JP2012136014A - インクジェット記録ヘッド - Google Patents

Abstract

【課題】インク供給性を長期にわたり維持することが可能な、信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供する。
【解決手段】エネルギー発生素子とインク供給口とを備える基板と、前記エネルギー発生素子に対応する吐出口と該複数の吐出口のそれぞれと連通する複数のインク流路と前記複数のインク流路と連通する共通液室とを有する流路形成部材と、を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記共通液室は、吐出口領域と排出口領域とに仕切られ、該吐出口領域にはフィルタを介してインクが流入し、前記吐出口の径及び前記インク流路の径のうち最小径をＡとし、前記フィルタが有する開口の最大径をＢとした場合、Ａ≧Ｂを満たすインクジェット記録ヘッド。
【選択図】図２

Description

本発明はフィルタを備えたインクジェット記録ヘッドに関する。

近年、インクジェット記録装置、インクジェットプリンタには高速印字、高画質印字の性能が求められている。これらの要求を満たす方法として、ノズル数を増やす方法とインク液滴を微小化する方法が知られている。

インク液滴を微小化するための方法としては、一般的に吐出口のサイズを小さくする方法が挙げられる。この場合、吐出口のサイズは数μｍ程度まで微小化するが、製造過程でゴミ等の異物がノズル内に混入し、インクと共に吐出口にまで異物が到達する場合がある。異物のサイズが吐出口のサイズより小さい場合には、インク吐出やインクジェット記録ヘッドの初期化、回復シーケンス中に異物はインクジェット記録ヘッド外へ排出される。しかし、異物のサイズが吐出口のサイズより大きい場合には、吐出口又はインク流路中に異物が詰まる。このような場合にはインクジェット記録ヘッドの規定の吐出特性が得られず、歩留りが低下してコストが上がる。

この課題に対する対策として、インクジェット記録ヘッドにフィルタを設けることが知られている。例えば、特許文献１、特許文献２ではインク流路の上流部にメンブレン状のフィルタを配置する構成が提案されている。

米国特許第６２６４３０９号明細書 特開２００５−１７８３６４号公報

しかしながら、特許文献１や特許文献２の構成では、フィルタの孔のサイズより大きな異物はインク流路や吐出口に到達することはないが、フィルタに捕集され続ける。フィルタに捕集できる異物の量には許容範囲があり、それを超えた場合には吐出口へのインク供給性が低下し、インク吐出特性が低下する。本発明は前記課題を解決することを目的とし、インク供給性を長期にわたり維持することが可能な、信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供する。

本発明に係るインクジェット記録ヘッドは、インクを吐出するための複数のエネルギー発生素子と、該エネルギー発生素子へインクを供給するためのインク供給口と、を備える基板と、前記複数のエネルギー発生素子のそれぞれに対応するインクを吐出するための複数の吐出口と、該複数の吐出口のそれぞれと連通する複数のインク流路と、前記複数のインク流路と連通する共通液室と、を有する流路形成部材と、を備えるインクジェット記録ヘッドであって、前記共通液室は、前記吐出口を含む吐出口領域とインクを排出する排出口を含む排出口領域とに遮蔽壁によって仕切られ、該吐出口領域にはフィルタを介してインクが流入し、前記吐出口の径及び前記インク流路の径のうち最小径をＡとし、前記フィルタが有する開口の最大径をＢとした場合、Ａ≧Ｂを満たす。

本発明によれば、インク供給性を長期にわたり維持することが可能な、信頼性の高いインクジェット記録ヘッドを提供することができる。

本発明に係るインクジェット記録ヘッドを示す模式図である。 （ａ）は第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの吐出口周辺部の上面透視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。 （ａ）は第二の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの吐出口周辺部の上面透視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面、（ｃ）は（ａ）のＢ−Ｂ断面である。 （ａ）は第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの吐出口周辺部の上面透視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。 （ａ）は第四の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの吐出口周辺部の上面透視図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ断面図である。 第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の各工程を、図２のＡ−Ａ断面で示した断面図である。 第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の遮蔽壁に開口を設ける工程を、図４のＢ−Ｂ断面で示した断面図である。

［インクジェット記録ヘッド］
インクジェット記録ヘッドの製造時や使用時にはゴミ等の異物がインクジェット記録ヘッド内に発生する。本発明に係るインクジェット記録ヘッドによれば、吐出口へ到達するインクはフィルタに形成された開口を必ず通過することになる。この開口径を共通液室、インク流路及び吐出口を含めたインク経路のうちで最も狭い部分より小さくすることで、開口より大きい異物はインク供給口部のフィルタに捕集されるため、インク流路や吐出口に詰まることがない。さらに排出口径を開口径より大きくすることで、捕集された異物は通常行われるリフレッシング動作により、排出口からインクジェット記録ヘッドの外部へ排出される。これにより、インク供給性を半永久的に維持することが可能となる。

本発明に係るインクジェット記録ヘッドの一例を、図１を参照しながら説明する。図１は、本発明の一実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを示す模式図である。

本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、表面に複数のエネルギー発生素子２が所定のピッチで２列に並んで配置されている基板１を備える。基板１には、異方性エッチングすることによって形成されたインク供給口１３が、エネルギー発生素子２の２つの列の間に形成されている。基板１上には、流路形成部材９によって、各エネルギー発生素子２に対応する吐出口１１と、インク供給口１３から各吐出口１１に連通するインク流路２１（不図示）が形成されている。また、吐出口１１の列の両端部には排出口１６が設けられている。このインクジェット記録ヘッドは、吐出口１１が形成された面が記録媒体の記録面に対面するように配置される。そして、インク供給口１３を介してインク流路２１内に充填されたインクに、エネルギー発生素子２によって発生するエネルギーが加えられることによって、吐出口１１からインク液滴が吐出される。このインク液滴を記録媒体に付着させることによって記録を行う。

（第一の実施形態）
本発明の第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを、図２を参照して説明する。図２（ａ）は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口１１付近の上面透視図、図２（ｂ）は図２（ａ）のＡ−Ａ断面図である。

本実施形態のインクジェット記録ヘッドは、図２（ａ）に示すように、所定の径を有する吐出口１１からなる２つの吐出口列がインク供給口１３を挟むように設けられている。さらにインク供給口１３の基板表面側には所定の開口１５が形成されているフィルタ７がインク供給口１３の一部を塞ぐように配置されている。また、流路形成部材９の吐出口１１の列の両端部には排出口１６が設けられている。ここで、吐出口１１の径及び吐出口１１に連通するインク流路２１の径のうち最小径をＡとし、複数の開口１５の最大径をＢとした場合、Ａ≧Ｂを満たす。また、複数の排出口１６の最小径をＣとした場合、Ｃ≧Ｂを満たすことが好ましい。さらに、複数の排出口１６の最大径をＯとした場合、Ｏ＞Ａであると、後述するフィルタに捕集された異物を取り除く点で好ましい。複数の排出口１６の最小径をＱとした場合、Ｑ＞Ａであることも、フィルタに捕集された異物を取り除く点で好ましい。尚、本発明における「径」とは、穴の最大径を意味する。例えば吐出口や開口が真円の場合には直径の長さであり、正方形の場合には対角線の長さである。

吐出口１１及び排出口１６に連通する共通液室のうち、排出口領域（共通液室Ａ）は排出口１６に連通しており、吐出口領域（共通液室Ｂ）は吐出口１１に連通している。吐出口１１を含む吐出口領域と、インクを排出する排出口１６を含む排出口領域は、遮蔽壁１８によって仕切られている。共通液室Ｂは、流路形成部材９と基板表面と接している遮蔽壁１８と開口１５を有するフィルタ７とによって共通液室Ａと仕切られている。このため、吐出口領域（共通液室Ｂ）にはフィルタ７を介してインクが流入する。フィルタ７が有する開口１５の径より大きな異物は、フィルタ７に設けられた開口１５を通過して吐出口１１に到達することはない。一方、開口１５より小さな異物はフィルタ７に設けられた開口１５を通過して吐出口１１に到達することはできるが、前述したそれぞれの径の大きさの関係から該異物が吐出口１１に詰まることはないため、印字は良好に行われる。一方、排出口領域にはフィルタ７を介さずにインクが流入することが好ましい。図２においては、排出口領域（共通液室Ａ）とインク供給口１３の間にフィルタ７を存在させないようにしている。これにより、排出口１６から異物を排出しやすくし、リフレッシング動作を効率的に行うことができる。

通常インクジェット記録ヘッドは使用過程において、吐出口１１及びインク流路２１内のインクの乾燥による吐出不良を防止するため、流路形成部材９表面側から吸引によりインクジェット記録ヘッド内のインクを吸い出すリフレッシング動作が定期的に行われる。本実施形態では、インク中の異物やフィルタ７に捕集された異物を、前記リフレッシング動作により生じたインクの流れによって排出口１６からインクジェット記録ヘッド外へ排出することができる。吐出口１１の径より排出口１６の径の方が大きいと、リフレッシング動作時のインク流速は排出口１６に向かう方が速く、フィルタ７に捕集されていた異物は排出口１６へと誘導される。このため、先に述べた通り、Ｏ＞Ａであることが好ましい。また、Ｑ＞Ａであることが好ましい。さらに、吐出口１１と排出口１６とを同時に吸引するのではなく、排出口１６のみを吸引する異物排出動作を行えば、インク供給口１３から排出口１６へと向かうインクの流れのみとなる。このため、より効率よく異物をインクジェット記録ヘッド外へ排出することができるため好ましい。さらに、リフレッシング動作を行う場合、インクを逆流させてフィルタ７に捕集された異物をインク中に浮遊させ、その後で吸引を行うことで、さらに効率よく異物をインクジェット記録ヘッド外へ排出することができるため好ましい。

本実施形態では図２（ａ）に示すように、排出口１６は吐出口１１の列の両端部に２つずつ配置されているが、これに限られず、吐出口１１の列の両端部に１つ以上設けることができる。また、本実施形態ではＣ≧Ｂを満たしているが、複数の排出口１６のうち少なくとも一つの排出口１６の径がＢより大きければよい。

（第二の実施形態）
本発明の第二の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを、図３を参照して説明する。図３（ａ）は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口付近の上面透視図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ断面図、図３（ｃ）は図３（ａ）のＢ−Ｂ断面図である。

第一の実施形態に対して、第二の実施形態では２つの吐出口列の吐出口径が異なり、吐出口列が第一の吐出口２２の列と、第二の吐出口２０の列とからなる。第二の吐出口２０は第一の吐出口２２よりも大きく、第二の吐出口２０の列は第一の吐出口２２から吐出されるインク液滴よりも大きなインク液滴を吐出することができる。インク供給口１３は、第１の吐出口列と第２の吐出口列との間に対応する位置に設けられている。また図３（ｃ）に示すように、開口が設けられたフィルタ７と、流路形成部材９との間に、フィルタ７と遮蔽壁１８とを支持するための支持部材１９が設けられている。支持部材１９は例えばインクがインク供給口１３から勢い良く共通液室Ｂ内に流入した場合、フィルタ７がインク流に押されて破損することを防止でき、フィルタ７の物理的な破損に対する強度を高めることができる。この支持部材１９によって吐出口領域である共通液室Ｂは、第一の吐出口列を含む第一の吐出口領域と、第二の吐出口列を含む第二の吐出口領域とに仕切られる。また、フィルタ７に形成された開口の大きさは支持部材１９を境にして異なる。

