JP5745517B2

JP5745517B2 - ３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン（ガナキソロン）の製造法

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Description

多くの３α−ヒドロキシ−３β−置換−５α−プレグナン−２０−オン類ステロイド誘導体は、in vitroにおいてＧＡＢＡ受容体塩化物イオノフォア複合体（ＧＲ複合体）の調節に有効であることが立証されており、ヒトＣＮＳ障害の動物モデルにおいて有用な治療効果を示す。その中でも特に、３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン（ガナキソロン、ＧＮＸ、１）は、ＧＲ複合体を刺激することが分かっており、in vivoで様々な有益な生理作用を示す。ガナキソロン１は、先進的な臨床試験でてんかんに関して試験中であり、他の多くのＣＮＳ障害にも有用と考えられる。ガナキソロンは、ヒトでの効果的な治療に必要な用量が多い（＞１ｇ／日）ため、効率的で低コストの製造法が求められている（Nohria and Giller, J. Am. Soc. Exp. Neurotherapeutics, (2007) 4: 102-105）。

ガナキソロン合成の最も直接的な方法は、メチルグリニャールやメチルリチウムなどの有機金属メチル化剤による、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（ジオン２）のＣ３カルボニルへの位置選択的および立体選択的攻撃によるものである。メチルリチウムまたはメチルグリニャールを用いた５α−プレグナン−３，２０−ジオンの直接メチル化によるガナキソロンの調製は、Ｃ３カルボニル基とＣ２０カルボニル基の両方が炭素アニオンにより不可逆的に攻撃されて生成物の複合混合物が生じるため、不可能であった。

ジオン２のメチル化による好ましくない生成物はガナキソロンと同じ物理的性質を持つため、多くの精製工程を避けるためには、ジオン２の有機金属メチル化反応によって得たガナキソロンに含まれる単一の不純物がいずれも１０％より少なくなければならない。この精製工程はまた、有効収率を下げ、薬剤として純粋なガナキソロン（＞０．１％の単一の不純物を含まない）を得るための製造コストを押し上げる。

ガナキソロン１の標準的な合成法には、酸化の前に３α−ヒドロキシ−５β−プレグナン−２０−オンのＣ２０カルボニルを保護し、３位置に有機金属メチル化剤を反応させて３β−メチル基を導入し、次に、Ｃ２０のケタールを加水分解する工程が含まれる（Hogenkampら, J. Med. Chem., (1997) 40: 61-72）。この方法の欠点は、全合成のために少なくとも２つの追加工程、始めのＣ２０カルボニルの保護と、３β−メチル基導入後の保護基の除去が加わることである。

より重要なのは、立体選択性が非常に乏しく、ほぼ等量の３α異性体と３β異性体が生じることである。これにより合成コストと複雑さが増し、工程の全収率が低下してしまう。

ガナキソロン（１）の別の合成法は、米国特許第５，３１９，１１５号および文献（Heら, Zhongguo Xinyao Zazhi (2005), 14(8),1025-1026）に提示されており、そこでは、ジオン２を、テトラヒドロフラン中でコーリーの試薬（トリメチルスルホキソニウムヨージド）およびカリウムｔ−ブトキシドと反応させ、熱力学的に制御された可逆反応（Johnson et al., J. Am. Chem. Soc., (1973), 95 (22), 7424-7431）を経て、Ｃ３に、より安定なエポキシド異性体（１−（（２’Ｒ，５Ｓ，８Ｒ，９Ｓ，１０Ｓ，１３Ｓ，１４Ｓ，１７Ｓ）−１０，１３−ジメチルヘキサデカヒドロスピロ［シクロペンタ［ａ］フェナントレン−３，２’−オキシラン］−１７−イル）エタノン）を生じさせるものである。このエポキシドを様々な条件下で還元し、例えば、ヨウ化カリウムでエポキシドを求核的に開裂し、得られたヨウ化物を水素化還元してガナキソロン１を得る。この合成法では、中間体エポキシドの単離と精製が必要であり、更に、多くの操作や、費用のかかる水素化工程も必要で、その全てによってコストがかさみ、工程が長くなってしまう。コーリー試薬をジオン２と反応させた後、エポキシドを還元すると、除去の困難な副生物の１７−ヒドロキシガナキソロン８が生じる。コーリー試薬を用いた径路で得られる精製ガナキソロンには、しばしば製造レベルで、＞０．１％（ＨＰＬＣによる）の１７−ヒドロキシガナキソロンが含まれる。

米国特許第５，３１９，１１５号

Nohria and Giller, J. Am. Soc. Exp. Neurotherapeutics, (2007) 4: 102-105 Hogenkampら, J. Med. Chem., (1997) 40: 61-72 Heら, Zhongguo Xinyao Zazhi (2005), 14(8),1025-1026 Johnson et al., J. Am. Chem. Soc., (1973), 95 (22), 7424-7431

高純度のガナキソロンを製造する、効率が良くて費用効果の高いガナキソロン合成法が求められている。

本発明では、５α−プレグナン−３，２０−ジオンからガナキソロンを製造するための、簡単で費用効果の高い方法を提示する。

発明者らは、驚くべきことに、予想以上に良好な位置選択性および立体選択性の両方で、３，２０−ジオン（２）への有機金属付加を行えることを発見した。発明者らは、試薬と反応条件を適切に選択することで、Ｃ２０カルボニルでの反応を起こさず、または僅かしか起こさずに、ジオン２のＣ３カルボニル位置に位置選択的反応を行えることを発見した。発明者らは更に、試薬と条件を適切に選択すると、メチル化剤のエクアトリアル攻撃によって高い立体選択性が得られ、所望のβ−メチル異性体ガナキソロンができることを立証した。つまり、第１の態様において、本発明は、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（ジオン２）を不活性溶媒中の有機金属メチル化剤と反応させて、次の構造式で示される化合物を生成する工程を含む、ガナキソロンの製造法を提示する。

（ガナキソロン）
このとき、ガナキソロンの純度は、ＨＰＬＣによる純度で８０％より大きい。

本発明には、ガナキソロンを高い収率で、また反応不純物を実質的に含まずに生成するという長所もある。有機金属メチル化剤を適切に使用すると、高い位置選択的および立体選択的制御を行いつつ、予想以上に高い化学的収率でこの変換を行うことができる。本発明を用いれば、Ｃ２０カルボニルの保護が無用で、いかなる中間体も分離する必要がなく、全変換を１つの化学工程で行える。

本発明は更に、５α−プレグナン−３，２０−ジオンを不活性溶媒中の有機金属メチル化剤と反応させて、ＨＰＬＣによる純度が少なくとも９９．５％であるガナキソロンを生成する工程を含む、ガナキソロンの製造法を提示する。いくつかの実施の形態において、精製工程を１回行った後に得られるガナキソロンに含まれる、次の構造で示される反応不純物のＨＰＬＣの面積は、いずれも０．１％より少ない。

または

または

または

または

または

ジオン２の有機金属付加から生じる可能性のある生成物を示す図であり、ジオン２のＣ３ケトンの直接メチル化によってガナキソロンを調製する以前の方法では、ガナキソロンと、ここに示すような様々な反応不純物が生じていたことを示す図である。

