JP5727132B2 - 高熱伝導性、無ハロゲン系、難燃性の樹脂組成物、そのプリプレグおよびコーティング - Google Patents
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Description
(1) リン含有エポキシ樹脂5〜70%、
(2) 多官能基あるいは二官能基エポキシ樹脂最大50%、
(3) 硬化剤1〜20%、
(4) 質量依存方法にてエポキシ樹脂と硬化剤の架橋を促進するための促進剤0.007〜10%、
(5) 硬化後の樹脂組成物の硬性を高める無機粉体最大20%(硬性が不要な場合にはこの無機粉体は無くてもよい)、
(6) 高熱伝導粉体5〜85%。高熱伝導粉体の含有が5%よりも低ければ、樹脂組成物の熱伝導性は低くなり、85%よりも高ければ、その加工性と物理的特性に悪影響が出る。
(7) カップリング剤、補強充填剤、可塑剤、分散剤、抗酸化剤、熱・光安定剤、難燃剤、充填材、顔料および染料から成る群から選択される1つ以上の剤を含む加工助剤0.01〜10%。カップリング剤は樹脂と無機粉体および/または高熱伝導粉体の間の界面親和性を向上するべく作用し、その他の助剤は樹脂組成物の加工性、機械的性質および物理的特性、熱的特性、光安定性を向上させる。
リン含有エポキシ樹脂は、目的とする誘電層(例えばプリプレグまたはRCC)の加工性、物理的特性、形状に応じて、単独で、あるいは、多官能基または二官能基エポキシ樹脂と混合して選択的に使用することができる一方、多官能基と二官能基エポキシ樹脂を単独で使用することはできない。
サリチル酸)、三フッ化ホウ素およびその有機物の錯体(例えば、三フッ化ホウ素エーテル錯体、三フッ化ホウ素アミン錯体および三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体)、リン酸、トリフェニルホスフェートから成る群の少なくとも1つが選択され、更に、3級アミンイミダゾールおよびその混合物から選択されることが好適である。
1. 寸法の縮小;
2. 電流密度の増加;
3. PCB使用製品の熱的特性および機械的性質の向上;
4. PCB使用製品の耐久性の向上;
5. PCB使用製品と併用する冷却フィンおよび他の熱放散部品の個数の低減、PCB使用製品の容量の低減;
6. 比較的脆いセラミック基板と比較して優れた機械的耐久性。
樹脂溶剤の製法および得られるRCCは実施例2と類似するが、酸化アルミニウムビーズB10.79質量部の代わりに、各種直径がブレンドされ、窒化ホウ素431.6質量部を含有する市販の球状酸化アルミニウム粉体DAW−300(日本のDenka社、DAW−45:DAW−5=1:1、平均直径D50=4.4μm)を使用した点が異なる。各種直径をブレンドした市販の酸化アルミニウム粉体(DAW−300)の実際および理論上の最密構造を図2に示す。
o‐クレゾールエポキシ樹脂75質量部(EEW=210g/eq、台湾のNan Ya Plastics Corporationより市販されている、NPCN−703)、ビスフェノールA型エポキシ樹脂25質量部(EEW=186g/eq、台湾のNan Ya Plastics Corporationより市販されている、NPEL−128E)、ベークライト49.15質量部、2‐メチルイミダゾール0.05質量部をブタノン401.6質量部中に溶解後、これを高熱伝導粉体596.61質量部と混合して、高熱伝導性、無ハロゲン系および難燃性の組成溶液を得た。前記溶液の高熱伝導粉体の割合は80%であった。この高熱伝導性粉体は、球状の酸化アルミニウム粉体A(平均直径D50=5μm)107.4質量部、球状の酸化アルミニウム粉体B(平均直径D50=0.5μm)11.93質量部、窒化ホウ素(平均直径D50=5.5μm)477.28質量部を含む。次に、この樹脂溶液を使用し、実施例1に記載のプロセスによって銅箔基板を作成する。
樹脂溶液の製法は、シリカ539.5質量部を添加した点を除き実施例1と類似する。次に、前記樹脂溶液を使用し、実施例1に記載のプロセスによって銅箔基板を作成した。
樹脂溶液の製法および得られる銅箔基板は実施例1と類似するが、高熱伝導粉体539.5質量部全体を代わりに同量の窒化ホウ素で代用した点が異なる。得られた銅箔基板に物理的特性試験を実施した。この試験結果を表1に示す。
表1に示す実施例1〜3の試験結果と比較例1〜4を比較し、以下の結論を得た。
(1)リン含有エポキシ樹脂をo‐クレゾールエポキシ樹脂で代用したところ、所望の熱伝導性が得られたが、UL94−V0難燃性規格を満たさなかった;
(2)高熱伝導粉体をシリカで代用したところ、UL94−V0難燃性規格を満たしたが、所望の熱伝導性は低下した。したがって、本発明の製法は、樹脂組成物に優れた熱伝導性を与えながら、樹脂組成物を無ハロゲン系および難燃性にし、電子製品のUL94−V0難燃性規格を満たすことが証明された。
