JP5655527B2 - （ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明は、（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物の製造方法等に関する。
式（２）
で示される（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物（以下、化合物（２）と記すことがある）は、害虫等の有害生物防除剤として有用であることが知られている（例えば、特許文献１及び特許文献２参照。）。
化合物（２）の製造方法として、例えば、非特許文献１には、シクロプロパンアルデヒド化合物とホスホナート化合物とを反応させる（いわゆるホーナー・ワズワース・エモンズ反応を行なう）ことにより、（Ｚ）−３−（２−シアノ−１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エステルを得る方法、並びに得られた（Ｚ）−３−（２−シアノ−１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸エステルをエステル加水分解し、（Ｚ）−３−（２−シアノ−１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボン酸を得る方法が記載されている。
非特許文献１に記載される方法では、化合物（２）の幾何異性体である式（１）
で示される（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物（以下、化合物（１）と記すことがある。）が、化合物（２）よりも多く生成する場合がある。しかしながら、化合物（１）から化合物（２）を得る方法は知られていなかった。
Ａｇｒ．Ｂｉｏｌ．Ｃｈｅｍ．，３４，１１１９（１９７０）
このような状況下、化合物（１）から化合物（２）を製造できる方法が求められていた。
本発明者らは鋭意検討した結果、本発明に至った。すなわち本発明は、以下の通りである。
〔１〕 臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物、チオカルボン酸化合物、硝酸及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒の存在下、式（１）
〔１〕 臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物、チオカルボン酸化合物、硝酸及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒の存在下、式（１）
Ｒ２は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を表わす。）
で示される（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物（以下、化合物（１）と記すことがある。）を、式（２）
で示される（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物（以下、化合物（２）と記すことがある。）に異性化させる工程を含むことを特徴とする（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物の製造方法。
〔２〕 前記工程が、さらにラジカル開始剤の存在下で、前記（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物を、前記（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物に異性化させる工程である前記〔１〕記載の製造方法。
〔３〕 ラジカル開始剤が、無機過酸化物、ケトンペルオキシド化合物、ヒドロペルオキシド化合物、過酸化ジアシル化合物、過酸エステル化合物、過酸化合物及びアゾ化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種のラジカル開始剤である前記〔２〕記載の製造方法。
〔４〕 臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物、チオカルボン酸化合物、硝酸及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒の存在下、式（１）
Ｒ２は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を表わす。）
で示される（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物を、式（２）
で示される（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物に異性化させることを特徴とする（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物の異性化方法。
本発明の製造方法によれば、化合物（１）から化合物（２）を製造できる方法を提供することができる。
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明の製造方法は、臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物、チオカルボン酸化合物、硝酸及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒の存在下、化合物（１）を化合物（２）に異性化させる工程を含むことを特徴とする。また、本発明の異性化方法は、前記異性化触媒の存在下、化合物（１）を化合物（２）に異性化させることを特徴とする。以下、化合物（１）を化合物（２）に異性化させる工程及び化合物（１）を化合物（２）に異性化させることを、異性化工程と記すことがある。
本発明の製造方法は、臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物、チオカルボン酸化合物、硝酸及び硝酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒の存在下、化合物（１）を化合物（２）に異性化させる工程を含むことを特徴とする。また、本発明の異性化方法は、前記異性化触媒の存在下、化合物（１）を化合物（２）に異性化させることを特徴とする。以下、化合物（１）を化合物（２）に異性化させる工程及び化合物（１）を化合物（２）に異性化させることを、異性化工程と記すことがある。
まず、異性化工程で用いられる化合物（１）について説明する。シクロプロパン環に基づく幾何異性体について、化合物（１）は、シス体であってもよいし、トランス体であってもよいし、シス体とトランス体とのあらゆる比率の混合物であってもよい。化合物（１）において、シクロプロパン環を形成する炭素原子のうち、２個の炭素原子は不斉炭素原子であり、化合物（１）は、光学活性を示す化合物であってもよいし、光学活性を示さない化合物であってもよい。
Ｒ１は、置換基を有していてもよいアルキル基又はハロゲン原子を表す。
Ｒ１で表されるハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられ、好ましくは、例えば、塩素原子及び臭素原子が挙げられる。
Ｒ１で表される置換基を有していてもよいアルキル基において、アルキル基とは、炭素数１〜１０程度の直鎖状アルキル基、炭素数３〜１０程度の分枝状アルキル基、炭素数３〜１０程度のシクロアルキル基を意味する。
炭素数１〜１０程度の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びｎ−ブチル基が挙げられ、炭素数３〜１０程度の分枝状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ-ブチル基、アミル基及び２−エチルヘキシル基が挙げられ、炭素数３〜１０程度のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子及び炭素数１〜４程度のアルコキシ基が挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基及びトリクロロメチル基が挙げられる。
炭素数１〜１０程度の直鎖状アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びｎ−ブチル基が挙げられ、炭素数３〜１０程度の分枝状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｔ-ブチル基、アミル基及び２−エチルヘキシル基が挙げられ、炭素数３〜１０程度のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基が挙げられる。
アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、ハロゲン原子及び炭素数１〜４程度のアルコキシ基が挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、例えば、フルオロメチル基、クロロメチル基、トリフルオロメチル基及びトリクロロメチル基が挙げられる。
Ｒ１として、好ましくは、炭素数１〜４の直鎖状アルキル基、塩素原子及び臭素原子が挙げられ、より好ましくは、メチル基及び塩素原子が挙げられる。
Ｒ２は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を表わす。
Ｒ２で表される置換基を有していてもよいアルキル基において、アルキル基としては、前記のＲ１で表される置換基を有していてもよいアルキル基におけるアルキル基と同様のものが挙げられる。
Ｒ２において、アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、
フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子、
アリル基等の炭素数３〜４程度のアルケニル基、
プロパルギル基等の炭素数３〜４程度のアルキニル基、
メトキシ基及びエトキシ基等の炭素数１〜４程度のアルコキシ基、
並びに
メチルチオ基等の炭素数１〜４程度のアルキルチオ基
が挙げられる。
Ｒ２において、アルキル基が有していてもよい置換基としては、例えば、
フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子、
アリル基等の炭素数３〜４程度のアルケニル基、
プロパルギル基等の炭素数３〜４程度のアルキニル基、
メトキシ基及びエトキシ基等の炭素数１〜４程度のアルコキシ基、
並びに
メチルチオ基等の炭素数１〜４程度のアルキルチオ基
が挙げられる。
Ｒ２において、ベンジル基が有していてもよい置換基としては、例えば、
フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子、
アリル基等の炭素数３〜４程度のアルケニル基、
プロパルギル基等の炭素数３〜４程度のアルキニル基、
メトキシ基及びエトキシ基等の炭素数１〜４程度のアルコキシ基、
メチルチオ基等の炭素数１〜４程度のアルキルチオ基、
メチル基、エチル基及びｎ−プロピル基等の炭素数１〜１０程度の直鎖状アルキル基、 イソプロピル基、イソブチル基、ｔ-ブチル基、アミル基及び２−エチルヘキシル基等の炭素数３〜１０程度の分枝状アルキル基、
シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の炭素数３〜１０程度のシクロアルキル基、
メトキシメチル基及びエトキシメチル基等の炭素数１〜４程度のアルコキシメチル基、並びに
メチルチオメチル基等の炭素数１〜４程度のアルキルチオメチル基
が挙げられる。
フッ素原子、塩素原子及び臭素原子等のハロゲン原子、
アリル基等の炭素数３〜４程度のアルケニル基、
プロパルギル基等の炭素数３〜４程度のアルキニル基、
メトキシ基及びエトキシ基等の炭素数１〜４程度のアルコキシ基、
メチルチオ基等の炭素数１〜４程度のアルキルチオ基、
メチル基、エチル基及びｎ−プロピル基等の炭素数１〜１０程度の直鎖状アルキル基、 イソプロピル基、イソブチル基、ｔ-ブチル基、アミル基及び２−エチルヘキシル基等の炭素数３〜１０程度の分枝状アルキル基、
シクロプロピル基、シクロペンチル基及びシクロヘキシル基等の炭素数３〜１０程度のシクロアルキル基、
メトキシメチル基及びエトキシメチル基等の炭素数１〜４程度のアルコキシメチル基、並びに
メチルチオメチル基等の炭素数１〜４程度のアルキルチオメチル基
が挙げられる。
Ｒ2として、好ましくは、水素原子、炭素数１〜４の直鎖状アルキル基及び置換基を有していてもよいベンジル基が挙げられ、より好ましくは、水素原子、メチル基、エチル基、ベンジル基、４−メチル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジル基、４−メトキシメチル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジル基、４−アリル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジル基、４−プロパルギル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジル基及び４−メチルチオメチル−２，３，５，６−テトラフルオロベンジル基が挙げられる。
化合物（１）としては、表１、表２及び表３に記載された番号（1-1）〜（1-176）で示される化合物が例示される。
化合物（１）は、好ましくは、表１、表２及び表３における番号が(1-1)、(1-13)、(1-21)、(1-33)、(1-61)、(1-73)、(1-81)、(1-93)、(1-161)、(1-162)、(1-163)、(1-164)、(1-165)、(1-166)、(1-173)又は(1-174)で示される化合物であり、特に好ましくは、表１、表２及び表３における番号が(1-1)、(1-21)、(1-61)、(1-81)、(1-161)又は(1-173)で示される化合物である。
異性化工程で用いられる化合物（１）は、化合物（２）との混合物であってもよく、化合物（１）と化合物（２）との合計量に対する化合物（１）の含有量は、例えば、３０〜１００重量％である。
化合物（１）の調製方法としては、例えば、非特許文献１記載の方法が挙げられる。具体的には、式（３）
で示されるシクロプロパンアルデヒドと、式（４）
で示されるホスホナート化合物とを反応させる方法、並びに前記方法で得られた化合物をエステル加水分解する方法等が挙げられる。エステル加水分解は、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸により行なうこともできるし、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液により行うこともできる。
化合物（１）の調製方法として、例えば、特開２００８−４４９００号公報記載の方法も挙げられる。具体的には、式（３）で示されるシクロプロパンアルデヒドと、式（５）
で示されるアルデヒド化合物とを塩基の存在下で反応させ、
得られた式（６）
で示される不飽和アルデヒド化合物を更にヒドロキシルアミン或いはその塩酸塩又は硫酸塩等と反応させ、
得られた式（７）
で示されるオキシム化合物を塩基の存在下で脱水剤と反応させる方法、並びに前記方法で得られた化合物をエステル加水分解する方法等が挙げられる。エステル加水分解は、例えば、ｐ−トルエンスルホン酸等の酸により行なうこともできるし、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ金属水酸化物の水溶液により行うこともできる。
異性化工程に用いられる異性化触媒は、化合物（１）を化合物（２）に異性化する能力を有する。異性化触媒として、具体的には、例えば、
臭素、
臭化水素、
臭化アセチル、臭化プロピオニル、臭化ベンゾイル等のカルボン酸臭化物、
三臭化りん、五臭化りん等の臭化りん化合物、
Ｎ−ブロモスクシンイミド等のＮ−臭化イミド化合物、
Ｎ−ブロモアセトアミド等のＮ−臭化アミド化合物
トリメチルシリルブロミド、四臭化珪素等の臭化アルキルシラン化合物、
臭化チオニル、
三臭化ホウ素等の臭化ホウ素化合物、
三臭化アルミニウム等の臭化アルミニウム化合物、
チオフェノール、ｐ−チオクレゾール、１−ブタンチオール等のチオール化合物、
ジフェニルジスルフィド等のジスルフィド化合物、
チオ安息香酸、チオ酢酸、チオサリチル酸等のチオカルボン酸化合物、
硝酸
並びに
硝酸ナトリウム等の硝酸塩
が挙げられる。
臭素、
臭化水素、
臭化アセチル、臭化プロピオニル、臭化ベンゾイル等のカルボン酸臭化物、
三臭化りん、五臭化りん等の臭化りん化合物、
Ｎ−ブロモスクシンイミド等のＮ−臭化イミド化合物、
Ｎ−ブロモアセトアミド等のＮ−臭化アミド化合物
トリメチルシリルブロミド、四臭化珪素等の臭化アルキルシラン化合物、
臭化チオニル、
三臭化ホウ素等の臭化ホウ素化合物、
三臭化アルミニウム等の臭化アルミニウム化合物、
チオフェノール、ｐ−チオクレゾール、１−ブタンチオール等のチオール化合物、
ジフェニルジスルフィド等のジスルフィド化合物、
チオ安息香酸、チオ酢酸、チオサリチル酸等のチオカルボン酸化合物、
硝酸
並びに
硝酸ナトリウム等の硝酸塩
が挙げられる。
異性化触媒として、好ましくは、臭素、臭化水素、三臭化りん及びジフェニルスルフィド等が挙げられる。
異性化触媒の使用量は、例えば、化合物（１）１モルに対して、０．０１〜０．５モルの範囲であり、好ましくは、０．０５〜０．２モルの範囲である。