［専門用語］
本発明を詳細に述べる前に、文中で用いられるいくつかの用語の定義を行うことは有用であろう。本発明の化合物は標準命名法を用いて記述する。別に定義のない限り、文中で用いられている全ての技術および科学用語は、本発明の属する技術の当業者が一般的に理解しているものと同じ意味を持つ。

用語“a”および“an”は、量の限定を示すものではなく、言及されている項目が少なくとも１つ存在することを意味する。用語“or”は“および／または”を意味する。用語“含む（comprising）”、“持つ（having）”、“含む（including）”、および“含む（containing）”は、非制限的用語（即ち、“〜を含むが、これに限定されない（including, but not limited to）”を意味する）と解釈されるべきである。値の範囲が挙げられているものは、文中に別に示されていない限り、その範囲内にある個々のそれぞれの値を個別に示すための略記法として使用するだけであり、個々のそれぞれの値は、文中で個別に挙げられているように本明細書に含まれている。全ての範囲の終点はその範囲に含まれ、独立して結合可能である。本件に記載の全ての方法は、文中に別に示されていない限り、または文脈により別の方法で明らかに否定されていない限り、適当な順序で行うことができる。一部および全ての実施例の使用、または例示的な語（例えば、“など（such as）”）は、本発明をより明らかに示すためのもので、別に主張されていない限り、本発明の範囲に制限を与えるものではない。明細書中の言葉は、請求項に挙げられていない要素が、文中で用いられているように、本発明の実施において必須であることを指していると解釈すべきではない。別に定義のない限り、文中で用いられている技術および科学用語は、本発明の属する技術の当業者が一般的に理解しているものと同じ意味を持つ。

“アルコキシ”は、酸素橋（−Ｏ−）を経て結合した、示されている数の炭素原子を含む、先に定義したアルキル基を指す。“低級アルコキシ”は、一般に１個から約６個の炭素原子を含み、いくつかの望ましい実施の形態では、１個から約３個の炭素原子を含む。“アート塩錯体（Ate Complex）”は、ルイス酸と塩基との反応から生成した塩であり、塩錯体中の中心原子の価数は大きくなる。塩錯体の例としては、（ＣＨ_３）_３ＦｅＬｉおよび（ＣＨ_３）_３ＦｅＭｇＣｌが挙げられる。

本件で用いる“ハロゲン化物”とは、塩化物、臭化物、またはヨウ化物である。

本件で用いるＨＰＬＣは、実施例の項に記載の方法で屈折率検出を利用した高速液体クロマトグラフィーである。

百分率純度（％純度）は、ガナキソロンのＨＰＬＣピークの面積を、ガナキソロンのＨＰＬＣピークとそれぞれの反応不純物のＨＰＬＣピークとの面積の和で割り、この被除数（dividend）に１００を乗じて得られる、面積百分率を指す。

“百分率収率または単離収率（％収率）”は、単離した生成物の重さを、ガナキソロンの分子量で割り、反応に使用した出発物質のモル数で割ったものである。

“反応不純物”は、工程に関連する不純物（副生物）、例えば、全ての残留出発物質、残留中間体、およびＨＰＬＣで検出されるガナキソロン以外の反応生成物である。ＦＤＡでは、用語“工程関連不純物”を、製造工程に由来する不純物を記述するために使用する。

“位置選択的”とは、図１に識別されているＣ２０付加物６の生成が１０％より少なくなるような、５α−プレグナン−３，２０−ジオンとの全ての直接有機金属メチル化反応である。

“立体選択的”とは、図１の望ましくないエピマー副生物３の生成が１０％より少なくなるような、５α−プレグナン−３，２０−ジオンへの全ての直接有機金属メチル化反応である。

移行句“を含む（comprising）”、“基本的に〜から成る（consisting essentially of）”、および“〜から成る（consisting of）”は、現行特許法でこれらの語句に認められている意味を持つ。移行句のいずれかを用いて主張されている全ての実施の形態は、別の移行句を用いても主張できる。例えば、移行句として“〜を含む”を用いて主張されている実施の形態には、“基本的に〜から成る”または“〜から成る”の移行句を用いて主張されている実施の形態も含まれ、またその逆も言える。

［化学的記述］
既存のガナキソロン合成法に伴う問題点を考えた場合、最も費用効果の高いガナキソロン製造法は、ジオン２のＣ３ケトンの直接メチル化によるものである。可逆的な熱力学過程を経由する、コーリー試薬でのＣ３の立体選択的および位置選択的攻撃が、ジオン２への有機金属試薬の不可逆的直接付加に応用できるとは予想されなかったであろう。この反応からは生成物の混合物ができると予想される。この予想は実施例の項の実施例１から生じたもので、ジオン２をテトラヒドロフラン中でメチルリチウムと反応させると生成物の複合混合物が得られ（図１参照）、この混合物には所望する生成物のガナキソロンが約１１％しか含まれない。工程関連不純物７は、工程関連不純物４および５を、Ｃ２１ヒドロキシ基の脱水を起こすことのできる酸性環境に曝すと生じる可能性のあるオレフィン脱水生成物を示したものである。工程関連不純物９は、酸を加えて構造６からＣ２１ヒドロキシ基が脱水すると生じる可能性のあるオレフィン位置を示している。

発明者らは、ガナキソロンを調製するための、単一工程の位置選択的および立体選択的ガナキソロン合成法を発見した。この方法の出発物質は５α−プレグナン−３，２０−ジオンであって、その効率的な費用効果の高い合成法は既知である。不活性溶媒中の望ましい有機金属メチル化試薬を、５α−プレグナン−３，２０−ジオンと反応させると、単離可能な中間体を生じることなく、１つの化学工程で対応するガナキソロンが得られる。望ましい有機金属メチル化剤は、純度が高く性質の明確な物質、またはその場で発生させた有機金属種の混合物である。反応はどのような不活性溶媒（または、不活性溶媒の組み合わせ）中で行っても良いが、最も望ましくは、テトラヒドロフラン、グリム、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、ジエチルエーテルなどのエーテル溶媒中で行う。ハロゲン化リチウムなどの無機塩を反応混合物に加えることも有益であり、こうすると反応収率が更に向上し、反応物の粘度が低下して、不活性溶媒を減らすことができ、また反応容器内のバッチサイズを大きくすることができる。一般に、反応の位置選択性および立体選択性は、溶媒、温度、有機金属メチル化試薬の組成に影響される。

ある実施の形態において、本発明には、５α−プレグナン−３，２０−ジオンを不活性溶媒中の有機金属メチル化剤と反応させる工程を含む、ガナキソロンの製造法が含まれる。いくつかの実施の形態において、ガナキソロンの％収率は、少なくとも４５％、少なくとも５５％、少なくとも７０％、少なくとも８０％、少なくとも８５％、少なくとも９０％収率である。いくつかの実施の形態において、３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン生成物の純度は、ＨＰＬＣによる面積で、少なくとも７０％、少なくとも８０％、少なくとも９０％、または少なくとも９５％である。いくつかの実施の形態において、ＨＰＬＣで求め、全反応生成物に対する百分率で示した、図１の反応不純物３から反応不純物８のそれぞれの量は、２０％未満（Not More Than：ＮＭＴ）、１０％未満、５％未満、２％未満、または１％未満である。不純物の収率は、ＨＰＬＣの面積で、それぞれ２％未満が望ましく、より望ましくはそれぞれ１％未満、更により望ましくは０．１％未満である。更に、不純物５および不純物６の収率が共に１％未満であることが望ましい。

