JP5694083B2 - 液晶表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Description

本開示は、狭額縁化に好適な液晶表示装置およびその製造方法に関する。

液晶表示装置では、表示部の外側に封止枠を設け、この封止枠の注入口から液晶を注入したのちに、注入口に封止材を充填して閉鎖する。従来では、例えば、注入口近傍に障壁を設け、封止材の進入経路の一部を閉塞することにより、表示領域への封止材の染み出しを抑えようとしている（例えば、特許文献１参照。）。

特開２０１０−４４１３６号公報 特開２００８−２４１７５２号公報

しかしながら、従来のように注入口近傍に障壁を設けると、封止材の注入速度は抑制されるが、セルギャップを調整しながら封止材を注入する際に、液晶や封止材が通過する間隙の大きさがその都度変動しやすくなっていた。そのため、封止材の注入速度のばらつきが大きくなり、封止材の注入量が多すぎたり不足したりするという問題が生じていた。とりわけ狭額縁の場合には、封止材の注入量も精密に制御する必要があるので、封止材の注入速度のばらつきを小さくする必要があった。

本開示の目的は、封止材の注入速度や注入量のばらつきを低減することが可能な液晶表示装置およびその製造方法を提供することにある。

本開示による液晶表示装置は、一対の基板の間に液晶層を有する表示部と、一対の基板の周縁部に設けられた額縁部とを有する。額縁部は、液晶注入のための注入口および注入口と表示部との間の注入口部を有している。注入口部は、間隙を有すると共に一対の基板の両方に接している堰構造と、注入口から堰構造までの部分に設けられた封止材とを備えている。

本開示の液晶表示装置では、液晶は、注入口部に設けられた堰構造の間隙を通過して表示部に注入される一方、封止材は、堰構造の間隙で止まり、表示部への染み出しが抑えられる。従来のように注入口近傍に障壁を設ける場合と異なり、製造工程において間隙の大きさが変動するおそれがなくなる。よって、封止材の注入速度や注入量のばらつきが低減される。

本開示による液晶表示装置の製造方法は、一対の基板の間に液晶層を有する表示部と、一対の基板の周縁部に設けられた額縁部とを有し、額縁部は、液晶注入のための注入口および注入口と表示部との間の注入口部を有する液晶表示装置を製造するものであって、注入口部に、間隙を有すると共に一対の基板の両方に接している堰構造を形成する工程と、注入口から堰構造までの部分に封止材を設ける工程とを含むようにしたものである。

本開示の液晶表示装置、または本開示の液晶表示装置の製造方法によれば、注入口部に堰構造を設けるようにしたので、封止材の注入速度や注入量のばらつきを低減することが可能となる。

本開示の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の構成を表す上面図である。 図１に示した液晶表示装置の一部を拡大して表す上面図である。 図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面図である。 図３に示した堰構造の構成を表す斜視図である。 図４に示した間隙において封止材が止まった状態を説明するための上面図である。 従来の障壁の問題点を説明するための断面図である。 （Ａ）は、変形例１に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表し、間隙の出口に傾斜部を有する突起を設けた例を表す上面図であり、（Ｂ）は、図５に示した間隙において封止材が滑っていく状態を説明するための上面図である。 変形例２に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 変形例３に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 （Ａ）は堰構造の有無による封止材の引き込みばらつきの違いの計測結果を表す図であり、（Ｂ）は計測に用いた堰構造の構成を表す断面図である。 変形例４に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す上面図である。 図２に示した間隙の形状を表す上面図である。 変形例５に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す上面図である。 変形例６に係る液晶表示装置の一部を拡大して表す上面図である。 図１４のＸＶ−ＸＶ線における断面図である。 変形例７に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 変形例８に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 変形例９に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 図１８に示した堰構造の構成を表す斜視図である。 変形例１０に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 図２０に示した堰構造の構成を表す斜視図である。 図２０に示した液晶表示装置の製造方法の主要部を工程順に表す断面図である。 図２２に続く工程を表す斜視図である。 図２３に続く工程を表す断面図である。 変形例１１に係る液晶表示装置の一部を拡大して表す平面図である。 図２５のＸＸＶＩ−ＸＸＶＩ線における構成を表す断面図である。 図２６に示した堰構造の構成を表す斜視図である。 変形例１２に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 変形例１３に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す断面図である。 図２９に示した液晶表示装置の製造方法の主要部を工程順に表す断面図である。 図３０に続く工程を表す断面図である。 図２９に示した堰構造において、間隙の大きさを表示部のギャップよりも小さくする例を表す斜視図である。 間隙の大きさを表示部のギャップよりも大きくする例を表す斜視図である。 本開示の第２の実施の形態に係る液晶表示装置の一部を拡大して表す平面図である。 図３４のＸＸＸＶ−ＸＸＸＶ線における断面図である。 図３４に示した堰構造の構成を表す斜視図である。 変形例１４に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す平面図である。 変形例１５に係る液晶表示装置の堰構造の構成を表す平面図である。

以下、本開示の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．第１の実施の形態（壁の上に複数の束柱を有する堰構造の例）
２．変形例１（間隙の出口に傾斜部を有する突起を設けた例）
３．変形例２（壁の下に複数の束柱を設けた例）
４．変形例３（上壁と下壁の間に複数の束柱を有する堰構造の例）
５．変形例４（間隙を封止材の進入方向に対して斜めに設けた例）
６．変形例５（間隙を蛇行形状とした例）
７．変形例６（堰構造を二重に配置した例）
８．変形例７（複数の束柱を表示部のスペーサ層と同じ層により構成した例）
９．変形例８（複数の束柱をオーバーコート層と同じ層により構成した例）
１０．変形例９（壁を表示部のスペーサ層と同じ層により構成し、複数の束柱を平坦化層としての有機絶縁層と同じ層により構成した例）
１１．変形例１０（堰構造の周囲の有機絶縁層を除去して凹部を構成した例）
１２．変形例１１（有機絶縁層の下に下地層を設けることにより、有機絶縁層の表面に複数の束柱となる凹凸を設けた例）
１３．変形例１２（金属配線層、カラーフィルタ、遮光膜などの既存の層を利用してギャップを調整する例）
１４．変形例１３（半透過型の表示部のギャップ調整層を用いて上壁を構成する例）
１５．第２の実施の形態（堰構造が、封止材の進入方向に対して垂直ではない方向に設けられた複数の壁を有する例）
１６．変形例１４（注入口を表示部の一辺の中間位置に設け、堰構造を表示部の外形線に沿って直線状に設ける例）
１７．変形例１５（注入口を表示部の一角に設け、堰構造を表示部の外形線に沿ってＬ字状に設ける例）

