JP5724518B2 - 電子写真感光体、画像形成装置、およびプロセスカートリッジ - Google Patents

Description

本発明は、電子写真感光体、画像形成装置、およびプロセスカートリッジに関する。

電子写真方式の画像形成装置に用いられる電子写真感光体においては、その表面に保護層（表面層）を設けることが提案されている。
保護層を形成する材料系としては、例えば、導電粉をフェノール樹脂に分散したもの（例えば引用文献１参照）、有機−無機ハイブリッド材料によるもの（例えば引用文献２参照）、連鎖重合性材料によるもの（例えば引用文献３参照）、アクリル系材料によるもの（例えば引用文献４参照）、アルコール可溶性電荷輸送材料とフェノール樹脂によるもの（例えば引用文献５参照）等が提案されている。

また前記保護層として、アルキルエーテル化ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド樹脂と、電子受容性カルボン酸あるいは、電子受容性ポリカルボン酸無水物の硬化膜（例えば引用文献６参照）、ベンゾグアナミン樹脂にヨウ素、有機スルホン酸化合物、あるいは、塩化第二鉄などをドーピングした硬化膜（例えば引用文献７参照）、特定の添加剤とフェノール樹脂、メラミン樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、シロキサン樹脂、あるいは、ウレタン樹脂との硬化膜（例えば引用文献８参照）、メラミン樹脂と特定の電荷輸送性材料との硬化膜（例えば引用文献９参照）等が提案されている。

更に前記保護層として、末端に反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質とメラミンとの硬化膜（例えば引用文献１０参照）、フェノール性水酸基を有する硬化性樹脂と電荷輸送材料との硬化膜（例えば引用文献１１参照）、グアナミン化合物及びメラミン化合物から選択される少なくとも１種と末端に反応性水酸基を有する電荷輸送性材料との硬化膜（例えば引用文献１２参照）等が提案されている。

特許第３２８７６７８号明細書 特開平１２−０１９７４９号公報 特開２００５−２３４５４６号公報 特開２０００−６６４２４号公報 特開２００２−８２４６９号公報 特開昭６２−２５１７５７号公報 特開平７−１４６５６４号公報 特開２００６−８４７１１公報 特許第４３１９５５３号明細書 特開２００５−１９５９６１号公報 特開２００８−１０７７２９号公報 特開２００９−２２９５４９号公報

本発明が解決しようとする課題は、感光層の最外表面を構成する層が反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを重合してなる層でない場合、および／または、最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高くない場合に比べ、最外表面を構成する層の耐酸化性向上と、該最外表面を構成する層の下層からの電荷注入性の向上とを両立することである。

上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性基体と、前記導電性基体上に感光層と、を有し、
前記感光層の最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、
前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い電子写真感光体である。

請求項２に係る発明は、
前記反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質が下記一般式（Ｉ−１）で表わされる化合物であり、且つ前記反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質が下記一般式（Ｉ−２）で表わされる化合物である請求項１に記載の電子写真感光体である。
Ｆ^１−（Ｌ^１−ＯＨ）_ｎ （Ｉ−１）
Ｆ^２−（Ｌ^２−ＯＲ）_ｍ （Ｉ−２）
［式（Ｉ−１）および式（Ｉ−２）中、Ｆ^１およびＦ^２はそれぞれ独立に、正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を、Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、単結合または炭素数１以上５以下の直鎖状もしくは分鎖状のアルキレン基を、Ｒはアルキル基を、ｎおよびｍはそれぞれ独立に、１以上４以下の整数を示す。］

請求項３に係る発明は、
前記最外表面を構成する層は、前記反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを全単量体に対して９０質量％以上用いて重合してなる請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体である。

請求項４に係る発明は、
前記最外表面を構成する層は、赤外線吸収スペクトル測定において、水酸基の伸縮振動ピークの透過率パーセント（％Ｔ）が９５％Ｔ以上である請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の電子写真感光体である。

請求項５に係る発明は、
導電性基体および前記導電性基体上に感光層を有し、前記感光層の最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、
前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
を備える画像形成装置である。

請求項６に係る発明は、
導電性基体および前記導電性基体上に感光層を有し、前記感光層の最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置、帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置、前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置、および前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去する清掃装置からなる群より選ばれる少なくとも一種と、
を備え、画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジである。

請求項１に係る発明によれば、感光層の最外表面を構成する層が反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなる層でない場合、および／または、最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高くない場合に比べ、最外表面を構成する層の耐酸化性向上と、該最外表面を構成する層の下層からの電荷注入性の向上とが両立される。

請求項２に係る発明によれば、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質が前記一般式（Ｉ−１）で表わされる化合物でない場合、および／または、前記反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質が下記一般式（Ｉ−２）で表わされる化合物でない場合に比べ、最外表面を構成する層の耐酸化性向上と、該最外表面を構成する層の下層からの電荷注入性の向上とが両立される。

請求項３に係る発明によれば、最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを全単量体に対して９０質量％以上用いて重合してなる層でない場合に比べ、優れた電気特性を得つつ且つ最外表面を構成する層の耐酸化性が向上される。

請求項４に係る発明によれば、最外表面を構成する層の、赤外線吸収スペクトル測定における、水酸基の伸縮振動ピークの透過率パーセント（％Ｔ）が９５％Ｔ以上でない場合に比べ、残留電位の蓄積が抑制され電気特性の繰り返し安定性が保たれ、且つ温湿度変化による画像流れの発生が抑制される。

請求項５に係る発明によれば、感光層の最外表面を構成する層が反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなる層でない場合、および／または、最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高くない場合に比べ、電子写真感光体の耐酸化性が向上され、且つ画像におけるゴーストの発生や画像流れの発生が抑制される。

請求項６に係る発明によれば、感光層の最外表面を構成する層が反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなる層でない場合、および／または、最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高くない場合に比べ、電子写真感光体の耐酸化性が向上され、且つ画像におけるゴーストの発生や画像流れの発生が抑制される。

本実施形態に用いられる第１の態様の電子写真感光体を示す概略部分断面図である。 本実施形態に用いられる第２の態様の電子写真感光体を示す概略部分断面図である。 本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。 本実施形態に係る他の画像形成装置を示す概略構成図である。 ゴーストの評価パターンと評価基準を示す図である。

以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。

＜電子写真感光体＞
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、前記導電性基体上に感光層と、を有し、前記感光層の最外表面を構成する層（以下「表面層」と称す）が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い。

電子写真方式の画像形成装置に用いる電子写真感光体では、オゾンやＮＯｘなどの酸化性の強いガスに対する耐性（耐酸化性や耐付着性）が求められ、一方で、形成される画像においては、ゴーストや画像流れなどの画質欠陥の抑制が求められる。
本実施形態に係る電子写真感光体は、表面層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質（以下「含水酸基電荷輸送物質（Ａ）」と称す）と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質（以下「含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）」と称す）とを混合し、それらを重合してなり、且つその表面層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高いことにより、この両者を両立し得ることを見出した。

含水酸基電荷輸送物質（Ａ）と含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）との混合物の重合反応においては、反応初期段階では親水性である水酸基を有する含水酸基電荷輸送物質（Ａ）と、親水性でないアルコキシル基を有する含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）とでミクロな相分離が起こっているものと思われる。
また、上記重合反応は、酸触媒存在下で、含水酸基電荷輸送物質（Ａ）の反応性水酸基同士の脱水反応、含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）の末端基である反応性アルコキシル基と両電荷輸送物質のｐ位芳香環水素との脱アルコール反応、反応性水酸基と反応性アルコキシル基の脱アルコール反応の３種類の縮合反応が複雑に絡み合って硬化するものである。この時、反応性水酸基と反応性アルコキシル基の活性化エネルギー差によって、硬化反応に速度差が生じ、含水酸基電荷輸送物質（Ａ）の方がより早く硬化しているものと推察される。その結果、重合により得られる表面層としては見た目ではムラがないように見受けられるにも関わらず、表面層の外側（導電性基体と反対側）には含水酸基電荷輸送物質（Ａ）の硬化物が偏在し、一方表面層の内側（導電性基体側）には含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）の硬化物が偏在するものと推察される。その結果、表面層の内側表面と外側表面とでイオン化ポテンシャルに差が生じると考えられる。また、最表面側から起こる硬化過程で分子が構造的な束縛を受け、硬化膜に歪が生じることによって、電荷輸送物質のＨＯＭＯのエネルギー順位が変化しイオン化ポテンシャルの値が未硬化物に比べて大きく（深く）なる傾向があり、この現象によってもイオン化ポテンシャルに差が生じると考えられる。これら両現象の和として、表面層の内側表面と外側表面とでイオン化ポテンシャルに０．１ｅＶ以上の差が生じると考えている。

表面層の外側表面のイオン化ポテンシャルを、内側表面よりも０．１ｅＶ以上高く制御することにより、該表面層の外側表面では耐酸化性が高められ、表面層としてオゾンなどの酸化性ガスに対する耐性が向上されるものと考えられる。
尚、電気特性の観点からは表面層中の電荷輸送物質の含有量を多くした方が有利であるが、多いほど耐酸化性が低下するという事情がある。しかし、本実施形態に係る電子写真感光体では、表面層中の固形分に対する電荷輸送物質の比率が９０質量％以上であっても、優れた耐酸化性が得られる。

一方、内側表面は外側表面に比べてイオン化ポテンシャルが小さいため、その下層（導電性基体側の層）からの電荷注入に対する障壁が小さく抑制され、良好な電荷注入が行なわれる。その結果、ゴースト（前画像の履歴が残ることで生じる残像現象）の発生や、画像流れ（表面電荷の保持性が低下して電荷の横流れが生じることによる画像ボケ現象）の発生が抑制されるものと考えられる。

また、前述の通り水酸基とアルコキシル基との活性化エネルギーの差によって硬化反応に速度差が生じていることにより、含水酸基電荷輸送物質（Ａ）よりも遅く反応する含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）中のアルコキシル基が、含水酸基電荷輸送物質（Ａ）中の水酸基とも反応し、その結果表面層中に残留する未反応の残留水酸基の量が低減される。表面層中に残留する未反応の水酸基は電荷を捕獲するトラップを形成したり、温湿度変化などの環境変化に大きく影響するが、上記の通り残留水酸基の量が低減されるために、トラップが電荷を捕獲して生じる残留電位の蓄積が抑制され、環境安定性も向上するものと推察され、画像流れの発生が抑制されるものと考えられる。
尚、表面層中に残留する未反応の残留水酸基の量は、無いことが好ましいが、電子写真の画質に影響なく許容できる値としては、表面層の赤外吸収スペクトルを測定した場合、水酸基の伸縮振動ピーク範囲（３１００ｃｍ^−１乃至３６００ｃｍ^−１）の透過率パーセント（％Ｔ）が９５％Ｔ以上になるまで水酸基を反応させることが好ましい。ＩＲスペクトル測定で水酸基の伸縮振動ピーク範囲（３１００ｃｍ^−１乃至３６００ｃｍ^−１）の透過率パーセント（％Ｔ）は残留水酸基の量を示す指標であり、この透過率パーセント（％Ｔ）が上記範囲であることにより未反応の残留水酸基の量が低減されていることが推察される。

