JP5691608B2 - 瞳透過率分布の測定方法および測定装置、露光方法および露光装置、並びにデバイス製造方法 - Google Patents
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Description
Ppp=(2×λ/Pr)/NAo … (1)
Lpc=(√2×λ/Pr)/NAo … (2)
Ppe=Ppi/Ra … (3)
Ppi/Ra=3×(λ/Pr)/NAo … (4)
11 回折格子
12 照明光学系
13,13A,13B 計測部
20 結像光学系
51 ビーム送光系
52 ビーム形状可変部
53 マイクロフライアイレンズ
54 照明開口絞り
54a 測定用開口絞り
55 コンデンサー光学系
56 マスクブラインド
57 照明結像光学系
LS,21 光源
IL 照明光学系
TR 測定用レチクル
CR 制御部
MR メモリ(記録媒体)
M マスク
MS マスクステージ
PL 投影光学系
W ウェハ
WS ウェハステージ
Claims (23)
- 第1面の像を形成する被検光学系の瞳透過率分布を測定する測定方法であって、
前記第1面上の所定位置に前記被検光学系の光軸に対する傾きが互いに異なる第1の光束および第2の光束を供給することと、
前記第1面において前記第1の光束を回折させて+1次回折光と−1次回折光とを発生させることと、
前記第1面において前記第2の光束を回折させて+1次回折光と−1次回折光とを発生させることと、
前記第1の光束の+1次回折光と前記第1の光束の−1次回折光と前記第2の光束の+1次回折光と前記第2の光束の−1次回折光とを前記被検光学系に入射させることと、
前記被検光学系を経た前記第1の光束の+1次回折光の強度の計測値と、前記被検光学系を経た前記第1の光束の−1次回折光の強度の計測値と、前記被検光学系を経た前記第2の光束の+1次回折光の強度の計測値と、前記被検光学系を経た前記第2の光束の−1次回折光の強度の計測値とを用いて、前記瞳透過率分布を求めることと、
を備える、測定方法。 - 請求項1に記載の測定方法において、
前記被検光学系に入射した前記第1の光束の+1次回折光は前記被検光学系の瞳の有効領域内の第1瞳部分領域を通過し、
前記被検光学系に入射した前記第1の光束の−1次回折光は前記有効領域内において前記第1瞳部分領域から離れた第2瞳部分領域を通過する測定方法。 - 請求項2に記載の測定方法において、
前記被検光学系に入射した前記第2の光束の+1次回折光と前記第2の光束の−1次回折光との一方は、前記第1瞳部分領域を通過する測定方法。 - 請求項2に記載の測定方法において、
前記被検光学系に入射した前記第2の光束の+1次回折光は前記有効領域内において前記第1及び前記第2瞳部分領域から離れた第3瞳部分領域を通過し、
前記被検光学系に入射した前記第2の光束の−1次回折光は前記有効領域内において前記第1乃至前記第3瞳部分領域から離れた第4瞳部分領域を通過する、測定方法。 - 請求項4に記載の測定方法において、
前記第1の光束を回折させることを経て生成される前記第1の光束の±3次回折光が前記瞳において前記第1乃至前記第4瞳部分領域から離れた瞳部分領域を通過するように、前記第1の光束と前記第2の光束とは同時に前記所定位置に入射される、測定方法。 - 請求項4または5に記載の測定方法は、さらに、
前記第1および第2の光束を入射させることの前または後に、前記所定位置に第3の光束を入射させることと、
前記第3の光束を回折させることを経て生成された前記第3の光束の+1次回折光と前記第3の光束を回折させることを経て生成された前記第3の光束の−1次回折光とを前記被検光学系に入射させることと、を備え、
前記第3の光束の+1次回折光は前記有効領域内において前記第1及び前記第2瞳部分領域を包含する第1包含領域内の第5瞳部分領域を通過し、
前記第3の光束の−1次回折光は前記有効領域内において前記第3及び前記第4瞳部分領域を包含する第2包含領域内の第6瞳部分領域を通過する、測定方法。 - 請求項2乃至6のいずれか1項に記載の測定方法において、
前記瞳透過率分布を求めることは、前記第1瞳部分領域における瞳透過率と前記第2瞳部分領域における瞳透過率との関係を求めることを含む測定方法。 - 請求項1乃至7のいずれか1項に記載の測定方法において、
前記第1の光束および前記第2の光束を回折させることでは、前記第1面上の第1位相領域を経た光に第1の位相値を付与すると共に、前記第1位相領域に隣接する第2位相領域を経た光に前記第1の位相値とは異なる第2の位相値を付与する、測定方法。 - 請求項8に記載の測定方法において、
前記第1面上の前記第1位相領域と前記第2位相領域とは交互に配置され、
前記第2の位相値は前記第1の位相値とπだけ異なる、測定方法。 - 請求項8または9に記載の測定方法において、
前記第1および第2位相領域は、矩形状の前記第1位相領域と矩形状の前記第2位相領域とが市松格子状に配置される、測定方法。 - 請求項8乃至10の何れか一項に記載の測定方法において、
前記+1次回折光と−1次回折光とを発生させることは、
前記第1面上の前記第1位相領域を経た光に前記第1の位相値を付与すると共に、前記第2位相領域を経た光に前記第2の位相値を付与して前記第2の光束を回折させること
を備える、測定方法。 - 請求項2乃至11のいずれか1項に記載の測定方法は、さらに、
前記像が形成される第2面上の所定位置に、前記第1面および前記被検光学系を介した較正光束を供給することと、
前記第2面上の第3位相領域を経た光に第3の位相値を付与すると共に、前記第3位相領域に隣接する第4位相領域を経た光に前記第3の位相値とは異なる第4の位相値を付与して前記較正光束を回折させることと、
前記較正用光束を回折させることを経て生成された前記較正用光束の+1次回折光の強度と、前記較正用光束を回折させることを経て生成された前記較正用光束の−1次回折光の強度とを計測することと、
を備える、測定方法。 - 請求項12に記載の測定方法において、
前記較正光束は、前記第1面で回折されない、測定方法。 - 請求項12または13に記載の測定方法は、さらに、
前記第1瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記較正用光束の+1次回折光と、前記第2瞳部分領域および前記被検光学系を経た前記較正用光束の−1次回折光とを計測光学系に入射させることを備え、
前記計測光学系を通過した前記較正用光束の+1次回折光および前記較正用光束の−1次回折光の強度は計測される、測定方法。 - 請求項14に記載の測定方法において、
前記較正用光束を回折させることを経て生成されて前記計測光学系を経た前記較正用光束の+1次回折光の強度と、前記較正用光束を回折させることを経て生成されて前記計測光学系を経た前記較正用光束の−1次回折光の強度とが計測される、測定方法。 - 請求項15に記載の測定方法において、
前記較正用光束を回折させることを経て生成されて前記計測光学系を経た前記較正用光束の+1次回折光および前記較正用光束の−1次回折光の強度の計測値を用いて、前記瞳透過率分布の算出結果が較正される、測定方法。 - 請求項1乃至16のいずれか1項に記載の測定方法を処理装置に実行させるプログラム。
- 請求項1乃至16のいずれか1項に記載の測定方法をコンピュータに実行させるコンピュータプログラムを格納する、コンピュータが読み込み可能な媒体。
- 所定のパターンを照明する照明光学系と、前記所定のパターンの像を感光性基板上に形成する投影光学系とを備えた露光装置の制御方法において、
請求項1乃至16のいずれか1項に記載の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、前記所定のパターンを照明する照明条件を変更すること、
を含むことを特徴とする制御方法。 - 請求項19に記載の制御方法において、
前記照明条件は、前記照明光学系による前記第1面での照度分布および前記照明光学系の瞳での瞳輝度分布のうちの少なくとも一方である、制御方法。 - 所定のパターンを照明することと、投影光学系を用いて前記所定のパターンを感光性基板に露光することとを含む露光方法において、
請求項1乃至16のいずれか1項に記載の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて、前記所定のパターンを照明する照明条件を変更すること、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 所定のパターンを照明することと、投影光学系を用いて前記所定のパターンを感光性基板に露光することとを含む露光方法において、
請求項1乃至16のいずれか1項に記載の測定方法を用いて測定された前記投影光学系の瞳透過率分布の測定結果に基づいて作成されたパターンを用いること、
を含むことを特徴とする露光方法。 - 請求項21または22に記載の露光方法を用いて、前記所定のパターンを前記感光性基板に露光することと、
前記所定のパターンが転写された前記感光性基板を現像し、前記所定のパターンに対応する形状のマスク層を前記感光性基板の表面に形成することと、
前記マスク層を介して前記感光性基板の表面を加工することと、
を含む、デバイス製造方法。
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