JP5819762B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
特許文献1に記載の枚葉式の基板処理装置は、基板を水平に保持して回転させるスピンチャックと、回転状態の基板の上面中央部に向けて室温よりも高温の処理液を吐出するノズルとを備えている。ノズルから吐出された高温の処理液は、基板の上面中央部に着液し、遠心力によって基板上を外方に広がる。これにより、高温の処理液が基板の上面全域に供給される。
回転状態の基板に供給された処理液は、遠心力によって径方向外方に広がると共に、回転方向の下流側に向かって周方向に広がる。流通方向に隣接する2つの吐出口が共通の回転半径上に配置されている場合には、処理液の着液位置が回転半径方向に並んでいるので、2つの吐出口から吐出された処理液が、基板上で即座に混ざる。そのため、温度の異なる処理液が基板上で混ざり合い、直ぐに温度が変化してしまう場合がある。したがって、流通方向に隣接する2つの吐出口を互いに異なる回転半径上に配置することにより、2つの吐出口から吐出された処理液が、基板上で即座に混ざることを抑制または防止できる。
この構成によれば、請求項1に関して述べた前記の作用効果に加えて、次の作用効果を奏することができる。具体的には、吐出部材の内部に設けられた冷却物質配置空間に配置された冷却物質によって吐出部材が冷却される。前述のように、高温処理液配管から吐出部材に供給される処理液の温度が、吐出部材の温度よりも高いので、高温処理液配管からの処理液が吐出部材に供給されると、吐出部材の温度が上昇する。吐出部材は、冷却物質によって冷却されて、元の温度(高温処理液配管からの処理液が供給される前の温度)に近づく。そのため、高温処理液配管からの処理液が、再び吐出部材に供給されたときに、以前とは異なる温度の処理液が基板に供給されることを抑制または防止できる。
図1は、本発明の第1実施形態に係る基板処理装置1に備えられた処理ユニット2の内部を水平方向から見た模式図である。
基板処理装置1は、半導体ウエハなどの円板状の基板Wを1枚ずつ処理する枚葉式の装置である。基板処理装置1は、複数の処理ユニット2と、基板処理装置1に備えられた装置やバルブの開閉を制御する制御装置3とを含む。
下面ノズル8は、処理液が流通する流路28と、流路28から供給された処理液を吐出する複数の吐出口29とを含む。流路28は、吐出部23の内部に設けられた第1流路33と、回転軸11の内部に設けられた第2流路34とを含む。第2流路34は、回転軸線A1に沿って上下方向に延びている。第1流路33は、回転軸線A1上で第2流路34に接続されている。第1流路33は、吐出部23の中央部から吐出部23の外周部まで広がり、吐出部23の外周部から吐出部23の中央部に戻るように延びている。図2では、第1流路33が、折れ線状である例が示されている。
第2実施形態に係る下面ノズル208は、第1実施形態に係る下面ノズル8の構成に加えて、冷却構造42を備えている。
たとえば、第1および第2実施形態では、第1流路33の上流部35および下流部36が、同一平面上に配置されている場合について説明したが、図5に示す下面ノズル308のように、上流部35および下流部36は、互いに異なる平面上に配置されていてもよい。
また、第1および第2実施形態では、基板処理装置1が、円板状の基板Wを処理する装置である場合について説明したが、基板処理装置1は、液晶表示装置用基板などの多角形の基板Wを処理する装置であってもよい。
3 :制御装置
5 :スピンチャック(基板保持手段)
6 :遮断板(吐出部材、下向き吐出部材)
8 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
12 :スピンモータ(基板回転手段)
28 :流路
29 :複数の吐出口
35 :上流部
36 :下流部
37 :薬液バルブ(切替装置)
38 :薬液配管(高温処理液配管)
40 :リンス液バルブ(切替装置)
41 :リンス液配管(低温処理液配管)
42 :冷却構造(冷却構造)
43 :冷却部材(冷却物質)
44 :配置空間(冷却物質配置空間)
45 :冷却液貯留空間
46 :冷却液流路(冷却液貯留空間)
47 :冷却液供給路
48 :冷却液排出路
208 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
308 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
408 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
508 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
608 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
708 :下面ノズル(吐出部材、上向き吐出部材)
A1 :回転軸線
W :基板
Claims (12)
- 基板を水平に保持する基板保持手段と、
基板を通る鉛直な回転軸線まわりに前記基板保持手段に保持されている基板を回転させる基板回転手段と、
前記回転軸線からの距離が異なる複数の位置にそれぞれ配置された複数の吐出口と、外側から内側の順番で前記複数の吐出口に順次接続された流路とを含み、前記流路から前記複数の吐出口に供給された処理液を前記複数の吐出口から前記基板に向けて吐出する吐出部材と、
