
추가로, 광신호 검출기(207)와 다이크로익 미러(41)의 사이에는 배리어 필터(45)가 마련된다. 이 배리어 필터(45)는 광신호 검출기(207)에 의한 형광의 검출시에, 광신호 검출기(207)를 향해서 여기광이 도달하지 않게 여기광을 컷한다. 이 배리어 필터는 여기광의 파장 성분을 흡수, 반사하는 것에 의해 컷하고, 형광의 파장 성분을 투과시키는 성질을 가지고, 장파장 투과성을 가지는 하이패스 필터, 또는 형광의 파장 성분만을 투과시키는 밴드패스 필터이다.
이와 같은 화상 생성 장치(201)에 의하면, 피측정물 A로의 공간 변조 패턴의 조사에 수반하여 생성되는 형광의 특성을, 피측정물에 있어서의 분해능이 향상된 패턴상으로서 취득할 수 있다. 이에 더하여, 변조 패턴 제어부(15)의 제어에 의해, 피측정물에 조사하는 조명광의 공간 변조 패턴의 위상 및 방향을 용이하게 변경할 수 있고, 소망한 위치 및 방향의 고해상도 이미지 화상을 재빠르게 얻을 수 있다.
또한, 본 발명은 전술한 실시 형태로 한정되는 것은 아니다. 예를 들어, 피측정물 A에 조사되는 공간 변조 패턴의 컨트라스트를 상승시키기 위해서, 조명광을 도광하기 위한 광학계의 구성으로서, 도 9에 나타내는 구성을 채용해도 좋다.
상세하게는 레이저 광원(3)과 레이저 스캐너(5)의 사이에 액시콘(axicon; 211) 및 컨버터 렌즈(212)를 삽입해도 좋다. 액시콘(211)은 원추형의 프리즘이며, 레이저 광원(3)으로부터 출사된 단면 원형의 평행 빔을 단면이 링형상인 빔으로 변환하는 광학 소자이다. 컨버터 렌즈(212)는 액시콘(211)으로부터 출사된 링형상의 빔을 레이저 스캐너(5) 상에 원주 형상으로 투영시키는 렌즈이다. 이와 같은 조명광용의 광학계를 사용하는 것에 의해, 레이저 광원(3)으로부터의 레이저 광을 대물 렌즈(25)의 눈동자 위치에서 링형상으로 형성할 수 있다. 이것에 의해, 피측정물 A의 표면에서의 레이저 광 스폿의 반값폭을 작게 할 수 있고, 레이저 빔을 에어리 디스크 직경에서 주사하는 경우의 공간 변조 패턴의 컨트라스트의 저하를 방지할 수 있다.
또, 화상 생성 장치(1, 101, 201)의 레이저 광원(3)으로서는 도 10에 나타내는 바와 같이, 피측정물 A에 있어서의 2 광자 여기 등의 다광자 여기를 관찰 가능한 구성이 채용되어도 좋다. 구체적으로는 레이저 광원(3)으로서 피측정물 A에 있어서 2 광자 흡수가 가능한 파장을 발광 파장으로서 포함하는 초단 펄스 레이저(3a)와, 그 출력을 변조시키는 레이저 변조기(3b)로 이루어지는 구성을 채용하고, 레이저 광원(3)과 레이저 스캐너(5)의 사이에 레이저 광으로부터 소망한 파장 성분을 선택하는 여기 파장 선택용 필터(301)를 삽입한다. 2 광자 여기는 본래의 여기광의 파장의 2배 파장의 2개의 광자에 의해 전자가 여기되어서 형광을 발하는 현상이다. 이 때문에, 여기 파장 선택용 필터(301)는 형광 시료의 여기 파장의 2배 파장의 광을 투과시키도록 기능한다. 이와 같은 레이저 광원(3)을 사용하면, 파장이 긴 에너지의 낮은 광을 사용할 수 있기 때문에 시료에 주는 데미지를 억제하고, 추가로 시료 투과성도 좋고, 깊은 곳까지 광을 도달시키고, 2 광자 흡수의 특징인, 여기 개소의 3차원 국소성을 살린 여기가 가능하다. 또, 2 광자 여기의 특징으로서 2배의 파장이면서, 1배의 파장과 동등한 분해능이 얻어지고, 추가로 본 기술과 조합하는 것에 의해, 고해상도화를 기대할 수 있다.
