JP5738225B2 - 熱型赤外線固体撮像素子およびその製造方法 - Google Patents
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Description
中空部を有する基板と、
中空部の上に設けられ、検知部を含む赤外線検出部と、
検知部に接続された支持脚配線層を含み、基板と赤外線検出部とに接続されて赤外線検出部を中空部の上に保持する支持脚と、
中空部の周りの基板上に設けられ、支持脚配線層に接続されて検知部に電圧を印加する電圧駆動配線層と、支持脚配線層に接続されて検知部から信号を読み出す信号読出配線層とを含み、
支持脚は、基板と赤外線検出部との間で、平行に対向配置された部分を有するように屈曲したことを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子に関する。
基板を準備する工程と、
基板の上に検知部を含む赤外線検出部を形成する工程と、
基板の上に、赤外線検出部と接続された支持脚を形成する支持脚形成工程と、
赤外線検出部の下方の基板を選択的に除去して中空部を形成する工程であって、中空部の上に赤外線検出部を支持脚で保持する工程とを含み、
支持脚形成工程は、
基板上に、断面が矩形の犠牲層を形成する工程と、
基板と犠牲層とを覆うように第1保護膜を形成する工程と、
第1保護膜を覆うように導電体層を形成する工程と、
導電体層を選択的にエッチングして、基板の表面に垂直な第1保護膜上に導電体層を残す工程と、
第1保護膜と導電体層を覆うように第2保護膜を形成する工程と、
第1保護膜と第2保護膜とを選択的にエッチングして、犠牲層の側面上に第1保護膜と第2保護膜とこれらに挟まれた導電体層を残す工程と、
犠牲層を除去する工程とを含むことを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子の製造方法に関する。
図1は、全体が100で表される、本発明の実施の形態1にかかる熱型赤外線固体撮像素子の上面図であり、図2は、図1の熱型赤外線固体撮像素子の、I−Iにおける(紙面に平行に見た場合の)断面図である。図1では、理解しやすくするために赤外線吸収構造は示していない。
なお、以下の実施の形態2〜4で述べる熱型赤外線固体撮像素子をアレイ状に配置することによっても、イメージセンサ等の赤外線撮像装置として用いることができる。
図8a〜図8kに、本発明の実施の形態2にかかる熱型赤外線固体撮像素子の製造工程のうち、配線層の作製工程の断面図を示す。図中、図2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。
図9a〜図9hに、本発明の実施の形態3にかかる熱型赤外線固体撮像素子の製造工程のうち、配線層の作製工程の断面図を示す。図中、図2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。
図10a〜図10jに、本発明の実施の形態4にかかる熱型赤外線固体撮像素子の製造工程のうち、配線層の作製工程の断面図示す。図中、図2と同一符号は、同一または相当箇所を示す。
図11a〜図11eは、本発明の実施の形態5にかかる熱型赤外線固体撮像素子の製造工程の上面図である。本実施の形態5にかかる熱型赤外線固体撮像素子では、実施の形態1〜4のように赤外線検出部の両側を支持脚で支える構造ではなく、赤外線検出部の一辺で支える構造となっている。
Claims (9)
- 赤外線を検出する熱型赤外線固体撮像素子であって、
中空部を有する基板と、
該中空部の上に設けられ、検知部を含む赤外線検出部と、
該検知部に接続された支持脚配線層を含み、該基板と該赤外線検出部とに接続されて該赤外線検出部を該中空部の上に保持する支持脚と、
該中空部の周りの該基板上に設けられ、該支持脚配線層に接続されて該検知部に電圧を印加する電圧駆動配線層と、該支持脚配線層に接続されて該検知部から信号を読み出す信号読出配線層とを含み、
該支持脚は、第1保護膜と支持脚配線層と第2保護膜を含み、
該第1保護膜は、基板に対して水平、垂直成分を含み、該支持脚の長さ方向に対して垂直な断面においてL字形状に形成されており、
該第2保護膜は、サイドウォール形状で形成されており、
該支持脚配線層は、該第1保護膜と該第2保護膜との間に挟まれていることを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子。 - 上記電圧駆動配線層と上記検知部との間、および上記信号読み出し配線と該検知部との間をそれぞれ接続する2本の支持脚が、基板の表面方向に隣り合って配置されていることを特徴とする請求項1に記載の熱型赤外線固体撮像素子。
- 上記支持脚配線層の高さは、上記第2保護膜の高さと同じであることを特徴とする請求項1に記載の熱型赤外線固体撮像素子。
- 上記支持脚配線層の幅は、上記第2保護膜の幅と同じであることを特徴とする請求項1に記載の熱型赤外線固体撮像素子。
