JP5766733B2 - 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 - Google Patents
傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP5766733B2 JP5766733B2 JP2013051303A JP2013051303A JP5766733B2 JP 5766733 B2 JP5766733 B2 JP 5766733B2 JP 2013051303 A JP2013051303 A JP 2013051303A JP 2013051303 A JP2013051303 A JP 2013051303A JP 5766733 B2 JP5766733 B2 JP 5766733B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- workpiece
- rolling
- plate
- feed table
- roll
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
- H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
- H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
- H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
- H01J37/3414—Targets
- H01J37/3426—Material
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B1/00—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
- B21B1/22—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling plates, strips, bands or sheets of indefinite length
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B1/00—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
- B21B1/22—Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling plates, strips, bands or sheets of indefinite length
- B21B1/227—Surface roughening or texturing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B22—CASTING; POWDER METALLURGY
- B22F—WORKING METALLIC POWDER; MANUFACTURE OF ARTICLES FROM METALLIC POWDER; MAKING METALLIC POWDER; APPARATUS OR DEVICES SPECIALLY ADAPTED FOR METALLIC POWDER
- B22F3/00—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces
- B22F3/18—Manufacture of workpieces or articles from metallic powder characterised by the manner of compacting or sintering; Apparatus specially adapted therefor ; Presses and furnaces by using pressure rollers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C22—METALLURGY; FERROUS OR NON-FERROUS ALLOYS; TREATMENT OF ALLOYS OR NON-FERROUS METALS
- C22F—CHANGING THE PHYSICAL STRUCTURE OF NON-FERROUS METALS AND NON-FERROUS ALLOYS
- C22F1/00—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working
- C22F1/16—Changing the physical structure of non-ferrous metals or alloys by heat treatment or by hot or cold working of other metals or alloys based thereon
- C22F1/18—High-melting or refractory metals or alloys based thereon
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/34—Sputtering
- C23C14/3407—Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
- C23C14/3414—Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B2265/00—Forming parameters
- B21B2265/24—Forming parameters asymmetric rolling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B2267/00—Roll parameters
- B21B2267/02—Roll dimensions
- B21B2267/06—Roll diameter
- B21B2267/065—Top and bottom roll have different diameters; Asymmetrical rolling
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B2273/00—Path parameters
- B21B2273/02—Vertical deviation, e.g. slack, looper height
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B21—MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
- B21B—ROLLING OF METAL
- B21B39/00—Arrangements for moving, supporting, or positioning work, or controlling its movement, combined with or arranged in, or specially adapted for use in connection with, metal-rolling mills