또한, 도 10에 나타낸 레이저 광원(3)의 구성을, 화상 생성 장치(201)과 조합해서 사용한 경우에는, 다이크로익 미러(41) 및 배리어 필터(45)를 그 기능이 다른 것으로 변경할 필요가 있다. 즉, 다이크로익 미러(41)로서는 레이저 광원(3)측으로부터 입사한 장파장의 여기광을 레이저 스캐너(5)를 향해서 반사하고, 피측정물 A로부터 생긴 단파장의 형광을 투과하는 기능을 가지고, 장파장 반사 및 단파장 투과의 광학 특성을 가지는 다이크로익 미러가 사용된다. 또, 배리어 필터(45)로서는 여기광의 장파장 성분을 흡수, 반사하는 것에 의해 컷하고, 형광의 단파장 성분을 투과시키는 성질을 가지고, 단파장 투과성을 가지는 로패스 필터, 또는 형광의 파장 성분만을 투과시키는 밴드패스 필터가 사용된다.
여기서, 검출부는 피측정물로부터 생성되는 전기신호를 검출하고, 신호 생성부는 조명광의 조사 위치 정보와 전기신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성하는 것이 바람직하다. 이 경우, 피측정물로의 레이저 광의 조사에 수반하여 생성되는 광기전류값 등의 전기 특성을, 피측정물에 있어서의 패턴상으로서 취득할 수 있고, 반도체 등의 전기 소자의 특성 해석의 정밀도를 향상시킬 수 있다.
또, 검출부는 피측정물로부터 생성되는 광신호를 검출하고, 신호 생성부는 조명광의 조사 위치 정보와 광신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성하는 것도 바람직하다. 이와 같은 구성을 취하면, 피측정물로의 레이저 광의 조사에 수반하여 생성되는 반사광이나 형광 등의 광의 특성을, 피측정물에 있어서의 분해능이 향상된 패턴상으로서 취득할 수 있다.
추가로, 레이저 광원으로부터의 레이저 광은 피측정물에 있어서 다광자 흡수가 가능한 파장을 포함하는 것도 바람직하다. 이렇게 하면, 피측정물에 주는 효과는 스폿 형상을, 2 광자이면 2승, 3광자이면 3승한 것과 동등하게 되고, 발생하는 신호는 실효적으로 작은 스폿에서 스캔한 것과 동일한 것이 되어, 변조의 무늬를 세세하게 할 수 있고, 분해능을 한층 더 향상시키는 것이 가능하게 된다.
또 추가로, 레이저 변조부는 레이저 광의 강도를 삼각 함수에 따라서 변화하도록 변조시키는 것도 바람직하다. 이와 같은 레이저 변조부를 갖추면, 공간 변조 패턴의 형성이 용이하게 된다.
[산업상의 사용 가능성]
본 발명은 피측정물에 공간 변조된 광을 조사하는 것에 의해 화상을 생성하는 화상 생성 장치를 사용 용도로 하여, 간이한 장치 구성으로 분해능이 향상된 시료의 패턴상을 얻어진 것이다.
1, 101, 201ㆍㆍㆍ화상 생성 장치,
3ㆍㆍㆍ레이저 광원,
5ㆍㆍㆍ레이저 스캐너(레이저 주사부),
7ㆍㆍㆍ전기신호 검출기(검출부),
11ㆍㆍㆍ레이저 출력 제어부(레이저 변조부),
15ㆍㆍㆍ변조 패턴 제어부,
17ㆍㆍㆍ전기신호 화상화부(신호 생성부),
19ㆍㆍㆍ화상 데이터 연산부(화상 처리부),
107, 207ㆍㆍㆍ광신호 검출기(검출부),
117ㆍㆍㆍ광신호 화상화부(신호 생성부),
Aㆍㆍㆍ피측정물.

