JPH11183915A - アクティブマトリクス型液晶表示装置 - Google Patents
アクティブマトリクス型液晶表示装置Info
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- JPH11183915A JPH11183915A JP9353147A JP35314797A JPH11183915A JP H11183915 A JPH11183915 A JP H11183915A JP 9353147 A JP9353147 A JP 9353147A JP 35314797 A JP35314797 A JP 35314797A JP H11183915 A JPH11183915 A JP H11183915A
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
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- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
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- G—PHYSICS
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F2202/00—Materials and properties
- G02F2202/28—Adhesive materials or arrangements
Abstract
(57)【要約】
【課題】画素領域に液晶の配向を乱し光漏れを生じさせ
たり、それ自身によって光漏れや点欠陥を生じさせる透
明球体状のスペーサが存在せず、かつパネルギャップを
パネル面内で均一かつ精度良く一定に保つことにより、
色ムラがなく、表示不良のない液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】カラーフィルタ形成材料を用いカラーフィ
ルタの遮光層の交差部上に支柱を形成する。この支柱上
に、パネルの周囲に形成される液晶を封じ込めるための
シール材と同じ構成成分からなる樹脂の接着層を形成す
る。また、この接着層を形成するための工程は、液晶を
封じ込めるためのシールを形成する工程で行える。
たり、それ自身によって光漏れや点欠陥を生じさせる透
明球体状のスペーサが存在せず、かつパネルギャップを
パネル面内で均一かつ精度良く一定に保つことにより、
色ムラがなく、表示不良のない液晶表示装置を提供す
る。 【解決手段】カラーフィルタ形成材料を用いカラーフィ
ルタの遮光層の交差部上に支柱を形成する。この支柱上
に、パネルの周囲に形成される液晶を封じ込めるための
シール材と同じ構成成分からなる樹脂の接着層を形成す
る。また、この接着層を形成するための工程は、液晶を
封じ込めるためのシールを形成する工程で行える。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、アクティブマトリ
クス型液晶表示装置に関し、特に支柱の構成およびカラ
ーフィルタ基板とアクティブ素子を設けた基板の接着に
関するものである。
クス型液晶表示装置に関し、特に支柱の構成およびカラ
ーフィルタ基板とアクティブ素子を設けた基板の接着に
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来一般的なアクティブマトリクス型の
液晶表示装置は、スイッチ素子と電極を形成したアクテ
ィブマトリクス基板とこれに対向するカラーフィルタ基
板の二枚の透明基板を間隙を置いて対向させて張り合わ
せ、この間隙に液晶を注入して形成される。液晶注入の
方法は、液晶注入前の空パネルを一度減圧し、減圧した
パネルの液晶注入口を液晶に浸し、ゆっくりとパネルを
常圧に戻した後、パネル内と外の圧力差で液晶注入を行
う減圧注入法で行われる。
液晶表示装置は、スイッチ素子と電極を形成したアクテ
ィブマトリクス基板とこれに対向するカラーフィルタ基
板の二枚の透明基板を間隙を置いて対向させて張り合わ
せ、この間隙に液晶を注入して形成される。液晶注入の
方法は、液晶注入前の空パネルを一度減圧し、減圧した
パネルの液晶注入口を液晶に浸し、ゆっくりとパネルを
常圧に戻した後、パネル内と外の圧力差で液晶注入を行
う減圧注入法で行われる。
【０００３】この両基板間に電圧を印加し、印加電圧に
応じて液晶分子の配向状態を変化させることにより光の
透過率を制御する方式（縦電界方式）を用いている。近
年、広視野角を特徴とする方式も用いられる様になって
いる。この方式の１つにアクティブマトリクス基板側の
みに電極を設け、基板に対して平行な電界により液晶分
子を駆動させ、透過率の制御を行う方式（横電界方式）
もある。
応じて液晶分子の配向状態を変化させることにより光の
透過率を制御する方式（縦電界方式）を用いている。近
年、広視野角を特徴とする方式も用いられる様になって
いる。この方式の１つにアクティブマトリクス基板側の
みに電極を設け、基板に対して平行な電界により液晶分
子を駆動させ、透過率の制御を行う方式（横電界方式）
もある。
【０００４】一般的な液晶表示装置は、対向基板間の間
隔を所要の寸法で精度よく設けるために、ガラスやプラ
スチック等の透明球体状のスペーサ粒子を表示領域内に
多数散布する必要がある。この点について図面を参照し
ながら説明する。図５は、一般的な液晶表示装置の要部
断面図である。薄膜トランジスタ基板１上には、ＴＦＴ
１５と画素電極２３が形成されている。また、薄膜トラ
ンジスタ基板１とカラーフィルタ基板２の間には、基板
間の間隔を所要の寸法にするための球状スペーサ２４が
多数配置されている。
隔を所要の寸法で精度よく設けるために、ガラスやプラ
スチック等の透明球体状のスペーサ粒子を表示領域内に