異性化触媒の使用量は、例えば、化合物（１）１モルに対して、０．０１〜０．５モルの範囲であり、好ましくは、０．０５〜０．２モルの範囲である。
異性化触媒として臭化水素を使用する場合、臭化水素含有酢酸溶液又は臭化水素酸水溶液として使用することが好ましい。異性化触媒として臭化水素酸水溶液を使用し、かつ、後述する溶媒として水と相溶性のない有機溶媒（例えば芳香族炭化水素、ハロゲン化芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素、脂環式炭化水素等）を使用する場合には、水への溶解度が大きくかつ反応を阻害しない無機塩を反応系中に存在させることにより、異性化をより一層円滑に進行させることもできる。前記無機塩として、具体的には、例えば、臭化リチウム、塩化リチウム、臭化カルシウム、塩化カルシウム、臭化マグネシウム、塩化マグネシウム及び硫酸マグネシウムが挙げられる。
異性化工程は、さらにラジカル開始剤の存在下で行うことが好ましい。ラジカル開始剤とは、異性化触媒とは異なる化合物であり、ラジカルを発生させ得る化合物を意味する。
ラジカル開始剤としては、例えば、
過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過酸化水素等の無機過酸化物、
メチルエチルケトンペルオキサイド、シクロヘキサノンペルオキシド等のケトンペルオキシド化合物、
ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、トリフェニルメチルペルオキシド等のヒドロペルオキシド化合物、
過酸化ベンゾイル（過酸化ジベンゾイル）、過酸化ジアセチル等の過酸化ジアシル化合物、
過安息香酸ｔ−ブチル、過酢酸ｔ−ブチル等の過酸エステル化合物、過酸化ジｔ−ブチル等の過酸化ジアルキル、
過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ安息香酸等の過酸化合物
並びに
アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、１−〔（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ〕ホルムアミド、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）、２，２’−アゾビス〔２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド〕、アゾビスイソ酪酸メチル等のアゾ化合物
が挙げられる。
ラジカル開始剤としては、例えば、
過硫酸アンモニウム、過硫酸カリウム、過硫酸ナトリウム、過酸化水素等の無機過酸化物、
メチルエチルケトンペルオキサイド、シクロヘキサノンペルオキシド等のケトンペルオキシド化合物、
ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、１，１，３，３−テトラメチルブチルヒドロペルオキシド、クメンヒドロペルオキシド、トリフェニルメチルペルオキシド等のヒドロペルオキシド化合物、
過酸化ベンゾイル（過酸化ジベンゾイル）、過酸化ジアセチル等の過酸化ジアシル化合物、
過安息香酸ｔ−ブチル、過酢酸ｔ−ブチル等の過酸エステル化合物、過酸化ジｔ−ブチル等の過酸化ジアルキル、
過酢酸、過安息香酸、ｍ−クロロ安息香酸等の過酸化合物
並びに
アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノペンタン酸）、１−〔（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ〕ホルムアミド、２，２’−アゾビス（２−アミジノプロパン）、２，２’−アゾビス〔２−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）プロピオンアミド〕、アゾビスイソ酪酸メチル等のアゾ化合物
が挙げられる。
ラジカル開始剤として、好ましくは、ｔ−ブチルヒドロペルオキシド、過酸化ベンゾイル、アゾビスイソブチロニトリル及び２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）等が挙げられる。
ラジカル開始剤の使用量は、化合物（１）１モルに対して、例えば、０〜０．３モルの範囲であり、好ましくは、０．０１〜０．１モルの範囲である。
ラジカル開始剤の使用量は、化合物（１）１モルに対して、例えば、０〜０．３モルの範囲であり、好ましくは、０．０１〜０．１モルの範囲である。
異性化工程における反応温度は、例えば、０〜８０℃の範囲であり、好ましくは、２０〜６０℃の範囲である。異性化工程をラジカル開始剤の存在下で行う場合、必要に応じてラジカル開始剤がラジカルを発生する温度以上に加熱することにより、化合物（１）の化合物（２）への異性化を開始させ、その後、前記反応温度に調整してもよい。
異性化工程における反応時間は、例えば、１分〜２４時間の範囲であり、好ましくは、１時間〜１０時間の範囲である。
異性化工程における反応時間は、例えば、１分〜２４時間の範囲であり、好ましくは、１時間〜１０時間の範囲である。
異性化工程は、異性化工程における反応温度が化合物（１）及び化合物（２）の融点以上の温度であれば無溶媒下で行うことができるが、異性化工程の反応温度に拘らず、溶媒の存在下で行うことが好ましい。用いられる溶媒としては、例えば、
トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素、
シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、
モノクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、
並びに
ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル化合物
が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（１）１重量部に対し、例えば、０．５０〜２０重量部の範囲である。
トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素、
ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン等の脂肪族炭化水素、
シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素、
モノクロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素、
並びに
ジエチルエーテル、ｔｅｒｔ−ブチルメチルエーテル、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール等のエーテル化合物
が挙げられる。
溶媒の使用量は、化合物（１）１重量部に対し、例えば、０．５０〜２０重量部の範囲である。
異性化工程は、例えば、
（Ａ）化合物（１）及び溶媒を含む溶液に、反応温度下、異性化触媒、及び、必要に応じてラジカル開始剤を徐々に添加した後、得られる混合物を攪拌する方法、
（Ｂ）化合物（１）及び溶媒を含む溶液に、異性化触媒、及び、必要に応じてラジカル開始剤を添加した後、得られる混合物を反応温度に調整し、攪拌する方法
により行なわれる。ラジカル開始剤を用いる場合、化合物（１）、溶媒、異性化触媒及びラジカル開始剤を含む混合物の全部又は一部を、ラジカル開始剤がラジカルを発生する温度以上に加熱してもよく、前記加熱後、化合物（１）、溶媒、異性化触媒及びラジカル開始剤を含む混合物を反応温度に調整すればよい。
（Ａ）化合物（１）及び溶媒を含む溶液に、反応温度下、異性化触媒、及び、必要に応じてラジカル開始剤を徐々に添加した後、得られる混合物を攪拌する方法、
（Ｂ）化合物（１）及び溶媒を含む溶液に、異性化触媒、及び、必要に応じてラジカル開始剤を添加した後、得られる混合物を反応温度に調整し、攪拌する方法
により行なわれる。ラジカル開始剤を用いる場合、化合物（１）、溶媒、異性化触媒及びラジカル開始剤を含む混合物の全部又は一部を、ラジカル開始剤がラジカルを発生する温度以上に加熱してもよく、前記加熱後、化合物（１）、溶媒、異性化触媒及びラジカル開始剤を含む混合物を反応温度に調整すればよい。
異性化工程終了後、得られる反応混合物を、例えば、中和、抽出、水洗等の後処理に付してもよいし、該後処理後の混合物をさらに精製処理に付してもよい。精製処理としては、例えば、結晶精製、抽出精製、蒸留精製、活性炭による吸着精製、シリカによる吸着精製、アルミナによる吸着精製、シリカゲルカラムクロマトグラフィー等のクロマトグラフィー法が挙げられる。