ある実施の形態において、有機金属メチル化剤は、２から５当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、不活性溶媒系中の無水塩化第二鉄（ＦｅＣｌ_３）（Reetz, M.ら, Tetrahedron Lett.,(1192)33(46):6963-6966 および Reetz, M.T.ら, J. Chem. Soc., Chem. Comm.,(1993)328-330.）、または無水ＦｅＣｌ_２（Kauffmann, T.ら, Chem. Ber. (1992)125:163-169）に加えて発生させる。こうすると、化学量論に従っていくつもの異なるメチル化試薬が生じ、特に、試薬の生成にメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムのどちらを（あるいは、組み合わせて）用いるかによって、ＭｅＦｅＣｌ、Ｍｅ_２Ｆｅ、Ｍｅ_３Ｆｅ−Ｙ＋、およびＭｅ_４Ｆｅ^（２−）２Ｙ＋（式中、Ｙは、Ｌｉおよび／またはＭｇＸ（Ｘ＝Ｃｌ、Ｂｒ、またはＩ））が生じる。これらの試薬の性質は、有機金属試剤を塩化第二鉄溶液に加える前または後に、塩化リチウムなどの無機塩を反応物に加えることで、有利なように変えることができる。

別の実施の形態では、０から３当量の塩化リチウム（ＦｅＣｌ_３に対して）を含む無水塩化第二鉄のテトラヒドロフラン溶液に、３〜４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物を加えて、鉄−メチル化錯体を発生させる。１当量のメチルマグネシウムハロゲン化物は、ＦｅＣｌ_３をＦｅＣｌ_２に還元する。４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物を用いる場合（ＦｅＣｌ_３に対して）、試薬や対イオンのより複雑な混合物がメチル化剤であることも可能であるが、メチル化剤は、恐らく錯体（Ｍｅ_３Ｆｅ−ＭｇＸ＋）である。有機金属メチル化剤の発生に最適な反応温度は−４０℃と３５℃の間である。

本発明の別の望ましい実施の形態において、有機金属メチル化剤は、０．５から２当量の塩化第二鉄（ジオン２に対して）、３〜４当量のメチルマグネシウム塩化物（ＦｅＣｌ_３に対して）を、０〜２当量のＬｉＣｌ（ＦｅＣｌ_３に対して）のテトラヒドロフラン溶液に加え、温度を約−１５℃以下に保って発生させる。

本発明の別の望ましい実施の形態において、有機金属メチル化剤は、約−１５℃以下の温度で、無水塩化第二鉄のテトラヒドロフラン溶液／懸濁液に、３当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを加えて発生させる。いくつかの実施の形態では、反応が終了するまで、反応温度を約−３５℃から約−１５℃に保つ。メチル化剤は恐らく錯体（Ｍｅ_２Ｆｅ）であるが、より複雑な鉄種の混合物であっても良い。ジオン２との最適反応温度は約−２５℃と約４０℃の間である。

別の実施の形態において、有機金属メチル化剤は、加えられる有機金属試薬の当量の最大数が、最初のチタン試薬中のハロゲンの数を超えないという条件で、１から４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、チタン試薬（ＴｉＸＹＺＴ式中、Ｘ、Ｙ、Ｚ、およびＴは、同じまたは異なっており、ハロゲンまたはアルコキシである）に加えて発生させる。それに続くジオン２との反応は、不活性溶媒中、−４０℃と７０℃の間の反応温度で行う。

いくつかの実施の形態において、ガナキソロンの合成法には、約２から約４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、無水ハロゲン化第二鉄または無水ハロゲン化第一鉄の有機溶媒溶液に加えることにより、有機金属メチル化剤を生成する工程が更に含まれる。

いくつかの実施の形態において、ガナキソロンの合成法には、３〜４当量のメチルマグネシウム塩化物（ＦｅＣｌ_３に対して）を不活性溶媒に加える前に、約０．１から約４当量の塩化リチウム（ＦｅＣｌ_３に対して）を不活性溶媒に加える工程が更に含まれる。

いくつかの実施の形態において、ガナキソロンの合成法には、約１当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウム（チタンに対して）を、トリ（Ｃ_１〜Ｃ_３アルコキシ）チタン塩化物の有機溶媒溶液に加えることにより、有機金属メチル化剤を発生させる工程が更に含まれる。

いくつかの実施の形態において、有機金属メチル化剤は、ジメチル鉄（Ｍｅ_２Ｆｅ）、メチルトリエトキシチタン、メチルクロロジエトキシチタン（（ＣＨ_３）Ｃｌ（ＣＨ_３ＣＨ_２Ｏ）_２Ｔｉ）、メチルトリクロロチタン（ＣＨ_３Ｃｌ_３Ｔｉ）、テトラメチルチタン（（ＣＨ_３）_４Ｔｉ）、ジメチルジクロロチタン（（ＣＨ_３）_２Ｃｌ_２Ｔｉ）、トリメチルクロロチタン（（ＣＨ_３）_３ＣｌＴｉ）、またはメチル鉄塩化物（ＣＨ_３ＦｅＣｌ）である。

別の実施の形態において、有機金属メチル化剤は、（ＣＨ_３）_３Ｆｅ⁻アニオンと、カチオンとしてリチウムまたはＭｇＸ（式中、Ｘはハロゲン化物）のいずれかとを含む、“塩錯体”である。

いくつかの実施の形態において、ガナキソロンの合成法には、約１当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、無水ジ（Ｃ_１〜Ｃ_３アルコキシ）チタン二塩化物の有機溶媒溶液に加えることにより、有機金属メチル化剤を発生させる工程が更に含まれる。

いくつかの実施の形態において、３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オンの合成法には、約１から約４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、ＴｉＣｌ_４の有機溶媒溶液に加えてメチル化剤を生成する工程が更に含まれる。

本発明の別の望ましい実施の形態では、０．７５から４モル当量の鉄有機金属メチル化剤（ジオン２に対して）をジオン２と不活性溶媒中で反応させる。

本発明の別の望ましい実施の形態では、粗生成物を熱酢酸エチル中で撹拌して効果的に反応不純物を除くことにより、粗製ガナキソロンを精製する。

実施例の項の表１に、様々な反応条件と様々な有機金属試薬の化学量論的量とをまとめた。ジオン２のガナキソロンへの有用な変換は、様々な反応条件下、様々な有機金属試薬を用いて行うことができる。表２に、粗製ガナキソロンの精製に関するパラメータの最適化についてまとめた。

＜分析法＞
［質量分析］
質量スペクトルは、Thermo Finnigan LCQ−Deca質量検出器を取り付けた、HP 1100 LC 分離モジュールから成るＬＣ／ＭＳ装置で得た。イオン源はＥＳＩ＋／ＭＳである。ＬＣ条件を以下に示す。
カラム：Waters Sunfire C18、４．６（ＩＤ）×２５０（Ｌ）ｍｍ、５μｍ
移動相：ＡＣＮ／ＭｅＯＨ／Ｈ_２Ｏ＝６５／５／３０（アイソクラチック）
ランタイム：４０分
流速：１ｍｌ／分
カラム温度：周囲温度
検出器：ＲＩ
検出器温度：４０℃
注入量：５０μｌ