- B21B39/02—Feeding or supporting work; Braking or tensioning arrangements, e.g. threading arrangements
- B21B39/04—Lifting or lowering work for conveying purposes, e.g. tilting tables arranged immediately in front of or behind the pass
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12014—All metal or with adjacent metals having metal particles
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
- Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
- Y10T428/12—All metal or with adjacent metals
- Y10T428/12458—All metal or with adjacent metals having composition, density, or hardness gradient
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Metallurgy (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Metal Rolling (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Forging (AREA)
- Control Of Metal Rolling (AREA)
Description
図1に2つの実施形態を示す(図1aはシングルスタンド圧延機、図1bはマルチスタンド圧延機を示す)本発明の傾斜圧延プロセスは、ワークピースに剪断歪みを導入する改良された方法を提供する。この傾斜圧延プロセスでは、傾斜フィードテーブル(4a〜f)または傾斜エプロンを使用して、ワークピース(3)が、所定の導入傾斜角で圧延機のロール(1),(2)に供給される。傾斜フィードテーブルまたは傾斜エプロンが、ワークピースの終端が水平になるのを阻止しているため、圧延プロセスの間、導入傾斜角が保持される。
金属プレートおよび/またはシートを圧延するための従来の圧延機が当業界で公知である。代表的な圧延機では、ワークロールのそれぞれが、実質的に直径が等しく、実質的に同じ圧延速度で作動する。
米国特許第6,521,173号明細書に従って、板厚7〜8mmの3枚のプレートを作製した。下に挙げるプロセス(ステップ1〜6)により、直径165mmおよび厚さ81mmのパックを得た。詳細には、この操作は以下の通りである。
1)粉末を60〜90%の密度に冷間等方圧加圧加工(CIP)。
2)プレスしたプリフォームをスチール缶に封入し、缶を排気および封止。
3)プリフォームを密度100%のビレットに熱間等方圧加圧加工(HIP)。
4)スチール缶を除去。
5)ビレットを焼鈍。
バンドソーまたは任意の類似の適切な切断装置を使用して、プレートに圧延するために適した、ホッケーパックの形状を有するスライスに切断。
1)マップを、上半分(H1)と下半分(H2)の2つの部分に分ける。
2)高さ90μm、全幅(この例では1.64mm)の切り欠孔を有するマスクを、切り欠孔の上端が、マップの下端に一致するように、マップの上に置く。ウィンドウの高さにほぼ3つの粒子が入り、EBSDのステップが整数(この場合9ステップ)となるように選択されている点に注意されたい。
3)<100>//NDの15°内の粒子が占める切り欠孔内の面積の割合と、<111>//NDの15°内の粒子が占める切り欠孔内の面積の割合とを求める。
4)マスクを10μm下に移動させ、計算を繰り返す。
5)切り欠孔の下端がマップの下端に一致するまで、操作4を繰り返す。
6)板厚の半分のそれぞれについて、このデータを分析して、以下を決定する。
a)100のデータを通る最良適合直線の勾配(1mm当たりの%)(100勾配)。
b)111のデータを通る最良適合直線の勾配(1mm当たりの%)(111勾配)。
上で説明したのと同じ粉末冶金プロセス(ステップ1〜6)を使用して、板厚7.5mmのプレートを作製し、直径165mmおよび厚さ42mmのパックを得た。
Claims (17)
- 圧延プレートまたはシートの組織を制御する方法であって、
i)テーパー角度が設けられた先端を有し、それによって圧延ミルの対向するローラーペアに近接させることが可能な傾斜フィードテーブルを提供するステップと、
ii)前記テーパー角度が設けられた傾斜フィードテーブルの先端を前記ローラーの入り口に近づけて配置するステップと、
iii)上面エッジと底面エッジとを有するワークを前記圧延ミルの対向するローラーの間に2〜20°の傾斜角度で、前記ワークの上面端部と底面端部とが前記ローラーに同時に接触するように供給するステップと、
iv)前記供給するステップにおいて、前記ワークと前記傾斜フィードテーブルとの間で面接触を維持するステップとを含み、
板厚方向の剪断歪み分布を補正するように計算された所定の減少計画において、2〜20°間の傾斜角度でロール間にワークを二回以上通過させるステップを含み、当該ステップにおいてワークは、
a)パス間で定期的に反転され、または
b)2つ以上の圧延ミルを連続して通過し、連続する圧延ミルの間で前記角度の方向が反転する、
ところの方法。 - 前記圧延ミルの対向するローラーは同じ回転速度で動作する、請求項1記載の方法。
- 前記傾斜フィードテーブルはローラーを有する、請求項1または2記載の方法。
- 反りによる最大歪みが前記通過するステップで発生する垂直歪みの20%未満である、請求項1乃至3いずれか1項記載の方法。
- 前記傾斜角度は3〜7°である、請求項1乃至4いずれか1項記載の方法。
- 通過するステップの回数が4以上である、請求項1乃至5いずれか1項記載の方法。
- 前記ワークを平滑矯正するステップをさらに含む、請求項1乃至6いずれか1項記載の方法。
- 前記ワークは同じ回転速度で動作する作業ローラーペアを持つ2以上の圧延ミルを通過する、請求項1乃至7いずれか1項記載の方法。
- 前記減少計画は材料の板厚方向における均一な剪断歪みを達成するように調整され、所望の最小限の板厚方向組織勾配が達成され、<100>//ND組織成分および<111>//ND組織成分それぞれの板厚方向組織勾配が1mmあたり4%以下であり、NDは法線方向である(プレートの面に垂直)、請求項1乃至8いずれか1項記載の方法。
- 前記ワークは粉末冶金によって製造されたプレートまたはシートであってランダムに近い組織を有し、前記二回以上通過させるステップの後で前記ワークは剪断組織が増加し、<100>//NDの15°内および<111>//NDの15°内に配向したfcc金属の単位体積あたりの粒子割合がそれぞれ10.2%および13.6%よりも大きく、前記組織は水平および垂直方向において15μmステップのEBSDを用いて決定され、NDは法線方向である(プレートの面に垂直)、請求項1乃至9いずれか1項記載の方法。
- 前記ワークは粉末冶金によって製造されたプレートまたはシートであってランダムに近い組織を有し、前記二回以上通過させるステップの後で前記ワークは剪断組織が増加し、<110>//NDの15°内に配向したbcc金属の単位体積あたりの粒子割合が20.4%よりも大きく、前記組織は水平および垂直方向において15μmステップのEBSDを用いて決定され、NDは法線方向である(プレートの面に垂直)、請求項1乃至10いずれか1項記載の方法。