（第１の実施の形態）
図１は、本開示の第１の実施の形態に係る液晶表示装置の全体構成を表したものである。この液晶表示装置１は、携帯電話またはスマートフォンなどに用いられるものであり、表示部２と、その周囲の額縁部３とを有している。表示部２は、ガラス等よりなる一対の基板（第１基板１０および第２基板２０）の間に液晶層３０（図１には図示せず、図３参照。）を有し、液晶表示素子よりなる複数の画素（図示せず）が行列状に配置されている。額縁部３は、第１基板１０および第２基板２０の周縁部の領域であり、その内部構造は黒色の遮光膜２２（図１には図示せず、図３参照。）により遮蔽されている。

第１基板１０の一辺には、第２基板２０からはみ出した露出領域４が設けられている。この露出領域４には、第１基板１０上の信号線駆動回路および走査線駆動回路（いずれも図示せず）の配線が延長されることにより、外部接続端子５が設けられている。

図２は、図１に示した液晶表示装置１の点線６で囲まれた部分を拡大して表したものである。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線における断面構成を表したものである。額縁部３には、例えば熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂により、表示部２を囲む封止枠３Ａが設けられている。封止枠３Ａには、液晶注入のための注入口３Ｂが設けられている。注入口３Ｂと表示部２との間の部分は、液晶や封止材の進入経路としての注入口部３Ｃとなっている。注入口部３Ｃには、堰構造４０と、封止材５０とが設けられている。堰構造４０は、液晶の通過口としての間隙４１を有すると共に、第１基板１０および第２基板２０の両方に接している。封止材５０は、注入口３Ｂから堰構造４０までの部分に設けられている。これにより、この液晶表示装置１では、封止材５０の注入速度や注入量のばらつきを低減することが可能となっている。

堰構造４０は、例えば図４に示したように、壁４２と、複数の束柱４３とを有している。壁４２は、第１基板１０に、封止材５０の進入方向Ａ１に対して交差する（例えば、垂直な）方向に延在している。複数の束柱４３は、壁４２の上面と第２基板２０との間に設けられている。液晶は、複数の束柱４３の間の間隙４１を通って表示部２に導入されるようになっている。間隙４１の高さや幅を調整することにより、封止材５０の注入速度や注入量が制御される。堰構造４０の構成材料は絶縁材料あるいは金属など特に限定されない。

封止材５０は、注入口部３Ｃを閉塞し、液晶を表示部２内に密閉するものであり、例えば紫外線硬化樹脂により構成されている。封止材５０は、水分などの浸入を抑えるため、注入口３Ｂからの距離が例えば５０μｍ程度の位置まで、注入口部３Ｃに埋め込まれている。封止材５０は、例えば図５に示したように、複数の束柱４３の間の間隙４１の出口４１Ａにおいて、界面の力により止まっている。この界面の力は、液晶材料、封止材５０の材料、堰構造４０の材料に依存する。そのため、材料選定にて、界面の力を強くすることでも封止材５０の制御は可能となる。

表示部２の第１基板１０には、例えば、絶縁層１１，金属配線層１２，平坦化層としての有機絶縁層１３，共通電極１４，層間絶縁膜１５，画素電極１６，配向膜１７が、第１基板１０側からこの順に設けられている。すなわち、この表示部２は、いわゆるＦＦＳ（Fringe Field Switching）構成を有している。なお、絶縁層１１は、液晶モードにかかわらず、ゲート線と信号線との間に設けられているものである。

表示部２の第２基板２０には、例えば、カラーフィルタ２１，ブラックマトリクスとしての遮光膜２２，平坦化層としてのオーバーコート層２３，スペーサ層２４および配向膜２５が、第２基板２０の側からこの順に設けられている。第１基板１０と第２基板２０の間には、液晶層３０が設けられている。なお、第１基板１０および第２基板の外側には、偏光板など（図示せず）が貼り合わせられている。第１基板１０の背面側には光源および導光板などのバックライトユニット（図示せず）等が配置されている。

この液晶表示装置は、例えば、次のようにして製造することができる。

まず、ガラス等よりなる第１基板１０を用意し、この第１基板１０に、ＴＦＴ等よりなる駆動回路（図示せず）を形成すると共に、金属配線層１２を形成する。続いて、駆動回路や金属配線層１２を有機絶縁層１３で被覆し、表示部２の表面を平坦化する。そののち、有機絶縁層１３上に、共通電極１４，層間絶縁膜１５および画素電極１６を順に形成する。

また、ガラス等よりなる第２基板２０を用意し、この第２基板２０にカラーフィルタ２１および遮光膜２２を形成する。次いで、カラーフィルタ２１および遮光膜２２をオーバーコート層２３で被覆し、各色のカラーフィルタ２１の厚みの違いに起因する表面の凹凸を平坦化する。続いて、表示部２内にスペーサ層２４を形成する。

そののち、例えば第１基板１０の額縁部３に、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂により封止枠３Ａを形成する。封止枠３Ａは、表示部２を囲む矩形枠状に形成すると共に、第１基板１０の一辺に開口する注入口３Ｂを空け、注入口３Ｂと表示部２との間に注入口部３Ｃを設ける。続いて、注入口部３Ｃに、例えば、壁４２および複数の束柱４３よりなる堰構造４０を形成する。堰構造４０を形成する際には、堰構造４０の全部を、第１基板１０または第２基板２０のいずれか一方に設けることも可能であるし、堰構造４０を複数の層の積層構造とすると共に、これら複数の層を第１基板１０と第２基板２０との両方に振り分けて設けることも可能である。後者については、変形例７〜１３において詳述する。