［ＨＰＬＣ］
ＨＰＬＣ分析は、日立Ｌ−２０００シリーズ、または、Waters 2414 屈折率（ＲＩ）検出器を取り付けた Waters 2695分離モジュールで行った。条件を以下に示す。
カラム：Waters Sunfire C18、４．６（ＩＤ）×２５０（Ｌ）ｍｍ、５μｍ
移動相：ＡＣＮ／ＭｅＯＨ／Ｈ_２Ｏ＝６５／５／３０（アイソクラチック）
保持時間：４０分
流速：１ｍｌ／分
温度：周囲温度
検出器温度：４０℃
注入量：５０μｌ
注入試料濃度は、メタノール中０．１から１ｍｇ／ｍｌである。

［ＮＭＲ分光法］
ＮＭＲスペクトルは、ＣＤＣｌ_３または他の重水素化溶媒中、Bruker Avance 400 または Oxford 300 NMRスペクトロメーターで得た。

［純度］
粗製および精製ガナキソロンの純度は、ＨＰＬＣ分析により、それぞれの反応不純物についての面積百分率と、所望の生成物に対する相対保持時間（relative Retention Time：ＲＲＴ）で表す。％収率は、単離収率として表す。

＜実施例１＞
窒素気流中、乾いた２５０ｍｌの３つ口丸底フラスコに、無水テトラヒドロフラン（１９０ｇ）と５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１．０ｇ、３．１６ｍｍｏｌ）を入れ、透明溶液とする。次に、フラスコを−３０℃（内部温度）まで冷却し、この温度で、メチルリチウムのジエトキシエタン溶液（３Ｍ、１．１ｍｌ、３．３ｍｍｏｌ）を注射器から加える。窒素気流中、−２５℃から−２０℃で１時間、反応物を撹拌する。一部を取って３ＮＨＣｌで反応を止め、酢酸エチルで抽出する。有機層を３ＮＮａＯＨと水で洗う。溶媒を除くと白色固体が得られる。これをメタノールに溶解し、ＨＰＬＣで分析する（表１、項目１）。

＜実施例２＞
良くかき混ぜた５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１．９ｇ、６ｍｍｏｌ）の懸濁液に、−１０℃に冷却したｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル（無水、３０ｍｌ）を滴下して加える。反応混合物を０℃と１０℃の間で４時間保った後、１０〜１５℃で１２時間保つ。反応混合物に１００ｍｌの２ＮＨＣｌを加えて反応を止め、生成物を２００ｍｌの酢酸エチルで抽出する。有機層を２ＮＮａＯＨと塩水で洗い、溶媒を減圧留去すると、３０．１％のガナキソロン１（ＨＰＬＣ）を、０．９９％の開始物質の５α−プレグナン−３，２０−ジオン２と共に含む、生成物の複合混合物が得られる（表１、項目２）。

＜実施例３＞
０℃に冷やした、チタンテトラエトキシド（２．４２ｇ、１０．６ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（無水、３０ｍｌ）溶液に、四塩化チタン（３５０μｌ、３．２ｍｍｏｌ）を滴下して加える。０℃で２０分間撹拌後、温度を５℃以下に保ちながら、メチルマグネシウム塩化物のテトラヒドロフラン溶液（３Ｍ、４．３ｍｌ、１２．９ｍｍｏｌ）を滴下して加える。５℃で更に２０分間撹拌後、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（２．５３ｇ、８ｍｍｏｌ）を一度に加えた。反応物を４０℃に温め、４時間撹拌する。２０ｍｌのメタノールで反応混合物の反応を止め、溶媒を減圧留去する。反応混合物を１００ｍｌの３ＮＨＣｌと１００ｍｌの酢酸エチルの間で分配する。有機層を１Ｎ水酸化ナトリウムと塩水で洗い、溶媒を減圧留去すると、ガナキソロンの純度７５．９％（ＨＰＬＣによる）の白色固体として、粗製ガナキソロンが得られる（表１、項目３）。

＜実施例４＞
塩化第二鉄（無水、２．１４ｇ、１３．２ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（無水、４０ｍｌ）溶液を−５０℃まで冷却する。この混合物に、内部温度を−４０℃以下に保ちながら、テトラヒドロフランに加えたメチルマグネシウム塩化物（３Ｍ、１７．６ｍｌ、５２．８ｍｍｏｌ）を滴下して加える。−４０℃で１０分間置いた後、撹拌しながら、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（３．４８ｇ、１１ｍｍｏｌ）を一度に加える。３０分かけて温度を−２０℃まで上げ、２時間撹拌する。１００ｍｌの２ＮＨＣｌで反応混合物の反応を止め、生成物を１００ｍｌの酢酸エチルで抽出する。有機層を２ＮＮａＯＨと塩水で洗い、溶媒を減圧留去すると、粗製ガナキソロン（ＨＰＬＣによる純度は８０．２％）が得られる（表１、項目４）。

＜実施例５＞
塩化第二鉄（無水、１．６３ｇ、１０．０６ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（無水、３５ｍｌ）に加えた混合物を、窒素気流中、−５０℃まで冷却する。塩化第二鉄混合物に、温度を−４０℃以下に保ちながら、ジエトキシメタンに加えたメチルリチウム（３Ｍ、３．４ｍｌ、１０．２ｍｍｏｌ）を加える。この添加の完了後、内部温度を−４０℃以下に保ちながら、メチルマグネシウム塩化物のテトラヒドロフラン溶液（３Ｍ、１０．１ｍｌ、３０．１８ｍｍｏｌ）を加える。−４０℃で１０分置いた後、撹拌しながら５α−プレグナン−３，２０−ジオン（２．８４ｇ、９ｍｍｏｌ）を一度に加える。温度を−２０℃まで上げ、３．５時間撹拌する。３ｍｌの酢酸を加えて反応を止め、テトラヒドロフランを減圧留去した。残分を１００ｍｌの３ＮＨＣｌと２００ｍｌの酢酸エチルの間で分配する。有機層を１Ｎ水酸化ナトリウムと塩水で洗い、溶媒を減圧留去すると、粗製ガナキソロン（ＨＰＬＣによる純度９４．８％）が得られる（表１、項目５）。

＜実施例６＞
反応フラスコに無水塩化リチウムのテトラヒドロフラン溶液（０．５Ｍ、１００ｍｌ、５０ｍｍｏｌ）を入れる。反応混合物を０℃まで冷やし、温度を１０℃以下に保ちながら、無水塩化第二鉄（５．６１ｇ、３４．６ｍｍｏｌ）を少しずつ加える。得られた淡緑色の溶液を−３５℃まで冷却し、温度を−３０℃以下に保ちながら、メチルマグネシウム塩化物のテトラヒドロフラン溶液（３Ｍ、４７ｍｌ、１４１ｍｍｏｌ）を加える。添加完了後、反応混合物を−３５℃まで冷却し、温度を−２５℃以下に保って撹拌しながら、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ、３１．６５ｍｍｏｌ）を加える。反応物を−２０℃に温まるまで置き、−１８℃から−２２℃で３時間撹拌する。この時点で、ＨＰＬＣによると、出発物質が０．９６％、ガナキソロンが９４．４６％であった（表１、項目６）。温度を２５℃以下に保ちながら、２２５ｍｌの３ＮＨＣｌをゆっくりと加えて反応を止める。添加完了後、得られたガナキソロンの懸濁液を、窒素雰囲気中で一晩、粒状化させる。反応物を濾過し、濾過ケークを順に、５０ｍｌの２０％ＴＨＦ／３ＮＨＣｌ、５０ｍｌの３ＮＨＣｌ、５０ｍｌの水（×２）で洗う。濾過ケークを減圧オーブン中７０℃で乾燥すると、純度９９％のガナキソロン１が白色固体として得られる（９．５４ｇ、収率９１％）。