- 前記減少計画は材料中の剪断歪み量を最大化するように最適化され、それによって剪断組織が得られる、請求項1乃至11いずれか1項記載の方法。
- ワークの温度を再結晶化温度よりも上昇させて再結晶化させるステップをさらに含む、請求項1乃至12いずれか1項記載の方法。
- ある角度で金属プレートまたはシートを圧延する装置であって、
回転方向を持つ圧延ミルを備え、当該圧延ミルは、前記回転方向に対して2〜20°の角度に傾斜された傾斜フィードテーブルを持ち、
前記傾斜フィードテーブルはその先端にテーパー角度が設けられており、それによって前記圧延ミルのローラーペアに近接させることが可能になっている、装置。 - 前記傾斜フィードテーブルは前記回転方向に対して3〜7°の角度に傾斜している、請求項14記載の装置。
- 前記傾斜フィードテーブルはワークを完全に供給するために水平および垂直方向の調整機能を有する、請求項14または15記載の装置。
- 互いに反対方向に回転する第1ロールペアと、
互いに反対方向に回転する第2ロールペアと、
前記第1ロールペアと前記第2ロールペアとの間に配置された、テーパー角度を備える傾斜フィードテーブルとをさらに備える、請求項14、15または16記載の装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US96361607P | 2007-08-06 | 2007-08-06 | |
US60/963,616 | 2007-08-06 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010519977A Division JP2010535633A (ja) | 2007-08-06 | 2008-08-06 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2015122175A Division JP6140771B2 (ja) | 2007-08-06 | 2015-06-17 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2013154403A JP2013154403A (ja) | 2013-08-15 |
JP5766733B2 true JP5766733B2 (ja) | 2015-08-19 |
Family
ID=40020260
Family Applications (6)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010519963A Active JP5389802B2 (ja) | 2007-08-06 | 2008-08-05 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート |
JP2010519977A Pending JP2010535633A (ja) | 2007-08-06 | 2008-08-06 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
JP2013051303A Active JP5766733B2 (ja) | 2007-08-06 | 2013-03-14 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
JP2013143996A Active JP6085531B2 (ja) | 2007-08-06 | 2013-07-09 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート |
JP2015122175A Active JP6140771B2 (ja) | 2007-08-06 | 2015-06-17 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
JP2016020371A Pending JP2016148110A (ja) | 2007-08-06 | 2016-02-05 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート |
Family Applications Before (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2010519963A Active JP5389802B2 (ja) | 2007-08-06 | 2008-08-05 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート |
JP2010519977A Pending JP2010535633A (ja) | 2007-08-06 | 2008-08-06 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
Family Applications After (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2013143996A Active JP6085531B2 (ja) | 2007-08-06 | 2013-07-09 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート |
JP2015122175A Active JP6140771B2 (ja) | 2007-08-06 | 2015-06-17 | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 |
JP2016020371A Pending JP2016148110A (ja) | 2007-08-06 | 2016-02-05 | 組織の均一性が改善された高融点金属プレート |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (5) | US9095885B2 (ja) |
EP (3) | EP2185300B1 (ja) |
JP (6) | JP5389802B2 (ja) |
KR (3) | KR101201577B1 (ja) |
CN (2) | CN103350108B (ja) |
CA (1) | CA2694355A1 (ja) |
WO (2) | WO2009020587A1 (ja) |
Families Citing this family (29)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7837929B2 (en) * | 2005-10-20 | 2010-11-23 | H.C. Starck Inc. | Methods of making molybdenum titanium sputtering plates and targets |
WO2009020587A1 (en) | 2007-08-06 | 2009-02-12 | H.C. Starck, Inc. | Refractory metal plates with improved uniformity of texture |
JP5696051B2 (ja) * | 2008-11-03 | 2015-04-08 | トーソー エスエムディー,インク. | スパッターターゲットを製造する方法 |