第一の吐出口２２の径及び第一の吐出口２２に連通するインク流路２３の径のうち最小径をＤとし、第一の吐出口列領域のフィルタ７に設けられた開口２５の最大径をＥとした場合、Ｄ≧Ｅを満たす。また、第二の吐出口２０の径及び第二の吐出口２０に連通するインク流路２１の径のうち最小径をＦとし、第二の吐出口列領域のフィルタ７に設けられた開口２４の最大径をＧとした場合、Ｆ≧Ｇを満たす。これにより、インク供給口１３から第一の吐出口２２及び第二の吐出口２０にそれぞれ至る経路において、最小径となるのはそれぞれフィルタ７に形成された開口２５及び開口２４となる。このため、インク流路２３、２１、第一の吐出口２２及び第二の吐出口２０において異物が詰まることはない。また、捕集された異物は、実施例１と同様に定期的に排出口１６より排出されるため、異物がインクジェット記録ヘッド内に蓄積されることはない。

本実施形態において、第二の吐出口列領域のフィルタ７に設けられた開口２４の最大径をＨとし、第一の吐出口列領域のフィルタ７に設けられた開口２５の最大径をＩとした場合、Ｈ≧Ｉを満たすことが好ましい。

（第三の実施形態）
本発明の第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを、図４を参照して説明する。図４は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口１１付近の上面透視図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ断面図である。本実施形態は遮蔽壁１８にも開口２６を設けている点が第一の実施形態と異なっているが、その他の構成は同じであるため、異なる点のみ説明する。

遮蔽壁１８に設けられた開口２６の最大径をＪとした場合、Ａ≧Ｊを満たす。これにより、吐出口１１の径及び吐出口１１に連通するインク流路２１の径より大きな異物が共通液室Ｂ内に侵入することがない。また、遮蔽壁１８に開口２６が設けられることにより、吐出口１１までのインク供給性をより向上させることができる。

（第四の実施形態）
本発明の第四の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの説明を、図５を参照して説明する。図５（ａ）は本実施形態のインクジェット記録ヘッドの吐出口付近の上面透視図、図５（ｂ）は図５（ａ）のＡ−Ａ断面図である。本実施形態は遮蔽壁１８にも開口２６を設けている点が第二の実施形態と異なっているが、その他の構成は同じであるため、異なる点のみ説明する。

第１の吐出口列領域の遮蔽壁１８に設けられた開口の最大径をＫとした場合、Ｄ≧Ｋを満たす。また、第２の吐出口列領域の遮蔽壁１８に設けられた開口の最大径をＬとした場合、Ｆ≧Ｌを満たす。これにより、遮蔽壁１８に設けられた開口２６を通過した異物は、インク流路２３から第一の吐出口２２及びインク流路２１から第二の吐出口２０に至る経路において、最も狭い部分を通過できるため、異物詰まりが発生することがない。また、遮蔽壁１８に開口２６が設けられることにより、第一の吐出口２２及び第二の吐出口２０へのインク供給性を向上させることができる。

第１の吐出口列領域のフィルタ７に設けられた開口の最小径をＭとした場合、Ｍ≧Ｋを満たし、かつ、第２の吐出口列領域のフィルタ７に設けられた開口の最小径をＮとした場合、Ｎ≧Ｌを満たすことが好ましい。

［インクジェット記録ヘッドの製造方法］
図６を参照して、第一、第二の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を説明する。図６は、第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の各工程を、図２のＡ−Ａ断面で示した断面図である。

図６（ａ）に示すように、シリコンで形成され、結晶方位が＜１００＞面の基板１を用意し、基板１の一方の面に複数のエネルギー発生素子（不図示）及び電気信号回路（不図示）と、インク供給口１３を形成するための犠牲層３１を形成する。犠牲層３１の材質は、アルカリ水溶液でエッチングできるものであればよく、例えばアルミニウムやポリシリコンを用いることができる。またアルミシリコン、アルミ銅、アルミシリコン銅等のアルミニウム含有化合物であってもよい。さらに犠牲層３１の上にエネルギー発生素子２及び電気信号回路の保護膜としてＳｉＮ膜３０を全面にわたって形成する。次に、基板１の他方の面に、後述する異方性エッチングの工程で必要となるエッチングマスク材２８を形成する。エッチングマスク材２８としては、半導体製造工程における熱酸化工程で形成される熱酸化膜やプラズマＣＶＤ等によるＳｉＮ膜が望ましい。なお、エッチングマスク材２８は異方性エッチング液に耐える材料（例えばレジスト等）であれば特に限定されず、その製造方法も特に限定されない。