更に、前述の通り水酸基とアルコキシル基との活性化エネルギーの差によりアルコキシル基を含む含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）は反応速度がより遅いため、結果として表面層全体の反応速度が遅くなっているものと推察される。そのため、表面層の硬化速度が速すぎる場合に生じる表面層の下層（導電性基体側の層）のシワが抑制され、含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）の偏析効果により接着性の向上も図れるものと推察される。
以下、本実施形態における感光体の構成について説明する。

−感光体の構成−
本実施形態に係る感光層は電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層を有していてもよいし、電荷輸送層と電荷発生層とを含む機能分離型の感光層を有していてもよい。さらには、下引層や保護層等のその他の層を設けてもよい。

以下、本実施形態における感光体の構成について、図１乃至図２を参照して説明するが、本実施形態は図１乃至図２によって限定されることはない。
図１は、本実施形態における感光体の層構成の一例を示す模式断面図であり、図１中、１は導電性基体、２は感光層、２Ａは電荷発生層、２Ｂは電荷輸送層、２Ｃは保護層、４は下引層を表す。
図１に示す感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、保護層２Ｃがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂおよび保護層２Ｃの３層から構成される（第１の態様の感光体）。
尚、図１に示す感光体においては保護層２Ｃが最外表面を構成する表面層である。

図２は、本実施形態における感光体の層構成の他の例を示す模式断面図であり、図２中に示した符号は、図１中に示したものと同義である。
図２に示す感光体は、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、感光層２は電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂの２層から構成される（第２の態様の感光体）。
尚、図２に示す感光体においては電荷輸送層２Ｂが最外表面を構成する表面層である。

また、図１に示す態様では上記の通り感光層２として電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂおよび保護層２Ｃの３層から構成される態様を示すが、この他にも前記感光層２の態様として、導電性基体１側から順に電荷輸送層２Ｂ、電荷発生層２Ａ、保護層２Ｃを有する態様や、電荷輸送能と電荷発生能とを併せ持つ機能一体型の感光層および保護層２Ｃを有する態様等であってもよい。

以下、本実施形態における感光体の例として、上記第１乃至第２の態様のそれぞれについて説明する。

〔第１の態様の感光体：表面層＝保護層〕
第１の態様の感光体は、図１に示す通り、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂ、保護層２Ｃがこの順に積層された層構成を有し、保護層２Ｃが表面層である。

・導電性基体
導電性基体１としては、導電性を有する導電性基体が用いられ、例えば、アルミニウム、銅、亜鉛、ステンレス、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等の金属または合金を用いて構成される金属板、金属ドラム、および金属ベルト、または、導電性ポリマー、酸化インジウム等の導電性化合物やアルミニウム、パラジウム、金等の金属または合金を塗布、蒸着またはラミネートした紙、プラスチックフィルム、ベルト等が挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ未満であることをいう。

第１の態様の感光体がレーザープリンターに使用される場合であれば、導電性基体１の表面は中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化することが望ましい。但し、非干渉光を光源に用いる場合には粗面化は特に行わなくてもよい。

粗面化の方法としては、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、または回転する砥石に支持体を接触させ、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が望ましい。

また、他の粗面化の方法としては、導電性基体１表面を粗面化することなく、導電性または半導電性粉体を樹脂中に分散させて、支持体表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も望ましく用いられる。

ここで、陽極酸化による粗面化処理は、アルミニウムを陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することによりアルミニウム表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であるため、陽極酸化膜の微細孔を加圧水蒸気または沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが望ましい。 陽極酸化膜の膜厚については、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。

また、導電性基体１には、酸性水溶液による処理またはベーマイト処理を施してもよい。
リン酸、クロム酸およびフッ酸を含む酸性処理液による処理は以下のようにして実施される。先ず、酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸およびフッ酸の配合割合は、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲が望ましい。処理温度は４２℃以上４８℃以下が望ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が望ましい。

ベーマイト処理は、９０℃以上１００℃以下の純水中に５分間以上６０分間以下浸漬すること、または９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分間以上６０分間以下接触させることにより行われる。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が望ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の他種に比べ被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。

・下引層
下引層４は、例えば、結着樹脂に無機粒子を含有した層として構成される。
無機粒子としては、粉体抵抗（体積抵抗率）１０^２Ω・ｃｍ以上１０^１１Ω・ｃｍ以下のものが望ましく用いられる。

中でも上記抵抗値を有する無機粒子としては、酸化錫、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等の無機粒子（導電性金属酸化物）を用いるのが望ましく、特に酸化亜鉛は望ましく用いられる。

また、無機粒子は表面処理を行ったものでもよく、表面処理の異なるもの、または、粒子径の異なるものなど２種以上混合して用いてもよい。無機粒子の体積平均粒径は５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（望ましくは６０以上１０００以下）の範囲であることが望ましい。

また、無機粒子としては、ＢＥＴ法による比表面積が１０ｍ^２／ｇ以上のものが望ましく用いられる。

さらに無機粒子に加えて、アクセプター性化合物を含有させてもよい。アクセプター性化合物としてはいかなるものでも使用し得るが、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾールや２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物、３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物等の電子輸送性物質などが望ましく、特にアントラキノン構造を有する化合物が望ましい。さらに、ヒドロキシアントラキノン系化合物、アミノアントラキノン系化合物、アミノヒドロキシアントラキノン系化合物等、アントラキノン構造を有するアクセプター性化合物が望ましく用いられ、具体的にはアントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が挙げられる。

これらのアクセプター性化合物の含有量は任意に設定してもよいが、望ましくは無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下含有される。さらに０．０５質量％以上１０質量％以下が望ましい。

アクセプター化合物は、下引層４の塗布時に添加するだけでもよいし、無機粒子表面にあらかじめ付着させておいてもよい。無機粒子表面にアクセプター化合物を付与させる方法としては、乾式法、または、湿式法が挙げられる。

乾式法にて表面処理を施す場合には無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接または有機溶媒に溶解させたアクセプター化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させることによって処理される。添加または噴霧する際には溶剤の沸点以下の温度で行われることが望ましい。添加または噴霧した後、さらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。

湿式法としては、無機粒子を溶剤中で攪拌し、超音波、サンドミルやアトライター、ボールミル等を用いて分散し、アクセプター化合物を添加し攪拌または分散したのち、溶剤除去することで処理される。溶剤除去方法はろ過または蒸留により留去される。溶剤除去後にはさらに１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けの温度、時間については任意の範囲で実施される。湿式法においては表面処理剤を添加する前に無機粒子含有水分を除去してもよく、その例として表面処理に用いる溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法を用いてもよい。

また、無機粒子はアクセプター化合物を付与する前に表面処理を施してもよい。表面処理剤としては、公知の材料から選択される。例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性材等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が望ましく用いられる。さらにアミノ基を有するシランカップリング剤も望ましく用いられる。

アミノ基を有するシランカップリング剤としてはいかなる物を用いてもよいが、具体的例としてはγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。

また、シランカップリング剤は２種以上混合して使用してもよい。前記アミノ基を有するシランカップリング剤と併用して用いてもよいシランカップリング剤の例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。但し、これらに限定されるものではない。

表面処理方法は公知の方法であればいかなる方法でも使用し得るが、乾式法または湿式法を用いることがよい。また、アクセプター付与とカップリング剤等による表面処理とを並行して行ってもよい。

下引層４中の無機粒子に対するシランカップリング剤の量は、任意に設定されるが、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が望ましい。

下引層４に含有される結着樹脂としては、公知のいかなるものでも使用し得るが、例えばポリビニルブチラール等のアセタール樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、カゼイン、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂等の公知の高分子樹脂化合物、また電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂やポリアニリン等の導電性樹脂等が用いられる。中でも上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が望ましく用いられ、特にフェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等が望ましく用いられる。これらを２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。

尚、下引層形成用塗布液中のアクセプター性を付与した金属酸化物とバインダー樹脂、または無機粒子とバインダー樹脂との比率は、任意に設定される。

下引層４中には種々の添加剤を用いてもよい。添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が用いられる。シランカップリング剤は金属酸化物の表面処理に用いられるが、添加剤としてさらに塗布液に添加して用いてもよい。ここで用いられるシランカップリング剤の具体例としては、ビニルトリメトキシシラン、γ−メタクリルオキシプロピル−トリス（β−メトキシエトキシ）シラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（β−ヒドロキシエチル）−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−クロルプロピルトリメトキシシラン等である。
ジルコニウムキレート化合物の例として、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。

チタニウムキレート化合物の例としては、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。

アルミニウムキレート化合物の例としては、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。

これらの化合物は単独で若しくは複数の化合物の混合物または重縮合物として用いてもよい。

下引層形成用塗布液を調製するための溶媒としては公知の有機溶剤、例えばアルコール系、芳香族系、ハロゲン化炭化水素系、ケトン系、ケトンアルコール系、エーテル系、エステル系等から選択される。溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が用いられる。

また、これらの分散に用いる溶剤は単独または２種以上混合して用いてもよい。混合する際、使用される溶剤としては、混合溶剤としてバインダー樹脂を溶かし得る溶剤であれば、いかなるものでも使用される。

分散方法としては、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカーなどの公知の方法が用いられる。さらにこの下引層４を設けるときに用いる塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

このようにして得られた下引層形成用塗布液を用い、導電性基体１上に下引層４が成膜される。
また、下引層４は、ビッカース強度が３５以上とされていることが望ましい。
さらに、下引層４はいかなる厚さに設定してもよいが、厚さが１５μｍ以上が望ましく、さらに望ましくは１５μｍ以上５０μｍ以下とされていることが望ましい。

また、下引層４の表面粗さ（十点平均粗さ）はモアレ像防止のために、使用される露光用レーザー波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整される。表面粗さ調整のために下引層中に樹脂などの粒子を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が用いられる。

尚、下引層４は、結着樹脂および導電性金属酸化物を含み且つ厚み２０μｍにおける波長９５０ｎｍの光に対する光透過率が４０％以下（より望ましくは１０％以上３５％以下、更に望ましくは１５％以上３０％以下）であることがよい。
上記下引層の光透過率は次のようにして測定される。下引層形成用塗布液を、ガラスプレート上に乾燥後の厚さが２０μｍとなるように塗布し、乾燥後、分光光度計を用いて波長９５０ｎｍでの膜の光透過率を測定する。光度計による光透過率は、分光光度計として装置名「Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ（Ｕ−２０００）：日立社製」を用いる。