＜実施例７＞
テトラヒドロフラン（無水、３５ｍｌ）を１０℃まで冷やし、９０７ｍｇ（２１．４ｍｍｏｌ）の塩化リチウム（無水）を一度に加える。混合物を１０分間混合すると透明溶液となる。この混合物に塩化第二鉄（無水、１．６２ｇ、１０ｍｍｏｌ）を一度に加え、更に５分間撹拌する。次に、反応混合物を−３５℃まで冷却し、内部温度を−３５℃と−３０℃の間に保ちながら、テトラヒドロフランに加えたメチルマグネシウム塩化物（３Ｍ、１３．３ｍｌ、４０ｍｍｏｌ）を滴下して加える。添加完了後、−３０℃で１０分間撹拌を続け、撹拌しながら、５α−プレグナン−３，２０−ジオン２（２．８５ｇ、９ｍｍｏｌ）を一度に加える。内部温度が−２０℃に上がるまで置き、−１５℃と−２０℃の間で２時間保つ。一部をＨＰＬＣ分析したところ、出発物質が１．２％、ガナキソロンが９５．３％であった（表１、項目７）。

＜実施例８＞
１０℃で、塩化リチウム（１．４３ｇ、３３．８ｍｍｏｌ）をテトラヒドロフラン（無水、４０ｍｌ）に加え、溶液となるまで撹拌する。塩化第二鉄（無水、１．６３ｇ、１０．０６ｍｍｏｌ）を加えて５分間撹拌する。次に、反応混合物を−３５℃まで冷却し、内部温度を−３５℃と−２５℃の間に保ちながら、メチルマグネシウム塩化物のテトラヒドロフラン溶液（３Ｍ、１３．４ｍｌ、４０．２４ｍｍｏｌ）を加える。添加後、−３０℃で１０分間撹拌を続け、撹拌しながら、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（３．０ｇ、９．５ｍｍｏｌ）を一度に加える。内部温度が−２０℃に上がるまで置き、−１５℃と−２０℃の間で２時間撹拌する。一部をＨＰＬＣ分析したところ、出発物質が１．４７％、ガナキソロンが９４．２５％であった（表１、項目８）。温度を−１０℃以下に保ちながら、２．４ｍｌ（４２ｍｍｏｌ）の酢酸をゆっくりと加えて反応を止める。添加完了後、激しく撹拌しながら、反応混合物が室温に温まるまで置く。次に、テトラヒドロフランを減圧留去し、得られた残分を３ＮＨＣｌと酢酸エチルの間で分配する。有機層を２ＮＮａＯＨと塩水で洗い、溶媒を減圧留去すると、３．５ｇの粗製ガナキソロン（ＨＰＬＣで純度９８％）ができる。

＜実施例９＞
乾いた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコに、窒素気流中、ＴＨＦ（無水、１９０ｇ）と、ＬｉＣｌ（無水、４．２ｇ、０．１００ｍｏｌ）と、ＦｅＣｌ_３（無水、１０．８ｇ、０．０６６ｍｏｌ）を入れる。内部温度を０℃と１５℃の間に保ちながら、テトラヒドロフランに加えたＭｅＭｇＣｌ（３Ｍ、８４．４ｍｌ、０．２５３ｍｏｌ）を加える。添加完了後、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（２０ｇ、０．０６３３ｍｏｌ）を一度に加え、得られた混合物を、Ｎ_２気流中、０℃と１５℃の間で撹拌する。次のように、ＨＰＬＣで反応をモニタする。一部を取って３ＮＨＣｌで反応を止め、酢酸エチルで抽出する。有機層を３ＮＮａＯＨと水で洗う。溶媒を除くと白色固体が得られ、これをメタノールに溶解してＨＰＬＣで分析する（表１、項目９）。

＜実施例１０＞
乾いた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコに、ＴＨＦ（無水、８０ｇ）とＬｉＣｌ（無水、２．１２ｇ、５０ｍｍｏｌ）を入れる。フラスコを−１０℃まで冷却し、ＦｅＣｌ_３（無水、５．６３ｇ、３４．８ｍｍｏｌ）を加える。窒素気流下中、混合物を−３５℃まで冷却する。添加の間、内部温度を−２７℃と−３５℃の間に保ちながら、ＭｅＭｇＣｌのテトラヒドロフラン溶液（３Ｍ、５８ｍｌ、１７４ｍｍｏｌ）をゆっくりと加える。添加後、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ、３１．６ｍｍｏｌ）を一度に加え、得られた混合物を、窒素気流中、−２５℃と−２０℃の間で撹拌する。次のように、ＨＰＬＣで反応をモニタする。一部を取って３ＮＨＣｌで反応を止め、酢酸エチルで抽出する。有機層を３ＮＮａＯＨと水で洗い、蒸発乾固する。白色の残分をメタノールに溶解してＨＰＬＣで分析する（表１、項目１０）。

＜実施例１１＞
乾いた５００ｍｌの３つ口丸底フラスコに、ＴＨＦ（無水、１２０ｇ）とＬｉＣｌ（無水、２．１２ｇ、５０ｍｍｏｌ）を入れる。フラスコを−１０℃まで冷却し、ＦｅＣｌ_３（無水、１．２８ｇ、７．９ｍｍｏｌ）を加えた。窒素気流中、混合物を−３５℃まで冷却した。添加の間、内部温度を−２７℃と−３５℃の間に保ちながら、ＭｅＭｇＣｌのテトラヒドロフラン溶液（３Ｍ、１３．３ｍｌ、３９．９ｍｍｏｌ）をゆっくりと加えた。添加後、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ、３１．６ｍｍｏｌ）を一度に加え、得られた混合物を、窒素気流中、−２５℃と−２０℃の間で撹拌した。次のように、ＨＰＬＣで反応をモニタした。一部を取って３ＮＨＣｌで反応を止め、酢酸エチルで抽出した。有機層を３ＮＮａＯＨと水で洗い、蒸発乾固した。白色の残分をメタノールに溶解してＨＰＬＣで分析した（表１、項目１１）。