異性化工程を経て得られる化合物（２）は、化合物（１）との混合物であってもよい。この場合、化合物（１）と化合物（２）との合計量に対する化合物（２）の含有量は、例えば１〜８０重量％であり、好ましくは３０〜８０重量％であり、より好ましくは５０〜７０重量％である。異性化工程に用いた化合物（１）が化合物（２）との混合物である場合、異性化工程を経ることにより、化合物（１）と化合物（２）との合計量に対する化合物（２）の含有量が増加する。
異性化工程を経て得られる化合物（２）において、そのシクロプロパン環に含まれる不斉炭素原子の立体配置は、異性化工程で用いられた化合物（１）のシクロプロパン環に含まれる不斉炭素原子の立体配置がほぼ保持される。例えば、(Ｅ)−２，２−ジメチル−３−[２−シアノ−１−プロペン−１−イル]シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（1-1）と記すことがある。）について説明すると、シクロプロパン環の１位と３位とがいずれもＲ配置（１Ｒ、３Ｒ）である化合物（1-1）は、異性化工程を経由して、シクロプロパン環の１位と３位とがいずれもＲ配置（１Ｒ、３Ｒ）に保持された(Ｚ)−２，２−ジメチル−３−[２−シアノ−１−プロペン−１−イル]シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（2-1）と記すことがある。）を与え、異性化工程を経て得られる化合物（2-1）の光学純度は、異性化工程で用いられた化合物（1-1）の光学純度とほぼ同じである。
かくして得られた化合物（２）としては、表４、表５及び表６に記載された番号（2-1）〜（2-176）で示される化合物が例示される。
化合物（２）は、好ましくは、表４、表５及び表６における番号が(2-1)、(2-13)、(2-21)、(2-33)、(2-61)、(2-73)、(2-81)、(2-93)、(2-161)、(2-162)、(2-163)、(2-164)、(2-165)、(2-166)、(2-173)又は(2-174)で示される化合物であり、特に好ましくは、表４、表５及び表６における番号が(2-1)、(2-21)、(2-61)、(2-81)、(2-161)又は(2-173)で示される化合物である。
以下、本発明を実施例に基づいて説明する。尚、化合物（１）及び化合物（２）それぞれの含有量は、再結晶等により化合物（１）及び化合物（２）を別途、それぞれ調製し、それぞれのガスクロマトグラフィー分析による保持時間に基づいて、ガスクロマトグラフィー内部標準法によって求めた。
＜製造例１＞ 化合物（１）の製造
窒素雰囲気下、２，２−ジメチル−３−［２−ホルミル−１−プロペニル]シクロプロパンカルボン酸メチルのキシレン溶液１３０ｇ（濃度４５．４重量％）に２４重量％ヒドロキシルアミン硫酸塩水溶液１２３ｇ、メタノール約３０ｇ及び８０重量％酢酸１１．２７ｇを加え、２１℃にて２３重量％水酸化ナトリウム水溶液７０．６ｇをｐＨ５に維持しながら１３時間かけて滴下した。その後、反応混合液を分液し、得られた油層を水で２回洗浄した。得られた油層に３５重量％塩酸６．２０ｇとピリジン２４．０ｇとを加え、３０分間撹拌し、無水酢酸７５．９０ｇを２０℃にて３時間かけて滴下した後、反応溶液を８０℃に加温し１４時間撹拌した。冷却後、反応混合物にキシレン５９．０ｇと水２７６ｇとを加え、９８重量％硫酸１４．８ｇを滴下し分液した。得られた水層をキシレンで抽出し、先に得られた油層と合わせ、７重量％炭酸ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した。その後、油層を圧力３．０ｋＰａで濃縮し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル６６．９ｇを得た。
濃度：７６．１％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
収率：８８％
得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチルをガスクロマトグラフィーで分析したところ、（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（1-1）と記すことがある）と（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（2-1）と記すことがある）との合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１．９重量％であった。
窒素雰囲気下、２，２−ジメチル−３−［２−ホルミル−１−プロペニル]シクロプロパンカルボン酸メチルのキシレン溶液１３０ｇ（濃度４５．４重量％）に２４重量％ヒドロキシルアミン硫酸塩水溶液１２３ｇ、メタノール約３０ｇ及び８０重量％酢酸１１．２７ｇを加え、２１℃にて２３重量％水酸化ナトリウム水溶液７０．６ｇをｐＨ５に維持しながら１３時間かけて滴下した。その後、反応混合液を分液し、得られた油層を水で２回洗浄した。得られた油層に３５重量％塩酸６．２０ｇとピリジン２４．０ｇとを加え、３０分間撹拌し、無水酢酸７５．９０ｇを２０℃にて３時間かけて滴下した後、反応溶液を８０℃に加温し１４時間撹拌した。冷却後、反応混合物にキシレン５９．０ｇと水２７６ｇとを加え、９８重量％硫酸１４．８ｇを滴下し分液した。得られた水層をキシレンで抽出し、先に得られた油層と合わせ、７重量％炭酸ナトリウム水溶液及び水で順次洗浄した。その後、油層を圧力３．０ｋＰａで濃縮し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル６６．９ｇを得た。
濃度：７６．１％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
収率：８８％
得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチルをガスクロマトグラフィーで分析したところ、（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（1-1）と記すことがある）と（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（2-1）と記すことがある）との合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１．９重量％であった。
＜製造例２＞ 化合物（１）の製造
窒素雰囲気下、製造例１と同様の操作により得た２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル６５．０ｇにヘプタン７４．２ｇを加え、５７℃にて溶解させた。得られた溶液を３８℃まで４５分かけて冷却し、同温度にて種晶を加えた後、３３℃まで冷却した。冷却した混合物を同温度にて１時間撹拌し、更に３時間かけて１．３℃まで冷却した。得られた混合物を同温度にて１時間撹拌した後、減圧濾過を行い、約０℃に冷却したヘプタンによるウェットケーキの洗浄を２回、繰り返した。減圧乾燥後、精製された２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル５１．９ｇを得た。
純度：９２．１％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
回収率：９５％
窒素雰囲気下、製造例１と同様の操作により得た２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル６５．０ｇにヘプタン７４．２ｇを加え、５７℃にて溶解させた。得られた溶液を３８℃まで４５分かけて冷却し、同温度にて種晶を加えた後、３３℃まで冷却した。冷却した混合物を同温度にて１時間撹拌し、更に３時間かけて１．３℃まで冷却した。得られた混合物を同温度にて１時間撹拌した後、減圧濾過を行い、約０℃に冷却したヘプタンによるウェットケーキの洗浄を２回、繰り返した。減圧乾燥後、精製された２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル５１．９ｇを得た。
純度：９２．１％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
回収率：９５％
窒素雰囲気下、上記２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル５０．６ｇにメタノール４４．２ｇと水８８．５ｇとを加え、得られた混合物を５４℃に加温した。そこへ、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液４１．８５ｇを１時間かけて滴下した後、同温度にて３時間撹拌した。その後、更に２３重量％水酸化ナトリウム水溶液２．００ｇを加え１時間撹拌した。得られた混合物を２０℃に冷却した後、そこへ、トルエンと水とを加え、９８重量％硫酸１３．３ｇを滴下し分液した。得られた水層にトルエンを加えて抽出し、先に得られた油層と合わせ、水で洗浄した。その後、油層を圧力３０ｋＰａで部分濃縮することで（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（1-161）と記すことがある）を主成分として含み、（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（2-161）と記すことがある）を含むトルエン溶液１３０ｇを得た。
