JP2012211771A - 電子線分析装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 電子線源20と、落射光用光源部60と、透過光用光源部80と、可視光又は偏光光が検出面に入射して、試料表面上の分析位置を含む領域の光学像又は偏光像を取得する画像取得部51b、71と、落射光用光源部60からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部71の検出面に導くハーフミラー92とを備える電子線分析装置1であって、ハーフミラー92は、落射光用光源部60から可視光が出射された際には、落射光用光源部60からの可視光を所定方向に反射するとともに、所定方向と逆方向からの光を透過して画像取得部71の検出面に導く第一位置に配置され、一方、透過光用光源部80から偏光光が出射された際には、所定方向と逆方向からの光が通過しない第二位置に配置されるように移動可能とする。
【選択図】図1
Description
EPMA201は、試料Sが載置される試料ステージ110と、電子線Eを試料S表面上の分析位置に照射する電子線源20と、試料S表面上の分析位置から放出された特性X線Pによる信号を検出するX線検出部30と、試料S表面上の分析位置を含む領域に可視光Lを照射する落射光用光源部60と、試料Sの分析位置を含む領域に偏光光L’を照射する透過光用光源部80と、可視光Lや偏光光L’を検出する検出面を有する画像取得装置170と、EPMA201全体の制御を行うコンピュータ250とを備える。なお、落射光用光源部60としては、ハロゲンランプの他、発光ダイオード等の光源が使用可能である。
試料台の上面には、試料Sを載せたり取り除いたりすることが可能となっている。このような試料台は、コンピュータ250の試料ステージ制御部51aによって駆動機構のパルスモータへ必要な駆動パルス信号が出力されることにより、所望のX方向とY方向とZ方向とに移動できるようになっている。
また、試料台には、開口が形成されており、偏光光L’が開口を通過するようになっている。
偏光子82は、コンピュータ250の画像取得制御部251bによって偏光子回転駆動機構へ必要な駆動信号が出力されることにより、任意の回転角度に回転駆動できるようになっている。
このような透過光用光源部80によれば、ハロゲンランプ81から出射された可視光Lは、偏光子82によって偏光光L’のみとされ、偏光光L’が反射鏡83で反射され試料ステージ110に載せられた試料Sの分析位置に−Z方向から照射されるようになっている。
検光子73は、コンピュータ250の画像取得制御部251bによって検光子回転駆動機構へ必要な駆動信号が出力されることにより、任意の回転角度に回転駆動できるようになっている。
また、検光子回転駆動機構とともに検光子73は、コンピュータ250の画像取得制御部251bによって検光子移動機構へ必要な駆動信号が出力されることにより、偏光光L’の光学系への導入又は退避ができるようになっている。
これにより、所定方向(X方向)に進行する可視光Lは有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射され、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に反射した可視光Lは有孔平面ミラー91によって進行方向を所定方向と逆方向(−X方向)に変えるようになっている。また、Z方向に進行する電子線Eは有孔平面ミラー91の孔部を通過し、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射されるようになっている。
これにより、Z方向に進行する可視光Lの50%がハーフミラー292によって進行方向をX方向に変えるようになっている。また、−X方向に進行する可視光Lの50%がハーフミラー292を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれるようになっている。
まず、分析者は、試料ステージ110の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、検光子移動機構を操作部54を用いて操作して検光子73を所定方向と逆方向(−X方向)からCCDカメラ71の検出面に向かう光が通過しない位置に退避させた後、落射光用光源部60の電源を入れる。これにより、落射光用光源部60からZ方向に出射された可視光Lが、ハーフミラー292によって進行方向をX方向に変える。そして、X方向に進行する可視光Lが、有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に反射した可視光Lが有孔平面ミラー91によって進行方向を所定方向と逆方向(−X方向)に変える。−X方向に進行する可視光Lがハーフミラー292を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部251bは、CCDカメラ71で検出された可視光Lに基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の光学像をモニタ53に表示する。