＜実施例１２Ａ＞
Ｎ_２パージした５０リットルのHastelloy反応器に、ＴＨＦ（無水、９．６５ｋｇ）とＬｉＣｌ（無水、０．２１ｋｇ）を入れる。Ｎ_２気流中で混合物を撹拌し、１時間かけて−１０℃まで冷却する。撹拌しながら、反応器にＦｅＣｌ_３（無水、０．５１５ｋｇ）を加え、反応混合物を−３５℃まで冷却する。撹拌し、内部温度を目標の−３５℃に保ちながら、テトラヒドロフランに加えたＭｅＭｇＣｌ（３．０Ｍ、４．０４ｋｇ）をゆっくりと反応器に加える。添加完了後、反応物を−３５℃で１時間撹拌する。内部温度を約−３５℃に保ちながら、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１．００ｋｇ）を反応器に加える。添加後、反応物を約１時間の間に−２１℃まで暖め、同温度で１時間撹拌する。氷酢酸（３．３６ｋｇ）をゆっくりと反応器に加え（１時間）、反応物を約２５℃まで温める（１時間）。ジャケット温度を３５℃に設定して減圧蒸留を行い、最終反応物体積が７．８リットルとなるまでＴＨＦを除く。残分を約０℃まで冷した後、内部温度を２５℃以下に保ちながら、３ＮＨＣｌ（１３．８６ｋｇ）をゆっくりと加える。反応混合物を２５℃で６時間撹拌する。濾過して固体を集め、生成物ケークを２５％ＴＨＦ／水（ｗ／ｗ、４．８９ｋｇ）で１回、水（５．０ｋｇ）で４回洗った後、最後に２５％ＴＨＦ／水（ｗ／ｗ、４．８６ｋｇ）で洗う。ウェットケークを減圧下５０℃で乾燥すると、ＨＰＬＣによる純度が９５．５％の粗製ガナキソロン（０．９８３ｋｇ）が得られる（表２、項目１）。

＜実施例１２Ｂ＞
撹拌機と、５００ｍｌの目盛り付き添加漏斗と、低温温度計とを取り付けた２リットルの３つ口丸底フラスコに、窒素気流中で無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）（９５０ｇ）を入れる。フラスコを冷浴中で冷やし、約０℃（内部温度）になったら塩化リチウム（無水、２１．２ｇ、０．５００１ｍｏｌ）を一度に加える。混合物を撹拌しながら−１０℃まで冷却し、塩化第二鉄（無水、５１．３ｇ、０．３１６５ｍｏｌ）を一度に加える。混合物を−３０℃まで冷却しながら、撹拌して固体を溶解する。内部温度を−３０℃と−２５℃の間に保ちながら、テトラヒドロフランに加えたメチルマグネシウム塩化物（３Ｍ、３９４．２ｇ、１．１７１ｍｏｌ）をゆっくりと添加漏斗から加える。５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１００ｇ、０．３１６５ｍｏｌ）を一度に加え、反応終了まで（５時間）（ＨＰＬＣによる面積＜３％）、窒素気流中、反応物を−２５℃と−２０℃の間で撹拌する。

反応終了後、酢酸（３２０ｍｌ）を加える。溶液となるまで混合物を撹拌する。ＴＨＦを減圧留去してスラリー（１０１６ｇ）とし、これを３ＮＨＣｌ（１２５０ｍｌ）中で６時間撹拌する。得られた懸濁液を氷水浴中で２時間冷却し、減圧濾過する。ウェットケークを、２０％ＴＨＦ／水の冷溶液（ｖ／ｖ、１００ｍｌ）と水（２００ｍｌ×３）で洗うと、湿った白色固体（１４４ｇ）として、ＨＰＬＣによる純度が９７．３３％の粗製ガナキソロンが得られる（表２、項目４）。

＜実施例１２Ｃ＞
乾いた２５０ｍｌの３つ口丸底フラスコに、ＴＨＦ（無水、１０６ｍｌ）と、ＬｉＣｌ（無水、２．１ｇ、０．０５０ｍｏｌ）と、ＦｅＣｌ_３（無水、５．１ｇ、０．０３１７ｍｏｌ）とを入れる。約−２５℃に冷却しながら、窒素気流中で混合物を撹拌する。出発物質の５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ、０．０３１６ｍｏｌ）を一度に加え、得られた懸濁液を５分間撹拌する。内部温度を−２５℃と−２０℃の間に保ちながら、テトラヒドロフランに加えたグリニャールＭｅＭｇＣｌ（３Ｍ、３９ｍｌ、０．１１７ｍｏｌ）をゆっくりと加える。添加後、暗褐色の反応混合物を、窒素気流中、同温度で一晩撹拌する。ＨＰＬＣ分析によって反応終了がわかり、ジオンが１．３７％より少なく、ガナキソロンが９２．７１％であった。

酢酸（３２ｍｌ）を加えて反応を止める。温めながら暗褐色混合物を撹拌すると、淡褐色溶液となる。この溶液をロータリーエバポレータで濃縮すると、緑色を帯びた残分（８２ｇ）が得られ、これを３ＮＨＣｌ（１２５ｍｌ）と共に周囲温度で１時間撹拌する。懸濁液を減圧濾過する。ウェットケークを水（５０ｍｌ×２）で洗い、吸引して乾燥する。湿った粗製ガナキソロンを周囲温度でＴＨＦ（１００ｍｌ）に溶解する。この溶液を０．４５μｍのメンブランフィルタで濾過して清澄にする。濾液を大気圧下で蒸留して濃縮し、大部分のＴＨＦ（約７０％）を除く。還流しながら水（１５０ｍｌ）を加える。白色懸濁液を還流しながら１０分間撹拌する。次に、これを氷水浴中で１時間冷やす。濾過して固体を集めて水で洗い、吸引して乾燥する。

湿った固体を、７０℃で８時間、酢酸エチル（５０ｍｌ）中でスラリーとし、氷水浴中で１時間冷やす。固体を濾過し、冷酢酸エチル（１０ｍｌ）で洗う。減圧下、５０℃で乾燥後、精製ガナキソロンが得られる（８．３ｇ、収率７９％）。ＨＰＬＣによる純度：９９．５９％。

＜実施例１３Ａ＞粗製ガナキソロンの精製：
実施例１２Ａの粗製ガナキソロン（２０ｇ）を、７０℃で１８時間、酢酸エチル（１２０ｍｌ）中でスラリーとする。粗製物のスラリーを熱源から外し、懸濁液を氷水浴中で１時間冷やす。濾過して生成物を集め、２０ｍｌの２−プロパノール／水混合物（１：１、ｖ／ｖ）で洗い、乾燥すると、１６．６ｇのガナキソロンが得られる。精製ガナキソロンの純度は９９．７１％であり、単一の最も多い反応不純物は０．０７％であった（表２、項目２）。

＜実施例１３Ｂ＞精製ガナキソロン：
実施例１３Ａに示した方法で得られた精製ガナキソロン（１００ｇ）を熱ＴＨＦ（７００ｍｌ）に溶解する。この溶液を熱いうちに０．４５μｍのフィルタで濾過して（不溶性物質を除くため）清澄にする。溶液を濃縮して約３７０ｍｌのＴＨＦを除き、残分を加熱還流して透明溶液とする。還流しながらゆっくりと水（４５０ｍｌ）を加えて沈殿させる。熱源を外し、反応物を２５℃で２時間撹拌する。反応物を更に０℃で２時間撹拌する。濾過して固体を集め、乾燥して、純度９７．２％のガナキソロン、９６ｇを得る。上記の浄化したガナキソロン（２０ｇ）の一部を、７０℃で１９時間、酢酸エチル（１００ｍｌ）中で撹拌して精製する。このガナキソロンを冷やし、約５℃で２時間撹拌して濾過する。乾燥後、純度９９．８３％、含まれる単一の最も多い反応不純物が０．０７％の、純粋なガナキソロン（１７ｇ）が得られる（表２、項目３）。

