JP5713542B2 - 源ガスから発生したプラズマで製品を処理する装置 - Google Patents
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Description
Claims (21)
- 源ガスから発生したプラズマで製品を処理する装置であって、該装置は、
排気可能空間を有する真空チャンバであって、前記排気可能空間と連通するポンプポートと、前記排気可能空間に源ガスを導入するように構成された少なくとも1つの注入ポートとを具備する前記真空チャンバと、
排気可能空間内に設けられた複数の電極であって、前記複数の電極の各々は、反対向きの第1の表面と第2の表面であって、その第1の表面とその第2の表面とは外周により結合されている前記第1の表面と前記第2の表面とを有し、前記複数の電極は並列配置を有し、排気可能空間内で前記電極の間に複数の処理チャンバを画定し、前記複数の電極の各々は、その各々の電極の前記第1の表面と前記第2の表面との間に前記外周から前記電極の内部に延在する通路と、電気的絶縁性を有して前記通路内に配置される管状スリーブとを有する前記複数の電極と、
前記複数の処理チャンバの各々内において、該源ガスからプラズマを発生させるために電力を供給するように構成されるプラズマ励起源と、
それぞれが前記複数の電極の各々の前記通路に配置される複数の導電部材であって、前記複数の導電部材の各々は前記外周の内側の或る位置にて前記複数の電極の各々に電気的に接続され、前記複数の電極を前記プラズマ励起源と電気的に接続し、前記複数の導電部材の各々は前記複数の電極の一と前記外周の内側の前記或る位置にて電気的な接触をするための前記管状スリーブから突出している第1の端部を有する前記複数の導電部材と、
を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記複数のそれぞれの前記電極は、前記外周の内側に幾何学的中心を有し、それぞれの前記導電部材のための前記位置は、前記複数の導電部材の各々に対する前記或る位置は、前記複数の電極の各々における該幾何学的中心から1/2インチ内にある装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
前記複数の電極の各々は中実板である装置。 - 請求項1に記載の装置であって、
該導電部材の各々はさらに、前記外周を越えて前記プラズマ励起源との外部接続を確立する第2の端部を具備する装置。 - 請求項4に記載の装置であって、
前記導電部材の各々は、前記第1の端部と前記第2の端部との間に延在する円筒形外面を有するロッドであって、
前記管状スリーブは前記円筒形外面と前記通路の側壁との間における前記円筒形外面に配置され、前記導電部材は、前記第1の端部と前記第2の端部との間において前記複数の電極の各々から電気的に絶縁されている前記管状スリーブを備えている装置。 - 請求項5に記載の装置であって、
前記管状スリーブの長さは前記導電部材の長さより短く、前記導電部材の前記第2の端部は、前記管状スリーブから外方に突出している装置。 - 源ガスから発生したプラズマで製品を処理する装置であって、該装置は、
排気可能空間を有する真空チャンバであって、前記排気可能空間と連通するポンプポートとを具備する前記真空チャンバと、
排気可能空間内に設けられた複数の電極であって、前記複数の電極は複数の隣接する対をなす並列配置を有し、前記電極の複数の隣接する対の各々は、ギャップによって隔てられて複数の処理チャンバの各々を形成し、前記複数の電極の各々は外周を具備する前記複数の電極と、
前記真空チャンバの内側に設けられた複数のガス分配管であって、前記複数のガス分配管の各々は、前記複数の電極の各々の外周の内部に配置される注入ポートであって、前記複数の処理チャンバの各々の中に源ガスを注入するように構成されている前記注入ポートを具備する前記ガス分配管と、
前記複数の電極と電気的に接続されるプラズマ励起源であって、前記複数の処理チャンバの各々内において、該源ガスからプラズマを発生させるために電力を供給するようになっている前記プラズマ励起源と、
複数の流れ制限部材であって、前記複数の流れ制限部材の各々は、前記複数の電極の隣接する対の各々の間にある前記ギャップに位置し、前記複数の流れ制限部材の各々が動作して、前記ギャップを減少させ、処理チャンバの各々から前記ポンプポートへ出る源ガスの流れを制限する流れ制限部材と、
前記隣接する対の各々において、前記対の一方は第1の表面を有し、前記隣接する対の各々における前記対の他方は前記第1の表面に面する第2の表面を有し、前記製品は前記第1の表面と前記第2の表面との間に位置し、前記ガス分配管の一方は前記第1の表面に取り付けられていて、前記ガス分配管の他方は前記第2の表面に取り付けられている装置。 - 請求項7に記載の装置であって、