多数散布する必要がある。この点について図面を参照し
ながら説明する。図５は、一般的な液晶表示装置の要部
断面図である。薄膜トランジスタ基板１上には、ＴＦＴ
１５と画素電極２３が形成されている。また、薄膜トラ
ンジスタ基板１とカラーフィルタ基板２の間には、基板
間の間隔を所要の寸法にするための球状スペーサ２４が
多数配置されている。
【０００５】しかし、このスペーサの周囲は、液晶のス
ペーサの相互作用により液晶分子がスペーサの形状に沿
って配列してしまい、所要の方向に規制されない。この
結果として、スペーサの周囲は黒表示をした時に光漏れ
がおこる。スペーサ周囲の光漏れはコントラストの低下
および表示のざらつきといった悪影響を及ぼすことにな
る。
ペーサの相互作用により液晶分子がスペーサの形状に沿
って配列してしまい、所要の方向に規制されない。この
結果として、スペーサの周囲は黒表示をした時に光漏れ
がおこる。スペーサ周囲の光漏れはコントラストの低下
および表示のざらつきといった悪影響を及ぼすことにな
る。
【０００６】また一方では近年、表示の視認性向上のた
め大画面化が進んでいる。大画面化がすすむにつれて均
一なセルギャップを維持することが困難になる。このよ
うなことから、スペーサ粒子の散布を不要とする構造の
ものが提案されている。例えば、特開平２−２９８９１
６号公報では、カラーフィルタの形成されている基板に
カラーフィルタ材料により突起部を設け、これを突き合
わせてスペーサ支柱とする液晶表示装置が提案されてい
る。この従来例を図面を参照しながら説明する。図６
（ａ）は、この従来例の液晶表示装置の構成を示すカラ
ーフィルタ基板の断面図である。カラーフィルタ基板２
上には遮光層１１およびカラーフィルタ１０を積層して
形成した支柱が一定間隔に配置されている。支柱と支柱
の間には電極２２が形成されている。しかし、両基板を
張り合わせるための接着材はパネルの周辺のみに形成さ
れている。
め大画面化が進んでいる。大画面化がすすむにつれて均
一なセルギャップを維持することが困難になる。このよ
うなことから、スペーサ粒子の散布を不要とする構造の
ものが提案されている。例えば、特開平２−２９８９１
６号公報では、カラーフィルタの形成されている基板に
カラーフィルタ材料により突起部を設け、これを突き合
わせてスペーサ支柱とする液晶表示装置が提案されてい
る。この従来例を図面を参照しながら説明する。図６
（ａ）は、この従来例の液晶表示装置の構成を示すカラ
ーフィルタ基板の断面図である。カラーフィルタ基板２
上には遮光層１１およびカラーフィルタ１０を積層して
形成した支柱が一定間隔に配置されている。支柱と支柱
の間には電極２２が形成されている。しかし、両基板を
張り合わせるための接着材はパネルの周辺のみに形成さ
れている。
【０００７】図６（ｂ）は、前記支柱が形成されている
カラーフィルタ基板の一部を表す平面図である。基板上
には、Ｒ、Ｇ、Ｂの色層が形成され、この色層の間を網
目状に遮光層１１が形成されている。基板の間隔を一定
に規制するための支柱１６は網目状に配置されている遮
光層１１の交差部に形成されている。しかし、この従来
例の構造では２枚の対向基板の接着はパネル周囲のみで
行われる。
カラーフィルタ基板の一部を表す平面図である。基板上
には、Ｒ、Ｇ、Ｂの色層が形成され、この色層の間を網
目状に遮光層１１が形成されている。基板の間隔を一定
に規制するための支柱１６は網目状に配置されている遮
光層１１の交差部に形成されている。しかし、この従来
例の構造では２枚の対向基板の接着はパネル周囲のみで
行われる。
【０００８】この方法では、たとえパネル内に支柱が有
っても、液晶注入の際に基板間隔を一定に保つことは困
難であり、実際には基板中央部の基板間隔が周囲に比べ
厚くできる。この場合２枚の基板間隔を支柱１６の高さ
に修正するためには、液晶注入後および注入口封止前に
パネル面を圧縮して基板間隔を一定にする新たな工程が
必要になる。このように従来の構造および注入方法を用
いると、パネル面内にパネルギャップの不均一な部分が
できる。この部分は透過率および色味が異なり、輝度ム
ラおよび色ムラとなってパネル面内で均一な画質を得ら
れない。
っても、液晶注入の際に基板間隔を一定に保つことは困
難であり、実際には基板中央部の基板間隔が周囲に比べ
厚くできる。この場合２枚の基板間隔を支柱１６の高さ
に修正するためには、液晶注入後および注入口封止前に
パネル面を圧縮して基板間隔を一定にする新たな工程が
必要になる。このように従来の構造および注入方法を用
いると、パネル面内にパネルギャップの不均一な部分が
できる。この部分は透過率および色味が異なり、輝度ム
ラおよび色ムラとなってパネル面内で均一な画質を得ら
れない。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】従来の支柱つきカラー
フィルタ構造では球状スペーサによるコントラストの低
下は無くなるが、２枚の対向基板を接着するものはな
い。たとえ２枚の対向基板の間隔を規制するための支柱
があっても、パネル中に液晶が入ると支柱より２枚の基
板間隔が厚くなり、均一なパネルギャップを形成するこ
とができないとう問題がある。
フィルタ構造では球状スペーサによるコントラストの低
下は無くなるが、２枚の対向基板を接着するものはな
い。たとえ２枚の対向基板の間隔を規制するための支柱
があっても、パネル中に液晶が入ると支柱より２枚の基
板間隔が厚くなり、均一なパネルギャップを形成するこ
とができないとう問題がある。
【００１０】本発明では、カラーフィルタ基板上にカラ
ーフィルタ形成材料でパネルギャップを規制するための
支柱を設ける。更にこの支柱の上面に接着層を形成する
ことにより薄膜トランジスタ基板とカラーフィルタ基板
を接着する。従って、パネルギャップをパネル面内で均
一かつ安定に形成でき、その精度も所要の寸法にするこ
とが可能である。特に、パネルの使用環境およびパネル