US8449818B2 (en) | 2010-06-30 | 2013-05-28 | H. C. Starck, Inc. | Molybdenum containing targets |
US8449817B2 (en) | 2010-06-30 | 2013-05-28 | H.C. Stark, Inc. | Molybdenum-containing targets comprising three metal elements |
KR20170016024A (ko) | 2011-05-10 | 2017-02-10 | 에이치. 씨. 스타아크 아이앤씨 | 멀티-블록 스퍼터링 타겟 및 이에 관한 제조방법 및 물품 |
US9216445B2 (en) | 2011-08-03 | 2015-12-22 | Ut-Battelle, Llc | Method of forming magnesium alloy sheets |
CN103105776B (zh) * | 2011-11-15 | 2015-03-04 | 宝山钢铁股份有限公司 | 无取向硅钢酸洗剪边控制方法 |
US9334565B2 (en) | 2012-05-09 | 2016-05-10 | H.C. Starck Inc. | Multi-block sputtering target with interface portions and associated methods and articles |
CN102719772B (zh) * | 2012-07-04 | 2013-08-07 | 北京科技大学 | 有两表面不同粗糙度和非对称梯度组织的铜材及成形方法 |
JP2014110276A (ja) | 2012-11-30 | 2014-06-12 | Samsung Display Co Ltd | 有機電界発光素子用正孔輸送材料及びそれを用いた有機電界発光素子 |
CN104690088A (zh) * | 2013-12-05 | 2015-06-10 | 北京有色金属研究总院 | 一种轧制工艺的模拟实验方法 |
CN104801541A (zh) * | 2014-01-23 | 2015-07-29 | 大连理工大学 | 一种制备高室温塑性镁合金板材的轧制方法 |
KR102112937B1 (ko) * | 2014-03-27 | 2020-05-19 | 제이엑스금속주식회사 | 탄탈 스퍼터링 타깃 및 그 제조 방법 |
EP3129176B1 (en) * | 2014-04-11 | 2024-10-09 | Materion Newton Inc. | High purity refractory metal sputtering targets which have a uniform random texture manufactured by hot isostatic pressing high purity refractory metal powders |
JP6602550B2 (ja) | 2014-04-28 | 2019-11-06 | 株式会社アライドマテリアル | スパッタリングターゲット用材料 |
CN104226565B (zh) * | 2014-08-27 | 2016-04-06 | 史建平 | Uv固化机用压平防撞结构 |
CN104646416B (zh) * | 2015-01-16 | 2016-08-17 | 湖南科技大学 | 一种金属板材强剪切轧制成形方法与装置 |
DE102015101580B3 (de) * | 2015-02-04 | 2016-06-02 | Hydro Aluminium Rolled Products Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Prägewalzen eines Bandes |
JP6293929B2 (ja) * | 2015-05-22 | 2018-03-14 | Jx金属株式会社 | タンタルスパッタリングターゲット及びその製造方法 |
CN107532287B (zh) * | 2015-05-22 | 2019-11-05 | 捷客斯金属株式会社 | 钽溅射靶及其制造方法 |
JP6638639B2 (ja) * | 2016-12-19 | 2020-01-29 | トヨタ自動車株式会社 | 差厚金属板の製造方法、プレス部品の製造方法及び加工機 |
CN106756832B (zh) * | 2016-12-27 | 2019-03-12 | 宁夏东方钽业股份有限公司 | 一种靶材的制备方法 |
US11062889B2 (en) | 2017-06-26 | 2021-07-13 | Tosoh Smd, Inc. | Method of production of uniform metal plates and sputtering targets made thereby |
CN109213086B (zh) * | 2017-06-29 | 2020-10-23 | 台湾积体电路制造股份有限公司 | 制程系统与制程方法 |
CN108465700B (zh) * | 2018-03-13 | 2020-09-08 | 重庆大学 | 一种获得均匀组织和织构的溅射靶材用钽板轧制方法 |
US20210290934A1 (en) * | 2018-07-17 | 2021-09-23 | Viaderm Llc | Indwelling hyper-dimensional cardiac physiologic data logging and transmission system and method of doing business |
CN110586942B (zh) * | 2018-12-17 | 2020-08-14 | 南京中科煜宸激光技术有限公司 | 3d打印制造梯度管材及微观组织调控的方法 |
CN115116857B (zh) * | 2022-07-01 | 2024-08-02 | 江西蓝微电子科技有限公司 | 一种绝缘覆合金键合丝及其制备方法 |
Family Cites Families (62)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US1852271A (en) * | 1930-02-18 | 1932-04-05 | American Rolling Mill Co | Process of rolling sheets |
US2075066A (en) * | 1934-09-15 | 1937-03-30 | American Rolling Mill Co | Method of rolling metal |
US2123291A (en) * | 1935-02-23 | 1938-07-12 | United Eng Foundry Co | Apparatus for rolling strip |
US2250541A (en) * | 1938-10-28 | 1941-07-29 | Westinghouse Electric & Mfg Co | Tensioning device |
US3811305A (en) * | 1972-10-10 | 1974-05-21 | Bethlehem Steel Corp | Movable descaler spray header |