続いて、第１基板１０の表示部２に配向膜１７を形成し、第２基板２０の表示部２に配向膜２５を形成する。そののち、第１基板１０と第２基板２０とを封止枠３Ａを挟んで対向配置し、封止枠３Ａを構成する樹脂を硬化させることにより第１基板１０と第２基板との貼り合わせを行う。

続いて、第１基板１０と第２基板２０の間の内部空間に液晶を注入する。液晶は、堰構造４０の複数の束柱４３の間の間隙４１を通って表示部２に導入される。

そののち、封止枠３Ａの内部を減圧した状態で、注入口３Ｂの周辺に封止材５０を塗布し、封止材５０を注入口部３Ｃに引き込む。封止材５０は、例えば図５に示したように、複数の束柱４３の間の間隙４１の出口４１Ａにおいて、上述した界面の力により止まる。これにより、封止材５０は、注入口３Ｂから堰構造４０までの部分に充填され、表示部２への染み出しが抑えられる。

ここでは、堰構造４０が、第１基板１０および第２基板２０の両方に接しているので、封止材５０を注入する際に、間隙４１の大きさがその都度変動してしまうことがない。よって、封止材５０の注入速度，注入時間，注入量のばらつきが小さくなる。また、液晶の注入不良なども抑えられる。以上により、図１ないし図５に示した液晶表示装置１が完成する。

これに対して従来では、図６に示したように、注入口１０３Ｂ近傍に障壁１４０を設けるようにしていたので、封止材を注入する際に、液晶や封止材が通過可能な間隙１４１の大きさがその都度変動しやすくなっていた。そのため、封止材の注入速度のばらつきが大きくなり、封止材の注入量が多すぎたり不足したりするという問題が生じていた。また、液晶の注入不良も発生しやすくなっていた。なお、図６では、図３と同一の構成要素には１００番台の同一の符号を付している。

この液晶表示装置１では、バックライトユニット（図示せず）から表示部２に光が入射すると、その入射光は、偏光板（図示せず）を通過した後、第１基板１０および第２基板２０間に印加された映像電圧に基づいて、画素毎に変調されつつ液晶層３０を透過する。液晶層３０を透過した光は、カラーフィルタ２１を有する第２基板２０を通過することにより、カラーの表示光として偏光板（図示せず）の外側へ取り出される。

ここでは、堰構造４０が、第１基板１０および第２基板２０の両方に接しているので、封止材５０の表示部２への染み出しや、液晶の注入不足などが抑えられている。よって、それらに起因する表示不良が抑制される。

このように本実施の形態では、注入口部３Ｃに、間隙４１を有すると共に第１基板１０および第２基板２０の両方に接している堰構造４０を設けるようにしたので、封止材５０の注入速度，注入時間，注入量のばらつきを小さくすると共に、液晶の注入不良なども抑えることが可能となる。

（変形例１）
図７（Ａ）は、変形例１に係る液晶表示装置１Ａの堰構造４０の構成を表したものである。この液晶表示装置１Ａは、間隙４１の出口４１Ａに、傾斜部４４を有する突起４５を設けたものである。このことを除いては、この液晶表示装置１Ａは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

傾斜部４４は、間隙４１の出口４１Ａにおいて封止材５０を確実に止めるためのものである。第１の実施の形態で図５を参照して説明したように、封止材５０は、複数の束柱４３の間の間隙４１の出口４１Ａにおいて、界面の力により止まっている。この界面の力は、液晶材料、封止材５０の材料、堰構造４０の材料に依存する。そのため、例えば図７（Ｂ）に示したように、間隙４１の出口４１Ａが平坦面である場合には、封止材５０が間隙４１の出口４１Ａの周囲に滑っていってしまう可能性がある。従って、間隙４１の出口４１Ａに傾斜部４４を設けることにより、封止材５０を傾斜部４４で確実に止めることが可能となる。

なお、傾斜部４４の構成としては、図７（Ａ）に示したように、間隙４１の出口４１Ａに傾斜部４４を有する突起４５を付加することも可能であるが、堰構造４０の製造工程において、壁４２または束柱４３のエッチングの際に自然に形成される傾斜面により傾斜部４４を構成することも可能である（図３参照。）。

（変形例２）
図８は、変形例２に係る液晶表示装置１Ｂの堰構造４０の構成を表したものである。本変形例は、壁４２の下に複数の束柱４３を設けたことを除いては、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例３）
図９は、変形例３に係る液晶表示装置１Ｃの堰構造４０の構成を表したものである。本変形例は、上壁４２Ａと下壁４２Ｂの間に複数の束柱４３を設けたものである。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｃは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

図１０（Ａ）は、注入口部３Ｂに図９に示した堰構造４０を設けた場合（実施例）と設けなかった場合（比較例）とについて、封止材５０の引き込みばらつきの違いを調べた結果を表すものである。また、図１０（Ｂ）は、図１０（Ａ）の横軸（引き込み位置）と注入口部３Ｂ内の位置との対応関係を表したものである。ここに引き込み位置とは、堰構造４０の位置Ｐ４０をゼロ（０）とした場合の相対位置をいう。

図１０（Ａ）および図１０（Ｂ）に示したように、注入口部３Ｂに堰構造４０を設けた場合には、封止材５０が堰構造４０の位置で止まっているのに対して、堰構造を設けなかった場合には、封止材５０の引き込みばらつきが大きくなっており、十分に引き込まれていないものや、表示部まで染み出しているものがあった。すなわち、注入口部３Ｃに、間隙４１を有すると共に第１基板１０および第２基板２０の両方に接している堰構造４０を設けるようにすれば、封止材５０の注入速度や注入量のばらつきを低減することが可能となることが分かった。