＜実施例１３Ｃ＞
実施例１２Ｂで得られた湿った粗製ガナキソロン（１４０ｇ）を、酢酸エチル（６３０ｍｌ）と２−プロパノール（７０ｍｌ）との混合物中、５５℃で８時間撹拌し、周囲温度まで冷まして更に氷水浴中で２時間冷却する。懸濁液を減圧濾過し、５０ｍｌの酢酸エチル／２−プロパノール／水（９：１：０．７、ｖ／ｖ／ｖ）の冷混合物で洗い、減圧オーブン中６０℃で恒量となるまで乾燥する（７６．２ｇ、収率７４．４％）。ＨＰＬＣによる純度は９９．８１％であり、０．１％を超える単一不純物はない（表２、項目５）。

＜実施例１３Ｄ＞
実施例１２Ａに記載の方法と同じ方法で調製した、表２の項目６に示す純度プロフィールを持つ粗製ガナキソロン（９ｇ）を、酢酸エチル（２７ｍｌ）と２−プロパノール（６３ｍｌ）との混合物に、還流しながら溶解する。精製水（４５ｍｌ）を加え、得られた懸濁液を還流しながら１０分間撹拌する。熱源を外し、懸濁液を氷水浴中で１時間冷やす。濾過して固体を集める。ウェットケークを、４０ｍｌの２−プロパノール／水混合物（１／２、ｖ／ｖ）で洗い、減圧下６０℃で６３時間乾燥して、７．７８ｇの精製ガナキソロンを得る。その純度は９９．６９％、単一の最も多い不純物は０.０８％である（表２、項目７）。

＜実施例１３Ｅ＞
より少ないＦｅＣｌ_３を加える以外は、実施例１２Ａに記載の方法と同じ方法で、表２の項目８に示す純度プロフィールを持つ粗製ガナキソロンを調製する。還流しながら、粗製物（３０ｇ）をテトラヒドロフラン（２１０ｍｌ）に溶解する。この溶液を濾紙で熱濾過し、不溶性物質を除く。透明な濾液を、テトラヒドロフランの残量が約１００ｇとなるまで減圧濃縮する。スラリーを加熱還流して溶解する。還流しながら水（１３５ｇ）をゆっくりと加える。白色懸濁液を還流しながら３０分間撹拌し、熱源から外す。懸濁液を室温まで冷やし、更に氷水浴中で１時間冷却する。濾過して固体を集め、減圧下５０℃で一晩乾燥すると、２８．５ｇの生成物が得られる。

上記の固体（２８．５ｇ）を、７０℃で４時間、酢酸エチル（２８５ｍｌ）中で撹拌する。固体を室温で２時間撹拌し、氷水浴中で２時間冷却する。濾過して固体を集め、冷酢酸エチル（１０ｍｌ）で洗い、減圧下５０℃で一晩乾燥して、２１．５ｇの生成物を得る。更に２回、この物質を酢酸エチル中で撹拌（５ｍｌ／ｇ固体、７０℃で４時間撹拌した後、１０℃まで冷やして濾過）すると、１７．５ｇ（収率５８．３％）の精製ガナキソロンが得られる。その純度は９９．８６％で、単一の最も多い反応不純物は０．０６％である（表２、項目９）。

＜実施例１４＞
無水テトラヒドロフラン（２００ｍｌ）中、−２５℃で３時間、ＦｅＣｌ_３（５．２ｇ）とＭｅＭｇＣｌ（ＦｅＣｌ_３に対して４当量）とを反応させて得た試薬を、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ）と反応させる。酢酸（３２ｍｌ）で反応を止める。反応混合物を減圧濃縮し、残分を３ＮＨＣｌと共に６時間撹拌する。濾過して固体を集めて水で洗い、減圧下５０℃で乾燥して粗製ガナキソロンを得る。還流しながら粗生成物をＴＨＦ（３３ｍｌ）に溶解し、熱濾過する。濾液に水（４５ｍｌ）を加えて懸濁させ、これを濾過して集めて水で洗い、乾燥する。乾燥した生成物を更に、酢酸エチル（５０ｍｌ）中、７０℃で１９時間、スラリーとする。懸濁液を０℃まで冷やして濾過し、冷酢酸エチルで洗い、乾燥してガナキソロンを得る。

＜実施例１５＞
ジオキサン（無水、２００ｍｌ）中、−２５℃で５時間、ＦｅＣｌ_３（５．２ｇ）とＭｅＭｇＣｌ（ＦｅＣｌ_３に対して４当量）とを反応させて得た試薬を、５α−プレグナ−３，２０−ジオン（１０ｇ）と反応させる。酢酸（３２ｍｌ）で反応を止める。反応混合物を減圧濃縮し、残分を３ＮＨＣｌと共に６時間撹拌する。濾過して固体を集めて水で洗い、減圧下５０℃で乾燥して粗製ガナキソロンを得る。還流しながら粗生成物をＴＨＦ（３３ｍｌ）に溶解し、熱濾過する。濾液に水（４５ｍｌ）を加えて懸濁させ、これを濾過して集めて水で洗い、乾燥する。乾燥した生成物を更に、酢酸エチル（５０ｍｌ）中、７０℃で１９時間、スラリーとする。懸濁液を０℃まで冷やして濾過し、冷酢酸エチルで洗う。酢酸エチルスラリー工程をもう一度繰り返して精製ガナキソロンを得る。

＜実施例１６＞
ｔ−ブチルメチルエーテル（無水、２００ｍｌ）中、−２５℃で３時間、ＦｅＣｌ_３（５．２ｇ）とＭｅＭｇＣｌ（ＦｅＣｌ_３に対して４当量）とを反応させて得た試薬を、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ）と反応させる。酢酸（３２ｍｌ）で反応を止める。反応混合物を減圧濃縮し、残分を３ＮＨＣｌと共に６時間撹拌する。濾過して固体を集めて水で洗い、減圧下５０℃で乾燥して粗製ガナキソロンを得る。還流しながら粗生成物をＴＨＦ（３３ｍｌ）に溶解し、熱濾過する。濾液に水（４５ｍｌ）を加えて懸濁させ、これを濾過して集めて水で洗い、乾燥する。乾燥した生成物を更に、酢酸エチル（５０ｍｌ）中、７０℃で１９時間、スラリーとする。懸濁液を０℃まで冷やして濾過する。酢酸エチルスラリー工程をもう一度繰り返して精製ガナキソロンを得た。

＜実施例１７＞
窒素気流中、−２５℃において、ＴＨＦ（無水、２００ｍｌ）中で塩化第一鉄（４ｇ）をＭｅＭｇＣｌ（ＦｅＣｌ_２に対して３当量）と反応させる。次に、この混合物に５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ）を加える。混合物を−２５℃で４時間撹拌し、酢酸（３２ｍｌ）を加えて反応を止める。混合物を減圧濃縮し、残分を３ＮＨＣｌ（２００ｍｌ）中で６時間撹拌する。濾過して固体を集めて水で洗い、乾燥する。還流しながら粗生成物をＴＨＦ（３３ｍｌ）に溶解し、熱濾過する。濾液に水（４５ｍｌ）を混合し、濾過して固体を集めて水で洗い、乾燥する。固体を更に、酢酸エチル（５０ｍｌ）中、７０℃で１９時間、スラリーとする。これを５℃まで冷やして濾過し、冷酢酸エチルで洗い、乾燥してガナキソロンを得る。