AT357587B (de) * | 1976-02-18 | 1980-07-25 | Voest Alpine Ag | Verfahren zum herstellen von blechen aus aus- tenitischen staehlen mit feinem korn |
SU738695A1 (ru) * | 1977-08-12 | 1980-06-05 | Челябинский Политехнический Институт Им.Ленинского Комсомола | Способ прокатки |
JPS54149352A (en) * | 1978-05-17 | 1979-11-22 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Rolling method by changing friction forces of upper and lower rolls |
JPS55139102A (en) * | 1979-04-17 | 1980-10-30 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Rolling method for strip |
JPS55165217A (en) | 1979-06-12 | 1980-12-23 | Ishikawajima Harima Heavy Ind Co Ltd | Lubricating method for rolled material |
SU931244A1 (ru) * | 1980-12-10 | 1982-05-30 | Институт Черной Металлургии Мчм Ссср | Способ прокатки полосового металла в многоклетевом стане |
JPS58116920A (ja) * | 1981-12-28 | 1983-07-12 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 圧延機の押込装置 |
US4473416A (en) * | 1982-07-08 | 1984-09-25 | Nippon Steel Corporation | Process for producing aluminum-bearing grain-oriented silicon steel strip |
JPS63104703A (ja) * | 1986-10-23 | 1988-05-10 | Nippon Steel Corp | 異径ロ−ル圧延における先端反り防止方法 |
CH677530A5 (ja) | 1988-11-17 | 1991-05-31 | Eidgenoess Munitionsfab Thun | |
US5242481A (en) | 1989-06-26 | 1993-09-07 | Cabot Corporation | Method of making powders and products of tantalum and niobium |
JPH0332404A (ja) | 1989-06-27 | 1991-02-13 | Nkk Corp | 金属板の圧延方法 |
JPH0641684Y2 (ja) * | 1990-10-15 | 1994-11-02 | 新日本製鐵株式会社 | 形材の高機能誘導装置 |
US5850755A (en) * | 1995-02-08 | 1998-12-22 | Segal; Vladimir M. | Method and apparatus for intensive plastic deformation of flat billets |
US6569270B2 (en) * | 1997-07-11 | 2003-05-27 | Honeywell International Inc. | Process for producing a metal article |
US6341516B1 (en) * | 1997-09-16 | 2002-01-29 | Ishikawajima-Harima Heavy Industries Co., Ltd. | Plate reduction press apparatus and methods |
JPH11188417A (ja) * | 1997-12-25 | 1999-07-13 | Kawasaki Steel Corp | 熱延薄鋼板の搬送案内装置 |
US6348139B1 (en) * | 1998-06-17 | 2002-02-19 | Honeywell International Inc. | Tantalum-comprising articles |
DE19840538A1 (de) * | 1998-08-28 | 2000-03-09 | Mannesmann Ag | Walzgerüst mit gekreuzten Stütz- und/oder Arbeitswalzen |
US6348113B1 (en) * | 1998-11-25 | 2002-02-19 | Cabot Corporation | High purity tantalum, products containing the same, and methods of making the same |
US5992201A (en) * | 1998-12-07 | 1999-11-30 | Danieli United | Rolling and shearing process and apparatus background |
JP2001020065A (ja) | 1999-07-07 | 2001-01-23 | Hitachi Metals Ltd | スパッタリング用ターゲット及びその製造方法ならびに高融点金属粉末材料 |
US6521173B2 (en) * | 1999-08-19 | 2003-02-18 | H.C. Starck, Inc. | Low oxygen refractory metal powder for powder metallurgy |
JP4698779B2 (ja) * | 1999-09-08 | 2011-06-08 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 磁性体スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
AUPQ436399A0 (en) * | 1999-12-01 | 1999-12-23 | Bhp Steel (Jla) Pty Limited | Hot rolling thin strip |
US6331233B1 (en) * | 2000-02-02 | 2001-12-18 | Honeywell International Inc. | Tantalum sputtering target with fine grains and uniform texture and method of manufacture |
AUPQ546900A0 (en) * | 2000-02-07 | 2000-03-02 | Bhp Steel (Jla) Pty Limited | Rolling strip material |
US6462339B1 (en) * | 2000-09-20 | 2002-10-08 | Cabot Corporation | Method for quantifying the texture homogeneity of a polycrystalline material |