（変形例４）
図１１は、変形例４に係る液晶表示装置１Ｄの堰構造４０の構成を表したものである。本変形例は、間隙４１を封止材５０の進入方向Ａ１に対して斜めに設けるようにしたものである。これにより、この液晶表示装置１Ｄでは、図１２に示したように間隙４１を封止材５０の進入方向に平行にした場合に比べて経路を長くして、封止材５０を止める効果を大きくすることが可能となる。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｄは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例５）
図１３は、変形例５に係る液晶表示装置１Ｅの堰構造４０の構成を表したものである。本変形例は、間隙４１を屈曲させて蛇行形状としたものである。これにより、この液晶表示装置１Ｅでは、狭い幅で長い経路を設けることが可能となり、封止材５０を止める効果が大きくなる。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｅは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例６）
図１４は、変形例６に係る液晶表示装置１Ｆの堰構造４０の注入口部３Ｃ近傍の平面構成を表したものである。図１５は、図１４のＸＶ−ＸＶ線における断面構成を表している。本変形例は、二つの堰構造４０Ａ，４０Ｂを、注入口３Ｂからの距離が異なる二つの位置に設けるようにしたものである。このように注入口部３Ｃに堰構造４０Ａ，４０Ｂを二重に配置することにより、外側の堰構造４０Ａを通過してしまった封止材５０を、予備としての内側の堰構造４０Ｂで止めることが可能となり、封止材５０の表示部２への染み出しを確実に抑えることが可能となる。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｆは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例７〜１３）
以下の変形例７〜１３はいずれも、堰構造４０を、表示部２を構成する他の層と同じ層により構成したものである。このようにすることにより、工程を増やすことなく堰構造４０を形成することが可能となる。

（変形例７）
図１６は、変形例７に係る液晶表示装置１Ｇの堰構造４０の断面構成を表したものである。本変形例は、複数の束柱４３を表示部２のスペーサ層２４と同じ層により構成したことを除いては、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例８）
図１７は、変形例８に係る液晶表示装置１Ｈの堰構造４０の断面構成を表したものである。この液晶表示装置１Ｈは、複数の束柱４３をオーバーコート層２３と同じ層により構成したことを除いては、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例９）
図１８は、変形例９に係る液晶表示装置１Ｉの堰構造４０の断面構成を表し、図１９は、図１８に示した堰構造４０の構成を表したものである。本変形例は、壁４２を表示部２のスペーサ層２４と同じ層により構成し、複数の束柱４３を有機絶縁層１３と同じ層により構成したものである。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｉは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

スペーサ層２４は一般的にネガレジストにより構成されているので、高さの細かい調節が難しい。また、表示部２のスペーサ層２４の高さは光学特性によって決められる。一方、有機絶縁層１３はポジレジストにより構成されている。ポジレジストは露光によって厚さは数百ｎｍ単位で、幅は数μｍ単位で制御可能であり、更に有機絶縁層１３と複数の束柱４３とを同じ工程で形成することが可能であるので、工程の追加や生産性の低下は少ない。また、露光量を変えて高さを変えるハーフトーンマスクを用い、有機絶縁層１３と複数の束柱４３とを同じ工程、同じフォトマスクで形成し、工程負荷を更に小さくすることも可能である。

（変形例１０）
図２０は、変形例１０に係る液晶表示装置１Ｊの堰構造４０の断面構成を表し、図２１は、図２０に示した堰構造４０の構成を表したものである。この液晶表示装置１Ｊは、変形例９において堰構造４０の周囲の有機絶縁層１３を除去して凹部４６としたものである。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｆは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有している。

堰構造４０は、変形例３と同様に、上壁４２Ａと下壁４２Ｂの間に複数の束柱４３を有している。上壁４２Ａは、変形例９と同様に、表示部２のスペーサ層２４と同じ層により構成されている。下壁４２Ｂおよび複数の束柱４３は、有機絶縁層１３と同じ層により構成されている。

下壁４２Ｂの周囲には、上述したように有機絶縁層１３が除去されることにより、凹部４６が構成されている。これにより、この液晶表示装置１Ｊでは、堰構造４０を通過してしまった封止材５０を、凹部４６に貯留することが可能となる。つまり、凹部４６を封止材５０の液溜まりとして用いることにより、封止材５０の表示部２への染み出しを確実に抑えることが可能となる。

図２２ないし図２４は、図２０に示した液晶表示装置１Ｊの製造方法の主要部を工程順に表したものである。まず、図２２（Ａ）に示したように、ガラス等よりなる第１基板１０を用意し、この第１基板１０に、ＴＦＴ等よりなる駆動回路（図示せず）を形成すると共に、金属配線層１２を形成する。

続いて、同じく図２２（Ａ）に示したように、第１基板１０の全面に有機絶縁層１３を形成し、表示部２におけるコンタクトホールの形成予定位置と、注入口部３Ｃにおける凹部４６の形成予定位置とに開口６１Ａを有するマスク６１を用いて第１回目の露光を行う。

引き続き、図２２（Ｂ）に示したように、表示部２の形成予定領域と、注入口部３Ｃにおける間隙４１の形成予定位置とに開口６２Ａを有するマスク６２を用いて第２回目の露光を行う。このとき、表示部２の形成予定領域と、間隙４１の形成予定位置とは、同じ露光量が照射される。これにより、図２２（Ｃ）および図２３に示したように、表示部２には、有機絶縁層１３およびコンタクトホール１３Ａを形成する。また、注入口部３Ｃには、有機絶縁層１３と同じ層により複数の束柱４３を形成すると共に、複数の束柱４３の間に間隙４１（図２１参照。）を形成する。更に、複数の束柱４３の周囲の有機絶縁層１３を除去して、下壁４２Ｂおよび凹部４６を形成する。

そののち、図２４（Ａ）に示したように、有機絶縁層１３上に、共通電極１４，層間絶縁膜１５および画素電極１６を順に形成する。

また、図２４（Ｂ）に示したように、ガラス等よりなる第２基板２０を用意し、この第２基板２０にカラーフィルタ２１および遮光膜２２を形成する。次いで、カラーフィルタ２１および遮光膜２２をオーバーコート層２３で被覆し、表面を平坦化する。そののち、表示部２内にスペーサ層２４を形成すると共に、スペーサ層２４と同じ層により上壁４２Ａを形成する。

続いて、第１基板１０の表示部２に配向膜１７（図２４（Ａ）には図示せず、図３参照。）を形成し、第１基板１０の額縁部３に、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂により封止枠３Ａを形成する。封止枠３Ａは、表示部２を囲む矩形枠状に形成すると共に、第１基板１０の一辺に開口する注入口３Ｂを空け、注入口３Ｂと表示部２との間に注入口部３Ｃを設ける。また、第２基板２０の表示部２に配向膜２５（図２４（Ｂ）には図示せず、図３参照。）を形成する。

そののち、第１基板１０と第２基板２０とを封止枠３Ａを挟んで対向配置し、封止枠３Ａを構成する樹脂を硬化させることにより、第１基板１０と第２基板２０とを貼り合わせる。これにより、スペーサ層２４と同じ層よりなる上壁４２Ａと、有機絶縁層１３と同じ層よりなる下壁４２Ｂおよび複数の束柱４３とを有する堰構造４０が形成される。

続いて、第１基板１０と第２基板２０との間の内部空間に液晶を注入する。液晶は、堰構造４０の複数の束柱４３の間の間隙４１を通って表示部２に導入される。

そののち、封止枠３Ａの内部を減圧した状態で、注入口３Ｂの周辺に封止材５０を塗布し、封止材５０を注入口部３Ｃに引き込み、注入口３Ｂから堰構造４０までの部分に充填する。以上により、図２０に示した液晶表示装置１Ｊが完成する。

（変形例１１）
図２５は、変形例１１に係る液晶表示装置１Ｋの一部を拡大して表し、図２６は、図２５のＸＸＶＩ−ＸＸＶＩ線における断面構成を表したものである。また、図２７は、図２６に示した堰構造４０の構成を表したものである。本変形例は、下壁４２Ｂの有機絶縁層１３の下に下地層４７を設けることにより、有機絶縁層１３の表面に複数の束柱４３となる凹凸を設けるようにして、複数の束柱４３のパターニング工程を省略可能としたものである。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｋは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

下地層４７は、例えば、絶縁層１１または金属配線層１２と同じ層により構成することが好ましい。このようにすれば、フォトマスクや工程を増やすことなく複数の束柱４３を形成することが可能となり、生産性の向上に寄与する。特に金属配線層１２は厚みが大きいので、金属配線層１２と同じ層により下地層４７を構成することで、より高い効果を得ることが可能となる。

（変形例１２）
図２８（Ａ）は、変形例１２に係る液晶表示装置１Ｌの堰構造４０の断面構成を表したものである。この液晶表示装置１Ｌでは、金属配線層１２、カラーフィルタ２１、遮光膜２２などの既存の層を利用してセルギャップＧを調整するようにしたことにより、変形例７〜１３の中でも工程を増やすことなく堰構造４０を形成するという効果を最も高めることが可能となっている。このことを除いては、この液晶表示装置１Ｌは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

表示部２は、第１基板１０の有機絶縁層１３上にＩＴＯ等の画素電極１６が設けられ、第２基板２０のオーバーコート層２３上にＩＴＯ等の共通電極１４が設けられていることを除いては、第１の実施の形態と同様に構成されている。

注入口部３Ｃには、例えば、変形例６に類似して、三つの堰構造４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃが、注入口３Ｂからの距離が異なる三つの位置に設けられている。これら堰構造４０Ａ，４０Ｂ，４０Ｃは同一の構成を有しているので、以下の説明では堰構造４０と総称する。

堰構造４０は、例えば、上壁４２Ａを表示部２の遮光膜２２，カラーフィルタ２１，オーバーコート層２３およびスペーサ層２４と同じ層の積層構造により構成し、下壁４２Ｂおよび複数の束柱４３を有機絶縁層１３と同じ層により構成したものである。すなわち、間隙４１は有機絶縁層１３の側に設けられている。下壁４２Ｂの周囲には、変形例１０と同様に、有機絶縁層１３が除去されることにより凹部４６が構成されている。

スペーサ層２４は一般的にネガレジストにより構成されているので、高さ調節が難しい。また、表示部２のスペーサ層２４の高さは光学特性によって決められる。一方、有機絶縁層１３はポジレジストにより構成されている。ポジレジストは露光によって厚さは数百ｎｍ単位で、幅は数μｍ単位で制御可能であり、更に有機絶縁層１３と複数の束柱４３とを同じ工程で形成することが可能であるので、工程の追加や生産性の低下は少ない。また、露光量を変えて高さを変えるハーフトーンマスクを用い、有機絶縁層１３と複数の束柱４３とを同じ工程、同じフォトマスクで形成し、工程負荷を更に小さくすることも可能である。

また、本変形例では、表示部２においてはスペーサ層２４に重ねて遮光膜２２を配置し、注入口部３Ｃにおいては上壁４２Ａに重ねてカラーフィルタ２１を配置することが好ましい。更に、表示部２においてスペーサ層２４の下に金属配線層１２が設けられている場合には、注入口部３Ｃにおいては下壁４２Ｂの有機絶縁層１３の下にも金属配線層１２を設けることが好ましい。このようにして堰構造４０を表示部２と同じ積層構造とすることにより、間隙４１の制御を容易に行うことが可能となる。

間隙４１の調整を確実に行うには、表示部２における遮光膜２２，カラーフィルタ２１，オーバーコート層２３およびスペーサ層２４の合計厚みと、上壁４２Ａの高さとを同じにする必要があるが、実際には別途膜厚調整が必要となるので生産負荷やばらつきの要因となる。例えば、図８に示したように壁４２の下に複数の束柱４３を設けた変形例２において、壁４２の高さが低いと、図６に示した従来構成に近くなる。そこで、本変形例では、上壁４２Ａを表示部２の遮光膜２２，カラーフィルタ２１，オーバーコート層２３およびスペーサ層２４と同じ層の積層構造とすることにより、間隙４１の調整を最も容易に行うことが可能となり、生産上の負荷を低減することも可能となっている。また、表示部２の共通電極１４および画素電極１６の厚みは合計しても数百ｎｍであるのに対して、カラーフィルタ２１，遮光膜２２（樹脂を用いた場合）およびオーバーコート層２３の厚みは数μｍオーダーと厚いので、上壁４２Ａを表示部２の遮光膜２２，カラーフィルタ２１，オーバーコート層２３およびスペーサ層２４と同じ層により構成することで、上壁４２Ａの高さを確保し、高性能の堰構造４０を得ることが可能となる。

特に、一般には額縁部３にはカラーフィルタ２１は配置しないが、表示部２のスペーサ層２４の下にはカラーフィルタ２１が配置されている。よって、上壁４２Ａがスペーサ層２４と同じ層により構成されている場合には、図２８（Ｂ）に示したように、上壁４２Ａに重ねて、赤色フィルタ２１Ｒ，緑色フィルタ２１Ｇおよび青色フィルタ２１Ｂが表示部２内と同様に面内方向に並べて配列されていることが好ましい。

このことを除いては、この液晶表示装置１Ｌは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例１３）
図２９は、変形例１３に係る液晶表示装置１Ｍの堰構造４０の断面構成を表したものである。この液晶表示装置１Ｍでは、変形例３と同様に、堰構造４０は、上壁４２Ａと下壁４２Ｂとの間に複数の束柱４３を有している。なお、液晶表示装置１ＭはＥＣＢ（Electrically Controlled Birefringence）モードの半透過型液晶表示装置であり、第１基板１０の有機絶縁層１３上に画素電極（図示せず）を有し、第２基板２０のオーバーコート層２３上に共通電極（図示せず）を有している。また、半透過型における透過部と反射部とのセルギャップＧの差を調整するために、反射部にギャップ調整層２６が設けられている。液晶表示装置１Ｍは垂直配向モードでもよい。

上壁４２Ａは、半透過型の表示部２のギャップ調整層２６と同じ層により構成されている。複数の束柱４３は、スペーサ層２４と同じ層により構成されている。下壁４２Ｂは、有機絶縁層１３と同じ層により構成されている。半透過型の反射部には、膜厚調整可能な層（堰構造４０に転用可能な層）として、透過型にもあるスペーサ層２４および有機絶縁層１３に加えて、更にギャップ調整層２６が設けられている。よって、容易に工程を増やさず堰構造４０を形成することが可能となる。

間隙４１は狭いほど効果があり、例えば０．５μｍ〜１μｍ程度であることが望ましい。一方、反射部のギャップＧｒは光学特性に依存し、通常は０．５μｍ〜１μｍより大きい。よって、下壁４２Ｂは表示部２の有機絶縁層１３や画素電極（図示せず）等の積層構造よりも高く、間隙４１は反射部のギャップＧｒよりも狭くなっている。

この液晶表示装置は、例えば、次のようにして製造することができる。

図３０および図３１は、図２９に示した液晶表示装置１Ｍの製造方法の主要部を工程順に表したものである。この製造方法は、表示部２の反射部のギャップＧｒの大きさと、堰構造４０の間隙４１の大きさとの差を、有機絶縁層１３の厚みを変えることによって調整するようにしたものである。なお、変形例１０と製造工程が重複する部分については、図２２および図２４を参照して説明する。

まず、図３０（Ａ）に示したように、変形例１０と同様にして、図２２（Ａ）に示した工程により、ガラス等よりなる第１基板１０を用意し、この第１基板１０に、ＴＦＴ等よりなる駆動回路（図示せず）を形成すると共に、金属配線層１２を形成する。

続いて、同じく図３０（Ａ）に示したように、変形例１０と同様にして、図２２（Ａ）に示した工程により、第１基板１０に有機絶縁層１３を形成し、表示部２におけるコンタクトホールの形成予定位置と、注入口部３Ｃにおける凹部４６の形成予定位置とに開口６１Ａを有するマスク６１を用いて第１回目の露光を行う。

引き続き、図３０（Ｂ）に示したように、表示部２の形成予定領域と、下壁４２Ｂの形成予定領域の一部とに開口６３Ａを有するマスク６３を用いて第２回目の露光を行う。これにより、図３０（Ｃ）に示したように、表示部２に有機絶縁層１３およびコンタクトホール１３Ａを形成すると共に、有機絶縁層１３と同じ層により下壁４２Ｂを形成する。同時に、下壁４２Ｂの上面の一部に凹部４２Ｃを設ける。

そののち、有機絶縁層１３上に、透過部はＩＴＯなどの透明電極により画素電極（図示せず）を形成し、反射部はアルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）などの光を反射する電極を用いて画素電極（図示せず）を形成する。続いて、画素電極の上に配向膜（図示せず）を形成する。

また、図３１（Ａ）に示したように、ガラス等よりなる第２基板２０を用意し、この第２基板２０にカラーフィルタ２１および遮光膜２２を形成する。次いで、カラーフィルタ２１および遮光膜２２をオーバーコート層２３で被覆し、表面を平坦化する。続いて、オーバーコート層２３の上に共通電極（図示せず）を形成する。

そののち、同じく図３１（Ａ）に示したように、表示部２の反射部にギャップ調整層２６を形成すると共に、ギャップ調整層２６と同じ層により上壁４２Ａを形成する。

続いて、図３１（Ｂ）に示したように、表示部２内にスペーサ層２４を形成すると共に、スペーサ層２４と同じ層により複数の束柱４３を形成する。スペーサ層２４と、複数の束柱４３とは同じ高さで形成する。そののち、配向膜（図示せず）を形成する。

第１基板１０および第２基板２０を形成したのち、例えば第１基板１０の額縁部３に、熱硬化樹脂または紫外線硬化樹脂により封止枠３Ａを形成する。封止枠３Ａは、表示部２を囲む矩形枠状に形成すると共に、第１基板１０の一辺に開口する注入口３Ｂを空け、注入口３Ｂと表示部２との間に注入口部３Ｃを設ける。

そののち、第１基板１０と第２基板２０とを封止枠３Ａを挟んで対向配置し、封止枠３Ａを構成する樹脂を硬化させることにより第１基板１０と第２基板２０とを貼り合わせる。これにより、ギャップ調整層２６と同じ層よりなる上壁４２Ａ，有機絶縁層１３と同じ層よりなる下壁４２Ｂ，およびスペーサ層２４と同じ層よりなる複数の束柱４３を有する堰構造４０が形成される。複数の束柱４３の先端部は、図３２に示したように、下壁４２Ｂの凹部４２Ｃに収容される。これにより、間隙４１の大きさを、表示部２の反射部のギャップＧｒ（スペーサ層２４の高さ、すなわち複数の束柱４３の高さ）よりも小さくすることが可能となる。

このように間隙４１の大きさを有機絶縁層１３のパターニングによって調節することには、以下のような利点がある。スペーサ層２４は一般的にネガレジストにより構成されているので、スペーサ層２４と同じ層よりなる複数の束柱４３の高さ調節は難しい。また、表示部２のスペーサ層２４の高さは表示部２のセルギャップＧの設計や光学特性に依存する。一方、有機絶縁層１３はポジレジストにより構成されている。ポジレジストは露光によって厚さは数百ｎｍ単位で、幅は数μｍ単位で制御可能である。従って、有機絶縁層１３のマスクを変更するのみで間隙４１の大きさを調整することが可能となる。また、反射部のギャップＧｒは狭くする必要があるので、生産性への影響は軽微である。

図３２とは反対に、間隙４１の大きさを、表示部２の反射部のギャップＧｒ（スペーサ層２４の高さ、すなわち複数の束柱４３の高さ）よりも大きくしたい場合には、図３３に示したように、有機絶縁層１３と同じ層よりなる下壁４２Ｂに、複数の束柱４３の先端部を載せる台座部４２Ｄを設ける。そのためには、図３０（Ｂ）に示した第２回目の露光の際に、下壁４２Ｂの台座部４２Ｄ以外の部分を、表示部２の形成予定領域と同じ露光量となるように露光する。

このようにして第１基板１０と第２基板２０とを貼り合わせたのち、第１基板１０と第２基板２０との間の内部空間に液晶を注入する。液晶は、堰構造４０の複数の束柱４３の間の間隙４１を通って表示部２に導入される。

そののち、封止枠３Ａの内部を減圧した状態で、注入口３Ｂの周辺に封止材５０を塗布し、封止材５０を注入口部３Ｃに引き込み、注入口３Ｂから堰構造４０までの部分に充填する。以上により、図２９に示した液晶表示装置１Ｍが完成する。

（第２の実施の形態）
図３４は、本開示の第２の実施の形態に係る液晶表示装置１Ｎの一部を拡大して表し、図３５は、図３４のＸＸＸＶ−ＸＸＸＶ線における断面構成を表したものである。図３６は、図３５に示した堰構造の構成を表したものである。この液晶表示装置１Ｎでは、第１の実施の形態と同様に、注入口部３Ｂに、堰構造４０と、封止材５０とが設けられている。堰構造４０は、第１の実施の形態と同様に、液晶の通過口としての間隙４１を有すると共に、第１基板１０および第２基板２０の両方に接している。具体的には、堰構造４０は、第１基板１０と第２基板２０との間に、封止材５０の進入方向Ａ１に対して垂直ではない（例えば、平行な）方向に設けられた複数の壁４８を有している。これにより、この液晶表示装置１Ｎでは、第１の実施の形態と同様に、封止材５０の注入速度や注入量のばらつきを低減することが可能となっている。

壁４８は、例えば、封止材５０の進入方向Ａ１に対して平行な方向に設けられていると共に、互いに間隙４１をあけて並べて配置されている。液晶は、複数の壁４８の間の間隙４１を通って表示部２に導入されるようになっている。間隙４１の幅を調整することにより、第１の実施の形態の壁４２と同様に封止材５０の注入速度や注入量が制御される。なお、壁４８の間隙４１は、変形例４と同様に封止材５０の進入方向Ａ１に対して斜めに設けたり、変形例５と同様に、蛇行形状としたりすることも可能である。壁４８は、例えば、スペーサ層２４またはオーバーコート層２３と同じ層により構成することが可能である。

このことを除いては、この液晶表示装置１Ｎは、第１の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例１４）
図３７は、変形例１４に係る液晶表示装置１Ｏの堰構造４０の平面構成を表したものである。堰構造４０は、封止材５０の注入経路を制御して、封止材５０の表示部２への影響を抑えるためのものであるので、本変形例のように、注入口３Ｂを表示部２の一辺の中間位置に設け、堰構造４０を表示部２の外形線に沿って直線状に設けるようにすることも可能である。このことを除いては、本変形例は第１または第２の実施の形態と同様の構成、作用および効果を有し、第１または第２の実施の形態と同様にして製造することができる。

（変形例１５）
図３８は、変形例１５に係る液晶表示装置１Ｐの堰構造４０の平面構成を表したものである。本変形例は、注入口３Ｂを表示部２の一角に設け、堰構造４０を表示部２の外形線に沿ってＬ字状に設けるようにしたことを除いては変形例１４と同様である。

以上、実施の形態を挙げて本開示を説明したが、本開示は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記第１の実施の形態では、壁４２または上壁４２Ａおよび下壁４２Ｂが、封止材５０の進入方向Ａ１に対して垂直な方向に延在している場合について説明した。しかしながら、壁４２または上壁４２Ａおよび下壁４２Ｂは、封止材５０の進入方向Ａ１に対してほぼ垂直、または交差する（斜めの）方向に設けられていることも可能である。

また、上記第２の実施の形態では、壁４８が、封止材５０の進入方向Ａ１に対して平行な方向に設けられている場合について説明したが、壁４８は、封止材５０の進入方向Ａ１に対してほぼ平行、または交差する（斜めの）方向に設けられていてもよい。

更に、上記実施の形態では、表示部２がＦＦＳの構成を有する場合について説明したが、ＴＮ（Twisted Nematic）またはＶＡ（Vertically Aligned）など他の構成を有していてもよい。

加えて、例えば、上記実施の形態において説明した各層の材料および厚み、または成膜方法および成膜条件などは限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよく、または他の成膜方法および成膜条件としてもよい。例えば、第１基板１０および第２基板２０は、ガラスのほか、シリコン（Ｓｉ）基板、プラスチック基板、または表面が絶縁性に保たれた他の材料基板でもよい。

更にまた、例えば、上記実施の形態において液晶表示装置の構成を具体的に挙げて説明したが、全ての構成要素を備える必要はなく、また、他の構成要素を更に備えていてもよい。

加えてまた、本開示の表示装置は、携帯電話，スマートフォン，デジタルカメラ，ポータブルＤＶＤブルーレイビューア，ポータブルゲーム機などのモバイル機器やＡＶ機器のモニタ、その他、カーナビゲーション装置，フォトフレーム，小型のノート型パーソナルコンピュータなどに適用可能である。中でも、携帯電話またはスマートフォンなどに適用すれば、狭額縁化という観点で有利である。

