JP5706128B2 - 半導体装置の樹脂バリ除去方法 - Google Patents
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Description
特に、製品によっては、パッケージの形成後に、ダイパッドの裏面にSnやSn−Bi等の外装めっきを施すため、樹脂バリが存在することで、外装めっきの未付着が発生していた。
また、樹脂バリの除去方法としては、例えば、特許文献2〜4に示すように、レーザーを用いる方法も考えられるが、従来は、リード間の樹脂を除去する方法として用いられていた。
前記樹脂バリが付着している前記ダイパッドの裏面側で前記ダイパッドの広さの80%以上120%以下の領域に、0.2W以上0.8W以下の範囲のレーザーを照射して、該樹脂バリを炭化させた後、該樹脂バリを電解脱脂により除去し、前記ダイパッドに外装めっきを形成する。
また、このように、電解脱脂の前にレーザー照射を行うことで、電解脱脂の処理時間を短縮することができるので、電解脱脂液の水分が、ダイパッドとモールド樹脂の境目に浸入することを抑制、更には防止でき、パッケージの信頼性が向上する(ダイパッドからのモールド樹脂の剥離防止)。
そして、レーザーによる樹脂バリの炭化は、レーザーによる直接照射のみならず、ダイパッドに使用するリードフレーム材の熱伝導性も利用できるので、樹脂バリの炭化を促進することができる。
更に、ダイパッドがパッケージ裏面から露出する半導体装置を製造するに際し、従来のように、シートモールドタイプの金型等(金型にシートを敷きモールドする工法)を使用する必要がなくなるので、その設備投資が不要になり、また様々なダイパッド形状にも適用できるので、製造コストの削減ができる。
図1、図2に示すように、本発明の一実施の形態に係る半導体装置の樹脂バリ除去方法は、ダイパッド(素子搭載部)10がモールド樹脂(以下、単に樹脂ともいう)で構成されたパッケージ11裏面に露出する半導体装置12から、ダイパッド10の裏面に付着した樹脂バリ13を除去する方法であり、この樹脂バリ13が付着しているダイパッド10の裏面側にレーザー照射装置14からレーザーを照射し、樹脂バリ13を炭化させた後、この炭化した樹脂バリ13を電解脱脂により除去するものである(図3参照)。以下、詳しく説明する。
ダイパッド10の表面(上面)側には、半導体素子16が搭載され、半導体素子16の電極端子部は、ボンディングワイヤ17により、リード15の接続端子部とワイヤボンディングされて電気的連結が行われ、このような状態で、ダイパッド10の底面(裏面)を露出するようにして、リードフレーム及び半導体素子16の全体が樹脂封止(モールド)されている。なお、図1は、パッケージ11の裏面を上にして配置された半導体装置12を示している。
そこで、図1、図2に示すように、樹脂バリ13が付着しているダイパッド10の裏面側に、レーザー照射装置14によりレーザーを照射し、樹脂バリ13を炭化させる。
このレーザーは、樹脂に吸収される波長を備えるものである。なお、ここでは、樹脂にエポキシ樹脂を使用しているが、半導体装置の製造に使用できる樹脂であれば、これに限定されない。また、レーザーの波長も、樹脂の種類に応じて適宜変更できる。
ここで、レーザーの出力が1Wの20%未満の場合、出力が低過ぎて、樹脂バリの炭化速度が遅くなり、その後に行う電解脱脂の処理時間を長くしなければならなくなる。一方、レーザーの出力が1Wの80%を超える場合、出力が高過ぎて、ダイパッド周辺の樹脂も炭化する恐れがあり、製品品質に悪影響を及ぼす可能性がある。
以上のことから、レーザーの出力を、1Wの20〜80%としたが、下限を30%、更には35%、上限を50%、更には45%とすることが好ましい。
例えば、パッケージのサイズが4.4mm×6.5mmで、ダイパッドのサイズが3.0mm×4.1mm(12.3mm2)の半導体装置のダイパッドに対し、レーザーを0.7〜1.2秒照射する。即ち、照射時間を、0.06〜0.10秒/mm2程度とする。
従って、ダイパッドのサイズが、上記したサイズ(3.0mm×4.1mm)より小さい3.0mm×3.0mmの場合は、照射時間が上記した照射時間よりも短くなり、一方、3.0mm×4.1mmより大きい3.0mm×5.1mmの場合は、照射時間が上記した照射時間よりも長くなる。なお、レーザーを照射するダイパッドの大きさに応じて、レーザーの出力を変更することも当然可能である。
ダイパッドのサイズは、上記したように数mm程度であるため、レーザーの照射範囲をダイパッドのみに合わせることは難しい。そこで、レーザーの照射が、ダイパッドからはみ出しても製品品質に悪影響を及ぼすことなく、しかもレーザー照射の位置精度の自由度も確保できる範囲として、レーザー照射範囲の上限を、ダイパッド10を含み、ダイパッド10の外周から外方へはみ出す広さ、即ちダイパッド10の広さの120%とした。
また、レーザー照射範囲の下限は、レーザーの照射が製品品質に悪影響を及ぼさない値として、ダイパッド10の広さのうち、ダイパッド10の外周から内方へ狭めて、その80%とした。この場合、レーザーの照射時間を長くすることで、ダイパッド10の熱伝導性を利用し、樹脂バリ13を炭化させる。
なお、レーザーの照射範囲の制御は、CADで作製した線で描かれた箇所を、レーザー照射することで行うが、この方法に限定されるものではない。
そして、外装めっきを形成した後は、例えば、回転刃を用いてタイバーを切断することにより、ダイパッド10の周囲に複数配置されたリード15を切り離して、半導体装置12が製造される。
ここでは、縦横のサイズが3.0mm×4.1mmのダイパッドを備えた半導体装置を使用し、この半導体装置のダイパッドの裏面側に照射するレーザーの出力、照射範囲、及び照射回数が、製品品質に及ぼす影響を調査した結果について、表1を参照しながら説明する。なお、製品品質は、レーザー照射後に、電解脱脂、化学研磨、及び水圧によるバリ取りを順次行い、ダイパッドの裏面から樹脂バリを除去したものについて評価した。
そして、評価は、製品品質が良好なものを「○」、品質が多少劣化するが、製品として問題ない品質を備えるものを「△」、とした。
このように、電解脱脂の処理時間を短時間にできることで、ダイパッドと樹脂の境目から電解脱脂液の水分が浸透することを抑制、更には防止できるため、製品品質を良好にできた。
しかし、いずれの場合も、製品として問題ない品質を備えていた。
また、前記実施の形態においては、ダイパッドの裏面側へのレーザーの照射を、半導体装置の裏面(ダイパッドの裏面)を上にした状態で行った場合について説明したが、半導体装置の裏面を下にした状態で行ってもよい。
Claims (1)
- ダイパッドがパッケージの裏面に露出する半導体装置から、該ダイパッドの裏面に付着した樹脂バリを除去する方法であって、
前記樹脂バリが付着している前記ダイパッドの裏面側で前記ダイパッドの広さの80%以上120%以下の領域に、0.2W以上0.8W以下の範囲のレーザーを照射して、該樹脂バリを炭化させた後、該樹脂バリを電解脱脂により除去し、前記ダイパッドに外装めっきを形成することを特徴とする半導体装置の樹脂バリ除去方法。
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