- 請求項1〜4のいずれかに記載の熱型赤外線固体撮像素子をアレイ状に配置したことを特徴とする赤外線撮像装置。
- 赤外線を検出する熱型赤外線固体撮像素子の製造方法であって、
基板を準備する工程と、
該基板の上に検知部を含む赤外線検出部を形成する工程と、
該基板の上に、該赤外線検出部と接続された支持脚を形成する支持脚形成工程と、
該赤外線検出部の下方の該基板を選択的に除去して中空部を形成する工程であって、該中空部の上に該赤外線検出部を該支持脚で保持する工程とを含み、
該支持脚形成工程は、
該基板上に、断面が矩形の犠牲層を形成する工程と、
該基板と該犠牲層とを覆うように第1保護膜を形成する工程と、
該第1保護膜を覆うように導電体層を形成する工程と、
該導電体層を選択的にエッチングして、該基板の表面に垂直な該第1保護膜上に該導電体層を残す工程と、
該第1保護膜と該導電体層を覆うように第2保護膜を形成する工程と、
該第1保護膜と該第2保護膜とを選択的にエッチングして、該犠牲層の側面上に該第1保護膜と該第2保護膜とこれらに挟まれた該導電体層を残す工程と、
該犠牲層を除去する工程とを含むことを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子の製造方法。 - 赤外線を検出する熱型赤外線固体撮像素子の製造方法であって、
基板を準備する工程と、
該基板の上に検知部を含む赤外線検出部を形成する工程と、
該基板の上に、該赤外線検出部と接続された支持脚を形成する支持脚形成工程と、
該赤外線検出部の下方の該基板を選択的に除去して中空部を形成する工程であって、該中空部の上に該赤外線検出部を該支持脚で保持する工程とを含み、
該支持脚形成工程は、
該基板上に、断面が矩形の犠牲層を形成する工程と、
該基板と該犠牲層とを覆うように第1保護膜を形成する工程と、
該基板の表面に垂直な該第1保護膜が露出するように、該第1保護膜上に導電体層を選択的に形成する工程と、
該第1保護膜と該導電体層を覆うように第2保護膜を形成する工程と、
該第1保護膜と該導電体層と該第2保護膜とを選択的にエッチングして、該犠牲層の側面上に該第1保護膜と該第2保護膜とこれらに挟まれた該導電体層を残す工程と、
該犠牲層を除去する工程とを含むことを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子の製造方法。 - 赤外線を検出する熱型赤外線固体撮像素子の製造方法であって、
基板を準備する工程と、
該基板の上に検知部を含む赤外線検出部を形成する工程と、
該基板の上に、該赤外線検出部と接続された支持脚を形成する支持脚形成工程と、
該赤外線検出部の下方の該基板を選択的に除去して中空部を形成する工程であって、該中空部の上に該赤外線検出部を該支持脚で保持する工程とを含み、
該支持脚形成工程は、
該基板上に、断面が矩形の犠牲層を形成する工程と、
該基板と該犠牲層とを覆うように第1保護膜を形成する工程と、
該第1保護膜を覆うように導電体層を形成する工程と、
該導電体層を覆うように第2保護膜を形成する工程と、
該第1保護膜と該導電体層と該第2保護膜とを選択的にエッチングして、該犠牲層の側面上に該第1保護膜と該第2保護膜とこれらに挟まれた該導電体層を残す工程と、
該犠牲層を除去する工程とを含むことを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子の製造方法。 - 赤外線を検出する熱型赤外線固体撮像素子の製造方法であって、
基板を準備する工程と、
該基板の上に検知部を含む赤外線検出部を形成する工程と、
該基板の上に、該赤外線検出部と接続された支持脚を形成する支持脚形成工程と、
該赤外線検出部の下方の該基板を選択的に除去して中空部を形成する工程であって、該中空部の上に該赤外線検出部を該支持脚で保持する工程とを含み、
該支持脚形成工程は、
該基板上に犠牲層とその上部に薄膜犠牲層とを順次形成する工程と、
該薄膜犠牲層をパターニングする工程と、
該薄膜犠牲層をマスクに用いて該犠牲層をエッチングして、断面が矩形の該犠牲層を形成する工程であって、該薄膜犠牲層を該犠牲層の上面から突出させて庇状にする工程と、
該基板と該犠牲層と該薄膜犠牲層を覆うように、第1保護膜と導電体層とを形成する工程と、
庇状の該薄膜犠牲層をマスクに用いて該第1保護膜と該導電体層とを選択的にエッチングして、該該犠牲層の側面上に該第1保護膜と該導電体層とを残す工程と、
該薄膜犠牲層を除去する工程と、
該基板、該犠牲層、該薄膜犠牲層、該第1保護膜および該導電体層を覆うように第2保護膜を形成する工程と、
該第2保護膜を選択的にエッチングして、該犠牲層の側面上に該第1保護膜と該第2保護膜とこれらに挟まれた該導電体層を残す工程と、
該犠牲層を除去する工程とを含むことを特徴とする熱型赤外線固体撮像素子の製造方法。
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