外からの圧力によりパネルギャップの変化が起こらな
い。また、その結果として色ムラがなく、スペーサによ
るコントラストの低下および表示のざらつきといった表
示上の問題が無い液晶表示装置を提供することが目的で
ある。
ーフィルタ形成材料でパネルギャップを規制するための
支柱を設ける。更にこの支柱の上面に接着層を形成する
ことにより薄膜トランジスタ基板とカラーフィルタ基板
を接着する。従って、パネルギャップをパネル面内で均
一かつ安定に形成でき、その精度も所要の寸法にするこ
とが可能である。特に、パネルの使用環境およびパネル
外からの圧力によりパネルギャップの変化が起こらな
い。また、その結果として色ムラがなく、スペーサによ
るコントラストの低下および表示のざらつきといった表
示上の問題が無い液晶表示装置を提供することが目的で
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明は、カラーフィル
タ基板および薄膜トランジスタ基板間に液晶が挟持さ
れ、薄膜トランジスタ基板上にはマトリクス状に配置さ
れた複数のゲート配線、ドレイン配線、前記ゲート配線
とドレイン配線の交差部近傍に形成された薄膜トランジ
スタおよび前記薄膜トランジスタに対応した画素部とを
有し、カラーフィルタ基板には前記薄膜トランジスタ基
板上に形成されたゲート配線、ドレイン配線、薄膜トラ
ンジスタおよび表示部以外の部分を遮光するような形状
のブラックマトリクスが存在するアクティブマトリクス
型液晶表示装置において、前記カラーフィルタ基板のブ
ラックマトリクス上にカラーフィルタ基板と薄膜トラン
ジスタ基板の間隔を一定に規制する多数の支柱が形成さ
れ、更に前記支柱の上面に塗布された接着層により前記
両基板を接着したことを特徴とする。
タ基板および薄膜トランジスタ基板間に液晶が挟持さ
れ、薄膜トランジスタ基板上にはマトリクス状に配置さ
れた複数のゲート配線、ドレイン配線、前記ゲート配線
とドレイン配線の交差部近傍に形成された薄膜トランジ
スタおよび前記薄膜トランジスタに対応した画素部とを
有し、カラーフィルタ基板には前記薄膜トランジスタ基
板上に形成されたゲート配線、ドレイン配線、薄膜トラ
ンジスタおよび表示部以外の部分を遮光するような形状
のブラックマトリクスが存在するアクティブマトリクス
型液晶表示装置において、前記カラーフィルタ基板のブ
ラックマトリクス上にカラーフィルタ基板と薄膜トラン
ジスタ基板の間隔を一定に規制する多数の支柱が形成さ
れ、更に前記支柱の上面に塗布された接着層により前記
両基板を接着したことを特徴とする。
【００１２】本発明では、カラーフィルタ基板上に形成
された支柱は、カラーフィルタおよびブラックマトリク
スの形成材料により形成されている。また、支柱の上面
に形成される接着層は、液晶を封入するためにパネル周
囲に形成するシール剤と同じ構成成分からなる樹脂であ
り、更に、ラビング処理後に形成することを特徴とす
る。
された支柱は、カラーフィルタおよびブラックマトリク
スの形成材料により形成されている。また、支柱の上面
に形成される接着層は、液晶を封入するためにパネル周
囲に形成するシール剤と同じ構成成分からなる樹脂であ
り、更に、ラビング処理後に形成することを特徴とす
る。
【００１３】本発明の液晶表示装置では、カラーフィル
タを有する基板上の遮光層上に２枚の基板間隔を一定に
規制するための支柱を具備し、この支柱は、カラーフィ
ルタ形成材料で形成されかつこの支柱の上面に接着層を
有する。この支柱上面の接着層で２枚の基板を接着する
ため、パネルギャップをパネル面内で均一かつ精度よく
一定に保つことができ、色ムラがない液晶表示装置を提
供することが可能である。
タを有する基板上の遮光層上に２枚の基板間隔を一定に
規制するための支柱を具備し、この支柱は、カラーフィ
ルタ形成材料で形成されかつこの支柱の上面に接着層を
有する。この支柱上面の接着層で２枚の基板を接着する
ため、パネルギャップをパネル面内で均一かつ精度よく
一定に保つことができ、色ムラがない液晶表示装置を提
供することが可能である。
【００１４】
【発明の実施の形態】次に本発明について図面を参照し
て詳細に説明する。図１〜図３は本発明の第１の実施の
形態を示す図で、図１は、本実施の形態の薄膜トランジ
スタ基板の１画素分の構成を示す平面図であり、図２
は、パネルの構造を示す断面図である。図３は、本実施
の形態のパネル断面図（全体）である。
て詳細に説明する。図１〜図３は本発明の第１の実施の
形態を示す図で、図１は、本実施の形態の薄膜トランジ
スタ基板の１画素分の構成を示す平面図であり、図２
は、パネルの構造を示す断面図である。図３は、本実施
の形態のパネル断面図（全体）である。
【００１５】図１を参照すると、薄膜トランジスタ基板
１にはゲート配線３とドレイン配線４が縦横に直交方向
に形成され、交差部近傍に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１５が配置されている。ゲート配線３とドレイン配線４
に囲まれた領域が１画素であり、この領域に表示部１７
が形成されている。薄膜トランジスタ基板１とカラーフ
ィルタ基板２を接着するための支柱は、遮光層上で且つ
ＴＦＴ１５と重ならない位置ならばよい。
１にはゲート配線３とドレイン配線４が縦横に直交方向
に形成され、交差部近傍に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
１５が配置されている。ゲート配線３とドレイン配線４
に囲まれた領域が１画素であり、この領域に表示部１７
が形成されている。薄膜トランジスタ基板１とカラーフ
ィルタ基板２を接着するための支柱は、遮光層上で且つ
ＴＦＴ１５と重ならない位置ならばよい。
【００１６】図２は、本発明の液晶表示装置の構成を示
す要部拡大断面図である。図２に示すように、ドレイン
配線４、ゲート配線３およびＴＦＴを有する薄膜トラン