注:*1 レーザフラッシュLFA−447、Modify ASTM E1461にて測定。
Claims (5)
- プリント基板の誘電層として使用する高熱伝導性、無ハロゲン系および難燃性の樹脂組成物であって、前記樹脂組成物の総総量に基づいて、
(1) リン含有エポキシ樹脂5〜70重量%と、
(2) 多官能基あるいは二官能基エポキシ樹脂最大50重量%と、
(3) 硬化剤1〜20重量%と、
(4) 促進剤0.007〜10重量%と、
(5) 硬化後の樹脂組成物の硬性を高めるための無機粉体であって、直径は0.01〜20マイクロメートル(μm)であり、球状または不定形粒子の形状をしたSiO2、TiO2、Al(OH)3、Mg(OH)2およびCaCO3から成る群の少なくとも1つが選択される、無機粉体0重量%と、
(6) 直径5マイクロメートル(μm)の球状の酸化アルミニウム粉体Aと、直径0.5マイクロメートル(μm)の球状の酸化アルミニウム粉体Bと、直径5.5マイクロメートル(μm)の窒化ホウ素粉体から成り、各重量比を、前記球状の酸化アルミニウム粉体A:前記球状の酸化アルミニウム粉体B:前記窒化ホウ素粉体=9:1:40として混合する、高熱伝導粉体64.6〜79.4重量%と、
(7) 加工助剤0.01〜10重量%とを含む樹脂組成物であって、
前記リン含有エポキシ樹脂は、リン含有化合物の反応水素原子を多官能基または二官能基エポキシ樹脂のエポキシ基に直接結合させる添加反応によって形成されており、又、以下の式(a)〜(d)から成る群より選択される化学構造:
(a)
式中、0<m<12で、mは整数であり;
R1=H或いはC1−C4アルキルであり;又、
R4及びR5は独立して水素、メチルであり、あるいは
式中、R1は上で定義したとおりであり;又
X=A又はBであり、少なくとも1つのXがBであり、
であり、
(b)
又、Qは
(c)
(d)
Yは−(CH2)n−又はフェニレンであり、
式中、0<n<6で、nは整数である、
を少なくとも含む、樹脂組成物。 - 前記多官能基または二官能基エポキシ樹脂は、エポキシ当量100〜2000g/eqを有し、又、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂、ブタジエンエポキシ樹脂、o−クレゾールノボラックエポキシ樹脂、フェノール‐ホルムアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、フェノール‐ジベンゾイル‐ホルムアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、フェノール‐p‐キシレン‐ホルムアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、フェノール‐ジフェニレン‐ホルムアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、フェノール‐ジシクロペンタジエン‐ホルムアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、ベンズアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、ビスフェノールA型ホルムアルデヒドノボラックエポキシ樹脂、レゾルシノールノボラックエポキシ樹脂から成る群の少なくとも1つが選択される、請求項1に記載の樹脂組成物。
- 前記硬化剤は、アミン、無水物、フェノール樹脂、ポリチオル化合物、イソシアネート化合物、ブロックイソシアネート化合物、アルキド樹脂から成る群の少なくとも1つが選択される、請求項1に記載の樹脂組成物。
- 前記促進剤は、3級アミンおよびその塩、4級アンモニウム化合物、2,4,6‐トリス(ジメチルアミノメチル)フェノール、ジメチルベンジルアミン、イミダゾール、2‐メチルイミダゾール、2‐エチル‐4‐メチルイミダゾール、2‐フェニールイミダゾール、1‐ベンジル‐2‐メチルイミダゾール、tert‐アミルフェノールアンモニウム、モノフェノール化合物、ポリフェノール化合物、フェノール、サリチル酸、三フッ化ホウ素、三フッ化ホウ素エーテル錯体、三フッ化ホウ素アミン錯体、三フッ化ホウ素モノエチルアミン錯体、リン酸、トリフェニルホスフェートから成る群の少なくとも1つが選択される、請求項1に記載の樹脂組成物。
- 前記加工助剤は充填材、カップリング剤、補強充填剤、可塑剤、分散剤、抗酸化剤、熱/光安定剤、難燃剤、顔料および染料から成る群の少なくとも1つが選択される、請求項1に記載の樹脂組成物。
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