Claims (5)

  1. 피측정물의 화상을 생성하는 화상 생성 장치로서,
    레이저 광을 출사하는 레이저 광원과,
    상기 레이저 광의 강도를 변조시키는 레이저 변조부와,
    상기 레이저 광의 상기 피측정물로의 조사 위치를 주사하는 레이저 주사부와,
    상기 피측정물에 복수의 공간 변조 패턴의 조명광을 조사하도록, 상기 레이저 변조부 및 상기 레이저 주사부를 제어하는 제어부와,
    상기 복수의 공간 변조 패턴의 조명광의 조사에 따라서 상기 피측정물로부터 생성되는 신호를 검출하는 검출부와,
    상기 제어부에 의해 제어된 상기 조명광의 조사 위치에 관한 조사 위치 정보와, 상기 조사 위치에 있어서의 상기 레이저 광의 조사에 따라서 상기 검출부에 의해 검출된 신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성하고, 상기 공간 변조 패턴에 대응하여 복수의 상기 특성 분포 정보를 포함하는 2차원 특성 화상을 생성하는 신호 생성부와,
    복수의 상기 공간 변조 패턴에 대응하여 생성한 복수의 상기 2차원 특성 화상을 기본으로, 상기 피측정물의 패턴 화상을 생성하는 화상 처리부를 구비하는 것을 특징으로 하는 화상 생성 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 검출부는 상기 피측정물로부터 생성되는 전기신호를 검출하고,
    상기 신호 생성부는 상기 조명광의 상기 조사 위치 정보와, 상기 전기신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성하는 것을 특징으로 하는 화상 생성 장치.
  3. 청구항 1에 있어서,
    상기 검출부는 상기 피측정물로부터 생성되는 광신호를 검출하고, 상기 신호 생성부는 상기 조명광의 상기 조사 위치 정보와, 상기 광신호의 특성에 관한 특성 정보가 대응지어진 특성 분포 정보를 생성하는 것을 특징으로 하는 화상 생성 장치.
  4. 청구항 1 내지 청구항 3 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저 광원으로부터의 상기 레이저 광은 피측정물에 있어서 다광자 흡수가 가능한 파장을 포함하는 것을 특징으로 하는 화상 생성 장치.
  5. 청구항 1 내지 청구항 4 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 레이저 변조부는 상기 레이저 광의 강도를 삼각 함수에 따라서 변화하도록 변조시키는 것을 특징으로 하는 화상 생성 장치.
KR1020127033467A 2010-06-23 2011-06-17 화상 생성 장치 KR20130092429A (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-142882 2010-06-23
JP2010142882A JP2012008261A (ja) 2010-06-23 2010-06-23 画像生成装置
PCT/JP2011/063976 WO2011162187A1 (ja) 2010-06-23 2011-06-17 画像生成装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20130092429A true KR20130092429A (ko) 2013-08-20

Family

ID=45371374

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020127033467A KR20130092429A (ko) 2010-06-23 2011-06-17 화상 생성 장치

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20130120563A1 (ko)
EP (1) EP2587298A4 (ko)
JP (1) JP2012008261A (ko)
KR (1) KR20130092429A (ko)
CN (1) CN102947741A (ko)
TW (1) TW201213849A (ko)
WO (1) WO2011162187A1 (ko)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180075545A (ko) * 2015-10-30 2018-07-04 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 화상 생성 방법, 화상 생성 장치, 화상 생성 프로그램 및 기록 매체
KR101934956B1 (ko) * 2017-10-18 2019-03-18 고려대학교 산학협력단 구조 조명과 위상 검출을 이용한 단분자 중심위치 측정 장치 및 방법
US10338370B2 (en) 2016-05-17 2019-07-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Clock signal generators and substrate inspecting apparatuses having the same

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6166032B2 (ja) 2012-11-06 2017-07-19 浜松ホトニクス株式会社 半導体デバイス検査装置及び半導体デバイス検査方法
CN103054557B (zh) * 2013-01-08 2016-05-11 白宇 云纹图像成像装置
JP2015114420A (ja) 2013-12-10 2015-06-22 ソニー株式会社 画像取得装置及び画像取得方法
JP6357317B2 (ja) * 2014-01-30 2018-07-11 オリンパス株式会社 顕微鏡照明装置、顕微鏡照明方法および顕微鏡
US9690085B2 (en) * 2014-01-30 2017-06-27 Olympus Corporation Microscope illumination apparatus, microscope, and microscope illumination method
JP5996687B2 (ja) * 2015-02-10 2016-09-21 浜松ホトニクス株式会社 検査装置及び検査方法
KR101759875B1 (ko) * 2015-06-24 2017-07-20 주식회사 엘지실트론 웨이퍼 연마장치의 스캔장치 및 스캔시스템
US10048485B2 (en) * 2015-08-28 2018-08-14 Panasonic Intellectual Property Management Co., Ltd. Image output device, image transmission device, image reception device, image output method, and non-transitory recording medium
CH711570B1 (de) * 2015-09-28 2019-02-15 Besi Switzerland Ag Vorrichtung für die Montage von Bauelementen auf einem Substrat.
JP7000197B2 (ja) * 2018-02-16 2022-01-19 浜松ホトニクス株式会社 濃度測定方法及び濃度測定装置
CN113302520A (zh) * 2019-01-16 2021-08-24 株式会社小糸制作所 成像装置、其运算处理装置、车辆用灯具、车辆、感测方法
CN110007453B (zh) * 2019-05-13 2023-11-21 中国科学院生物物理研究所 一种多照明模式的荧光信号测量装置及其测量方法和应用

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5034613A (en) * 1989-11-14 1991-07-23 Cornell Research Foundation, Inc. Two-photon laser microscopy
JP2931226B2 (ja) * 1995-01-26 1999-08-09 浜松ホトニクス株式会社 光帰還式光検出装置
US5708371A (en) * 1995-03-16 1998-01-13 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Scanning photoinduced current analyzer capable of detecting photoinduced current in nonbiased specimen
JPH09230246A (ja) * 1996-02-22 1997-09-05 Olympus Optical Co Ltd 走査型光学顕微鏡
JP3411780B2 (ja) * 1997-04-07 2003-06-03 レーザーテック株式会社 レーザ顕微鏡及びこのレーザ顕微鏡を用いたパターン検査装置
US6078183A (en) * 1998-03-03 2000-06-20 Sandia Corporation Thermally-induced voltage alteration for integrated circuit analysis
JP2000292705A (ja) * 1999-04-05 2000-10-20 Olympus Optical Co Ltd 走査型顕微鏡
JP4429431B2 (ja) 1999-10-21 2010-03-10 オリンパス株式会社 光学装置
US20070196815A1 (en) * 2000-08-02 2007-08-23 Jason Lappe Positive Selection Procedure for Optically Directed Selection of Cells
JP2003075514A (ja) * 2001-09-06 2003-03-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd 検査装置および検査方法
DE602005007403D1 (de) * 2004-03-25 2008-07-24 Olympus Corp Scannendes konfokales Mikroskop
JP4425098B2 (ja) * 2004-09-06 2010-03-03 浜松ホトニクス株式会社 蛍光顕微鏡および蛍光相関分光解析装置
JP4597744B2 (ja) * 2004-11-08 2010-12-15 株式会社トプコン 光画像計測装置及び光画像計測方法
EP1744194B1 (en) * 2005-07-11 2017-05-10 Olympus Corporation Laser scanning microscope and image acquiring method of laser scanning microscope
US7485875B2 (en) * 2005-07-22 2009-02-03 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Resolution-enhanced luminescence microscopy
DE102005046755A1 (de) * 2005-09-29 2007-04-19 Carl Zeiss Jena Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Bildes eines Objektes
JP2007199572A (ja) 2006-01-30 2007-08-09 Nikon Corp 顕微鏡装置
WO2007109861A1 (en) * 2006-03-29 2007-10-04 The University Of Queensland Super resolution microscopy
US7838818B2 (en) * 2006-06-22 2010-11-23 Olympus Corporation Light-stimulus illumination apparatus which scans light-stimulus laser light in a direction intersecting an optical axis
WO2008081374A2 (en) * 2006-12-28 2008-07-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Reflection or single scattering spectroscopy and imaging

