JP5727281B2 - 誘導結合プラズマ処理装置 - Google Patents
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Description
図1はこの発明の第1の実施形態に係る誘導結合プラズマ処理装置を概略的に示す断面図である。図1に示す誘導結合プラズマ処理装置は、例えば、FPD用ガラス基板上に薄膜トランジスタを形成する際のメタル膜、ITO膜、酸化膜等のエッチングや、レジスト膜のアッシング処理等のプラズマ処理に用いることができる。ここで、FPDとしては、液晶ディスプレイ(LCD)、エレクトロルミネセンス(Electro Luminescence;EL)ディスプレイ、プラズマディスプレイパネル(PDP)等が例示される。また、FPD用ガラス基板に限らず、太陽電池パネル用ガラス基板に対する上記同様のプラズマ処理にも用いることができる。
図3は、この発明の第1の実施形態に係る誘導結合プラズマ処理装置が備える金属窓の第1例を示す平面図である。
図8Aは金属窓3の第2例を示す平面図、図8Bは図8Aから高周波アンテナ11を省略した平面図である。
図9Aは金属窓3の第3例を示す平面図、図9B及び図9Cは図9Aから高周波アンテナを省略した平面図である。
に沿って、外側金属窓3b1〜3b12に十二分割されている。
図10Aは金属窓3の第4例を示す平面図、図10Bは図10Aから高周波アンテナを省略した平面図である。
第1の実施形態では、金属窓3を、金属窓3の周方向と交差する方向に沿って分割し、この周方向と交差する方向に沿って分割された金属窓3を、さらに周方向に沿って2以上に分割した例を示した。
図11は、この発明の第2の実施形態に係る誘導結合プラズマ処理装置が備える金属窓3の一例を示す平面図、図12A及び図12Bは金属窓の分割及び区分けの仕方を説明するための平面図である。
図14Aは金属窓3の第2例を示す平面図、図14Bは図14Aから高周波アンテナ11を省略した平面図である。
図15Aは金属窓3の第3例を示す平面図、図15Bは図15Aから高周波アンテナ11を省略した平面図である。
図16Aは金属窓3の第4例を示す平面図、図16Bは図16Aから高周波アンテナ11を省略した平面図である。
Claims (19)
- 処理室内のプラズマ生成領域に誘導結合プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理する誘導結合プラズマ処理装置であって、
前記プラズマ生成領域に前記誘導結合プラズマを発生させる高周波アンテナと、
前記プラズマ生成領域と前記高周波アンテナとの間に配置される金属窓と、を備え、
前記金属窓が、この金属窓の周方向に沿って2以上に互いに電気的に絶縁されて分割される第1の分割がされ、かつ、前記第1の分割がされた金属窓が、さらに前記周方向と交差する方向に沿って互いに電気的に絶縁されて分割される第2の分割がされていることを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。 - 前記第2の分割の分割数が、前記第1の分割がされた金属窓ごとに決められ、前記金属窓の周縁部分に向かうにつれて多く分割されていることを特徴とする請求項1に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記第1の分割及び前記第2の分割がされた前記金属窓のサイズが、前記高周波アンテナに供給される高周波電力の波長の四分の一よりも小さくされていることを特徴とする請求項2に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記高周波アンテナが、前記第1の分割がされた金属窓各々に対応して設けられていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記高周波アンテナの平面形状が渦巻き状あるいは環状であって、前記第1の分割が、前記渦巻き状あるいは環状の高周波アンテナの中心から前記金属窓の周縁部分へ放射状に延びる線に沿ってされる分割であることを特徴とする請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記金属窓の平面形状の外形が矩形状であって、前記金属窓の周縁部分へ放射状に延びる線が、前記金属窓の平面形状の外形の対角線であることを特徴とする請求項5に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 処理室内のプラズマ生成領域に誘導結合プラズマを発生させ、基板をプラズマ処理する誘導結合プラズマ処理装置であって、
前記プラズマ生成領域に前記誘導結合プラズマを発生させる高周波アンテナと、
前記プラズマ生成領域と前記高周波アンテナとの間に配置される金属窓と、を備え、
前記金属窓が、この金属窓の周方向と交差する方向に沿って2以上に互いに電気的に絶縁されて分割され、かつ、前記周方向と交差する方向に沿って2以上に互いに電気的に絶縁されて分割された金属窓が、この金属窓に設けられたスリットによって前記周方向に沿って2以上の領域に区分けされる第1の区分がされていることを特徴とする誘導結合プラズマ処理装置。 - 前記第1の区分がされた領域が、さらに前記周方向と交差する方向に沿って前記金属窓に設けられたスリットによって区分けされる第2の区分がされていることを特徴とする請求項7に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記第2の区分の区分け数が、前記第1の区分がされた金属窓ごとに決められ、前記金属窓の周縁部分の領域に向かうにつれて多くされていることを特徴とする請求項8に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記高周波アンテナが、前記第1の区分がされた領域各々に対応して設けられていることを特徴とする請求項7から請求項9のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記第1の区分及び前記第2の区分がされた領域のサイズが、前記高周波アンテナに供給される高周波電力の波長の四分の一よりも小さくされていることを特徴とする請求項8から請求項10のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記スリット内に、絶縁体が設けられていることを特徴とする請求項7から請求項11のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記高周波アンテナの平面形状が渦巻き状あるいは環状であって、前記周方向と交差する方向に沿った前記金属窓の分割が、前記渦巻き状あるいは環状の高周波アンテナの中心から前記金属窓の周縁部分へ放射状に延びる線に沿った分割であることを特徴とする請求項7から請求項12のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記金属窓の平面形状が矩形状であって、前記金属窓の周縁部分へ放射状に延びる線が、前記金属窓の対角線であることを特徴とする請求項13に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記金属窓が、非磁性体で導電性であることを特徴とする請求項1から請求項14のいずれか1項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記金属窓の処理室側表面に、誘電体膜が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記誘電体膜が、陽極酸化膜、又は溶射セラミック製であることを特徴とする請求項16に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記金属窓の処理室側表面に、誘電体カバーが設けられていることを特徴とする請求項1から請求項15のいずれか一項に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
- 前記誘電体カバーが、石英製、又はセラミック製であることを特徴とする請求項18に記載の誘導結合プラズマ処理装置。
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