ジスタ基板１と、カラーフィルタ１０および接着層１４
を有するカラーフィルタ基板２と、これらの基板間に挟
持されている液晶層９および両基板外面に配置されてい
る偏光板１３から構成されている。薄膜トランジスタ基
板１上にはドレイン配線４およびゲート配線３とその交
差部近傍にＴＦＴ１５が形成され、更に液晶の配向を規
制するための配向膜８が形成されている。
す要部拡大断面図である。図２に示すように、ドレイン
配線４、ゲート配線３およびＴＦＴを有する薄膜トラン
ジスタ基板１と、カラーフィルタ１０および接着層１４
を有するカラーフィルタ基板２と、これらの基板間に挟
持されている液晶層９および両基板外面に配置されてい
る偏光板１３から構成されている。薄膜トランジスタ基
板１上にはドレイン配線４およびゲート配線３とその交
差部近傍にＴＦＴ１５が形成され、更に液晶の配向を規
制するための配向膜８が形成されている。
【００１７】また、カラーフィルタ基板２上には、樹脂
からなる遮光層１１が形成され、遮光層１１上にカラー
フィルタ１０（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）がホトリソグ
ラフ法により積層され、積層したカラーフィルタ１０
ａ、１０ｂ、１０ｃ上に透明絶縁膜１２が形成されてい
る。カラーフィルタ１０ａ、１０ｂ、１０ｃの積層によ
り支柱が構成されている。透明絶縁膜１２上には配向膜
８が形成され、更にその上にカラーフィルタ基板２と薄
膜トランジスタ基板１を接着するための接着層１４が形
成されている。また、表示領域にのみに透明電極２２が
形成されている。薄膜トランジスタと接着層はお互いが
接触しない位置に配置される。
からなる遮光層１１が形成され、遮光層１１上にカラー
フィルタ１０（１０ａ、１０ｂ、１０ｃ）がホトリソグ
ラフ法により積層され、積層したカラーフィルタ１０
ａ、１０ｂ、１０ｃ上に透明絶縁膜１２が形成されてい
る。カラーフィルタ１０ａ、１０ｂ、１０ｃの積層によ
り支柱が構成されている。透明絶縁膜１２上には配向膜
８が形成され、更にその上にカラーフィルタ基板２と薄
膜トランジスタ基板１を接着するための接着層１４が形
成されている。また、表示領域にのみに透明電極２２が
形成されている。薄膜トランジスタと接着層はお互いが
接触しない位置に配置される。
【００１８】ここで実施の形態を基に具体的な値を用い
て構造についての説明をする。まず、支柱の寸法につい
て述べる。支柱の高さはカラーフィルタ１０ａ、１０
ｂ、１０ｃおよび遮光層１１の膜厚になる。カラーフィ
ルタはＲ，Ｇ，Ｂ三色の膜１０ａ、１０ｂ、１０ｃの積
層構造であり、各層の膜厚は、１．０μｍである。ま
た、遮光層１１の膜厚は０．５μｍであるので支柱の高
さは３．５μｍとなる。この支柱の高さはカラーフィル
タ基板上のＲ、Ｇ、Ｂ三色および遮光層の膜厚の組み合
わせにより自由に変えることが可能である。
て構造についての説明をする。まず、支柱の寸法につい
て述べる。支柱の高さはカラーフィルタ１０ａ、１０
ｂ、１０ｃおよび遮光層１１の膜厚になる。カラーフィ
ルタはＲ，Ｇ，Ｂ三色の膜１０ａ、１０ｂ、１０ｃの積
層構造であり、各層の膜厚は、１．０μｍである。ま
た、遮光層１１の膜厚は０．５μｍであるので支柱の高
さは３．５μｍとなる。この支柱の高さはカラーフィル
タ基板上のＲ、Ｇ、Ｂ三色および遮光層の膜厚の組み合
わせにより自由に変えることが可能である。
【００１９】図３は、本実施の形態のパネル断面図（全
体）であり、薄膜トランジスタ基板１と支柱１６および
接着層１４が形成されたカラーフィルタ基板２を組み合
わせたものである。薄膜トランジスタ基板１およびカラ
ーフィルタ基板２の間隔は、支柱１６で規制されており
接着層１４で２枚の基板を接着している。また、周囲に
は液晶を封入するためのシール１８が形成されている。
体）であり、薄膜トランジスタ基板１と支柱１６および
接着層１４が形成されたカラーフィルタ基板２を組み合
わせたものである。薄膜トランジスタ基板１およびカラ
ーフィルタ基板２の間隔は、支柱１６で規制されており
接着層１４で２枚の基板を接着している。また、周囲に
は液晶を封入するためのシール１８が形成されている。
【００２０】次に、薄膜トランジスタ基板１とカラーフ
ィルタ基板２を接着するための接着層の形成方法および
接着方法を記述する。接着層はカラーフィルタ基板の支
柱上に形成する。接着層の形成はカラーフィルタ基板に
ラビングを施した後に行う。形成方法は、液晶をパネル
内に封入するためにパネル周囲に形成するシールと同時
に同じ材料および同じ方法で形成する。シールの形成方
法は、パネルギャップを規制するためのロッドスペーサ
が入ったシール材をディスペンサー方式でパターン形成
する。このシール形成と同時に、カラーフィルタ基板の
色層を積層した最表面に接着層を同時に形成する。接着
層のシール材にはパネルギャップを規制するためのロッ
ドスペーサが入っていないものを使用する。塗布方法は
ディスペンサー方式で行う。接着層を形成した後、カラ
ーフィルタ基板と薄膜トランジスタ基板を張り合わせ
る。張り合わせた基板に熱をかけることにより接着層を
硬化させ基板を完全に接着する。この熱硬化の工程は、
パネル周囲のシール部分を硬化させるのと同じ工程であ
り新たな工程ではない。その後の工程は通常のパネル作
製と同様な工程でパネルを作製できる。
ィルタ基板２を接着するための接着層の形成方法および
接着方法を記述する。接着層はカラーフィルタ基板の支
柱上に形成する。接着層の形成はカラーフィルタ基板に
ラビングを施した後に行う。形成方法は、液晶をパネル
内に封入するためにパネル周囲に形成するシールと同時
に同じ材料および同じ方法で形成する。シールの形成方
法は、パネルギャップを規制するためのロッドスペーサ
が入ったシール材をディスペンサー方式でパターン形成
する。このシール形成と同時に、カラーフィルタ基板の
色層を積層した最表面に接着層を同時に形成する。接着
