JP5728947B2 - アライメントマーク形成方法、ノズル基板形成方法、ノズル基板および液滴吐出ヘッド - Google Patents
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以下、本実施形態を図面に沿って説明する。図1は、第1実施形態に係る第1基板面1aと、当該第1基板面1aに相対する第2基板面1bとを有する基板1の両面にアライメントマークを形成するアライメントマーク形成方法を工程順に示す模式図である。図1を参照して、アライメントマーク形成方法を工程順に説明する。
本実施形態のアライメントマーク形成方法は、第1基板面1aにアライメントマークとなる溝2を形成し、形成した溝2に第1保護膜111を充填し、さらに第2基板面1bを研削することで、第2基板面1bに第1保護膜111で充填された溝2が露出する。このことによって、第1基板面1aと、第2基板面1bとの相対する同じ位置に非貫通の溝2が形成される。従って、第1基板面1aと、第2基板面1bとの相対する同じ位置に形成された溝2をアライメントマークとして用いることで、第1基板面1aと、第2基板面1bとにおこなうアライメントの位置ズレを抑制できるアライメントマークの形成ができる。
本実施形態は、アライメントマークとして第1基板面1aまたは第2基板面1bに形成するデバイスの輪郭形状を用いる点で、前述の第1実施形態で説明をしたアライメントマーク形成方法と異なっている。その他のアライメントマーク形成方法および形成工程は前述の第1実施形態と同様のため、同様の部分は構成および工程には同様の符号を付して説明は省略または簡略とする。
本実施形態のアライメントマーク形成工程は、第1基板面1aまたは第2基板面1bに形成するデバイスの輪郭形状を第1基板面1aに転写をする第1フォト工程をおこなう。
本実施形態のアライメントマーク形成方法は、アライメントマークとして第1基板面1aまたは第2基板面1bに形成するデバイスの輪郭形状を転写し、第1基板面1aにエッチングによって溝状に輪郭溝20を形成する。さらに、形成した輪郭溝20に第1保護膜111を充填し、第2基板面1bを研削し、輪郭溝20を露出する。このことによって、第1基板面1aと、第2基板面1bとの相対する位置に非貫通のアライメントマークを形成できる。
図2から図4は、第3実施形態に係る第2実施形態で説明したアライメントマーク形成方法を用いたノズル基板10の形成方法を工程順に示す模式図である。図2から図4を参照して、ノズル基板10の形成方法を工程順に説明する。なお、第1実施形態と同様の工程は説明を簡略して説明をする。
本実施形態のノズル基板10の形成方法は、第2基板面10bに形成する第2ノズル孔40の輪郭溝20を第1基板面10aから形成し、形成した輪郭溝20に第1保護膜111を充填し、第2基板面10bを研削することで、ノズル基板10の第1基板面10aと、第2基板面10bとの相対する同じ位置にアライメントマークとなる第2ノズル孔40の輪郭形状を輪郭溝20として形成することができる。従って、輪郭溝20を基準に片面露光装置を用いて第1基板面10aに形成する第1ノズル孔30と、第2基板面10bに形成する第2ノズル孔40とのアライメントを容易にかつ精度高くアライメントをし、第1ノズル孔30と、第2ノズル孔40との同心円精度の高いノズル孔50となるノズル基板10の形成方法を実現できる。
図5は、第4施形態に係る第3実施形態で説明をしたノズル基板10の形成方法を用いて形成されたノズル基板10で、液滴吐出面となる第1基板面10a側から見た上面図である。図5を参照して、本実施形態のノズル基板10について説明する。
第1ノズル孔30と、第2ノズル孔40とを複数段の円筒状に形成し、構成することによって、液滴の吐出方向を第1ノズル孔30と、第2ノズル孔40との同心円の中心軸方向に揃えることができ、安定した液滴の吐出をおこなうことができる。従って、各ノズル孔50から吐出される液滴の飛翔方向と、各ノズル孔50で液滴の吐出量のバラツキとを抑制することができるノズル基板10を実現できる。
図6は、第5実施形態に係る第4実施形態で説明をしたノズル基板10を用いた液滴吐出ヘッド201を示す縦断面図である。図6を参照して、本実施形態の液滴吐出ヘッド201について説明する。なお縦断面位置は、図5に示したノズル基板10のA−A間である。
本実施形態の液滴吐出ヘッド201は、本発明のアライメントマーク形成方法を用いて形成されたノズル基板10を用いることで、液滴を吐出ノズルとなる第1ノズル孔30と、液滴を吐出する液状体を貯留し、第1ノズル孔30に液滴を供給する第2ノズル孔40とが同心円精度の高いノズル孔50を有する液滴吐出ヘッドができる。従って、ノズル基板10に形成される複数のノズル孔50から吐出される液滴の飛翔方向と、液滴の吐出量のバラツキを抑制し、液滴吐出精度が高い液滴吐出ヘッド201が実現できる。
Claims (7)
- 第1基板面と当該第1基板面に相対する第2基板面とを有する基板に対し、前記第1基板面に所定の深さの溝を形成する溝形成工程と、
前記溝に充填された状態で前記溝を保護する第1保護膜を形成する第1保護膜形成工程と、
前記溝が前記第2基板面に露出するように前記第2基板面を研削する研削工程と、を備え、
前記第1基板面と、前記第2基板面とに形成された前記溝をアライメントマークとして用いることを特徴とするアライメントマーク形成方法。 - 請求項1に記載のアライメントマーク形成方法であって、
前記溝は、前記第1基板面または前記第2基板面に形成されるデバイスの輪郭形状を用いていることを特徴とするアライメントマーク形成方法。 - 請求項1に記載のアライメントマーク形成方法であって、
前記溝が形成される前記所定の深さは、前記基板の厚さ未満の深さであることを特徴とするアライメントマーク形成方法。 - 請求項2に記載のアライメントマーク形成方法であって、
前記第1基板面には第1デバイスが形成され、前記第2基板面には第2デバイスが形成される場合、前記溝が形成される前記所定の深さは、前記第1デバイスの深さと前記第2デバイスの深さとを加えた深さ以上で、前記基板の厚さ未満であることを特徴とするアライメントマーク形成方法。 - 請求項4に記載のアライメントマーク形成方法を用い、
前記第2基板面に形成され、液滴を吐出する液状体を貯留する第2ノズル孔の前記輪郭形状を、前記第1基板面の相対する位置に前記所定の深さで溝状に輪郭溝を形成する前記溝形成工程としての輪郭溝形成工程と、
前記輪郭溝に充填された状態で前記輪郭溝を保護する前記第1保護膜を形成する前記第1保護膜形成工程と、
前記第1基板面に形成された前記輪郭溝による前記輪郭形状を基準として、前記第1基板面に液滴を吐出する第1ノズル孔を形成する第1ノズル孔形成工程と、
前記第1ノズル孔を保護する第2保護膜形成工程と、
前記輪郭溝が前記第2基板面に露出するように前記第2基板面を研削する前記研削工程と、
前記第2基板面に露出した前記輪郭溝による前記輪郭形状を基準として、前記第2保護膜が露出するように前記第2ノズル孔を形成する第2ノズル孔形成工程と、
前記第1ノズル孔と前記第2ノズル孔を前記液状体から保護する第3保護膜を形成する第3保護膜形成工程と、を備えることを特徴とするノズル基板形成方法。 - 請求項5に記載のノズル基板形成方法を用いて形成されたことを特徴とするノズル基板。
- 請求項6に記載のノズル基板を用いて形成されたことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
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