＜実施例１８＞
窒素気流中、−２５℃において、トルエン（無水、２００ｍｌ）中で塩化第一鉄（４ｇ）をＭｅＬｉ（ＦｅＣｌ_２に対して３当量）と反応させる。次に、この混合物に５α−プレグナン−３，２０−ジオン（１０ｇ）を加える。混合物を−２５℃で５時間撹拌する。これに酢酸（３２ｍｌ）を加えて反応を止める。混合物を減圧濃縮し、残分を３ＮＨＣｌ（２００ｍｌ）中で６時間撹拌する。濾過して固体を集めて水で洗い、乾燥する。還流しながら粗生成物をＴＨＦ（３３ｍｌ）に溶解し、熱濾過する。濾液に水（４５ｍｌ）を混合し、濾過して固体を集めて水で洗い、乾燥する。固体を更に、酢酸エチル（５０ｍｌ）中、７０℃で８時間、スラリーとする。これを５℃まで冷やして濾過し、冷酢酸エチルで洗い、乾燥してガナキソロンを得る。

Claims

３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン（ガナキソロン）の製造法であって、前記製造法は、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（ジオン２）を不活性溶媒中の有機金属メチル化剤と反応させることによりガナキソロンを得る工程を含み、前記有機金属メチル化剤が、無水ハロゲン化第二鉄、無水ハロゲン化第一鉄、テトラアルコキシチタン、テトラハロゲン化チタン、又はこれらの混合物から選択される金属化合物にメチルマグネシウムハロゲン化物を加えることにより生成されるもの、又は前記金属化合物或いは不活性溶媒中の前記金属化合物とメチルリチウム又は塩化リチウムの組み合わせを含む混合物にメチルマグネシウムハロゲン化物を加えることにより生成されるものであり、前記ガナキソロンの純度は、ＨＰＬＣによる面積比で８０％より大きいことを特徴とする、３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン（ガナキソロン）の製造法。
３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン（ガナキソロン）の製造法であって、前記製造法は、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（ジオン２）を不活性溶媒中の有機金属メチル化剤と反応させてガナキソロンを精製する工程を含み、前記有機金属メチル化剤が、無水ハロゲン化第二鉄、無水ハロゲン化第一鉄、テトラアルコキシチタン、テトラハロゲン化チタン、又はこれらの混合物から選択される金属化合物にメチルマグネシウムハロゲン化物を加えることにより生成されるもの、又は前記金属化合物或いは不活性溶媒中の前記金属化合物とメチルリチウム又は塩化リチウムの組み合わせを含む混合物にメチルマグネシウムハロゲン化物を加えることにより生成されるものであり、前記ガナキソロンの収率は、８０％より大きいことを特徴とする、３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オン（ガナキソロン）の製造法。
３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オンを得るための方法であって、前記方法は、５α−プレグナン−３，２０−ジオン（ジオン２）を不活性溶媒中の有機金属メチル化剤と反応させてガナキソロンを得る工程を含み、前記有機金属メチル化剤が、無水ハロゲン化第二鉄、無水ハロゲン化第一鉄、テトラアルコキシチタン、テトラハロゲン化チタン、又はこれらの混合物から選択される金属化合物にメチルマグネシウムハロゲン化物を加えることにより生成されるもの、又は前記金属化合物或いは不活性溶媒中の前記金属化合物とメチルリチウム又は塩化リチウムの組み合わせを含む混合物にメチルマグネシウムハロゲン化物を加えることにより生成されるものであり、得られた前記ガナキソロンに含まれる反応不純物はいずれも、ＨＰＬＣによる面積比で２％より少ないことを特徴とする、３α−ヒドロキシ−３β−メチル−５α−プレグナン−２０−オンを得るための方法。
得られた前記ガナキソロンを有機溶媒中で加熱して、精製したガナキソロンを得る工程を更に含み、前記精製ガナキソロンに含まれる反応不純物はいずれも、ＨＰＬＣによる面積比で０．１％より少ないことを特徴とする、請求項３に記載の方法。
得られた前記ガナキソロンに含まれる、次の構造式で示される不純物は、ＨＰＬＣによる面積比で０．１％より少ないことを特徴とする、請求項４に記載の方法。

または
得られた前記ガナキソロンに含まれる、次の構造式で示される不純物は、ＨＰＬＣによる面積比で０．１％より少ないことを特徴とする、請求項４に記載の方法。

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または
得られた前記ガナキソロンに含まれる、次の構造式で示される不純物は、ＨＰＬＣによる面積比で０．５％より少ないことを特徴とする、請求項４に記載の方法。
前記不活性溶媒は酢酸エチルであり、使用する前記酢酸エチルの量は、精製される前記ガナキソロンの重量の４〜１５倍であることを特徴とする、請求項４に記載の方法。
得られた前記ガナキソロンを有機溶媒中で加熱する工程を更に含み、得られた前記精製ガナキソロンのＨＰＬＣによる純度は、９９％より大きいことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
得られた前記ガナキソロンを有機溶媒中で加熱する工程を更に含み、得られた前記精製ガナキソロンの％収率は、５５％より大きいことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
約２から約４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、不活性溶媒中の無水ハロゲン化第二鉄または無水ハロゲン化第一鉄に加えることにより、前記有機金属メチル化剤を生成し、これにより前記有機金属メチル化剤を形成する工程を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
前記有機金属メチル化剤を生成する前に、塩化リチウムを前記不活性溶媒中のハロゲン化鉄と化合させる工程を更に含み、加える塩化リチウムの量が、ハロゲン化鉄の当量に対して約０．１から約４当量の塩化リチウムであることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
約１当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、トリ（Ｃ_１〜Ｃ_３アルコキシ）チタン塩化物の有機溶媒溶液に加えて有機金属メチル化剤を発生させることにより、前記有機金属メチル化剤を発生させる工程を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
約１当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、無水ジ（Ｃ_１〜Ｃ_３アルコキシ）チタン二塩化物の有機溶媒溶液に加えて有機金属メチル化剤を発生させることにより、前記有機金属メチル化剤を生成する工程を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
約１から約４当量のメチルマグネシウムハロゲン化物またはメチルリチウムを、ＴｉＣｌ_４の有機溶媒溶液に加えて有機金属メチル化剤を発生させることにより、前記有機金属メチル化剤を生成する工程を更に含むことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
前記不活性溶媒は、テトラヒドロフラン、グリム、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，４−ジオキサン、ジメトキシエタン、またはジエチルエーテルであることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
メチルマグネシウム塩化物を用いて前記有機金属メチル化剤を発生させることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
メチルリチウムを用いて前記有機金属メチル化剤を発生させることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
前記反応の間、前記不活性溶媒を、約−４０℃から約３５℃の温度に保つことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
前記不活性溶媒はテトラヒドロフランであり、前記反応の間、前記不活性溶媒温度を、約−１５℃未満の温度に保つことを特徴とする、請求項１に記載の製造法。