この下引層の光透過率は、前記ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等を用いた分散時の分散時間を調整することで、制御し得る。分散時間は、特に限定しないが、５分以上１０００時間以下の時間が好ましく、さらには３０分以上１０時間以下がより好ましい。分散時間を長くすると、光透過率は低下する傾向にある。

また、表面粗さ調整のために下引層を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が用いられる。

塗布したものを乾燥させて下引層を得るが、通常、乾燥は溶剤を蒸発させ、製膜し得る温度で行われる。

・電荷発生層
電荷発生層２Ａは、少なくとも電荷発生材料および結着樹脂を含有する層であることが望ましい。
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、ピロロピロール顔料、フタロシアニン顔料、酸化亜鉛、三方晶系セレン等が挙げられる。これらの中でも、近赤外域のレーザー露光に対しては、金属および／または無金属フタロシアニン顔料が望ましく、特に、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン、特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン、特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン、特開平４−１８９８７３号公報、特開平５−４３８２３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより望ましい。また、近紫外域のレーザー露光に対してはジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料、チオインジゴ系顔料、ポルフィラジン化合物、酸化亜鉛、三方晶系セレン等がより望ましい。電荷発生材料としては、３８０ｎｍ以上５００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には無機顔料が望ましく、７００ｎｍ以下８００ｎｍの露光波長の光源を用いる場合には、金属および無金属フタロシアニン顔料が望ましい。

電荷発生材料としては、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料を用いることが望ましい。このヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料とは異なるものであり、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせたものである。

また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、且つ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ^２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ^２／ｇ以上１２０ｍ^２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。

また、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、更に望ましくは０．３μｍ以下である。

更に、上記ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、且つ、比表面積値が４５ｍ^２／ｇ以上であることが望ましい。

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。

また、上記のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、２５℃から４００℃まで昇温したときの熱重量減少率が２．０％以上４．０％以下であることが望ましく、２．５％以上３．８％以下であることがより望ましい。

電荷発生層２Ａに使用される結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。望ましい結着樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。電荷発生材料と結着樹脂の配合比は質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが望ましい。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０^１３Ωｃｍ以上であることをいう。

電荷発生層２Ａは、例えば、上記電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散した塗布液を用いて形成される。
分散に用いる溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロルベンゼン、トルエン等が挙げられ、これらは１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。

また、電荷発生材料および結着樹脂を溶剤中に分散させる方法としては、ボールミル分散法、アトライター分散法、サンドミル分散法等の通常の方法が用いられる。さらにこの分散の際、電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、望ましくは０．３μｍ以下、さらに望ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。

また、電荷発生層２Ａを形成する際には、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

このようにして得られる電荷発生層２Ａの膜厚は、望ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、さらに望ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下である。

・電荷輸送層
電荷輸送層２Ｂは、少なくとも電荷輸送材料と結着樹脂とを含有する層であるか、または高分子電荷輸送材を含有する層であることが望ましい。
電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの電荷輸送材料は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。

電荷輸送材料としては電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。

（構造式（ａ−１）中、Ｒ^８は、水素原子またはメチル基を示す。ｎは１または２を示す。Ａｒ^６およびＡｒ^７は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ_６Ｈ_４−Ｃ（Ｒ^９）＝Ｃ（Ｒ^１０）（Ｒ^１１）、または−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｒ^１３）を示し、Ｒ^９乃至Ｒ^１３はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。）

（構造式（ａ−２）中、Ｒ^１４およびＲ^１４’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。Ｒ^１５、Ｒ^１５’、Ｒ^１６、およびＲ^１６’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（Ｒ^１７）＝Ｃ（Ｒ^１８）（Ｒ^１９）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）を示し、Ｒ^１７乃至Ｒ^２１は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍおよびｎは各々独立に０以上２以下の整数を示す。）

ここで、上記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および上記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ_６Ｈ_４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^１２）（Ｒ^１３）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（Ｒ^２０）（Ｒ^２１）」を有するベンジジン誘導体が望ましい。

電荷輸送層２Ｂに用いる結着樹脂は、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。また、上述のように、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材等の高分子電荷輸送材を用いてもよい。これらの結着樹脂は１種を単独でまたは２種以上を混合して用いられる。電荷輸送材料と結着樹脂との配合比は質量比で１０：１から１：５までが望ましい。

結着樹脂としては、特に限定されないが、粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂、および粘度平均分子量５００００以上８００００以下のポリアリレート樹脂の少なくとも１種が望ましい。

また、電荷輸送材料として高分子電荷輸送材を用いてもよい。高分子電荷輸送材としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシランなどの電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系高分子電荷輸送材は特に望ましい。高分子電荷輸送材はそれだけでも成膜し得るものであるが、後述する結着樹脂と混合して成膜してもよい。

電荷輸送層２Ｂは、例えば、上記構成材料を含有する電荷輸送層形成用塗布液を用いて形成される。電荷輸送層形成用塗布液に用いる溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族炭化水素類、アセトン、２−ブタノン等のケトン類、塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロンゲン化脂肪族炭化水素類、テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状もしくは直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤を単独または２種以上混合して用いられる。また、上記各構成材料の分散方法としては、公知の方法が使用される。

電荷輸送層形成用塗布液を電荷発生層２Ａの上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。

電荷輸送層２Ｂの膜厚は、望ましくは５μｍ以上５０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上３０μｍ以下である。

・保護層
（イオン化ポテンシャル）
保護層２Ｃは、第１の態様の感光体における表面層である。第１の態様の感光体において表面層となる保護層２Ｃは、既述の通り、外側表面のイオン化ポテンシャルは内側表面のイオン化ポテンシャルに比べて０．１ｅＶ以上高い。更には０．１５ｅＶ以上高いことがより好ましい。また特に限定されるものではないが、上限値としては０．３ｅＶ以下であることが好ましい。

尚、表面層（第１の態様では保護層２Ｃ）における内側表面および外側表面のそれぞれのイオン化ポテンシャルの絶対値としては、内側表面のイオン化ポテンシャルが５．２ｅＶ以上５．７ｅＶ以下であることが好ましく、更には５．３ｅＶ以上５．６ｅＶ以下であることがより好ましい。また、外側表面のイオン化ポテンシャルは５．５ｅＶ以上５．９ｅＶ以下であることが好ましく、更には５．６ｅＶ以上５．８ｅＶ以下であることがより好ましい。

ここで、保護層における外側表面と内側表面との上記イオン化ポテンシャルは、含水酸基電荷輸送物質（Ａ）および含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）として用いる材料の選択、および保護層の硬化温度によって制御され、上記イオン化ポテンシャルの差が０．１ｅＶ以上となる組合せと反応条件により行なわれる。

また、上記イオン化ポテンシャルは次のようにして測定される。保護層形成用塗布液を、アルミ基材上に単層で塗布し乾燥、硬化させたのち、得られた硬化膜を剥がして該硬化膜の表面を、メタノールを染み込ませた布で洗浄後、理研計器（株）製ＡＣ−２を用いて外側表面および内側表面のイオン化ポテンシャルが測定される。

（透過率パーセント）
保護層２Ｃ中に残留する未反応の残留水酸基の量は、無いことが好ましいが、電子写真の画質に影響なく許容できる値としては、表面層の赤外吸収スペクトルを測定した場合、水酸基の伸縮振動ピーク範囲（３１００ｃｍ^−１乃至３６００ｃｍ^−１）の透過率パーセント（％Ｔ）が９５％Ｔ以上になるまで水酸基を反応させることが好ましい。
尚、上記表面層の光の透過率パーセント（水酸基の振動吸収ピークの透過率パーセント：％Ｔ）は更に９７％Ｔ以上であることがより好ましい。
ＩＲスペクトル測定で水酸基の伸縮振動ピーク範囲（３１００ｃｍ^−１乃至３６００ｃｍ^−１）の透過率パーセント（％Ｔ）は残留水酸基の量を示す指標であり、この透過率パーセント（％Ｔ）が上記範囲であることにより未反応の残留水酸基の量が低減されていることが推察される。

上記表面層の光の透過率パーセント（水酸基の振動吸収ピークの透過率パーセント：％Ｔ）は次のようにして測定される。表面層形成用塗布液を、アルミ基材上に単層、または感光層を積層した上に塗布し乾燥硬化させたのち、得られた硬化膜について、日本分光(株)製ＦＴ／ＩＲ−６１００を用い、ＡＴＲ法によって４００ｃｍ^−１乃至４０００ｃｍ^−１の波数範囲について透過率を測定し、この透過率に１００を掛けることで透過率パーセント（％Ｔ）を求める。尚、上記水酸基による透過率パーセント（％Ｔ）は、吸収の無いオフセット分をベースライン補正し、３１００ｃｍ^−１乃至３６００ｃｍ^−１の波数領域で最も低い値を透過率とする。

（電荷輸送物質）
表面層（第１の態様においては保護層２Ｃ）には、電荷輸送物質として、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質（含水酸基電荷輸送物質（Ａ））および反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質（含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ））が用いられる。
尚、前記表面層（保護層２Ｃ）は、前記含水酸基電荷輸送物質（Ａ）と含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）とを、固形分となる全単量体に対して９０質量％以上用いて重合してなることが好ましく、更には９４質量％以上であることがより好ましい。この量の上限は、後述のグアナミン化合物や酸化防止剤、硬化触媒等の添加剤が有効に機能する限り限定されるものではなく、多いほうが望ましい。

前記含水酸基電荷輸送物質（Ａ）としては特に下記一般式（Ｉ−１）で表わされる化合物が好ましく、一方含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）としては特に下記一般式（Ｉ−２）で表わされる化合物が好ましい。
Ｆ^１−（Ｌ^１−ＯＨ）_ｎ （Ｉ−１）
Ｆ^２−（Ｌ^２−ＯＲ）_ｍ （Ｉ−２）
［式（Ｉ−１）および式（Ｉ−２）中、Ｆ^１およびＦ^２はそれぞれ独立に、正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を、Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、単結合または炭素数１以上５以下の直鎖状もしくは分鎖状のアルキレン基を、Ｒはアルキル基を、ｎおよびｍはそれぞれ独立に、１以上４以下の整数を示す。］

一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、置換基数ｎおよびｍはそれぞれ独立に、２以上であることが好適である。

一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）中、Ｆ^１およびＦ^２で示される正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基における正孔輸送能を有する化合物としては、アリールアミン誘導体が好適に挙げられる。アリールアミン誘導体としては、トリフェニルアミン誘導体、テトラフェニルベンジジン誘導体が好適に挙げられる。

そして、一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される化合物は、下記一般式（ＩＩ）で示される構造を有する化合物であることが望ましい。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ独立に置換若しくは未置換のアリール基を示し、Ａｒ^５は置換若しくは未置換のアリール基または置換若しくは未置換のアリーレン基を示し、Ｄは−（Ｌ^１−ＯＨ）または−（Ｌ^２−ＯＲ）を示し、ｃはそれぞれ独立に０または１を示し、ｋは０または１を示し、Ｄの総数は１以上４以下である。また、Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、単結合または炭素数１以上５以下の直鎖状もしくは分鎖状のアルキレン基を、Ｒはアルキル基を示す。