前記吐出部材よりも高温の処理液を前記流路に供給する高温処理液配管とを含み、
前記吐出部材は、前記基板保持手段に保持されている基板に平行に対向する円板状の吐出部をさらに含み、
前記流路は、前記吐出部の内部で同一平面上に配置された第1流路を含み、
前記複数の吐出口の少なくとも2つは、互いに異なる半径上に配置されている、基板処理装置。 - 前記吐出部材は、前記基板保持手段による基板の保持位置の下方に配置された上向き吐出部材を含む、請求項1に記載の基板処理装置。
- 前記複数の吐出口は、互いに異なる半径上に配置されており、前記流路内での処理液の流通方向に隣接する2つの吐出口を含む、請求項1または2に記載の基板処理装置。
- 基板を水平に保持する基板保持手段と、
基板を通る鉛直な回転軸線まわりに前記基板保持手段に保持されている基板を回転させる基板回転手段と、
前記回転軸線からの距離が異なる複数の位置にそれぞれ配置された複数の吐出口と、外側から内側の順番で前記複数の吐出口に順次接続された流路とを含み、前記流路から前記複数の吐出口に供給された処理液を前記複数の吐出口から前記基板に向けて吐出する吐出部材と、
前記吐出部材よりも高温の処理液を前記流路に供給する高温処理液配管とを含み、
前記流路は、前記流路内での処理液の流通方向に隣接する2つの吐出口を結ぶ直線とは異なる経路を通って前記2つの吐出口の一方から他方に延びている、基板処理装置。 - 基板を水平に保持する基板保持手段と、
基板を通る鉛直な回転軸線まわりに前記基板保持手段に保持されている基板を回転させる基板回転手段と、
前記回転軸線からの距離が異なる複数の位置にそれぞれ配置された複数の吐出口と、外側から内側の順番で前記複数の吐出口に順次接続された流路とを含み、前記流路から前記複数の吐出口に供給された処理液を前記複数の吐出口から前記基板に向けて吐出する吐出部材と、
前記吐出部材よりも高温の処理液を前記流路に供給する高温処理液配管とを含み、
前記流路は、前記複数の吐出口のうちの最も外側の吐出口よりも上流側に配置されており、前記回転軸線から前記吐出部材の外端部まで延びる上流部と、前記上流部に接続されており、前記上流部と同一平面上に配置された下流部とを含む、基板処理装置。 - 基板を水平に保持する基板保持手段と、
基板を通る鉛直な回転軸線まわりに前記基板保持手段に保持されている基板を回転させる基板回転手段と、
前記回転軸線からの距離が異なる複数の位置にそれぞれ配置された複数の吐出口と、外側から内側の順番で前記複数の吐出口に順次接続された流路とを含み、前記流路から前記複数の吐出口に供給された処理液を前記複数の吐出口から前記基板に向けて吐出する吐出部材と、
前記吐出部材よりも高温の処理液を前記流路に供給する高温処理液配管とを含み、
前記流路は、前記複数の吐出口のうちの最も外側の吐出口よりも上流側に配置されており、前記回転軸線から前記吐出部材の外端部まで延びる上流部と、前記上流部に接続されており、前記上流部とは異なる平面上に配置された下流部とを含む、基板処理装置。 - 前記高温処理液配管から前記流路に供給される処理液よりも低温の処理液を前記流路に供給する低温処理液配管と、
処理液が前記高温処理液配管および低温処理液配管のいずれか一方から前記流路に選択的に供給されるように前記高温処理液配管および低温処理液配管の内部を開閉可能な切替装置と、
前記切替装置を制御することにより、前記高温処理液配管からの処理液を前記流路に供給する高温処理液供給工程と、前記高温処理液供給工程の後に、前記低温処理液配管からの処理液を前記流路に供給する低温処理液供給工程とを実行する制御装置とをさらに含む、請求項1〜6のいずれか一項に記載の基板処理装置。 - 基板を水平に保持する基板保持手段と、
基板を通る鉛直な回転軸線まわりに前記基板保持手段に保持されている基板を回転させる基板回転手段と、
前記回転軸線からの距離が異なる複数の位置にそれぞれ配置された複数の吐出口と、外側から内側の順番で前記複数の吐出口に順次接続された流路とを含み、前記流路から前記複数の吐出口に供給された処理液を前記複数の吐出口から前記基板に向けて吐出する吐出部材と、
前記吐出部材よりも高温の処理液を前記流路に供給する高温処理液配管と、
前記吐出部材の内部に設けられており、前記吐出部材を冷却する冷却物質が配置される冷却物質配置空間を含む冷却構造とを含む、基板処理装置。 - 前記冷却構造は、前記吐出部材よりも比熱の小さい、前記冷却物質としての冷却部材をさらに含む、請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記冷却物質配置空間は、前記冷却物質としての冷却液を貯留する冷却液貯留空間を含む、請求項8に記載の基板処理装置。
- 前記冷却液貯留空間は、前記冷却液が充填された密閉空間である、請求項10に記載の基板処理装置。
- 前記冷却構造は、前記冷却液貯留空間としての冷却液流路と、前記冷却液流路に接続されており、前記冷却液流路に冷却液を供給する冷却液供給路と、前記冷却液流路に接続されており、前記冷却液流路内の冷却液を排出する冷却液排出路とを含む、請求項10または11に記載の基板処理装置。
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