JP5726612B2 - 研磨材料、研磨用組成物及び研磨方法 - Google Patents
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Description
Ay(Fe1-zBz)Ox (1)
(ただし、Aは、Ca及びSrから選択される1種又は2種を示し、Bは、Co及びNiから選択される1種又は2種を示し、2.5≦x≦3、0.6≦y<1、0≦z<1)である。)
本明細書に開示される研磨材料(以下、単に本研磨材料という。)は、以下の組成式(1)で表される酸化物を含んでいる。
Ay(Fe1-zBz)Ox (1)
本明細書に開示される研磨用組成物(以下、単に、本組成物という。)は、本研磨材料を含有する組成物である。本組成物の形態は特に限定されない。本組成物は、粉末等の固形であっても、スラリー形態であってもよい。また、本組成物は、そのままワークの研磨に用いられるあるいは適当な媒体に適宜分散しあるいは当該媒体で適宜希釈してワークの研磨に用いられるように構成されていてもよい。研磨材料は、通常、研磨時にスラリーとして使用される。
研磨対象:37.5 mm×30 mm LCD用ガラス
研磨パッド:発泡ポリウレタンパッド(MH-C15A、ニッタ・ハース製)
定盤径:300 mm
定盤回転数:150 rpm
スラリー供給量:100 mL / min
研磨圧力:102 g / cm2
研磨時間:30分
Claims (10)
- 以下の組成式(1)で表される酸化物である、研磨材料。
Ay(Fe1-zBz)Ox (1)
(ただし、Aは、Ca及びSrから選択される1種又は2種を示し、Bは、Co及びNiから選択される1種又は2種を示し、2.5≦x≦3、0.6≦y<1、0≦z<1)である。)
で表される酸化物である、研磨材料。 - 0.8≦y<1である、請求項1に記載の研磨材料。
- 0.9≦y<1である、請求項1又は2に記載の研磨材料。
- 前記AはSrを含む、請求項1〜3のいずれかに記載の研磨材料。
- 前記BはCoを含む、請求項1〜4のいずれかに記載の研磨材料。
- 前記BはCoである、請求項1〜5のいずれかに記載の研磨材料。
- 前記AはSrであり、zは0であるか又は0<z≦0.4であって前記BがCo及びNiから選択される、請求項1〜6のいずれかに記載の研磨材料。
- ガラス用である、請求項1〜7のいずれかに記載の研磨材料。
- 研磨用組成物であって、
請求項1〜8のいずれかに記載の研磨材料を含有する、組成物。 - 研磨方法であって、
請求項9に記載の研磨用組成物を用いてワークを研磨する工程、を備える、方法。
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