尚、一般式（ＩＩ）におけるＤの総数は、一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）におけるｎまたはｍに相当し、望ましくは、２以上４以下であり、さらに望ましくは３以上４以下である。つまり、一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）や一般式（ＩＩ）において、望ましくは一分子中に２以上４以下、さらに望ましくは３以上４以下の反応性官能基（つまり−ＯＨまたは−ＯＲ）を有することが望ましい。

一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^１乃至Ａｒ^４としては、下記式（１）乃至（７）のうちのいずれかであることが望ましい。なお、下記式（１）乃至（７）は、各Ａｒ^１乃至Ａｒ^４に連結され得る「−（Ｄ）_ｃ」と共に示す。

［式（１）乃至（７）中、Ｒ^９は水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルキル基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基からなる群より選ばれる１種を表し、Ｒ^１０乃至Ｒ^１２はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ａｒは置換または未置換のアリーレン基を表し、Ｄおよびｃは一般式（ＩＩ）における「Ｄ」、「ｃ」と同義であり、ｓはそれぞれ０または１を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］

ここで、式（７）中のＡｒとしては、下記式（８）または（９）で表されるものが望ましい。

［式（８）、（９）中、Ｒ^１３およびＲ^１４はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、ｔは１以上３以下の整数を表す。］

また、式（７）中のＺ’としては、下記式（１０）乃至（１７）のうちのいずれかで表されるものが望ましい。

［式（１０）乃至（１７）中、Ｒ^１５およびＲ^１６はそれぞれ水素原子、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基もしくは炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、ハロゲン原子からなる群より選ばれる１種を表し、Ｗは２価の基を表し、ｑおよびｒはそれぞれ１以上１０以下の整数を表し、ｔはそれぞれ１以上３以下の整数を表す。］

上記式（１６）乃至（１７）中のＷとしては、下記（１８）乃至（２６）で表される２価の基のうちのいずれかであることが望ましい。但し、式（２５）中、ｕは０以上３以下の整数を表す。

また、一般式（ＩＩ）中、Ａｒ^５は、ｋが０のときはＡｒ^１乃至Ａｒ^４の説明で例示された上記（１）乃至（７）のアリール基であり、ｋが１のときはかかる上記（１）乃至（７）のアリール基から１つの水素原子を除いたアリーレン基であることが望ましい。

尚、一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）において、Ｆ^１およびＦ^２で示される正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基としては、特に、トリフェニルアミン骨格、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジン骨格、スチルベン骨格、またはヒドラゾン骨格が好ましく、中でも、トリフェニルアミン骨格、またはＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラフェニルベンジジン骨格が好ましい。
これらの有機基は置換基を有していてもよく、該置換基としては、炭素数１以上４以下のアルキル基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基で置換されたフェニル基、未置換のフェニル基、炭素数７以上１０以下のアラルキル基、またはハロゲン原子が好ましく、中でも、炭素数１以上４以下のアルキル基、または炭素数１以上４以下のアルコキシ基が好ましい。

Ｌ^１およびＬ^２で示される炭素数１以上５以下の直鎖状もしくは分鎖状のアルキレン基としては、特に、メチレン基、エチレン基、または−ＣＨ（ＣＨ_３）−が好ましく、中でも、メチレン基が好ましい。

Ｒで示されるアルキル基としては、特に、メチル基、エチル基、プロピル基、またはイソプロピル基が好ましく、中でも、メチル基が好ましい。

ここで、一般式（Ｉ−１）で示される化合物の具体例としては、例えば以下のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。

ここで、一般式（Ｉ−２）で示される化合物の具体例としては、例えば以下のものが挙げられるが、これに限定されるものではない。

含水酸基電荷輸送物質（Ａ）および含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）の混合比率（（Ａ）の量／（Ｂ）の量）は、質量比で１／２０乃至２０／１の範囲であることが好ましく、より好ましくは１０／１乃至２／１の範囲である。

また、保護層２Ｃには、前記一般式（Ｉ−１）および（Ｉ−２）で示される化合物以外にも、他の反応性官能基を有する電荷輸送性物質を併用してもよい。例えば、下記一般式（ＩＩＩ）で示される構造を有する電荷輸送物質の少なくとも一種を併用してもよい。
Ｆ−（（−Ｒ^１−Ｘ）_ｎ１（Ｒ^２）_ｎ３−Ｙ）_ｎ２ （ＩＩＩ）
（一般式（ＩＩＩ）中、Ｆは正孔輸送能を有する化合物から誘導される有機基を、Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素数１以上５以下の直鎖状または分鎖状のアルキレン基を、ｎ１は０または１を、ｎ２は１以上４以下の整数を、ｎ３は０または１を、Ｘは酸素原子、硫黄原子および−ＮＨ−基から選択される何れかを、Ｙは−ＮＨ_２，−ＳＨまたは−ＣＯＯＨ基を、示す。）

上記一般式（ＩＩＩ）等のその他の電荷輸送性物質を併用する場合には、表面層（第１の態様においては保護層２Ｃ）の固形分となる全単量体に対して全電荷輸送性物質を９０質量％以上用いて重合してなることが好ましい。

（グアナミン化合物）
前記含水酸基電荷輸送物質（Ａ）および含アルコキシル基電荷輸送物質（Ｂ）を重合してなる保護層２Ｃは、更にグアナミン化合物から選択される少なくとも１種と共に重合して形成されてもよい。

まず、グアナミン化合物について説明する。
グアナミン化合物は、グアナミン骨格（構造）を有する化合物であり、例えば、アセトグアナミン、ベンゾグアナミン、ホルモグアナミン、ステログアナミン、スピログアナミン、シクロヘキシルグアナミンなどが挙げられる。

グアナミン化合物としては、特に下記一般式（Ａ）で示される化合物およびその多量体の少なくとも１種であることが望ましい。ここで、多量体は、一般式（Ａ）で示される化合物を構造単位として重合されたオリゴマーであり、その重合度は例えば２以上２００以下（望ましくは２以上１００以下）である。なお、一般式（Ａ）で示される化合物は、一種単独で用いてもよいが、２種以上を併用してもよい。

一般式（Ａ）中、Ｒ^１は、炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基、炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基、または炭素数４以上１０以下の置換若しくは未置換の脂環式炭化水素基を示す。Ｒ^２乃至Ｒ^５は、それぞれ独立に水素、−ＣＨ_２−ＯＨ、または−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６を示す。Ｒ^６は、水素、または炭素数１以上１０以下の直鎖状若しくは分鎖状のアルキル基を示す。

一般式（Ａ）において、Ｒ^１を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以上８以下であり、より望ましくは炭素数が１以上５以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。

一般式（Ａ）中、Ｒ^１を示すフェニル基は、炭素数６以上１０以下であるが、より望ましくは６以上８以下である。当該フェニル基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）中、Ｒ^１を示す脂環式炭化水素基は、炭素数４以上１０以下であるが、より望ましくは５以上８以下である。当該脂環式炭化水素基に置換される置換基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）中、Ｒ^２乃至Ｒ^５を示す「−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６」において、Ｒ^６を示すアルキル基は、炭素数が１以上１０以下であるが、望ましくは炭素数が１以上８以下あり、より望ましくは炭素数が１以上６以下である。また、当該アルキル基は、直鎖状であってもよし、分鎖状であってもよい。望ましくは、メチル基、エチル基、ブチル基などが挙げられる。

一般式（Ａ）で示される化合物としては、特に望ましくは、Ｒ^１が炭素数６以上１０以下の置換若しくは未置換のフェニル基を示し、Ｒ^２乃至Ｒ^５がそれぞれ独立に−ＣＨ_２−Ｏ−Ｒ^６を示される化合物である。また、Ｒ^６は、メチル基またはｎ−ブチル基から選ばれることが望ましい。

一般式（Ａ）で示される化合物は、例えば、グアナミンとホルムアルデヒドとを用いて公知の方法（例えば、実験化学講座第４版、２８巻、４３０ページ参照）で合成される。

以下、一般式（Ａ）で示される化合物の具体例を示すが、これらに限られるわけではない。また、以下の具体例は、単量体のものを示すが、これらを構造単位とする多量体（オリゴマー）であってもよい。

一般式（Ａ）で示される化合物の市販品としては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、スーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５、スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４５−６０、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１２６”以上ＤＩＣ社製、”ニカラックＢＬ−６０、ニカラックＢＸ−４０００”以上日本カーバイド社製、などが挙げられる。

また、一般式（Ａ）で示される化合物（多量体を含む）は、合成後または市販品の購入後、残留触媒の影響を取り除くために、トルエン、キシレン、酢酸エチル、などの適当な溶剤に溶解し、蒸留水、イオン交換水などで洗浄してもよいし、イオン交換樹脂で処理して除去してもよい。

ここで、グアナミン化合物から選択される少なくとも１種の、表面層（第１の態様においては保護層２Ｃ）形成用塗布液における固形分濃度は、０．１質量％以上５質量％以下であることが好ましく、より好は１質量％以上３質量％以下である。

（その他の組成物）
保護層２Ｃには、特定の電荷輸送物質が架橋された架橋物と共に、フェノール樹脂、キシレンホルムアルデヒド樹脂、尿素樹脂、アルキッド樹脂、ベンゾグアナミン樹脂などの他の熱硬化性樹脂を混合して用いてもよい。また、スピロアセタール系グアナミン樹脂（例えば「ＣＴＵ−グアナミン」（味の素ファインテクノ（株）））など、一分子中の官能基のより多い化合物を当該架橋物中の材料に共重合させてもよい。

保護層２Ｃは、フッ素系樹脂粒子を含有してもよい。該フッ素系樹脂粒子としては、特に限定されるものではないが、４フッ化エチレン樹脂（ＰＴＦＥ）、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂およびそれらの共重合体の中から１種あるいは２種以上を選択するのが望ましいが、さらに望ましくは４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂であり、特に望ましくは４フッ化エチレン樹脂である。

表面層である保護層２Ｃの固形分全量に対するフッ素系樹脂粒子の含有量は１質量％以上３０質量％以下が望ましく、２質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。

また、保護層２Ｃには界面活性剤を添加することが好ましく、用いる界面活性剤としては、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造のうち少なくとも一種類以上の構造を含む界面活性剤であれば特に制限はないが、上記構造を複数有するものが好適に挙げられる。

フッ素原子を有する界面活性剤としては、様々なものが挙げられる。フッ素原子およびアクリル構造を有する界面活性剤として具体的は、ポリフローＫＬ６００（共栄社化学社製）、エフトップＥＦ−３５１、ＥＦ−３５２、ＥＦ−８０１、ＥＦ−８０２、ＥＦ−６０１（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。アクリル構造を有する界面活性剤とは、アクリルもしくはメタクリル化合物などのモノマーを重合もしくは共重合したものが主に挙げられる。