次いで、図６（ｂ）に示すように、基板１の前記一方の面側にフィルタ７を形成する。フィルタ７の材料としては熱可塑性樹脂であるポリエーテルアミド樹脂を用いることが、流路形成部材９との密着性を向上させることができるため好ましい。フィルタ７の材料をスピンコート等によって基板１の表面上に塗布し、その上に不図示のポジ型レジストをパターニングする。その後パターニングしたポジ型レジストをマスクとしてフィルタ７をエッチングすることによって、フィルタ７に開口１５を形成することができる。

次いで、図６（ｃ）に示すように、基板１の前記一方の面側に、インク流路２１（不図示）を形成するための溶解可能な樹脂材料からなる型材２７を塗布し、インク流路２１及び遮蔽壁１８の形状に合わせてパターニングする。なお、第二の実施形態に示す支持部材１９は、インク流路２１や遮蔽壁１８と同様に本工程で型材２７をパターニングすることで形成することができる。

次いで、図６（ｄ）に示すように、流路形成部材９を、型材２７を覆うようにして基板１の前記一方の面側に形成し、インク吐出口１１と排出口１６とを形成する。なお、流路形成部材９には、感光性材料を使用することができ、露光・現像によりインク吐出口１１と排出口１６とをパターニングすることができる。

次いで、図６（ｅ）に示すように、エッチングマスク材２８の一部を残し、インク供給口１３に対応する裏面開口領域２９を除去する。さらに後述する基板１のエッチング工程において基板１の所望の部分以外がアルカリ水溶液によって破損しないように、基板１を保護材１２で覆う。

次いで、図６（ｆ）に示すように、エッチングマスク材２８をエッチングマスクとして、アルカリ水溶液を用いた異方性エッチングを行うことで基板１の部分的な除去を行い、インク供給口１３を形成する。

次いで、図６（ｇ）に示すように、インク供給口１３領域のＳｉＮ膜３０と、保護材１２とを除去し、最後に型材２７を除去する。以上により本実施形態に係るインクジェット記録ヘッドが完成する。

次に図７を参照して、第三、第四の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法を説明する。遮蔽壁１８に開口２６を設ける工程以外は図６に示す前記方法と同様であるため、異なる工程についてのみ説明する。図７は、第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドの製造方法の遮蔽壁１８に開口２６を設ける工程を、図４のＢ−Ｂ断面で示した断面図である。

図６（ｃ）の型材２７をパターニングする工程において、型材にポジ型レジストを用いて遮蔽壁１８に設ける開口２６に相当する部分を露光する。それ以外の部分は図６（ｃ）と同じように露光を行う。具体的には図７（ａ）に示すように、先ず図６の型材２７の厚さの１／２の第一の型材３２を塗布し、遮蔽壁１８、開口２６、インク流路２１を形成するための露光を行う。次に図７（ｂ）に示すように、第一の型材３２上に感光波長の異なる第二の型材３３であるポジ型レジストを塗布する。この時、第一の型材３２と第二の型材３３とを合わせた厚さが図６（ｃ）の型材２７と同じ厚さとなるようにすることによって、インク流路２１の高さが図６と同じになる。その後、第二の型材３３に対し異なる波長で遮蔽壁１８、開口２６、インク流路２１を形成するための露光を行い、第一の型材３２、第二の型材３３を現像することによって、感光部分を除去しパターニングを行う。図７（ｂ）に示すように、第一の型材３２と第二の型材３３とで用いるポジ型レジストの感光波長を変えることによって、第二の型材３３の露光時に下層にある第一の型材３２は影響を受けることがない。ここで、第一の型材３２と第二の型材３３の厚さは同じとしているが、厚さの比は特に制限されない。

