JP5762101B2 - 光学素子成形用型の製造方法および光学素子成形用型 - Google Patents
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図1(a)は、一実施形態に係る光学素子成形用型の製造方法におけるフィルタードカソ−ディックバキュームアーク法(FCVA法)による成膜を行う成膜装置(FCVA装置)を示す。この装置は、真空チャンバー1内に型母材保持部材2を有し、型母材保持部材2は型母材10を保持する。型母材保持部材2の外側には、後述するような磁場を形成する磁気手段であるリング状磁石3が設置されている。型母材10には直流電源5により電圧が印加されている。真空チャンバー1には、FCVA法によってテトラヘドラルアモルファスカーボン膜(taC膜)を成膜するための成膜源を構成するバキュームアーク電源20、アークプラズマ生成室21及びフィルターコイル22が接続されている。
図1(a)の装置により、図1(b)に示すような光学素子成形用型を形成した。まず凸形状で開角が55度である型母材10を準備し、WCを主成分とする超硬合金の型母材10に、スパッタリング装置を用いてTi膜11を300nm成膜した。次に、TiAlN膜12を700nm成膜し、さらにSiC膜を60nm成膜した。SiC膜の形成方法としては、プラズマソースイオンインプラテーション法(PSII法)や、スパッタ法が適用される。最後に、図1(a)に示す成膜装置の真空チャンバー1内に型母材10を設置した。リング状磁石3により、型母材10から型母材10の成形面の法線方向に向けて±0、+0.01、+0.02、+0.1、+0.2、+0.4、+0.5テスラの各磁束密度を有する磁場を形成し、taC膜13を200nm成膜した。
フィルターコイルの作る磁場と、リング状磁石によって形成される磁場を、各々逆向きにする以外は実施例1と同様に光学素子成形用型を製造した。この光学素子成形用型を用いて実施例1と同様に光学レンズの成形を行った。実施例1と同様、成形中、型と成形された光学素子との離型性は良好であった。
2 型母材保持部材
3 リング状磁石
10 型母材
11 Ti膜
12 TiAlN膜
13 SiC膜
14 taC膜
20 バキュームアーク電源
21 アークプラズマ生成室
22 フィルターコイル
Claims (3)
- 光学素子成形用型の製造方法において、型母材を真空チャンバー内に配置した後、前記型母材の外側に配置したリング状磁石により、前記型母材の被成膜面に対して法線方向の磁場を形成し、前記型母材に電圧を印加しながら、フィルタードカソ−ディックバキュームアーク法によって、前記型母材の被成膜面にテトラヘドラルアモルファスカーボン膜を成膜することを特徴とする光学素子成形用型の製造方法。
- 前記磁場において、前記型母材の被成膜面に対して法線方向の磁束密度は、0.02テスラ以上0.4テスラ未満であることを特徴とする請求項1に記載の光学素子成形用型の製造方法。
- 請求項1又は2に記載の光学素子成形用型の製造方法によって製造されたことを特徴とする光学素子成形用型。
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