また、フッ素原子としてパーフルオロアルキル基を持つ界面活性剤として、具体的には、パーフルオロアルキルスルホン酸類（例えば、パーフルオロブタンスルホン酸、パーフルオロオクタンスルホン酸など）、パーフルオロアルキルカルボン酸類（例えば、パーフルオロブタンカルボン酸、パーフルオロオクタンカルボン酸など）、パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルが好適に挙げられる。パーフルオロアルキルスルホン酸類、およびパーフルオロアルキルカルボン酸類は、その塩およびそのアミド変性体であってもよい。

パーフルオロアルキルスルホン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−１１４（ＤＩＣ株式会社製）、エフトップＥＦ−１０１、ＥＦ１０２、ＥＦ−１０３、ＥＦ−１０４、ＥＦ−１０５、ＥＦ−１１２、ＥＦ−１２１、ＥＦ−１２２Ａ、ＥＦ−１２２Ｂ、ＥＦ−１２２Ｃ、ＥＦ−１２３Ａ（以上、ＪＥＭＣＯ社製）、Ａ−Ｋ、５０１（以上、ネオス社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキルカルボン酸類の市販品としては、例えばメガファックＦ−４１０（ＤＩＣ株式会社製）、エフトップ ＥＦ−２０１、ＥＦ−２０４（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。
パーフルオロアルキル基含有リン酸エステルの市販品としては、メガファックＦ−４９３、Ｆ−４９４（以上、ＤＩＣ株式会社製）エフトップ ＥＦ−１２３Ａ、ＥＦ−１２３Ｂ、ＥＦ−１２５Ｍ、ＥＦ−１３２、（以上、ＪＥＭＣＯ社製）などが挙げられる。

アルキレンオキサイド構造を持つ界面活性剤としてはポリエチレングリコール、ポリエーテル消泡剤、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが挙げられる。ポリエチレングリコールとしては数平均分子量が２０００以下のものが好ましい。数平均分子量が２０００以下のポリエチレングリコールとしては、ポリエチレングリコール２０００（数平均分子量２０００）、ポリエチレングリコール６００（数平均分子量６００）、ポリエチレングリコール４００（数平均分子量４００）、ポリエチレングリコール２００（数平均分子量２００）等が挙げられる。

また、ポリエーテル消泡剤としては、ＰＥ−Ｍ、ＰＥ−Ｌ（以上、和光純薬工業社製）、消泡剤Ｎｏ．１、消泡剤Ｎｏ．５（以上、花王社製）等が挙げられる。

シリコーン構造を有する界面活性剤としては、ジメチルシリコーン、メチルフェニルシリコーン、ジフェニルシリコーンやそれらの誘導体等の一般的なシリコーンオイルが挙げられる。

さらに、フッ素原子、アルキレンオキサイド構造の両方を有する界面活性剤としては、アルキレンオキサイド構造またはポリアルキレン構造を側鎖に有するものや、アルキレンオキサイドまたはポリアルキレンオキサイド構造の末端がフッ素を含む置換基で置換されたものなどが挙げられる。アルキレンオキサイド構造を有する界面活性剤として、具体的には、例えば、メガファックＦ−４４３、Ｆ−４４４、Ｆ−４４５、Ｆ−４４６（以上、ＤＩＣ株式会社製）、ＰＯＬＹ ＦＯＸ ＰＦ６３６、ＰＦ６３２０、ＰＦ６５２０、ＰＦ６５６（以上、北村化学社製）などが挙げられる。

また、アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤としてはＫＦ３５１（Ａ）、ＫＦ３５２（Ａ）、ＫＦ３５３（Ａ）、ＫＦ３５４（Ａ）、ＫＦ３５５（Ａ）、ＫＦ６１５（Ａ）、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５（Ａ）、ＫＦ６００４（以上、信越化学工業社製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０（以上、ＧＥ東芝シリコン社製）、ＢＹＫ−３００、３０２、３０６、３０７、３１０、３１５、３２０、３２２、３２３、３２５、３３０、３３１、３３３、３３７、３４１、３４４、３４５、３４６、３４７、３４８、３７０、３７５、３７７、３７８、ＵＶ３５００、ＵＶ３５１０、ＵＶ３５７０等（以上、ビックケミー・ジャパン株式会社製）が挙げられる。

界面活性剤の含有量は、保護層の固形分全量に対して、望ましくは０．０１質量％以上１質量％以下、より望ましくは０．０２質量％以上０．５質量％以下である。

また、保護層２Ｃには、さらに他のカップリング剤、フッ素化合物と混合して用いてもよい。この化合物として、各種シランカップリング剤、および市販のシリコーン系ハードコート剤が用いられる。

シランカップリング剤としては、ビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、等が用いられる。市販のハードコート剤としては、ＫＰ−８５、Ｘ−４０−９７４０、Ｘ−８２３９（以上、信越シリコーン社製）、ＡＹ４２−４４０、ＡＹ４２−４４１、ＡＹ４９−２０８（以上、東レダウコーニング社製）等が用いられる。また、撥水性等の付与のために、（トリデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロオクチル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、３−（ヘプタフルオロイソプロポキシ）プロピルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロアルキルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロデシルトリエトキシシラン、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−パーフルオロオクチルトリエトシキシラン、等の含フッ素化合物を加えてもよい。シランカップリング剤は任意の量で使用されるが、含フッ素化合物の量は、フッ素を含まない化合物に対して質量で０．２５倍以下とすることが望ましい。

また、保護層にはアルコールに溶解する樹脂を加えてもよい。ここで、アルコールに可溶な樹脂とは、炭素数５以下のアルコールに１質量％以上溶解し得る樹脂を意味する。アルコール系溶剤に可溶な樹脂としては、ポリビニルブチラール樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ブチラールの一部がホルマールやアセトアセタール等で変性された部分アセタール化ポリビニルアセタール樹脂などのポリビニルアセタール樹脂（たとえば積水化学社製エスレックＢ、Ｋ等）、ポリアミド樹脂、セルロ−ス樹脂、ポリビニルフェノール樹脂などがあげられる。特に、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルフェノール樹脂が望ましい。
当該樹脂の重量平均分子量は２，０００以上１００，０００以下が望ましく、５，０００以上５０，０００以下がより望ましい。また、当該樹脂の添加量は１質量％以上４０質量％以下が望ましく、１質量％以上３０質量％以下がより望ましく、５質量％以上２０質量％以下がさらに望ましい。

保護層２Ｃには、酸化防止剤を添加してもよい。酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系またはヒンダードアミン系が望ましく、有機イオウ系酸化防止剤、フォスファイト系酸化防止剤、ジチオカルバミン酸塩系酸化防止剤、チオウレア系酸化防止剤、ベンズイミダゾール系酸化防止剤、などの公知の酸化防止剤を用いてもよい。酸化防止剤の添加量としては２０質量％以下が望ましく、１０質量％以下がより望ましい。

ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナマイド、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス［（オクチルチオ）メチル］−ｏ−クレゾール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，５−ジ−ｔ−アミルヒドロキノン、２−ｔ−ブチル−６−（３−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデンビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）等が挙げられる。

更に、保護層には各種粒子を添加してもよい。粒子の一例として、ケイ素含有粒子が挙げられる。ケイ素含有粒子とは、構成元素にケイ素を含む粒子であり、具体的には、コロイダルシリカおよびシリコーン粒子等が挙げられる。ケイ素含有粒子として用いられるコロイダルシリカは、平均粒径１ｎｍ以上１００ｎｍ以下、望ましくは１０ｎｍ以上３０ｎｍ以下のシリカを、酸性もしくはアルカリ性の水分散液、アルコール、ケトン、またはエステル等の有機溶媒中に分散させたものから選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。保護層２Ｃ中のコロイダルシリカの固形分含有量は、特に限定されるものではないが、保護層の全固形分全量を基準として、０．１質量％以上５０質量％以下、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下の範囲で用いられる。

ケイ素含有粒子として用いられるシリコーン粒子は、シリコーン樹脂粒子、シリコーンゴム粒子、シリコーン表面処理シリカ粒子から選ばれ、一般に市販されているものを使用してもよい。これらのシリコーン粒子は球状で、その平均粒径は望ましくは１ｎｍ以上５００ｎｍ以下、より望ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。シリコーン粒子は、化学的に不活性で、樹脂への分散性に優れる粒子である。保護層中のシリコーン粒子の含有量は、保護層の全固形分全量を基準として、望ましくは０．１質量％以上３０質量％以下、より望ましくは０．５質量％以上１０質量％以下である。

また、その他の粒子としては、四フッ化エチレン、三フッ化エチレン、六フッ化プロピレン、フッ化ビニル、フッ化ビニリデン等のフッ素系粒子や“第８回ポリマー材料フォーラム講演予稿集ｐ８９”に示される如く、フッ素樹脂と水酸基を有するモノマーを共重合させた樹脂からなる粒子、ＺｎＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＳｎＯ_２−Ｓｂ_２Ｏ_３、Ｉｎ_２Ｏ_３−ＳｎＯ_２、ＺｎＯ_２−ＴｉＯ_２、ＺｎＯ−ＴｉＯ_２、ＭｇＯ−Ａｌ_２Ｏ_３、ＦｅＯ−ＴｉＯ_２、ＴｉＯ_２、ＳｎＯ_２、Ｉｎ_２Ｏ_３、ＺｎＯ、ＭｇＯ等の半導電性金属酸化物が挙げられる。
また、シリコーンオイル等のオイルを添加してもよい。シリコーンオイルとしては、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサン、フェニルメチルシロキサン等のシリコーンオイル；アミノ変性ポリシロキサン、エポキシ変性ポリシロキサン、カルボキシル変性ポリシロキサン、カルビノール変性ポリシロキサン、メタクリル変性ポリシロキサン、メルカプト変性ポリシロキサン、フェノール変性ポリシロキサン等の反応性シリコーンオイル；ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン、ドデカメチルシクロヘキサシロキサン等の環状ジメチルシクロシロキサン類；１，３，５−トリメチル−１，３，５−トリフェニルシクロトリシロキサン、１，３，５，７−テトラメチル−１，３，５，７−テトラフェニルシクロテトラシロキサン、１，３，５，７，９−ペンタメチル−１，３，５，７，９−ペンタフェニルシクロペンタシロキサン等の環状メチルフェニルシクロシロキサン類；ヘキサフェニルシクロトリシロキサン等の環状フェニルシクロシロキサン類；（３，３，３−トリフルオロプロピル）メチルシクロトリシロキサン等のフッ素含有シクロシロキサン類；メチルヒドロシロキサン混合物、ペンタメチルシクロペンタシロキサン、フェニルヒドロシクロシロキサン等のヒドロシリル基含有シクロシロキサン類；ペンタビニルペンタメチルシクロペンタシロキサン等のビニル基含有シクロシロキサン類等が挙げられる。