US6946039B1 (en) * | 2000-11-02 | 2005-09-20 | Honeywell International Inc. | Physical vapor deposition targets, and methods of fabricating metallic materials |
CN1257998C (zh) * | 2001-01-11 | 2006-05-31 | 卡伯特公司 | 钽和铌的坯料及其制造方法 |
CN1789476A (zh) * | 2001-02-20 | 2006-06-21 | H.C.施塔克公司 | 组织均匀的高熔点金属板及其制造方法 |
NL1018817C2 (nl) * | 2001-08-24 | 2003-02-25 | Corus Technology B V | Werkwijze voor het bewerken van een continu gegoten metalen plak of band, en aldus vervaardigde plaat of band. |
NL1018814C2 (nl) * | 2001-08-24 | 2003-02-25 | Corus Technology B V | Inrichting voor het bewerken van een metalen plak, plaat of band en daarmee vervaardigd product. |
US6770154B2 (en) | 2001-09-18 | 2004-08-03 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target |
US7081148B2 (en) * | 2001-09-18 | 2006-07-25 | Praxair S.T. Technology, Inc. | Textured-grain-powder metallurgy tantalum sputter target |
US6976380B1 (en) * | 2002-01-24 | 2005-12-20 | The Texas A&M University System | Developing the texture of a material |
JP2003305503A (ja) * | 2002-04-09 | 2003-10-28 | Mitsubishi Alum Co Ltd | 高成形性アルミニウム合金板およびその製造方法 |
TWI341337B (en) * | 2003-01-07 | 2011-05-01 | Cabot Corp | Powder metallurgy sputtering targets and methods of producing same |
US7228722B2 (en) * | 2003-06-09 | 2007-06-12 | Cabot Corporation | Method of forming sputtering articles by multidirectional deformation |
JP2005103573A (ja) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Daido Steel Co Ltd | 圧延機および圧延方法 |
CN1871372B (zh) * | 2003-11-06 | 2010-11-17 | 日矿金属株式会社 | 钽溅射靶 |
WO2005080961A2 (en) * | 2004-02-18 | 2005-09-01 | Cabot Corporation | Ultrasonic method for detecting banding in metals |
US7381282B2 (en) | 2004-04-07 | 2008-06-03 | Hitachi Metals, Ltd. | Co alloy target and its production method, soft magnetic film for perpendicular magnetic recording and perpendicular magnetic recording medium |
US8252126B2 (en) | 2004-05-06 | 2012-08-28 | Global Advanced Metals, Usa, Inc. | Sputter targets and methods of forming same by rotary axial forging |
US20060042728A1 (en) * | 2004-08-31 | 2006-03-02 | Brad Lemon | Molybdenum sputtering targets |
US8088232B2 (en) * | 2004-08-31 | 2012-01-03 | H.C. Starck Inc. | Molybdenum tubular sputtering targets with uniform grain size and texture |
US7998287B2 (en) * | 2005-02-10 | 2011-08-16 | Cabot Corporation | Tantalum sputtering target and method of fabrication |
US20060201589A1 (en) * | 2005-03-11 | 2006-09-14 | Honeywell International Inc. | Components comprising metallic material, physical vapor deposition targets, thin films, and methods of forming metallic components |
US7928602B2 (en) | 2007-03-30 | 2011-04-19 | Steelcase Development Corporation | Power floor method and assembly |
US8197894B2 (en) | 2007-05-04 | 2012-06-12 | H.C. Starck Gmbh | Methods of forming sputtering targets |
US20090010792A1 (en) | 2007-07-02 | 2009-01-08 | Heraeus Inc. | Brittle metal alloy sputtering targets and method of fabricating same |
US8250895B2 (en) | 2007-08-06 | 2012-08-28 | H.C. Starck Inc. | Methods and apparatus for controlling texture of plates and sheets by tilt rolling |
WO2009020587A1 (en) | 2007-08-06 | 2009-02-12 | H.C. Starck, Inc. | Refractory metal plates with improved uniformity of texture |