層のシール材にはパネルギャップを規制するためのロッ
ドスペーサが入っていないものを使用する。塗布方法は
ディスペンサー方式で行う。接着層を形成した後、カラ
ーフィルタ基板と薄膜トランジスタ基板を張り合わせ
る。張り合わせた基板に熱をかけることにより接着層を
硬化させ基板を完全に接着する。この熱硬化の工程は、
パネル周囲のシール部分を硬化させるのと同じ工程であ
り新たな工程ではない。その後の工程は通常のパネル作
製と同様な工程でパネルを作製できる。
【００２１】このような方法で作製したパネルのギャッ
プを測定したところ、パネル面内で均一かつ精度良く一
定であり、パネルギャップが不均一であることに起因す
る色ムラがない液晶表示装置が得られた。また、本実施
の形態の構造を用いると、球状スペーサを散布しないた
め、スペーサ周辺の光漏れが無く、コントラストの低下
や表示のざらつきが無い液晶表示装置が得られた。
プを測定したところ、パネル面内で均一かつ精度良く一
定であり、パネルギャップが不均一であることに起因す
る色ムラがない液晶表示装置が得られた。また、本実施
の形態の構造を用いると、球状スペーサを散布しないた
め、スペーサ周辺の光漏れが無く、コントラストの低下
や表示のざらつきが無い液晶表示装置が得られた。
【００２２】また、本実施の形態のカラーフィルタ基板
上に形成した透明絶縁膜としてはポリイミド系、アクリ
ル系および無機珪素酸素化合物、無機窒素化合物等があ
り、透明絶縁膜を省略することも可能である。更に、支
柱上面に形成された接着層は熱可塑性物質であるため、
２枚の対向基板接着後はほぼ膜厚が無くなる。このため
接着層の膜厚はパネルギャップに影響を与えない。
上に形成した透明絶縁膜としてはポリイミド系、アクリ
ル系および無機珪素酸素化合物、無機窒素化合物等があ
り、透明絶縁膜を省略することも可能である。更に、支
柱上面に形成された接着層は熱可塑性物質であるため、
２枚の対向基板接着後はほぼ膜厚が無くなる。このため
接着層の膜厚はパネルギャップに影響を与えない。
【００２３】本発明の第２の実施の形態は、コモン電極
と画素電極の横電界により液晶を駆動させる液晶表示装
置の例である。図４は、第２の実施の形態の液晶表示装
置の１画素分を表した平面図であり、以下にその構造に
ついて図面を参照しながら説明する。薄膜トランジスタ
基板１にはゲート配線３とドレイン配線４が縦横に直交
方向に形成され、交差部近傍に薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）１５が配置されている。ゲート配線３とドレイン配
線４に囲まれた領域が１画素であり、この領域に表示部
が形成されている。表示部内には共通電極１９およびソ
ース電極２０が交互に一定間隔に形成され、これらの電
極の電界で液晶を基板に対して水平方向に駆動させる。
と画素電極の横電界により液晶を駆動させる液晶表示装
置の例である。図４は、第２の実施の形態の液晶表示装
置の１画素分を表した平面図であり、以下にその構造に
ついて図面を参照しながら説明する。薄膜トランジスタ
基板１にはゲート配線３とドレイン配線４が縦横に直交
方向に形成され、交差部近傍に薄膜トランジスタ（ＴＦ
Ｔ）１５が配置されている。ゲート配線３とドレイン配
線４に囲まれた領域が１画素であり、この領域に表示部
が形成されている。表示部内には共通電極１９およびソ
ース電極２０が交互に一定間隔に形成され、これらの電
極の電界で液晶を基板に対して水平方向に駆動させる。
【００２４】カラーフィルタ基板の構造は第１の実施の
形態の図２と同様な構造であり、カラーフィルタ基板２
上に樹脂からなる遮光層１１が形成される。遮光層１１
上にカラーフィルタの色層１０がホトリソグラフ法によ
り積層され、積層した色層上に透明絶縁膜１２が形成さ
れている。透明絶縁膜１２上には、配向処理の行われた
配向膜が形成され、更に、その上にカラーフィルタ基板
２と薄膜トランジスタ基板１を接着層が形成されてい
る。しかし、第１の実施の形態と異なる点はカラーフィ
ルタ基板上の表示領域に透明電極が形成されないことで
ある。
形態の図２と同様な構造であり、カラーフィルタ基板２
上に樹脂からなる遮光層１１が形成される。遮光層１１
上にカラーフィルタの色層１０がホトリソグラフ法によ
り積層され、積層した色層上に透明絶縁膜１２が形成さ
れている。透明絶縁膜１２上には、配向処理の行われた
配向膜が形成され、更に、その上にカラーフィルタ基板
２と薄膜トランジスタ基板１を接着層が形成されてい
る。しかし、第１の実施の形態と異なる点はカラーフィ
ルタ基板上の表示領域に透明電極が形成されないことで
ある。
【００２５】接着層の形成方法および薄膜トランジスタ
基板とカラーフィルタ基板の接着方法は第１の実施の形
態と同様に行う。このような方法で作製したパネルのギ
ャップを測定したところ、パネル面内で均一かつ精度良
く一定であり、パネルギャップが不均一であることに起
因する色ムラがない液晶表示装置が得られた。本実施の
形態の横電界方式ではパネルギャップが異なるとパネル
透過率、色味、応答速度が大きく変化する。本実施の形
態では表示面内でパネルギャップを精度よく均一に形成
することが可能であり、輝度ムラ、色ムラおよび残像の
ない表示が可能となるため効果が大きい。
基板とカラーフィルタ基板の接着方法は第１の実施の形
態と同様に行う。このような方法で作製したパネルのギ
ャップを測定したところ、パネル面内で均一かつ精度良
く一定であり、パネルギャップが不均一であることに起
因する色ムラがない液晶表示装置が得られた。本実施の
形態の横電界方式ではパネルギャップが異なるとパネル
透過率、色味、応答速度が大きく変化する。本実施の形
態では表示面内でパネルギャップを精度よく均一に形成
することが可能であり、輝度ムラ、色ムラおよび残像の
ない表示が可能となるため効果が大きい。
【００２６】
【発明の効果】本発明は、カラーフィルタ基板上に形成
された支柱の上面に接着層を設け、カラーフィルタ基板
と薄膜トランジスタ基板を接着固定することによりパネ
ルギャップを一定に保つことが可能である。このため表
示性能としては色ムラおよび輝度ムラがない液晶表示装
置を提供することが可能である。この支柱はカラーフィ
ルタ基板の特定の遮光部に形成している。従って、画素
領域に透明球状スペーサが存在しないため、液晶の配向
を乱し光漏れを生じさせたりそれ自身によって光漏れや
点欠陥を生じさせることがなく、黒レベルの低下やコン
トラストの低下といった問題が生じない。
された支柱の上面に接着層を設け、カラーフィルタ基板
と薄膜トランジスタ基板を接着固定することによりパネ
ルギャップを一定に保つことが可能である。このため表
示性能としては色ムラおよび輝度ムラがない液晶表示装
置を提供することが可能である。この支柱はカラーフィ
ルタ基板の特定の遮光部に形成している。従って、画素
領域に透明球状スペーサが存在しないため、液晶の配向
を乱し光漏れを生じさせたりそれ自身によって光漏れや
点欠陥を生じさせることがなく、黒レベルの低下やコン
トラストの低下といった問題が生じない。
【００２７】また、この支柱はカラーフィルタ形成材料
で形成することが可能であり、カラーフィルタの形成と
同時に支柱を形成できる。このため、カラーフィルタ基
板の製造工程を従来と比べ増加させることがなく、使用
部材の増加もない。また、カラーフィルタ上に支柱を形
成することにより透明球状スペーサを分散する工程が省
け、液晶表示装置の歩留まりの向上および製造コストの
低廉化を図ることができる。
で形成することが可能であり、カラーフィルタの形成と
同時に支柱を形成できる。このため、カラーフィルタ基
板の製造工程を従来と比べ増加させることがなく、使用
部材の増加もない。また、カラーフィルタ上に支柱を形
成することにより透明球状スペーサを分散する工程が省
け、液晶表示装置の歩留まりの向上および製造コストの
低廉化を図ることができる。
【００２８】カラーフィルタ上に形成する接着層は、液
晶を封じ込めるパネル周辺のシール材と同じ構成成分お
よび同工程で形成することが可能であるため、新たな工
程および材料を必要としない。大画面ＬＣＤはパネルギ
ャップを面内で均一にすることが困難であるため、本発
明の構造は特に表示エリアが大きい大画面ＬＣＤに対し
て効果が大きい。
晶を封じ込めるパネル周辺のシール材と同じ構成成分お
よび同工程で形成することが可能であるため、新たな工
程および材料を必要としない。大画面ＬＣＤはパネルギ
ャップを面内で均一にすることが困難であるため、本発
明の構造は特に表示エリアが大きい大画面ＬＣＤに対し
て効果が大きい。
【００２９】また、横電界型液晶表示装置では、パネル
ギャップが異なると、パネル透過率、色味、応答速度が
変化する。従って、本発明の構造を用いると表示面内で
パネルギャップを精度よく均一に形成することが可能で
あり、輝度ムラ、色ムラおよび残像のない表示が可能と
なるため効果が大きい。
ギャップが異なると、パネル透過率、色味、応答速度が
変化する。従って、本発明の構造を用いると表示面内で
パネルギャップを精度よく均一に形成することが可能で
あり、輝度ムラ、色ムラおよび残像のない表示が可能と
なるため効果が大きい。
【図１】本発明の第１の実施の形態における薄膜トラン
ジスタ基板の１画素分の平面図である。
ジスタ基板の１画素分の平面図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態におけるパネル構造
を示す断面図である。
を示す断面図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態におけるパネル全体
の断面図である。
の断面図である。
【図４】本発明の第２の実施の形態における薄膜トラン
ジスタ基板の１画素分の平面図である。
ジスタ基板の１画素分の平面図である。
【図５】従来の液晶表示パネルの構造を示す断面図であ
る。
る。
【図６】（ａ），（ｂ）は、特開平２−２９８９１６に
示される従来技術によるカラーフィルタ基板の構成を示
す断面図と平面図である。
示される従来技術によるカラーフィルタ基板の構成を示
す断面図と平面図である。
１ 薄膜トランジスタ基板 ２ カラーフィルタ基板 ３ ゲート配線 ４ ドレイン配線 ５ 非晶質シリコン ６ ゲート絶縁膜 ８ 配向膜 ９ 液晶層 １０ａ、１０ｂ、１０ｃ カラーフィルタ １１ 遮光層（ブラックマトリクス） １２ 透明絶縁膜 １３ 偏光板 １４ 接着層 １５ ＴＦＴ １６ 支柱 １７ 表示部 １８ シール １９ 共通電極 ２０ ソース電極 ２１ 半導体層 ２２ 透明電極 ２３ 画素電極 ２４ 球状スペーサ
Claims (3)
- 【請求項１】 カラーフィルタ基板および薄膜トランジ
スタ基板間に液晶が挟持され、薄膜トランジスタ基板上
にはマトリクス状に配置された複数のゲート配線、ドレ
イン配線、前記ゲート配線とドレイン配線の交差部近傍
に形成された薄膜トランジスタおよび前記薄膜トランジ
スタに対応した画素部とを有し、カラーフィルタ基板に
は前記薄膜トランジスタ基板上に形成されたゲート配
線、ドレイン配線、薄膜トランジスタおよび表示部以外
の部分を遮光するような形状のブラックマトリクスが存
在するアクティブマトリクス型液晶表示装置において、
前記カラーフィルタ基板のブラックマトリクス上にカラ
ーフィルタ基板と薄膜トランジスタ基板の間隔を一定に
規制する多数の支柱が形成され、更に前記支柱の上面に
塗布された接着層により前記両基板を接着したことを特
徴とするアクティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項２】 前記カラーフィルタ基板上に形成された
支柱が、カラーフィルタおよびブラックマトリクスの形
成材料により形成されていることを特徴とする請求項１
記載のアクティブマトリクス型液晶表示装置。 - 【請求項３】 前記支柱の上面に形成される接着層は、
液晶を封入するためにパネル周囲に形成するシール剤と
同じ構成成分からなる樹脂であり、更に、ラビング処理
後に形成することを特徴とする請求項１または２記載の
アクティブマトリクス型液晶表示装置。
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9353147A JPH11183915A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
| TW087121233A TW504601B (en) | 1997-12-22 | 1998-12-18 | Active matrix type liquid crystal display device |
| KR1019980057194A KR19990063319A (ko) | 1997-12-22 | 1998-12-22 | 액티브 매트릭스형 액정 표시 장치 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP9353147A JPH11183915A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH11183915A true JPH11183915A (ja) | 1999-07-09 |
Family
ID=18428886
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP9353147A Pending JPH11183915A (ja) | 1997-12-22 | 1997-12-22 | アクティブマトリクス型液晶表示装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH11183915A (ja) |
| KR (1) | KR19990063319A (ja) |
| TW (1) | TW504601B (ja) |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392735B1 (en) | 1999-09-29 | 2002-05-21 | Nec Corporation | Liquid crystal display apparatus with sealing element including conductive spacers |
| JP2006338011A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示パネルとその製造方法 |
| US7227600B2 (en) | 2001-07-13 | 2007-06-05 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate and electro-optical device, manufacturing method for color filter substrate and manufacturing method for electro-optical device, and electronic equipment |
| KR100752208B1 (ko) * | 2000-12-19 | 2007-08-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| JP2008026812A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| US7570323B2 (en) | 2003-12-26 | 2009-08-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate, liquid crystal display apparatus including color filter substrate, and method of manufacturing color filter substrate |
| JP2010217926A (ja) * | 2000-01-26 | 2010-09-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
| JP2011209618A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 透過型液晶表示装置用カラーフィルタ |
| CN103293746A (zh) * | 2012-06-29 | 2013-09-11 | 上海中航光电子有限公司 | 一种液晶显示装置及其制作方法 |
| JP2015200739A (ja) * | 2014-04-07 | 2015-11-12 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001257350A (ja) | 2000-03-08 | 2001-09-21 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 半導体装置およびその作製方法 |
| JP4683688B2 (ja) | 2000-03-16 | 2011-05-18 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 液晶表示装置の作製方法 |
| JP4785229B2 (ja) | 2000-05-09 | 2011-10-05 | 株式会社半導体エネルギー研究所 | 半導体装置の作製方法 |
| US7071037B2 (en) | 2001-03-06 | 2006-07-04 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Semiconductor device and manufacturing method thereof |
-
1997
- 1997-12-22 JP JP9353147A patent/JPH11183915A/ja active Pending
-
1998
- 1998-12-18 TW TW087121233A patent/TW504601B/zh not_active IP Right Cessation
- 1998-12-22 KR KR1019980057194A patent/KR19990063319A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6392735B1 (en) | 1999-09-29 | 2002-05-21 | Nec Corporation | Liquid crystal display apparatus with sealing element including conductive spacers |
| JP2010217926A (ja) * | 2000-01-26 | 2010-09-30 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 液晶表示装置 |
| KR100752208B1 (ko) * | 2000-12-19 | 2007-08-28 | 엘지.필립스 엘시디 주식회사 | 액정표시장치 및 그 제조방법 |
| US7411642B2 (en) | 2001-07-13 | 2008-08-12 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate and electro-optical device, manufacturing method for color filter substrate and manufacturing method for electro-optical device, and electronic equipment |
| US7227600B2 (en) | 2001-07-13 | 2007-06-05 | Seiko Epson Corporation | Color filter substrate and electro-optical device, manufacturing method for color filter substrate and manufacturing method for electro-optical device, and electronic equipment |
| US7570323B2 (en) | 2003-12-26 | 2009-08-04 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate, liquid crystal display apparatus including color filter substrate, and method of manufacturing color filter substrate |
| US7826012B2 (en) | 2003-12-26 | 2010-11-02 | Sharp Kabushiki Kaisha | Color filter substrate, liquid crystal display apparatus including color filter substrate, and method of manufacturing color filter substrate |
| JP2006338011A (ja) * | 2005-06-01 | 2006-12-14 | Samsung Electronics Co Ltd | 液晶表示パネルとその製造方法 |
| US8040484B2 (en) | 2005-06-01 | 2011-10-18 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Liquid crystal display panel having a constant cell gap and method of making the same |
| JP2008026812A (ja) * | 2006-07-25 | 2008-02-07 | Toppan Printing Co Ltd | カラーフィルターおよびその製造方法 |
| JP2011209618A (ja) * | 2010-03-30 | 2011-10-20 | Dainippon Printing Co Ltd | 透過型液晶表示装置用カラーフィルタ |
| CN103293746A (zh) * | 2012-06-29 | 2013-09-11 | 上海中航光电子有限公司 | 一种液晶显示装置及其制作方法 |
| CN103293746B (zh) * | 2012-06-29 | 2016-06-08 | 上海中航光电子有限公司 | 一种液晶显示装置及其制作方法 |
| JP2015200739A (ja) * | 2014-04-07 | 2015-11-12 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 表示装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW504601B (en) | 2002-10-01 |
| KR19990063319A (ko) | 1999-07-26 |
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|---|---|---|---|
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