水分値：２１６ｐｐｍ（カール・フィッシャー電量滴定法）
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計収率：９５．４％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：３９．８％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝９８．９：１．１［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９７．５％
（１Ｒ，３Ｓ）体 ０．９％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 １．６％
水分値：２１６ｐｐｍ（カール・フィッシャー電量滴定法）
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計収率：９５．４％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：３９．８％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝９８．９：１．１［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９７．５％
（１Ｒ，３Ｓ）体 ０．９％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 １．６％
＜製造例３＞
窒素雰囲気下、２，２−ジメチル−３−［２−ホルミル−１−プロペニル]シクロプロパンカルボン酸メチルのキシレン溶液２２４．１ｇ（濃度４８．１重量％）に２４重量％ヒドロキシルアミン硫酸塩水溶液１９．７ｇとオクタン酸７．９ｇとを加えた。そこへ、２５℃にて、２４重量％ヒドロキシルアミン硫酸塩水溶液１９６．６ｇと２３重量％水酸化ナトリウム水溶液１２４．４ｇとを、ｐＨ７以下を維持しながら、いずれも７時間かけて滴下した後、２時間保温した。その後、反応混合液を分液し、油層を１０重量％硫酸ナトリウム水溶液１０７．９ｇで２回洗浄した。得られた油層を圧力５ｋＰａで減圧し、加熱還流下脱水することにより、２，２−ジメチル−３−［３−（ヒドロキシイミノ）−２−メチル−１−プロペニル］シクロプロパンカルボン酸メチルの混合キシレン溶液２３９．１ｇを得た。
濃度：４８．４％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
収率：９９．６％
窒素雰囲気下、２，２−ジメチル−３−［２−ホルミル−１−プロペニル]シクロプロパンカルボン酸メチルのキシレン溶液２２４．１ｇ（濃度４８．１重量％）に２４重量％ヒドロキシルアミン硫酸塩水溶液１９．７ｇとオクタン酸７．９ｇとを加えた。そこへ、２５℃にて、２４重量％ヒドロキシルアミン硫酸塩水溶液１９６．６ｇと２３重量％水酸化ナトリウム水溶液１２４．４ｇとを、ｐＨ７以下を維持しながら、いずれも７時間かけて滴下した後、２時間保温した。その後、反応混合液を分液し、油層を１０重量％硫酸ナトリウム水溶液１０７．９ｇで２回洗浄した。得られた油層を圧力５ｋＰａで減圧し、加熱還流下脱水することにより、２，２−ジメチル−３−［３−（ヒドロキシイミノ）−２−メチル−１−プロペニル］シクロプロパンカルボン酸メチルの混合キシレン溶液２３９．１ｇを得た。
濃度：４８．４％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
収率：９９．６％
窒素雰囲気下、ピリジン４３．５ｇと混合キシレン１０５．６ｇとピリジン塩酸塩１１．６ｇと無水酢酸２．６ｇとを混合し、１００℃へ昇温した。そこへ、同温度にて、上記で得られた２，２−ジメチル−３−［３−（ヒドロキシイミノ）−２−メチル−１−プロペニル］シクロプロパンカルボン酸メチルの混合キシレン溶液２１８．５ｇ（濃度４８．４重量％）と無水酢酸６３．８ｇとを６時間かけて滴下した後、２時間保温した。冷却後、反応混合物に水１０５．６ｇを加え、９８重量％硫酸３３．４ｇを滴下し分液した。得られた油層に水１０５．６ｇを加え、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液６０．９ｇを滴下し分液した後、１０％硫酸ナトリウム水溶液１０５．６ｇで洗浄した。その後、油層を圧力５．０ｋＰａで濃縮し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチルの混合キシレン溶液１６１．６ｇを得た。
濃度：５８．５％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
収率：９７．８％
得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチルをガスクロマトグラフィーで分析したところ、（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（1-1）と記すことがある。）と（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（2-1）と記すことがある。）との合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１．６重量％であった。
濃度：５８．５％（ガスクロマトグラフィー内部標準法）
収率：９７．８％
得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチルをガスクロマトグラフィーで分析したところ、（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（1-1）と記すことがある。）と（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル（以下、化合物（2-1）と記すことがある。）との合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１．６重量％であった。
＜製造例４＞ 化合物（１）の製造
窒素雰囲気下、製造例３と同様の操作により得た２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１４８．０ｇにメタノール８６．６ｇと水１７３．２ｇとを加え、得られた混合物を５５℃に加温した。そこへ、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液８５．４ｇを３時間かけて滴下した後、同温度にて２時間撹拌した。得られた混合物を２０℃に冷却した後、キシレン４３．３ｇを加えて分液した。得られた水層にキシレン８６．６ｇと水５８．０ｇとを加え、９８重量％硫酸２６．９ｇを滴下し分液した。得られた水層を圧力２０ｋＰａで濃縮した後、キシレン８６．６ｇを加えて抽出し、先に得られた油層と合わせ、水４３．３ｇで洗浄し、（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（1-161）と記すことがある。）を主成分として含み、（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（2-161）と記すことがある。）を含むキシレン溶液２６３．７ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計収率：１００．１％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：３０．５％