JP5342810B2 (ja) | 2008-06-09 | 2013-11-13 | 株式会社コベルコ科研 | Al基合金スパッタリングターゲット材の製造方法 |
EP2536862A4 (en) | 2010-02-15 | 2016-07-13 | Federal Mogul Corp | MOTHER ALLOY FOR PRODUCING SINTERED CURVED STEEL PARTS AND METHOD FOR PRODUCING SINTERED CURED PIECES |
JP5165100B1 (ja) | 2011-11-01 | 2013-03-21 | 三菱マテリアル株式会社 | スパッタリングターゲット及びその製造方法 |
CN102513537B (zh) | 2011-12-06 | 2013-07-17 | 中国航空工业集团公司北京航空材料研究院 | 一种氩气雾化粉末TiAl合金板材的制备方法 |
-
2008
- 2008-08-05 WO PCT/US2008/009388 patent/WO2009020587A1/en active Application Filing
- 2008-08-05 EP EP08795025.9A patent/EP2185300B1/en active Active
- 2008-08-05 KR KR1020107002603A patent/KR101201577B1/ko active IP Right Grant
- 2008-08-05 JP JP2010519963A patent/JP5389802B2/ja active Active
- 2008-08-05 US US12/221,646 patent/US9095885B2/en active Active
- 2008-08-06 CN CN201310268498.5A patent/CN103350108B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-06 CA CA2694355A patent/CA2694355A1/en not_active Abandoned
- 2008-08-06 EP EP08795075.4A patent/EP2176009B1/en active Active
- 2008-08-06 KR KR1020127018608A patent/KR101365774B1/ko active IP Right Grant
- 2008-08-06 WO PCT/US2008/009446 patent/WO2009020619A1/en active Application Filing
- 2008-08-06 CN CN2008801019474A patent/CN101772385B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-06 EP EP15188449.1A patent/EP2998039B1/en active Active
- 2008-08-06 JP JP2010519977A patent/JP2010535633A/ja active Pending
- 2008-08-06 KR KR1020107002711A patent/KR101204245B1/ko active IP Right Grant
-
2013
- 2013-03-14 JP JP2013051303A patent/JP5766733B2/ja active Active
- 2013-07-09 JP JP2013143996A patent/JP6085531B2/ja active Active
-
2015
- 2015-06-17 JP JP2015122175A patent/JP6140771B2/ja active Active
- 2015-06-26 US US14/751,224 patent/US9767999B2/en active Active
-
2016
- 2016-02-05 JP JP2016020371A patent/JP2016148110A/ja active Pending
-
2017
- 2017-08-22 US US15/682,605 patent/US10236164B2/en active Active
-
2019
- 2019-01-29 US US16/260,274 patent/US10943772B2/en active Active
-
2021
- 2021-01-22 US US17/155,254 patent/US11443929B2/en active Active
Also Published As
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP6140771B2 (ja) | 傾斜圧延法によってプレートおよびシートの組織を制御する方法 | |
US8250895B2 (en) | Methods and apparatus for controlling texture of plates and sheets by tilt rolling | |
JP5114812B2 (ja) | 変形させた金属部材の製造方法 | |
CN101857950B (zh) | 钽溅射靶 | |
EP3211118A1 (en) | Tantalum sputtering target, and production method therefor | |
US20180374690A1 (en) | Method of production of uniform metal plates and sputtering targets made thereby |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20140428 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20140507 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140806 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140811 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20140903 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20140908 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20141007 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20141010 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20141107 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20150519 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20150617 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5766733 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |