JP2009295580A5

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Publication number: JP2009295580A5
Application number: JP2009121573A
Authority: JP
Filing date: 2009-05-20
Publication date: 2012-07-05
Anticipated expiration: 2029-05-20

Claims

源ガスから発生したプラズマで製品を処理する装置であって、該装置は、
排気可能空間を有する真空チャンバであって、前記排気可能空間と連通するポンプポートと、前記排気可能空間に源ガスを導入するように構成された少なくとも１つの注入ポートとを具備する真空チャンバと、
排気可能空間内に設けられた複数の電極であって、該電極は並列配置を有し、排気可能空間内で該電極の間に複数の処理チャンバを画定し、該複数の電極の各々は外周を有する電極と、
前記複数の処理チャンバの各々内において、該源ガスからプラズマを発生させるために電力を供給するように構成されるプラズマ励起源と、
複数の導電部材であって、前記導電部材の各々は前記電極の各々を前記プラズマ励起源と電気的に接続し、前記導電部材の各々は前記外周の内側の或る位置にて前記電極の各々に電気的に接続されている複数の導電部材と、
を備えていることを特徴とする装置。
請求項１に記載の装置であって、
前記複数のそれぞれの前記電極は、前記外周の内側に幾何学的中心を有し、それぞれの前記導電部材のための前記位置は、前記複数の導電部材の各々に対する前記或る位置は、前記電極の各々における該幾何学的中心から１／２インチ内にあることを特徴とする装置。
請求項１に記載の装置であって、
前記電極の各々は、対向し、前記外周により結合される第１の表面と第２の表面とを有する中実板であって、該電極の各々は該第１表面および第２表面の間に通路を有し、該通路は該外周を遮る側壁を有し、該導電部材の各々は前記電極の各々の通路の内に配置されていることを特徴とする装置。
請求項３に記載の装置であって、
該導電部材の各々はさらに、第１の端部と第２の端部とを具備し、該第１の端部は前記電極の各々と前記或る位置において電気的に接続され、該第２の端部は前記外周を越えて前記プラズマ励起源との外部接続を確立することを特徴とする装置。
請求項４に記載の装置であって、
前記導電部材の各々は、該第１の端部と該第２の端部との間に延在する円筒形外面を有するロッドであって、該装置はさらに、
該誘電性材料からなる管状スリーブであって、前記管状スリーブは該外面と該通路の側壁との間における前記円筒形外面に配置され、前記導電部材は、該第１の端部と該第２の端部との間において前記電極の各々から電気的に絶縁されている管状スリーブを備えていることを特徴とする装置。
請求項５に記載の装置であって、
前記管状スリーブの長さは前記導電部材の長さより短く、前記導電部材の該第１の端部および該第２の端部は、前記管状スリーブから外方に突出していることを特徴とする装置。
源ガスから発生したプラズマで製品を処理する装置であって、該装置は、
排気可能空間を有する真空チャンバであって、該排気可能空間と連通するポンプポートとを具備する真空チャンバと、
排気可能空間内に設けられた複数の電極であって、該電極は複数の隣接する対をなす並列配置を有して該排気可能空間内における複数の処理チャンバを画定し、前記電極の複数の隣接する対の各々は、ギャップによって隔てられて前記複数の処理チャンバの各々を形成し、前記電極の各々は外周を具備する上記複数の電極と、
前記真空チャンバの内側に設けられた複数のガス分配管であって、前記複数のガス分配管の各々は、前記電極の外周の内側において、前記複数の処理チャンバの各々の中に源ガスを注入するように構成されている注入ポートを具備するガス分配管と、
前記電極と電気的に接続されるプラズマ励起源であって、前記複数の処理チャンバの各々内において、該源ガスからプラズマを発生させるために電力を供給するように構成されるプラズマ励起源と、
複数の流れ制限部材であって、前記複数の流れ制限部材の各々は、前記電極の隣接する対の各々の間にある前記ギャップに位置し、前記複数の流れ制限部材の各々が動作して、前記ギャップを減少させ、処理チャンバの各々から前記ポンプポートへ出る源ガスの流れを制限する流れ制限部材と、
を備えていることを特徴とする装置。
請求項７に記載の装置であって、
前記電極は中実であり、前記複数の処理チャンバの各々の中の源ガスは、前記ギャップを通して流れて前記ポンプポートに達するように制限されていることを特徴とする装置。
請求項７に記載の装置であって、前記装置はさらに、
処理チャンバ内に製品を保持するように構成された複数の製品ホルダを有するラックを備え、
前記複数の製品ホルダの各々は、隣接する対をなす前記電極の間に、一以上の製品を保持するように構成され、前記流れ制限部材は、それぞれ１つの前記製品ホルダに物理的に結合されていることを特徴とする装置。
請求項９に記載の装置であって、
前記ラックは中実である底部板を有し、前記底部板は外周を有し、前記底部板は前記製品ホルダと前記ポンプポートとの間に配置され、源ガスは、前記底部板の前記外周のまわりのそれぞれの前記処理チャンバから前記ポンプポートへ達するように流れ出るように制限されることを特徴とする装置。
請求項９に記載の装置であって、
それぞれの前記流れ制限部材は、前記ギャップの部分に配置されたバーを備えたフレームを具備し、前記バーは前記ギャップに比べてわずかに小さい幅を有していることを特徴とする装置。
請求項９に記載の装置であって、
前記流れ制限部材の各々は、前記ギャップに配置されたバーを備えたフレームを具備し、および前記バーを底部板に結合する複数の結合部材を具備し、前記バーは隣接する対の各々において、前記電極の前記外周の内側に配置されていることを特徴とする装置。
請求項９に記載の装置であって、
前記流れ制限部材の各々は、前記ギャップに配置されたバーを具備し、前記製品ホルダの各々は複数の十字部材を具備して、少なくとも一の製品を支持するように構成され、前記バーは、少なくとも一の前記十字部材とそれぞれの隣接する対における前記電極の前記外周との間に配置されていることを特徴とする装置。
請求項７に記載の装置であって、
前記装置がさらに、
前記真空チャンバの内側のガス分配マニホールドであって、それぞれの前記ガス分配管は、前記ガス分配マニホールドと連通して結合されている、上記ガス分配マニホールドを備えていることを特徴とする装置。
請求項１４に記載の装置であって、
前記装置において、前記ガス分配マニホールドは、通路を具備し、前記ガス分配管の各々は前記通路と連通して結合され、
該装置はさらに、前記ガス分配マニホールドの前記通路に送られる源ガスの質量流量を調整するように構成された質量流量制御装置を備えていることを特徴とする装置。
請求項１５に記載の装置であって、
前記電極は一連の平行平面に配置され、前記通路は、前記ガス分配マニホールドの内部に整列して配置され、前記一連の平行平面に対してほぼ垂直になっていることを特徴とする装置。
請求項７に記載の装置であって、
前記電極は複数の隣接する対に配置され、前記隣接する対の各々における前記電極の一は第１の表面を有し、前記隣接する対の各々における前記電極の別の一は前記第１の表面に対峙するように第２の表面を有し、一以上の前記製品は前記第１の表面と第２の表面との間に位置し、一の前記ガス分配管は前記第１の表面に取り付けられ、別の一の前記ガス分配管は前記第２の表面に取り付けられていることを特徴とする装置。
請求項７に記載の装置であって、
それぞれの前記ガス分配管は、複数の管状部分を具備し、互いに斜めになっており、それぞれの前記管状部分は、それぞれの前記ガス分配管の全長を確立するように選択された長さを有していることを特徴とする装置。
請求項７に記載の装置であって、
前記電極の各々は前記外周の内側に幾何学的中心を有し、前記ガス分配管の前記注入ポートは、前記電極の各々における前記幾何学的中心から１／２インチ内にあることを特徴とする装置。
源ガスから発生したプラズマで製品を処理する装置であって、この装置が、
排気可能空間を有する複数の真空チャンバと、該排気可能空間と連通するポンプポートとを具備する真空チャンバと、
排気可能空間内に設けられた複数の電極であって、該電極は複数の隣接する対をなす並列配置を有して該排気可能空間内における複数の処理チャンバを画定し、前記電極の各々は外周を具備する上記複数の電極と、
前記複数の処理チャンバの各々内において、該源ガスからプラズマを発生させるために電力を供給するように構成されるプラズマ励起源と、
前記真空チャンバの内側に設けられた複数のガス分配管であって、前記複数のガス分配管の各々は、前記電極の外周の内側において、前記複数の処理チャンバの各々の中に源ガスを注入するように構成されている注入ポートを具備するガス分配管と、
前記電極のそれぞれ１つの隣接する対の間にあるギャップに配置される複数の流れ制限部材であって、前記複数の流れ制限部材の各々は動作して、部分的に前記ギャップを塞ぎ、前記処理チャンバの各々における前記ガス注入箇所から前記ポンプポートへの源ガスの流れを制限する流れ制限部材と、
複数の導電部材であって、前記導電部材の各々は前記電極の各々を前記プラズマ励起源と電気的に接続し、前記導電部材の各々は前記外周の内側の或る位置にて前記電極の各々に電気的に接続されている複数の導電部材と、
を備えていることを特徴とする装置。
請求項２０に記載の装置であって、
前記電極の各々は幾何学的中心を前記外周の内側に有し、前記導電部材の各々に対する前記或る位置は前記電極の各々の前記幾何学的中心から１／２インチ内にあることを特徴とする装置。
請求項２０に記載の装置であって、
前記電極の各々は幾何学的中心を前記外周の内側に有し、前記注入導電部材の各々に対する前記或る位置は前記電極各々の前記幾何学的中心から１／２インチ内にあることを特徴とする装置。