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180075545A (ko) * 2015-10-30 2018-07-04 하마마츠 포토닉스 가부시키가이샤 화상 생성 방법, 화상 생성 장치, 화상 생성 프로그램 및 기록 매체
US10338370B2 (en) 2016-05-17 2019-07-02 Samsung Electronics Co., Ltd. Clock signal generators and substrate inspecting apparatuses having the same
KR101934956B1 (ko) * 2017-10-18 2019-03-18 고려대학교 산학협력단 구조 조명과 위상 검출을 이용한 단분자 중심위치 측정 장치 및 방법
WO2019078578A1 (ko) * 2017-10-18 2019-04-25 고려대학교 산학협력단 구조 조명과 위상 검출을 이용한 단분자 중심위치 측정 장치 및 방법

Also Published As

Publication number Publication date
EP2587298A4 (en) 2014-03-05
TW201213849A (en) 2012-04-01
JP2012008261A (ja) 2012-01-12
CN102947741A (zh) 2013-02-27
EP2587298A1 (en) 2013-05-01
WO2011162187A1 (ja) 2011-12-29
US20130120563A1 (en) 2013-05-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20130092429A (ko) 화상 생성 장치
JP3996783B2 (ja) 走査型顕微鏡及び走査型顕微鏡用モジュール
CN106133580B (zh) 受激发射损耗显微镜装置
JP6346615B2 (ja) 光学顕微鏡および顕微鏡観察方法
KR20130113343A (ko) 화상 생성 장치
US9081186B2 (en) Microscope device for generating images of a specimen using phase distribution of light
JP2006235420A (ja) 共焦点顕微鏡
US20070091425A1 (en) Microscope examination apparatus and microscope examination method
EP1596238A2 (en) Optical stimulation apparatus and optical-scanning examination apparatus
JP2018128325A (ja) 分光顕微鏡及び、及び分光観察方法
JP2005508489A (ja) 試料の多光子励起の方法と装置
JP6210754B2 (ja) 走査型光学顕微鏡
CN108253905A (zh) 垂直彩色共焦扫描方法和系统
JP2010197986A (ja) 顕微鏡装置
WO2018151599A1 (en) Structured illumination scanning microscopy
JP2009251535A (ja) 共焦点顕微鏡
US10690897B2 (en) Laser scanning microscope apparatus
JP2012198276A (ja) 顕微鏡装置、観察方法および試料搭載機構
JP2016524192A (ja) 試料の共焦点観察のための装置
JPH1068901A (ja) ２次元スキャナ装置
JP7006010B2 (ja) 顕微鏡
KR101698910B1 (ko) 검출용 프로브 및 프로브형 검출 장치
JP6673497B2 (ja) 蛍光観察装置
JP2012141452A (ja) 自動合焦機構および顕微鏡装置
JP2019179097A (ja) 焦点方法及び焦点機構、焦点操作プログラム、並びに光学顕微鏡

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Application deemed withdrawn, e.g. because no request for examination was filed or no examination fee was paid