前記電極は中実であり、前記複数の処理チャンバの各々の中の源ガスは、前記ギャップを通して流れて前記ポンプポートに達するように制限されていることを特徴とする装置。 - 請求項7に記載の装置であって、前記装置はさらに、
処理チャンバ内に製品を保持するように構成された複数の製品ホルダを有するラックを備え、
前記複数の製品ホルダの各々は、隣接する対をなす前記電極の間に、一以上の製品を保持するように構成され、前記流れ制限部材は、それぞれ1つの前記製品ホルダに物理的に結合されていることを特徴とする装置。 - 請求項9に記載の装置であって、
前記ラックは中実である底部板を有し、前記底部板は外周を有し、前記底部板は前記製品ホルダと前記ポンプポートとの間に配置され、源ガスは、前記底部板の前記外周のまわりのそれぞれの前記処理チャンバから前記ポンプポートへ達するように流れ出るように制限されることを特徴とする装置。 - 請求項9に記載の装置であって、
それぞれの前記流れ制限部材は、前記ギャップの部分に配置されたバーを備えたフレームを具備し、前記バーは前記ギャップに比べてわずかに小さい幅を有していることを特徴とする装置。 - 請求項9に記載の装置であって、
前記流れ制限部材の各々は、前記ギャップに配置されたバーを備えたフレームを具備し、および前記バーを底部板に結合する複数の結合部材を具備し、前記バーは隣接する対の各々において、前記電極の前記外周の内側に配置されていることを特徴とする装置。 - 請求項9に記載の装置であって、
前記流れ制限部材の各々は、前記ギャップに配置されたバーを具備し、前記製品ホルダの各々は複数の十字部材を具備して、少なくとも一の製品を支持するように構成され、前記バーは、少なくとも一の前記十字部材とそれぞれの隣接する対における前記電極の前記外周との間に配置されていることを特徴とする装置。 - 請求項7に記載の装置であって、
前記装置がさらに、
前記真空チャンバの内側のガス分配マニホールドであって、それぞれの前記ガス分配管は、前記ガス分配マニホールドと連通して結合されている、上記ガス分配マニホールドを備えていることを特徴とする装置。 - 請求項14に記載の装置であって、
前記装置において、前記ガス分配マニホールドは、通路を具備し、前記ガス分配管の各々は前記通路と連通して結合され、
該装置はさらに、前記ガス分配マニホールドの前記通路に送られる源ガスの質量流量を調整するように構成された質量流量制御装置を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項15に記載の装置であって、
前記電極は一連の平行平面に配置され、前記通路は、前記ガス分配マニホールドの内部に整列して配置され、前記一連の平行平面に対してほぼ垂直になっていることを特徴とする装置。 - 請求項7に記載の装置であって、
それぞれの前記ガス分配管は、複数の管状部分を具備し、互いに斜めになっており、それぞれの前記管状部分は、それぞれの前記ガス分配管の全長を確立するように選択された長さを有していることを特徴とする装置。 - 請求項7に記載の装置であって、
前記電極の各々は前記外周の内側に幾何学的中心を有し、前記ガス分配管の前記注入ポートは、前記電極の各々における前記幾何学的中心から1/2インチ内にあることを特徴とする装置。 - 請求項7に記載の装置であって、
前記複数の電極の各々は、前記電極の前記第1の表面と前記第2の表面との間に前記電極内に前記外周から延在する通路と、その通路内に電気的絶縁材を具備する管状スリーブと、を有し、
それぞれが前記複数の電極の各々の前記通路に配置される複数の導電部材であって、前記複数の導電部材の各々は前記外周の内側の或る位置にて前記電極の各々に電気的に接続され、前記電極を前記プラズマ励起源と電気的に接続し、前記複数の導電部材の各々は前記複数の電極の一と前記外周の内側の前記或る位置にて電気的な接触をするように前記管状スリーブから突出している先端を有する前記複数の導電部材と、
を備えていることを特徴とする装置。 - 請求項19に記載の装置であって、
前記電極の各々は幾何学的中心を前記外周の内側に有し、前記導電部材の各々に対する前記或る位置は前記電極の各々の前記幾何学的中心から1/2インチ内にあることを特徴とする装置。 - 請求項19に記載の装置であって、
前記複数の電極の各々は幾何学的中心を前記外周の内側に有し、前記注入ポートの各々に対して、前記或る位置は前記複数の電極の各々の前記幾何学的中心から1/2インチ内にあることを特徴とする装置。
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