まず、分析者は、試料ステージ110の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、検光子移動機構を操作部54を用いて操作して検光子73を所定方向と逆方向(−X方向)からCCDカメラ71の検出面に向かう光が通過する光軸上に導入した後、透過光用光源部80の電源を入れる。このように透過光用光源部80の電源が入れられた際には、所定方向と逆方向(−X方向)からの光が通過する位置に検光子73が配置される。そして、透過光用光源部80からX方向に出射された偏光光L’が、反射鏡83によって進行方向を−Z方向に変える。そして、−Z方向に進行する偏光光L’が、試料S表面上の分析位置を含む領域に−Z方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域を−Z方向に透過した偏光光L’が有孔平面ミラー91によって進行方向を所定方向と逆方向(−X方向)に変える。−X方向に進行する偏光光L’がハーフミラー292を透過し、さらに検光子73を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部251bは、CCDカメラ71で検出された偏光光L’に基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の偏光像をモニタ53に表示する。
なお、検光子移動機構は、上記のように分析者の操作によって検光子73を移動させる機構の他、落射光用光源部60や透過光用光源部80への電源投入を検知して自動的に検光子73を移動させる機構であってもよい。
本発明の電子線分析装置によれば、透過光用光源部から偏光光が出射された際には、所定方向と逆方向からの光が通過しない第二位置にハーフミラーが配置されるので、ハーフミラーによって影響を受けていない光が画像取得部の検出面に導かれる。
また、本発明の電子線分析装置において、前記試料表面上の分析位置から放出された特性X線による信号を検出するX線検出部を備え、前記試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、前記X線検出部で信号を収集し、前記信号の強度に基づいて試料表面上の一次元又は二次元範囲における元素又は組成に関する情報を求める制御部とを備えるようにしてもよい。
さらに、本発明の電子線分析装置において、前記落射光用光源部から可視光が出射された際には、前記ハーフミラーを第一位置に自動的に配置し、一方、前記透過光用光源部から偏光光が出射された際には、前記ハーフミラーを第二位置に自動的に配置する制御部を備えるようにしてもよい。
図1は、本発明の実施形態に係るEPMAの要部の構成を示す構成図である。なお、上述したEPMA201と同様のものについては、同じ符号を付している。
EPMA1は、試料Sが載置される試料ステージ110と、電子線Eを試料S表面上の分析位置に照射する電子線源20と、試料S表面上の分析位置から放出された特性X線Pによる信号を検出するX線検出部30と、試料S表面上の分析位置を含む領域に可視光Lを照射する落射光用光源部60と、試料Sの分析位置を含む領域に偏光光L’を照射する透過光用光源部80と、可視光Lや偏光光L’を検出する検出面を有する画像取得装置170と、EPMA1全体の制御を行うコンピュータ50とを備える。
ハーフミラー92は、コンピュータ50の画像取得制御部51bによってハーフミラー駆動機構へ必要な駆動信号が出力されることにより、第一位置か、第一位置より下方に位置する第二位置かのいずれかの位置に配置されるようになっている。
具体的には、ハーフミラー92は、落射光用光源部60から可視光Lが出射された際(透過光用光源部80から偏光光L’が出射されない際)には、落射光用光源部60からの可視光Lを所定方向(X方向)に反射するとともに、所定方向と逆方向(−X方向)からの光を透過してCCDカメラ71の検出面に導く第一位置に配置されるようになっている。一方、透過光用光源部80から偏光光L’が出射された際(落射光用光源部60から可視光Lが出射されない際)には、所定方向と逆方向(−X方向)からの光が通過しない第二位置に配置されるようになっている。
まず、分析者は、試料ステージ110の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、検光子移動機構を操作部54を用いて操作して検光子73を所定方向と逆方向(−X方向)からCCDカメラ71の検出面に向かう光が通過しない位置に退避させた後、落射光用光源部60の電源を入れる。これにより、落射光用光源部60からZ方向に出射された可視光Lが、第一位置に配置されたハーフミラー92によって進行方向をX方向に変える。そして、X方向に進行する可視光Lが、有孔平面ミラー91によって進行方向を変え、試料S表面上の分析位置を含む領域にZ方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に反射した可視光Lが有孔平面ミラー91によって進行方向を所定方向と逆方向(−X方向)に変える。−X方向に進行する可視光Lがハーフミラー92を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部51bは、CCDカメラ71で検出された可視光Lに基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の光学像をモニタ53に表示する。
まず、分析者は、試料ステージ110の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、検光子移動機構を操作部54を用いて操作して検光子73を所定方向と逆方向(−X方向)からCCDカメラ71の検出面に向かう光が通過する光軸上に導入した後、透過光用光源部80の電源を入れる。そして、透過光用光源部80の電源を入れた際には、分析者は、ハーフミラー駆動機構を操作部54を用いて操作して所定方向と逆方向(−X方向)からの光が通過しない第二位置にハーフミラー92を配置する。これにより、透過光用光源部80からX方向に出射された偏光光L’が、反射鏡83によって進行方向を−Z方向に変える。そして、−Z方向に進行する偏光光L’が、試料S表面上の分析位置を含む領域に−Z方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に透過した偏光光L’が有孔平面ミラー91によって進行方向を所定方向と逆方向(−X方向)に変える。−X方向に進行する偏光光L’がハーフミラー92を透過せずに、検光子73を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部51bは、CCDカメラ71で検出された偏光光L’に基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の偏光像をモニタ53に表示する。
上述したEPMA1では、ハーフミラー92が、第一位置か、第一位置より下方に位置する第二位置かのいずれかの位置に直線的な移動により配置されるような構成としたが、平板形状のハーフミラー192が、任意の軸を中心として回転させることによって、第一位置か、第二位置かのいずれかの位置に配置されるような構成としてもよい。図2は、第二実施形態に係るEPMA101の要部の構成を示す構成図であって、平板形状のハーフミラー192が、第一位置か、Y方向を軸として回転させてX方向と平行となる位置である第二位置かのいずれかの位置に配置されるような構成となっている。なお、上述したEPMA1と同様のものについては、同符号を付すことにより説明を省略する。
具体的には、画像取得制御部151bは、落射光用光源部60の電源が入れられたことを検知したときには、落射光用光源部60からの可視光Lを所定方向(X方向)に反射するとともに、所定方向と逆方向(−X方向)からの光を透過してCCDカメラ71の検出面に導く第一位置にハーフミラー192を回転移動する。そして、CCDカメラ71から光学像を取得してモニタ53に表示する。一方、画像取得制御部151bは、透過光用光源部80の電源が入れられたことを検知したときには、所定方向と逆方向(−X方向)からの光が通過しない第二位置にハーフミラー192を回転移動する。そして、CCDカメラ71から偏光像を取得してモニタ53に表示する。
まず、分析者は、試料ステージ110の上面に試料Sを載置する。次に、分析者は、検光子移動機構を操作部54を用いて操作して検光子73を所定方向と逆方向(−X方向)からCCDカメラ71の検出面に向かう光が通過する光軸上に導入した後、透過光用光源部80の電源を入れる。そして、透過光用光源部80の電源が入れられた際には、画像取得制御部151bは、所定方向と逆方向(−X方向)からの光が通過しない第二位置にハーフミラー92を自動的に配置する。これにより、透過光用光源部80からX方向に出射された偏光光L’が、反射鏡83によって進行方向を−Z方向に変える。そして、−Z方向に進行する偏光光L’が、試料S表面上の分析位置を含む領域に−Z方向から照射される。そして、試料S表面上の分析位置を含む領域で−Z方向に透過した偏光光L’が有孔平面ミラー91によって進行方向を所定方向と逆方向(−X方向)に変える。−X方向に進行する偏光光L’がハーフミラー92を透過せずに、検光子73を透過し、CCDカメラ71の検出面にリレーレンズ72を介して導かれる。
その結果、画像取得制御部151bは、CCDカメラ71で検出された偏光光L’に基づいて、試料Sの分析位置を含む領域の偏光像をモニタ53に表示する。
20 電子線源
51 CPU(制御部)
51b 画像取得制御部(画像取得部)
60 落射光用光源部
71 CCDカメラ(画像取得部)
80 透過光用光源部
92 ハーフミラー
Claims (3)
- 試料表面上の分析位置に電子線を照射する電子線源と、
前記試料表面上の分析位置を含む領域に可視光を照射する落射光用光源部と、
前記試料の分析位置を含む領域に偏光光を照射する透過光用光源部と、
前記試料表面上の分析位置を含む領域で反射した可視光、又は、前記試料の分析位置を含む領域を透過した偏光光が検出面に入射して、前記試料表面上の分析位置を含む領域の光学像又は偏光像を取得する画像取得部と、
前記落射光用光源部からの可視光を所定方向に反射するとともに、前記所定方向と逆方向からの光を透過して前記画像取得部の検出面に導くことが可能なハーフミラーとを備える電子線分析装置であって、
前記ハーフミラーは、前記落射光用光源部から可視光が出射された際には、前記落射光用光源部からの可視光を前記所定方向に反射するとともに、前記所定方向と逆方向からの可視光を透過して前記画像取得部の検出面に導く第一位置に配置され、
一方、前記透過光用光源部から偏光光が出射された際には、前記所定方向と逆方向からの偏光光が通過しない第二位置に配置されるように移動可能となっていることを特徴とする電子線分析装置。 - 前記試料表面上の分析位置から放出された特性X線による信号を検出するX線検出部を備え、
前記試料表面上の一次元又は二次元範囲内で分析位置を走査させることにより、前記X線検出部で信号を収集し、前記信号の強度に基づいて試料表面上の一次元又は二次元範囲における元素又は組成に関する情報を求める制御部とを備えることを特徴とする請求項1に記載の電子線分析装置。 - 前記落射光用光源部から可視光が出射された際には、前記ハーフミラーを第一位置に自動的に配置し、一方、前記透過光用光源部から偏光光が出射された際には、前記ハーフミラーを第二位置に自動的に配置する制御部を備えることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載の電子線分析装置。
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