その後は図６（ｄ）以降と同じ工程を経ることでインクジェット記録ヘッドが完成する。ここでは遮蔽壁１８に設ける開口２６とインク流路２１等のその他の部分とを同一の工程でパターニングを行ったが、遮蔽壁１８及び遮蔽壁１８に設けられた開口２６とそれ以外とを別の工程で形成してもよい。この場合は、工程が増えるが、遮蔽壁１８及び開口２６以外のパターニングは一度の露光で完了するため、アライメントによる形状ズレがなく形状精度の高いパターニングが可能となる。

以下、本発明の実施例を示すが、本発明はこれらに限定されない。

（実施例１）
前記第一の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを製造した。

図６（ａ）に示すように、シリコンで形成され、結晶方位が＜１００＞面の基板１を用意した。基板１の一方の面に複数のエネルギー発生素子（不図示）及び電気信号回路（不図示）と、インク供給口を形成するための犠牲層３１を形成した。犠牲層３１にはアルミニウムを用いた。犠牲層３１の上にエネルギー発生素子２及び電気信号回路の保護膜としてＳｉＮ膜３０を全面にわたって形成した。次に、基板１の他方の面にエッチングマスク材２８を形成した。エッチングマスク材２８には、半導体製造工程における熱酸化工程で形成されるシリコンの熱酸化膜を用いた。

次いで、図６（ｂ）に示すように、基板１の前記一方の面側にフィルタ７を形成した。フィルタ７の材料としてはポリエーテルアミド樹脂を用いた。ポリエーテルアミド樹脂をスピンコート法により基板１の表面上に塗布し、その上に不図示のポジ型レジストをパターニングした。その後該ポジ型レジストをマスクとしてフィルタ７をエッチングし、フィルタ７に開口１５を形成した。なお、フィルタ７の膜厚は２μｍとした。

次いで、図６（ｃ）に示すように、基板１の前記一方の面側に、インク流路２１（不図示）を形成するための溶解可能な樹脂材料からなる型材２７を塗布し、インク流路２１及び遮蔽壁１８の形状に合わせてパターニングした。次いで、図６（ｄ）に示すように、感光性材料を用いて流路形成部材９を、型材２７を覆うようにして基板１の前記一方の面側に形成し、露光・現像により吐出口１１と排出口１６とを形成した。

次いで、図６（ｅ）に示すように、エッチングマスク材２８の一部を残し、インク供給口１３に対応する裏面開口領域２９を除去した。さらに基板１を保護材１２で被覆した。次いで、図６（ｆ）に示すように、エッチングマスク材２８をエッチングマスクとして、アルカリ水溶液を用いた異方性エッチングを行い、基板１にインク供給口１３を形成した。次いで、図６（ｇ）に示すように、インク供給口１３領域のＳｉＮ膜３０と、保護材１２とを除去し、更に型材２７を除去した。これにより、インクジェット記録ヘッドを作製した。該インクジェット記録ヘッドは、吐出口１１の径及びインク流路２１の径のうち最小径をＡ、開口１５の最大径をＢとした場合、Ａ≧Ｂを満たした。

（実施例２）
前記第三の実施形態に係るインクジェット記録ヘッドを作製した。実施例１の図６（ｃ）に示す工程以外の工程は実施例１と同様に行ったため、当該異なる工程についてのみ説明する。

図７は、図４（ａ）のＢ−Ｂ断面を示す図である。図７（ａ）に示すように、ポジ型レジストを塗布して第一の型材３２を形成し、遮蔽壁１８、開口２６、インク流路２１を形成するための露光を行った。次に、図７（ｂ）に示すように、第一の型材３２上に、感光波長の異なるポジ型レジストを塗布し、第一の型材３２と同じ膜厚の第二の型材３３を形成した。第二の型材３３に対し前記露光とは異なる波長で遮蔽壁１８、開口２６、インク流路２１を形成するための露光を行った。その後、第一の型材３２、第二の型材３３を現像することにより、感光部分を除去しパターニングを行った。これにより、インクジェット記録ヘッドを作製した。

１ 基板
２ エネルギー発生素子
４ ＳｉＮ膜
７ フィルタ
９ 流路形成部材
１１ 吐出口
１３ インク供給口
１５ 開口
１６ 排出口
１８ 遮蔽壁
１９ 支持部材

Claims (8)

1. インクを吐出するための複数のエネルギー発生素子と、該エネルギー発生素子へインクを供給するためのインク供給口と、を備える基板と、
   前記複数のエネルギー発生素子のそれぞれに対応するインクを吐出するための複数の吐出口と、該複数の吐出口のそれぞれと連通する複数のインク流路と、前記複数のインク流路と連通する共通液室と、を有する流路形成部材と、
   を備えるインクジェット記録ヘッドであって、
   前記共通液室は、前記吐出口を含む吐出口領域とインクを排出する排出口を含む排出口領域とに遮蔽壁によって仕切られ、該吐出口領域にはフィルタを介してインクが流入し、前記吐出口の径及び前記インク流路の径のうち最小径をＡとし、前記フィルタが有する開口の最大径をＢとした場合、Ａ≧Ｂを満たすインクジェット記録ヘッド。
2. 前記排出口領域には前記フィルタを介さずにインクが流入する請求項１に記載のインクジェット記録ヘッド。
3. 前記フィルタがポリエーテルアミド樹脂を含む請求項１又は２に記載のインクジェット記録ヘッド。
4. 前記複数の吐出口が、第１の吐出口列と、該第１の吐出口列の吐出口から吐出される液滴よりも大きな液滴を吐出するための第２の吐出口列と、からなり、該第１の吐出口列及び該第２の吐出口列は、該第１の吐出口列と該第２の吐出口列との間に対応する位置に前記インク供給口が設けられるように備えられ、
   前記共通液室の吐出口領域は、支持部材により前記第１の吐出口列を含む第１の吐出口列領域と、前記第２の吐出口列を含む前記第２の吐出口列領域に仕切られ、
   前記第１の吐出口列の吐出口の径及び該吐出口に連通するインク流路の径のうち最小径をＤとし、前記第１の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をＥとした場合、Ｄ≧Ｅを満たし、かつ、
   前記第２の吐出口列の吐出口の径及び該吐出口に連通するインク流路の径のうち最小径をＦとし、前記第２の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をＧとした場合、Ｆ≧Ｇを満たす請求項１から３のいずれか一項に記載のインクジェット記録ヘッド。
5. 前記第２の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をＨとし、前記第１の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最大径をＩとした場合、Ｈ≧Ｉを満たす請求項４に記載のインクジェット記録ヘッド。
6. 前記遮蔽壁に少なくとも一つの開口が設けられ、遮蔽壁に設けられた該開口の最大径をＪとした場合、Ａ≧Ｊを満たす請求項１から３のいずれか一項に記載のインクジェット記録ヘッド。
7. 前記遮蔽壁に少なくとも一つの開口が設けられ、前記第１の吐出口列領域の遮蔽壁に設けられた該開口の最大径をＫとした場合、Ｄ≧Ｋを満たし、かつ前記第２の吐出口列領域の遮蔽壁に設けられた該開口の最大径をＬとした場合、Ｆ≧Ｌを満たす請求項４又は５に記載のインクジェット記録ヘッド。
8. 前記第１の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最小径をＭとした場合、Ｍ≧Ｋを満たし、かつ、前記第２の吐出口列領域の前記フィルタに設けられた開口の最小径をＮとした場合、Ｎ≧Ｌを満たす請求項７に記載のインクジェット記録ヘッド。