なお、本技術は以下のような構成を取ることも可能である。
（１）
一対の基板の間に液晶層を有する表示部と、前記一対の基板の周縁部に設けられた額縁部とを有し、
前記額縁部は、液晶注入のための注入口および前記注入口と前記表示部との間の注入口部を有し、
前記注入口部は、
間隙を有すると共に前記一対の基板の両方に接している堰構造と、
前記注入口から前記堰構造までの部分に設けられた封止材と
を備えた液晶表示装置。
（２）
前記堰構造は、
前記一対の基板の少なくとも一方に、前記封止材の進入方向に対して交差する方向に延在する壁と、
前記壁の上に設けられた複数の束柱と
を有する前記（１）記載の液晶表示装置。
（３）
前記間隙の出口に傾斜部を有する
前記（２）記載の液晶表示装置。
（４）
前記堰構造は、前記注入口からの距離が異なる二つ以上の位置に設けられている
前記（２）または（３）記載の液晶表示装置。
（５）
前記堰構造は、前記一対の基板の間に、前記封止材の進入方向に対して垂直ではない方向に設けられた複数の壁を有する
前記（１）記載の液晶表示装置。
（６）
前記堰構造は、前記表示部を構成する他の層と同じ層により構成されている
前記（１）ないし（５）のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
（７）
一対の基板の間に液晶層を有する表示部と、前記一対の基板の周縁部に設けられた額縁部とを有し、前記額縁部は、液晶注入のための注入口および前記注入口と前記表示部との間の注入口部を有する液晶表示装置の製造方法であって、
前記注入口部に、間隙を有すると共に前記一対の基板の両方に接している堰構造を形成する工程と、
前記注入口から前記堰構造までの部分に封止材を設ける工程と
を含む液晶表示装置の製造方法。
（８）
前記堰構造を、前記表示部を構成する他の層と同時に形成する
前記（７）記載の液晶表示装置の製造方法。
（９）
前記堰構造を複数の層の積層構造として形成すると共に、前記複数の層を、前記一対の基板の両方に振り分けて設ける
前記（８）記載の液晶表示装置の製造方法。
（１０）
前記堰構造の全部を、前記一対の基板のいずれか一方に設ける
前記（８）記載の液晶表示装置の製造方法。

１，１Ａ〜１Ｐ…液晶表示装置、２…表示部、３…額縁部、３Ａ…封止枠、３Ｂ…注入口、３Ｃ…注入口部、４…露出領域、５…外部接続端子、１０…第１基板、１１…保護層、１２…金属配線層、１３…有機絶縁層、１４…共通電極、１５…層間絶縁膜、１６…画素電極、１７，２５…配向膜、２０…第２基板、２１…カラーフィルタ、２２…遮光膜、２３…オーバーコート層、２４…スペーサ層、２６…ギャップ調整層、３０…液晶層、４０，４０Ａ，４０Ｂ…堰構造、４１…間隙、４１Ａ…出口、４２，４８…壁、４２Ａ…上壁、４２Ｂ…下壁、４２Ｃ…凹部、４２Ｄ…台座部、４３…束柱、４４…傾斜部、４５…突起、４６…凹部（液溜まり）、４７…下地層、４８…壁、５０…封止材

Claims (8)

1. 一対の基板の間に液晶層を有する表示部と、前記一対の基板の周縁部に設けられた額縁部とを有し、
   前記額縁部は、液晶注入のための注入口および前記注入口と前記表示部との間の注入口部を有し、
   前記注入口部は、
   間隙を有すると共に前記一対の基板の両方に接している堰構造と、
   前記注入口から前記堰構造までの部分に設けられた封止材と
   を備え、
   前記堰構造は、
   前記一対の基板の少なくとも一方に、前記封止材の進入方向に対して交差する方向に前記注入口の全幅に亘って延在する壁と、
   前記壁の上に、前記壁に接して設けられた複数の束柱と、前記複数の束柱の間に配置される前記間隙とを有し、
   前記間隙の出口に傾斜部を有し、
   前記傾斜部は、前記壁の前記表示部側の面と前記壁の上端部との間にある傾斜面である
   液晶表示装置。
2. 前記壁の前記基板に対する直交方向の長さは、前記表示部内に設けられたスペーサ層の前記基板に対する直交方向の長さよりも長い
   請求項１に記載の液晶表示装置。
3. 前記堰構造は、前記注入口からの距離が異なる二つ以上の位置に設けられている
   請求項１に記載の液晶表示装置。
4. 前記堰構造は、前記表示部を構成する他の層と同じ層により構成されている
   請求項１に記載の液晶表示装置。
5. 一対の基板の間に液晶層を有する表示部と、前記一対の基板の周縁部に設けられた額縁部とを有し、前記額縁部は、液晶注入のための注入口および前記注入口と前記表示部との間の注入口部を有する液晶表示装置の製造方法であって、
   前記注入口部に、間隙を有すると共に前記一対の基板の両方に接している堰構造を形成する工程と、
   前記注入口から前記堰構造までの部分に封止材を設ける工程と
   を含み、
   前記堰構造は、前記一対の基板の少なくとも一方に、前記封止材の進入方向に対して交差する方向に前記注入口の全幅に亘って延在する壁と、前記壁の上に、前記壁に接して設けられた複数の束柱と、前記複数の束柱の間に配置される前記間隙とを有し、前記間隙の出口に傾斜部を有し、前記傾斜部は、前記壁の前記表示部側の面と前記壁の上端部との間にある傾斜面であるように形成される液晶表示装置の製造方法。
6. 前記堰構造を、前記表示部を構成する他の層と同時に形成する
   請求項５に記載の液晶表示装置の製造方法。
7. 前記堰構造を複数の層の積層構造として形成すると共に、前記複数の層を、前記一対の基板の両方に振り分けて設ける
   請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。
8. 前記堰構造の全部を、前記一対の基板のいずれか一方に設ける
   請求項６に記載の液晶表示装置の製造方法。

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