また、保護層には金属、金属酸化物およびカーボンブラック等を添加してもよい。金属としては、アルミニウム、亜鉛、銅、クロム、ニッケル、銀およびステンレス等、またはこれらの金属をプラスチックの粒子の表面に蒸着したもの等が挙げられる。金属酸化物としては、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化スズ、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化ビスマス、スズをドープした酸化インジウム、アンチモンやタンタルをドープした酸化スズおよびアンチモンをドープした酸化ジルコニウム等が挙げられる。これらは単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。２種以上を組み合わせて用いる場合は、単に混合しても、固溶体や融着の形にしてもよい。導電性粒子の平均粒径は０．３μｍ以下、特に０．１μｍ以下が望ましい。

保護層２Ｃには、グアナミン化合物や前記特定の電荷輸送物質の硬化を促進するための硬化触媒を含有させてもよい。硬化触媒として酸系の触媒が望ましく用いられる。酸系の触媒としては、酢酸、クロロ酢酸、トリクロロ酢酸、トリフルオロ酢酸、シュウ酸、マレイン酸、マロン酸、乳酸などの脂肪族カルボン酸、安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、トリメリット酸などの芳香族カルボン酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸、ベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸、ナフタレンスルホン酸、などの脂肪族、および芳香族スルホン酸類などが用いられるが、含硫黄系材料を用いることが望ましい。

硬化触媒としての含硫黄系材料は、常温（例えば２５℃）、または加熱後に酸性を示すものが望ましく、有機スルホン酸およびその誘導体の少なくとも１種が最も望ましい。保護層２Ｃ中にこれら触媒の存在は、エネルギー分散型Ｘ線分析（ＥＤＳ）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）等により容易に確認される。

有機スルホン酸および／またはその誘導体としては、例えば、パラトルエンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸（ＤＮＮＳＡ）、ジノニルナフタレンジスルホン酸（ＤＮＮＤＳＡ）、ドデシルベンゼンスルホン酸、フェノールスルホン酸等が挙げられる。これらの中でも、パラトルエンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸が望ましい。また、硬化性樹脂組成物中で、解離し得るものであれば、有機スルホン酸塩を用いてもよい。

また、熱をかけた際に触媒能力が高くなる、所謂熱潜在性触媒を用いてもよい。
熱潜在性触媒として、たとえば有機スルホン化合物等をポリマーで粒子状に包んだマイクロカプセル、ゼオライトの如く空孔化合物に酸等を吸着させたもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックした熱潜在性プロトン酸触媒や、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を一級もしくは二級のアルコールでエステル化したもの、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体をビニルエーテル類および／またはビニルチオエーテル類でブロックしたもの、三フッ化ホウ素のモノエチルアミン錯体、三フッ化ホウ素のピリジン錯体などが挙げられる。

中でも、プロトン酸および／またはプロトン酸誘導体を塩基でブロックしたものが望ましい。
熱潜在性プロトン酸触媒のプロトン酸として、硫酸、塩酸、酢酸、ギ酸、硝酸、リン酸、スルホン酸、モノカルボン酸、ポリカルボン酸類、プロピオン酸、シュウ酸、安息香酸、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、フタル酸、マレイン酸、ベンゼンスルホン酸、ｏ、ｍ、ｐ−トルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、ジノニルナフタレンスルホン酸、ジノニルナフタレンジスルホン酸、デシルベンゼンスルホン酸、ウンデシルベンゼンスルホン酸、トリデシルベンゼンスルホン酸、テトラデシルベンゼンスルホン酸、ドデシルベンゼンスルホン酸等が挙げられる。また、プロトン酸誘導体として、スルホン酸、リン酸等のプロトン酸のアルカリ金属塩またはアルカリ土類金属円などの中和物、プロトン酸骨格が高分子鎖中に導入された高分子化合物（ポリビニルスルホン酸等）等が挙げられる。プロトン酸をブロックする塩基として、アミン類が挙げられる。

アミン類は、１級、２級または３級アミンに分類される。特に制限はなく、いずれも使用してもよい。

１級アミンとして、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、イソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、イソブチルアミン、ｔ−ブチルアミン、ヘキシルアミン、２−エチルヘキシルアミン、セカンダリーブチルアミン、アリルアミン、メチルヘキシルアミン等が挙げられる。

２級アミンとして、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジｎ−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジｔ−ブチルアミン、ジヘキシルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−イソプロピルＮ−イソブチルアミン、ジ（２−エチルヘキシル）アミン、ジセカンダリーブチルアミン、ジアリルアミン、Ｎ−メチルヘキシルアミン、３−ピペコリン、４−ピペコリン、２，４−ルペチジン、２，６−ルペチジン、３，５−ルペチジン、モルホリン、Ｎ−メチルベンジルアミン等が挙げられる。

３級アミンとして、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリｎ−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリｔ−ブチルアミン、トリヘキシルアミン、トリ（２−エチルヘキシル）アミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ−メチルジアリルアミン、トリアリルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアリルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，２−ジアミノエタン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチル−１，３−ジアミノプロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラアリル−１，４−ジアミノブタン、Ｎ−メチルピペリジン、ピリジン、４−エチルピリジン、Ｎ−プロピルジアリルアミン、３−ジメチルアミノプロパノ−ル、２−エチルピラジン、２，３−ジメチルピラジン、２，５−ジメチルピラジン、２，４−ルチジン、２，５−ルチジン、３，４−ルチジン、３，５−ルチジン、２，４，６−コリジン、２−メチル−４−エチルピリジン、２−メチル−５−エチルピリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’ −テトラメチルヘキサメチレンジアミン、Ｎ−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、３−メチル−４−エチルピリジン、３−エチル−４−メチルピリジン、４−（５−ノニル）ピリジン、イミダゾ−ル、Ｎ−メチルピペラジン等が挙げられる。

市販品としては、キングインダストリーズ社製の「ＮＡＣＵＲＥ２５０１」（トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．２以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２１０７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５００」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５３０」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ５．７以上ｐＨ６．５以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５４７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ８．０以上ｐＨ９．０以下、解離温度１０７℃）、「ＮＡＣＵＲＥ２５５８」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、エチレングリコール溶媒、ｐＨ３．５以上ｐＨ４．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３５７」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、メタノール溶媒、ｐＨ２．０以上ｐＨ４．０以下、解離温度６５℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８６」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、水溶液、ｐＨ６．１以上ｐＨ６．４以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＣ−２２１１」（ｐ−トルエンスルホン酸解離、ｐＨ７．２以上ｐＨ８．５以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５２２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．０以上ｐＨ７．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５４１４」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５５２８」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ５９２５」（ドデシルベンゼンスルホン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ７．５以下、解離温度１３０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１３２３」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１４１９」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、キシレン／メチルイソブチルケトン溶媒、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ１５５７」（ジノニルナフタレンスルホン酸解離、ブタノール／２−ブトキシエタノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸ４９−１１０」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３５２５」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．５以下、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−３８３」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、キシレン溶媒、解離温度１２０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ３３２７」（ジノニルナフタレンジスルホン酸解離、イソブタノール／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度１５０℃）、「ＮＡＣＵＲＥ４１６７」（リン酸解離、イソプロパノール／イソブタノール溶媒、ｐＨ６．８以上ｐＨ７．３以下、解離温度８０℃）、「ＮＡＣＵＲＥＸＰ−２９７」（リン酸解離、水／イソプロパノール溶媒、ｐＨ６．５以上ｐＨ７．５以下、解離温度９０℃、「ＮＡＣＵＲＥ４５７５」（リン酸解離、ｐＨ７．０以上ｐＨ８．０以下、解離温度１１０℃）等が挙げられる。
これらの熱潜在性触媒は単独または二種類以上組み合わせても使用される。

ここで、触媒の配合量は、塗布液におけるフッ素系樹脂粒子およびフッ化アルキル基含有共重合体を除いた全固形分に対し、０．１質量％以上１０質量％以下の範囲であることが望ましく、特に０．１質量％以上５質量％以下が望ましい。

（表面層の形成方法）
ここで、本実施形態における感光体の製造において、表面層を形成する工程の一例として、第１の態様の感光体における表面層である保護層２Ｃの形成方法について説明する。
まず、第１の態様の感光体の製造方法は、表面層（即ち保護層２Ｃ）以外の層（即ち下引層４、電荷発生層２Ａおよび電荷輸送層２Ｂ等）を形成した導電性基体１を準備する導電性基体準備工程、並びに前記特定の電荷輸送物質と、その他の組成物と、を含有する塗布液を前記導電性基体上に塗布し、重合して表面層（即ち保護層２Ｃ）を形成する表面層形成工程、を有する。

上記表面層としての保護層２Ｃの形成に使用される溶媒としては、シクロブタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン等の環状脂肪族ケトン化合物；メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、シクロペンタノール等の環状或いは直鎖状アルコール類；アセトン、メチルエチルケトン等の直鎖状ケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチルエーテル等の環状或いは直鎖状エーテル類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素溶媒等の溶媒が挙げられる。

上記表面層としての保護層２Ｃを形成するための皮膜形成用塗布液の塗布法としては、突き上げ塗布法、リング塗布法、ブレード塗布法、マイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法、インクジェット塗布法等の方法が挙げられる。塗布後は、例えば温度１００℃以上１７０℃以下で加熱し硬化（架橋）させることで、保護層２Ｃが得られる。

本実施形態において表面層の厚さは、５μｍ以上２０μｍ以下が好ましく、さらに好ましくは７μｍ以上１５μｍ以下である。

〔第２の態様の感光体：表面層＝電荷輸送層〕
本実施形態における一例である第２の態様の感光体は、図２に示す通り、導電性基体１上に、下引層４、電荷発生層２Ａ、電荷輸送層２Ｂがこの順に積層された層構成を有し、電荷輸送層２Ｂが表面層である。

第２の態様の感光体における導電性基体１、下引層４、電荷発生層２Ａとしては、前述の図１に示す第１の態様の感光体における導電性基体１、下引層４、電荷発生層２Ａがそのまま適用される。また、第２の態様の感光体における電荷輸送層２Ｂとしては、前述の図１に示す第１の態様の感光体における保護層２Ｃがそのまま適用される。

［画像形成装置］
図３は、本実施形態に係る画像形成装置を示す概略構成図である。画像形成装置１００は、図３に示すように電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９と、転写装置４０と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。

図３におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８、現像装置１１およびクリーニング装置１３を一体に支持している。クリーニング装置１３は、ゴムなどの弾性材料からなるクリーニングブレード１３１（ブレード部材）を有しており、クリーニングブレード１３１はその一端のエッジが電子写真感光体７の表面に接触するように配置され、電子写真感光体７表面に付着したトナー等の現像剤を除去する方法が適用されている。尚、このほかにも、導電性プラスチックを用いたクリーニングブラシを用いた方法等、公知のクリーニング方法が用いられる。

また、潤滑材１４を感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、クリーニングをアシストする繊維状部材１３３（平ブラシ状）を用いた例を示してあるが、これらは必要に応じて使用してもよい。

帯電装置８としては、例えば、導電性または半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。

なお、図示しないが、画像の安定性を高める目的で、電子写真感光体７の周囲には、電子写真感光体７の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための感光体加熱部材を設けてもよい。

露光装置９としては、例えば、感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、所望の像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は感光体の分光感度領域にあるものが使用される。半導体レーザーの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザーや青色レーザーとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザーも利用してもよい。また、多色画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザー光源も有効である。

現像装置１１としては、例えば、磁性若しくは非磁性の一成分系現像剤または二成分系現像剤等を接触または非接触させて現像する一般的な現像装置を用いて行ってもよい。その現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、上記一成分系現像剤または二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが望ましい。

以下、現像装置１１に使用されるトナーについて説明する。
本実施形態の画像形成装置に用いられるトナーは、平均形状係数（（ＭＬ^２／Ａ）×（π／４）×１００、ここでＭＬは粒子の最大長を表し、Ａは粒子の投影面積を表す）が１００以上１５０以下であることが望ましく、１０５以上１４５以下であることがより望ましく、１１０以上１４０以下であることがさらに望ましい。さらに、トナーとしては、体積平均粒子径が３μｍ以上１２μｍ以下であることが望ましく、３．５μｍ以上９μｍ以下であることがさらに望ましい。

トナーは、特に製造方法により限定されるものではないが、例えば、結着樹脂、着色剤および離型剤、やその他更に帯電制御剤等を加えて混練、粉砕、分級する混練粉砕法；混練粉砕法にて得られた粒子を機械的衝撃力または熱エネルギーにて形状を変化させる方法；結着樹脂の重合性単量体を乳化重合させ、形成された分散液と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の分散液とを混合し、凝集、加熱融着させ、トナー粒子を得る乳化重合凝集法；結着樹脂を得るための重合性単量体と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液を水系溶媒に懸濁させて重合する懸濁重合法；結着樹脂と、着色剤および離型剤、その他更に帯電制御剤等の溶液とを水系溶媒に懸濁させて造粒する溶解懸濁法等により製造されるトナーが使用される。

また上記方法で得られたトナーをコアにして、さらに凝集粒子を付着、加熱融合してコアシェル構造をもたせる製造方法等、公知の方法が使用される。なお、トナーの製造方法としては、形状制御、粒度分布制御の観点から水系溶媒にて製造する懸濁重合法、乳化重合凝集法、溶解懸濁法が望ましく、乳化重合凝集法が特に望ましい。

トナー母粒子は、結着樹脂、着色剤および離型剤を含有することが望ましく、更にシリカや帯電制御剤を含有してもよい。

トナー母粒子に使用される結着樹脂としては、スチレン、クロロスチレン等のスチレン類、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソプレン等のモノオレフィン類、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、安息香酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ドデシル等のα−メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ビニルブチルエーテル等のビニルエーテル類、ビニルメチルケトン、ビニルヘキシルケトン、ビニルイソプロペニルケトン等のビニルケトン類等の単独重合体および共重合体、ジカルボン酸類とジオール類との共重合によるポリエステル樹脂等が挙げられる。

特に代表的な結着樹脂としては、ポリスチレン、スチレン−アクリル酸アルキル共重合体、スチレン−メタクリル酸アルキル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、スチレン−ブタジエン共重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル樹脂等が挙げられる。さらに、ポリウレタン、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、ポリアミド、変性ロジン、パラフィンワックス等が挙げられる。

また、着色剤としては、マグネタイト、フェライト等の磁性粉、カーボンブラック、アニリンブルー、カルイルブルー、クロムイエロー、ウルトラマリンブルー、デュポンオイルレッド、キノリンイエロー、メチレンブルークロリド、フタロシアニンブルー、マラカイトグリーンオキサレート、ランプブラック、ローズベンガル、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド４８：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド５７：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・イエロー１７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：３等を代表的なものとして例示される。

離型剤としては、低分子ポリエチレン、低分子ポリプロピレン、フィッシャートロピィシュワックス、モンタンワックス、カルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス等を代表的なものとして例示される。

また、帯電制御剤としては、公知のものが使用されるが、アゾ系金属錯化合物、サリチル酸の金属錯化合物、極性基を含有するレジンタイプの帯電制御剤が用いられる。湿式製法でトナーを製造する場合、水に溶解しにくい素材を使用することが望ましい。また、トナーとしては、磁性材料を内包する磁性トナーおよび磁性材料を含有しない非磁性トナーのいずれであってもよい。

現像装置１１に用いるトナーとしては、上記トナー母粒子および上記外添剤をヘンシェルミキサーまたはＶブレンダー等で混合することによって製造される。また、トナー母粒子を湿式にて製造する場合は、湿式にて外添してもよい。

現像装置１１に用いるトナーには滑性粒子を添加してもよい。滑性粒子としては、グラファイト、二硫化モリブデン、滑石、脂肪酸、脂肪酸金属塩等の固体潤滑剤や、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリブテン等の低分子量ポリオレフィン類、加熱により軟化点を有するシリコーン類、オレイン酸アミド、エルカ酸アミド、リシノール酸アミド、ステアリン酸アミド等の脂肪族アミド類やカルナバワックス、ライスワックス、キャンデリラワックス、木ロウ、ホホバ油等の植物系ワックス、ミツロウの動物系ワックス、モンタンワックス、オゾケライト、セレシン、パラフィンワックス、マイクロクリスタリンワックス、フィッシャートロプシュワックス等の鉱物、石油系ワックス、およびそれらの変性物が使用される。これらは、１種を単独で、または２種以上を併用して使用される。但し、平均粒径としては０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲が望ましく、上記化学構造のものを粉砕して、粒径をそろえてもよい。トナーへの添加量は望ましくは０．０５質量％以上２．０質量％以下、より望ましくは０．１質量％以上１．５質量％以下の範囲である。

現像装置１１に用いるトナーには、無機粒子、有機粒子、該有機粒子に無機粒子を付着させた複合粒子等を加えてもよい。

無機粒子としては、シリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、チタン酸バリウム、チタン酸アルミニウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸マグネシウム、酸化亜鉛、酸化クロム、酸化セリウム、酸化アンチモン、酸化タングステン、酸化スズ、酸化テルル、酸化マンガン、酸化ホウ素、炭化ケイ素、炭化ホウ素、炭化チタン、窒化ケイ素、窒化チタン、窒化ホウ素等の各種無機酸化物、窒化物、ホウ化物等が好適に使用される。

また、上記無機粒子を、テトラブチルチタネート、テトラオクチルチタネート、イソプロピルトリイソステアロイルチタネート、イソプロピルトリデシルベンゼンスルフォニルチタネート、ビス（ジオクチルパイロフォスフェート）オキシアセテートチタネート等のチタンカップリング剤、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−ビニルベンジルアミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン塩酸塩、ヘキサメチルジシラザン、メチルトリメトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ヘキシルトエリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ｏ−メチルフェニルトリメトキシシラン、ｐ−メチルフェニルトリメトキシシラン等のシランカップリング剤等で処理を行ってもよい。また、シリコーンオイル、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸カルシウム等の高級脂肪酸金属塩によって疎水化処理したものも望ましく使用される。

有機粒子としては、スチレン樹脂粒子、スチレンアクリル樹脂粒子、ポリエステル樹脂粒子、ウレタン樹脂粒子等が挙げられる。

粒子径としては、個数平均粒子径で望ましくは５ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より望ましくは５ｎｍ以上８００ｎｍ以下、さらに望ましくは５ｎｍ以上７００ｎｍ以下でのものが使用される。また、上述した粒子と滑性粒子との添加量の和が０．６質量％以上であることが望ましい。

トナーに添加されるその他の無機酸化物としては、１次粒径が４０ｎｍ以下の小径無機酸化物を用い、更にそれより大径の無機酸化物を添加することが望ましい。これらの無機酸化物粒子は公知のものが使用されるが、シリカと酸化チタンを併用することが望ましい。

また、小径無機粒子については表面処理してもよい。さらに、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム等の炭酸塩や、ハイドロタルサイト等の無機鉱物を添加することも望ましい。

また、電子写真用カラートナーはキャリアと混合して使用されるが、キャリアとしては、鉄粉、ガラスビーズ、フェライト粉、ニッケル粉またはそれ等の表面に樹脂を被覆したものが使用される。また、キャリアとの混合割合は、必要に応じて設定される。

転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。

中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等のベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体５０の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いられる。

画像形成装置１００は、上述した各装置の他に、例えば、感光体７に対して光除電を行う光除電装置を備えていてもよい。

図４は、他の実施形態に係る画像形成装置を示す概略断面図である。画像形成装置１２０は、図４に示すように、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式のフル多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同じ構成を有している。

以下、実施例および比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。尚、以下において「部」および「％」は特に断りのない限り質量基準である。

＜グアナミン樹脂ＡＧ−１＞
前述の「（Ａ）−１４」の構造を有するスーパーベッカミン（Ｒ）１３−５３５（メチル化ベンゾグアナミン樹脂：ＤＩＣ株式会社製）５００部をトルエン４００部に溶解し、それぞれ蒸留水４００ｍｌを用いて４回水洗した。最終洗浄水の電導度は１０μＳ／ｃｍであった。この溶液を減圧にて溶剤留去し、水あめ状の樹脂２６０部を得た。これをグアナミン樹脂ＡＧ−１とする。

＜グアナミン樹脂ＡＧ−２＞
前述の「（Ａ）−１７」の構造を有するニカラックＢＬ−６０（日本カーバイド社製）を、そのままグアナミン樹脂ＡＧ−２とする。この樹脂中には３７％のキシレン系溶剤が含有されている。

＜キシレン樹脂ＡＸ−１＞
キシレンホルムアルデヒド樹脂 ニカノールＹ−５０（フドー株式会社）をキシレン樹脂ＡＸ−１とする。

＜触媒Ａ−１〜Ａ−３＞
ＮＡＣＵＲＥ２１０７（キングインダストリー社製）を触媒Ａ−１とする。
ＮＡＣＵＲＥ２５００（キングインダストリー社製）を触媒Ａ−２とする。
ＮＡＣＵＲＥ４１６７（キングインダストリー社製）を触媒Ａ−３とする。

＜界面活性剤Ａ−１＞
アルキレンオキサイド構造、シリコーン構造の両方を有する界面活性剤ＢＹＫ３０２（ビックケミー・ジャパン株式会社製）を界面活性剤Ａ−１とする。

＜界面活性剤Ａ−２＞
フッ素原子を有する界面活性剤サーフロンＳ−６５１（ＡＧＣセイケミカル株式会社製）を界面活性剤Ａ−２とする。

〔実施例１〕
（下引層の作製）
酸化亜鉛（平均粒子径７０ｎｍ：テイカ社製：比表面積値１５ｍ^２/ｇ）１００部をテトラヒドロフラン５００部と攪拌混合し、シランカップリング剤（ＫＢＭ５０２：信越化学社製）１．２部を添加し、２時間攪拌した。その後トルエンを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛を得た。
前記表面処理酸化亜鉛１１０部を、５００部のテトラヒドロフランと攪拌混合し、アリザリン０．７部を、５０部のテトラヒドロフランに溶解させた溶液を添加し、５０℃にて４時間攪拌した。その後、減圧ろ過にてアリザリンを付与させた酸化亜鉛をろ別し、さらに６０℃で減圧乾燥を行い、アリザリン付与酸化亜鉛を得た。
このアリザリン付与酸化亜鉛６０部と、硬化剤（ブロック化イソシアネート、スミジュール３１７５、住友バイエルンウレタン社製）１３．５部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学社製）１５部と、をメチルエチルケトン８５部に溶解した溶液３８部と、メチルエチルケトン３０部と、を混合し、１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて２時間３０分の分散を行い分散液を得た。

得られた分散液に触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５部、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４０部を添加し、下引層用塗布液を得た。この塗布液を浸漬塗布法にて直径３０ｍｍ、長さ３４０ｍｍ、肉厚１ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１７０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２１μｍの下引層を得た。

（電荷発生層の作製）
電荷発生物質としてのＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン１５部、結着樹脂としての塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニカー社製）１０部、ｎ−酢酸ブチル２００部からなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散した。得られた分散液にｎ−酢酸ブチル１７５部、メチルエチルケトン１８０部を添加し、攪拌して電荷発生層用塗布液を得た。この電荷発生層用塗布液を下引層上に浸漬塗布し、常温（２５℃）で乾燥して、膜厚が０．２μｍの電荷発生層を形成した。

（電荷輸送層の作製）
Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１’］ビフェニル−４，４’−ジアミン３３部、高砂香料工業社製Ｔ−６９３：１０部、およびビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５７部をクロルベンゼン８００部に加えて溶解し、電荷輸送層用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に塗布し、１３５℃、４５分の乾燥を行って膜厚が２１μｍの電荷輸送層を形成した。

（保護層の作製）
・グアナミン樹脂ＡＧ−１：１．５部
・前述の「Ｉ−１６」で示される含水酸基電荷輸送物質：７５部
・前述の「Ｉ−２７」で示される含アルコキシル基電荷輸送物質：２３部
・酸化防止剤３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）：１．５部
・ＮＡＣＵＲＥ２１０７（キングインダストリー社製）：０．０７５部
（触媒Ａ−１：グアナミン樹脂ＡＧ−１に対して５％）
・レベリング剤（界面活性剤ＢＹＫ−３０２、ビックケミー・ジャパン（株）製）
：０．０５部
・シクロペンタノール（溶媒）：５部
・シルロペンチルメチルエーテル（溶媒）：３部
以上の組成物を混合して保護層用塗布液を調製した。この塗布液を電荷輸送層の上に浸漬塗布法により塗布し、室温（２５℃）で２０分風乾した後、１４５℃で４０分加熱処理して硬化させ、膜厚６．８μｍの保護層を形成して感光体を作製した。

（保護層のイオン化ポテンシャルの測定）
さらに、前記保護層用塗布液をアルミ基材上に単層塗布して前記と同じ方法にて硬化させたのち、その硬化膜を剥がし膜表面をメタノールを染み込ませた布で洗浄後、理研計器（株）製ＡＣ−２を用いて、外側表面および内側表面のイオン化ポテンシャルを測定した。その結果と、外側表面および内側表面の差を表２に示す。

（保護層の未反応水酸基の指標となるＩＲスペクトルの測定）
保護層における水酸基の振動吸収ピークの透過率パーセント（％Ｔ）を以下の方法により測定した。前記保護層用塗布液を、アルミ基材上に単層、または感光層を積層した上に塗布し乾燥硬化させたのち、得られた硬化膜について、日本分光(株)製ＦＴ／ＩＲ−６１００を用い、ＡＴＲ法によって４００ｃｍ^−１乃至４０００ｃｍ^−１の波数範囲について透過率を測定した。上記水酸基による透過率パーセント（％Ｔ）は、吸収の無いオフセット分をベースライン補正し、３１００ｃｍ^−１乃至３６００ｃｍ^−１の波数領域で最も低い値を透過率とし、この透過率を１００倍し透過率パーセントを求めた。

［画質評価］
上述のようにして作製した感光体を富士ゼロックス社製、ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅＣｏｌｏｒ４００ＣＰに装着し、１０℃１５％ＲＨの環境下において、以下の評価を連続して行なった。
１０％ハーフトーン画像を連続して５０００枚画像形成テストを行ない、５０００枚目印字直後の画質について以下の評価を行なった。更に、５０００枚画像形成テストを実施した後に１０℃、１５％ＲＨの環境下で２４時間放置し、その後の最初の画質について以下の評価をした。
結果を表２に示す。
なお、画像形成テストには、富士ゼロックスオフィスサプライ製 Ｐ紙（Ａ３サイズ）を用いた。

（ゴースト評価）
ゴーストは、図５（Ａ）に示したＧと黒領域を有するパターンのチャートをプリントし、黒領域部分にＧの文字の現れ具合を目視にて評価した。
Ａ：図５（Ａ）のごとく良好乃至軽微である
Ｂ：図５（Ｂ）のごとく若干目立つ程度である
Ｃ：図５（Ｃ）のごとくはっきり確認される

（画像流れ評価）
画像流れは上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好
Ｂ：５０００枚画像形成直後には問題ないが、２４時間放置後に発生
Ｃ：５０００枚画像形成直後にも発生

（スジ評価）
スジ評価は上述のゴースト評価と同じサンプルを用いて目視にて判断した。
Ａ：良好。
Ｂ：画質上問題にならないが、部分的に軽微なスジ発生
Ｃ：画質上問題となるスジ発生。

［成膜性評価］
（シワ・ムラ評価）
以下のごとく感光体のシワ・ムラの発生について目視および画質により評価した。
・目視評価
作製した感光体の表面を観察し、以下のように評価した。
Ａ：２０倍に拡大してもシワ・ムラが見られない
Ｂ：２０倍に拡大するとわずかにシワ・ムラが見られる
Ｃ：肉眼でもシワ・ムラが見られる
・画質評価
ＤｏｃｕｃｅｎｔｒｅＣｏｌｏｒ４００ＣＰにて２０℃４５％の環境下にて、マゼンダ単色にて５％のハーフトーンの画像を形成し画像評価を行った。
Ａ：２０倍に拡大しても画像ムラが見られない
Ｂ：２０倍に拡大するとわずかに画像ムラが見られる
Ｃ：肉眼でも画像ムラが見られる

〔実施例２乃至１２、比較例１乃至５〕
実施例１の保護層の作製において、表１に従って、各材料、その配合量、硬化温度（加熱処理の温度）を変えた以外は、実施例１に記載の方法により感光体を作製し、評価を行った。

上記表に示す通り、実施例では保護層の外側表面のイオン化ポテンシャルが内側表面よりも０．１ｅＶ以上高く、その差が０．１ｅＶ未満である比較例に比べて、該保護層の外側表面ではオゾンなどの酸化性ガスに対する耐性が高いものと考えられる。
また、保護層の内側表面のイオン化ポテンシャルが外側表面よりも０．１ｅＶ以上低い上記実施例では、その差が０．１ｅＶ未満である比較例に比べて、ゴーストや画像流れの画質欠陥が抑制されていることが分かる。

１ 基体、２ 感光層、２Ａ 電荷発生層、２Ｂ 電荷輸送層、２Ｃ 保護層、４ 下引層、７ 電子写真感光体、８ 帯電装置、９ 露光装置、１１ 現像装置、１３ クリーニング装置、１４ 潤滑材、４０ 転写装置、５０ 中間転写体、１００ 画像形成装置、１２０ 画像形成装置、１３１ クリーニングブレード、１３２ 繊維状部材（ロール状）、１３３ 繊維状部材（平ブラシ状）、３００ プロセスカートリッジ

Claims (6)

1. 導電性基体と、前記導電性基体上に感光層と、を有し、
   前記感光層の最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、
   前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い電子写真感光体。
2. 前記反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質が下記一般式（Ｉ−１）で表わされる化合物であり、且つ前記反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質が下記一般式（Ｉ−２）で表わされる化合物である請求項１に記載の電子写真感光体。
   Ｆ^１−（Ｌ^１−ＯＨ）_ｎ （Ｉ−１）
   Ｆ^２−（Ｌ^２−ＯＲ）_ｍ （Ｉ−２）
   ［式（Ｉ−１）および式（Ｉ−２）中、Ｆ^１およびＦ^２はそれぞれ独立に、正孔輸送性を有する化合物から誘導される有機基を、Ｌ^１およびＬ^２はそれぞれ独立に、単結合または炭素数１以上５以下の直鎖状もしくは分鎖状のアルキレン基を、Ｒはアルキル基を、ｎおよびｍはそれぞれ独立に、１以上４以下の整数を示す。］
3. 前記最外表面を構成する層は、前記反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを全単量体に対して９０質量％以上用いて重合してなる請求項１または請求項２に記載の電子写真感光体。
4. 前記最外表面を構成する層は、赤外線吸収スペクトル測定において、水酸基の伸縮振動ピークの透過率パーセント（％Ｔ）が９５％Ｔ以上である請求項１〜請求項３の何れか１項に記載の電子写真感光体。
5. 導電性基体および前記導電性基体上に感光層を有し、前記感光層の最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置と、
   帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置と、
   前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置と、
   前記トナー像を被転写媒体に転写する転写装置と、
   を備える画像形成装置。
6. 導電性基体および前記導電性基体上に感光層を有し、前記感光層の最外表面を構成する層が、反応性水酸基を有する架橋性電荷輸送物質と反応性アルコキシル基を有する架橋性電荷輸送物質とを酸触媒の存在下で重合してなり、前記最外表面を構成する層の外側表面のイオン化ポテンシャルが、前記最外表面を構成する層の内側表面のイオン化ポテンシャルよりも０．１ｅＶ以上高い電子写真感光体と、
   前記電子写真感光体の表面を帯電させる帯電装置、帯電された前記電子写真感光体の表面を露光して該表面に静電潜像を形成する露光装置、前記静電潜像を現像剤で現像してトナー像を形成する現像装置、および前記電子写真感光体の表面に残存したトナーを除去する清掃装置からなる群より選ばれる少なくとも一種と、
   を備え、画像形成装置に着脱し得るプロセスカートリッジ。