窒素雰囲気下、製造例３と同様の操作により得た２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１４８．０ｇにメタノール８６．６ｇと水１７３．２ｇとを加え、得られた混合物を５５℃に加温した。そこへ、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液８５．４ｇを３時間かけて滴下した後、同温度にて２時間撹拌した。得られた混合物を２０℃に冷却した後、キシレン４３．３ｇを加えて分液した。得られた水層にキシレン８６．６ｇと水５８．０ｇとを加え、９８重量％硫酸２６．９ｇを滴下し分液した。得られた水層を圧力２０ｋＰａで濃縮した後、キシレン８６．６ｇを加えて抽出し、先に得られた油層と合わせ、水４３．３ｇで洗浄し、（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（1-161）と記すことがある。）を主成分として含み、（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（2-161）と記すことがある。）を含むキシレン溶液２６３．７ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計収率：１００．１％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：３０．５％
窒素雰囲気下、上記の方法で得た２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸６１９．６ｇ（濃度２４．１重量％）を圧力１０ｋＰａにて濃縮し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸２６７．０ｇ（濃度５５．７重量％）を得た。得られた油層にヘプタン１２２．９ｇを加え、６９℃にて溶解させた。得られた溶液を５８℃まで１．５時間かけて冷却し、同温度にて種晶を加え２時間保温した。更に５５℃まで２時間かけて冷却した後、２℃まで５時間かけて冷却し、同温度にて保温を行った。得られた混合物を、減圧濾過し、約０℃に冷却した４５重量％の割合でキシレンを含有するヘプタン溶液１４９．０ｇ、ヘプタン１４９．０ｇによって順次洗浄を行った。減圧乾燥後、精製された２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸１４０．９ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計収率：９３．６％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：９９．０％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝９８．９：１．１［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９５．４％
（１Ｒ，３Ｓ）体 １．７％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 ２．９％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計収率：９３．６％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：９９．０％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝９８．９：１．１［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９５．４％
（１Ｒ，３Ｓ）体 １．７％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 ２．９％
＜異性化工程＞
（実施例１）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５１．９ｇとの混合物に、５０重量％のｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含むトルエン溶液約４０ｍｇと臭素約１００ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は５７．７重量％であった。
（実施例１）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５１．９ｇとの混合物に、５０重量％のｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含むトルエン溶液約４０ｍｇと臭素約１００ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は５７．７重量％であった。
（実施例２）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．７ｇとの混合物に、過酸化ベンゾイル３６．５ｍｇと臭素約６０ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は５４．４重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．７ｇとの混合物に、過酸化ベンゾイル３６．５ｍｇと臭素約６０ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は５４．４重量％であった。
（実施例３）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．８ｇとの混合物に、アゾビスイソブチロニトリル１８．５ｍｇと臭素約４０ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は４７．９重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．８ｇとの混合物に、アゾビスイソブチロニトリル１８．５ｍｇと臭素約４０ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は４７．９重量％であった。
（実施例４）
窒素雰囲気下、の製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．８ｇとの混合物に、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）７３．７ｍｇと臭素６１ｍｇとを加えた。続いて、同温度（２０℃）にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は５８．１重量％であった。
窒素雰囲気下、の製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．８ｇとの混合物に、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）７３．７ｍｇと臭素６１ｍｇとを加えた。続いて、同温度（２０℃）にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は５８．１重量％であった。
（実施例５）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．９ｇとの混合物に、５０重量％のｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含むトルエン溶液を約４０ｍｇと三臭化りん１０２ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１０．６重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．９ｇとの混合物に、５０重量％のｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含むトルエン溶液を約４０ｍｇと三臭化りん１０２ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部を抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１０．６重量％であった。
（実施例６）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．７ｇとの混合物に、過酸化ベンゾイル３４．８ｍｇと三臭化りん９９．８ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１５．９重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．７ｇとの混合物に、過酸化ベンゾイル３４．８ｍｇと三臭化りん９９．８ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２４℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１５．９重量％であった。
（実施例７）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５６．３ｇとの混合物に、５０重量％のｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含むトルエン溶液約４０ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液１０５ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２６℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１２．６重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５６．３ｇとの混合物に、５０重量％のｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含むトルエン溶液約４０ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液１０５ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２６℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１２．６重量％であった。
（実施例８）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５３．３ｇとの混合物に、過酸化ベンゾイル３４．３ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液１１７ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２５℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は２２．７重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５３．３ｇとの混合物に、過酸化ベンゾイル３４．３ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液１１７ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２５℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は２２．７重量％であった。
（実施例９）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５８．２ｇとの混合物に、アゾビスイソブチロニトリル２０．２ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液１２３ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２６℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１３．３重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン５８．２ｇとの混合物に、アゾビスイソブチロニトリル２０．２ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液１２３ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２６℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は１３．３重量％であった。
（実施例１０）
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．８ｇとの混合物に、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）７３．４ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液２０９ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２６℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は４９．９重量％であった。
窒素雰囲気下、製造例１で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸メチル１．０ｇとヘプタン４８．８ｇとの混合物に、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２，４−ジメチルバレロニトリル）７３．４ｍｇと３０重量％の臭化水素酸を含む酢酸溶液２０９ｍｇとを加えた。得られた混合液の一部抜き取り、ドライヤーで加熱して化合物（1-1）の化合物（2-1）への異性化を開始させた後、再び、該混合液に戻した。続いて、２６℃にて１時間撹拌した。
得られた混合液（反応混合物）をガスクロマトグラフィーで分析したところ、化合物（1-1）及び化合物（2-1）の合計量に対する化合物（2-1）の含有量は４９．９重量％であった。
実施例１〜１０に示したとおり、化合物（１）及び化合物（２）の合計量に対する化合物（２）の含有量は、異性化工程前の１．９重量％から、異性化工程を経ることにより、１０．６〜５８．１重量％に増加した。即ち、異性化工程により、化合物（１）から化合物（２）を製造することができた。
（実施例１１）
窒素雰囲気下、製造例２で得られたトルエン溶液１１９ｇに塩化カルシウム２ｇを加えた後、５０重量％の割合でｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含有するトルエン溶液０．８３ｇと、４７重量％臭化水素酸水溶液２．８５ｇとを、４０℃にて１時間かけて並行して滴下した。同温度にて３時間攪拌後、反応溶液を２５℃に冷却し、蒸留水を加え洗浄、分液した。得られた油層に蒸留水４２ｇを加え、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液３８．２ｇを滴下した後、内温４５℃にて３０分攪拌し、油層Ｉと水層Ｉとに分液した。油層Ｉを更に蒸留水で抽出し、油層IIと水層IIとを得、水層Ｉと水層IIとを合わせ２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のナトリウム塩水溶液を得た。このナトリウム塩水溶液にトルエン５４ｇ加え、濃硫酸を滴下し、油層IIIと水層IIIとに分液し、水層IIIにトルエンを加えて抽出してトルエン層を得、油層IIIとトルエン層とを合わせ、油層IVを得た。油層IVを蒸留水で洗浄した後、還流脱水することで、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のトルエン溶液１３５ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：２５．３３％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計回収率：９５．４％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝３９．２：６０．８［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９９．９％
（１Ｒ，３Ｓ）体 ０．１％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 ０．０％
窒素雰囲気下、製造例２で得られたトルエン溶液１１９ｇに塩化カルシウム２ｇを加えた後、５０重量％の割合でｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含有するトルエン溶液０．８３ｇと、４７重量％臭化水素酸水溶液２．８５ｇとを、４０℃にて１時間かけて並行して滴下した。同温度にて３時間攪拌後、反応溶液を２５℃に冷却し、蒸留水を加え洗浄、分液した。得られた油層に蒸留水４２ｇを加え、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液３８．２ｇを滴下した後、内温４５℃にて３０分攪拌し、油層Ｉと水層Ｉとに分液した。油層Ｉを更に蒸留水で抽出し、油層IIと水層IIとを得、水層Ｉと水層IIとを合わせ２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のナトリウム塩水溶液を得た。このナトリウム塩水溶液にトルエン５４ｇ加え、濃硫酸を滴下し、油層IIIと水層IIIとに分液し、水層IIIにトルエンを加えて抽出してトルエン層を得、油層IIIとトルエン層とを合わせ、油層IVを得た。油層IVを蒸留水で洗浄した後、還流脱水することで、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のトルエン溶液１３５ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：２５．３３％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計回収率：９５．４％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝３９．２：６０．８［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９９．９％
（１Ｒ，３Ｓ）体 ０．１％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 ０．０％
（実施例１２）
窒素雰囲気下、製造例４で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸９１．８ｇをトルエン２０８．１ｇで溶融させた。このトルエン溶液に、５０重量％の割合でｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含有するトルエン溶液１．９７ｇは１５分おきに４分割した量を仕込み、２０重量％の割合で臭化水素酸を含有する酢酸溶液１７．０ｇを、４０℃にて１時間かけて滴下した。同温度にて２時間攪拌後、水を加え洗浄、分液した。得られた油層に水１０３．８ｇを加え、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液１５０．７ｇを２時間かけて滴下した後、同温度にて３０分攪拌し、分液し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のナトリウム塩水溶液を得た。このナトリウム塩水溶液にトルエン１３４．５ｇ加え、濃硫酸３５．０ｇを３時間かけて滴下し、同温度にて３０分攪拌し、分液し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のトルエン溶液を得た。得られた油層を水３５．０ｇで洗浄した後、圧力３０ｋＰａで減圧し、加熱還流下脱水することにより、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のトルエン溶液３５８．１９ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：２４．７％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計回収率：９８．９％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝４０．５：５９．５［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９４．９％
（１Ｒ，３Ｓ）体 ２．０％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 ３．１％
窒素雰囲気下、製造例４で得られた２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸９１．８ｇをトルエン２０８．１ｇで溶融させた。このトルエン溶液に、５０重量％の割合でｔ−ブチルヒドロペルオキシドを含有するトルエン溶液１．９７ｇは１５分おきに４分割した量を仕込み、２０重量％の割合で臭化水素酸を含有する酢酸溶液１７．０ｇを、４０℃にて１時間かけて滴下した。同温度にて２時間攪拌後、水を加え洗浄、分液した。得られた油層に水１０３．８ｇを加え、２３重量％水酸化ナトリウム水溶液１５０．７ｇを２時間かけて滴下した後、同温度にて３０分攪拌し、分液し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のナトリウム塩水溶液を得た。このナトリウム塩水溶液にトルエン１３４．５ｇ加え、濃硫酸３５．０ｇを３時間かけて滴下し、同温度にて３０分攪拌し、分液し、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のトルエン溶液を得た。得られた油層を水３５．０ｇで洗浄した後、圧力３０ｋＰａで減圧し、加熱還流下脱水することにより、２，２−ジメチル−３−（２−シアノ−１−プロペニル）シクロプロパンカルボン酸のトルエン溶液３５８．１９ｇを得た。
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計濃度：２４．７％
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計回収率：９８．９％
化合物（1-161）：化合物（2-161）＝４０．５：５９．５［重量比］
化合物（1-161）及び化合物（2-161）の合計１００重量％に対する異性体比
（１Ｒ，３Ｒ）体 ９４．９％
（１Ｒ，３Ｓ）体 ２．０％
（１Ｓ，３Ｒ）体 ０．０％
（１Ｓ，３Ｓ）体 ３．１％
実施例１１及び１２に示したとおり、化合物（１）及び化合物（２）の合計量に対する化合物（２）の含有量は、異性化工程前の１．１重量％から、異性化工程を経ることにより、６０．８重量％及び５９．５重量％にそれぞれ増加した。即ち、異性化工程により、化合物（１）から化合物（２）を製造することができた。また、シクロプロパン環の１位と３位との立体配置は、異性化工程の前後でほとんど変化はなかった。
（実施例１３）
（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−クロロ−２−シアノ−１−ビニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（1-173）と記すことがある）及び（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−クロロ−２−シアノ−１−ビニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（2-173）と記すことがある）を合計60ｍｇ含み、それらの重量比が、化合物（1-173）：化合物（2-173）＝７７：３３であるトルエン溶液３０ｍＬに、ジフェニルジスルフィド１２ｍｇと過酸化ベンゾイル６ｍｇとを加え２時間加熱還流させた。得られた反応混合物に１Ｎ−塩酸を加え、酢酸エチルで抽出することにより、化合物（1-173）及び化合物（2-173）を合計５５ｍｇ［化合物（1-173）：化合物（2-173）＝４０：６０（重量比）］で含む酢酸エチル溶液を得た。化合物（1-173）及び化合物（2-173）の回収率は９２％であった。
（Ｚ）−２，２−ジメチル−３−（２−クロロ−２−シアノ−１−ビニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（1-173）と記すことがある）及び（Ｅ）−２，２−ジメチル−３−（２−クロロ−２−シアノ−１−ビニル）シクロプロパンカルボン酸（以下、化合物（2-173）と記すことがある）を合計60ｍｇ含み、それらの重量比が、化合物（1-173）：化合物（2-173）＝７７：３３であるトルエン溶液３０ｍＬに、ジフェニルジスルフィド１２ｍｇと過酸化ベンゾイル６ｍｇとを加え２時間加熱還流させた。得られた反応混合物に１Ｎ−塩酸を加え、酢酸エチルで抽出することにより、化合物（1-173）及び化合物（2-173）を合計５５ｍｇ［化合物（1-173）：化合物（2-173）＝４０：６０（重量比）］で含む酢酸エチル溶液を得た。化合物（1-173）及び化合物（2-173）の回収率は９２％であった。
実施例１３に示したとおり、化合物（１）及び化合物（２）の合計量に対する化合物（２）の含有量は、異性化工程前の３３重量％から、異性化工程を経ることにより、６０重量％に増加した。即ち、異性化工程により、化合物（１）から化合物（２）を製造することができた。
（実施例１４）
実施例１で用いた臭素の替わりに、以下の異性化触媒を用いても、化合物（１）から化合物（２）を製造することができる。
臭化アセチル、臭化プロピオニル、臭化ベンゾイル、五臭化りん、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ブロモアセトアミド、トリメチルシリルブロミド、四臭化珪素、臭化チオニル、三臭化ホウ素、三臭化アルミニウム、チオフェノール、ｐ−チオクレゾール、１−ブタンチオール、チオ安息香酸、チオ酢酸、チオサリチル酸、硝酸、硝酸ナトリウム
実施例１で用いた臭素の替わりに、以下の異性化触媒を用いても、化合物（１）から化合物（２）を製造することができる。
臭化アセチル、臭化プロピオニル、臭化ベンゾイル、五臭化りん、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ブロモアセトアミド、トリメチルシリルブロミド、四臭化珪素、臭化チオニル、三臭化ホウ素、三臭化アルミニウム、チオフェノール、ｐ−チオクレゾール、１−ブタンチオール、チオ安息香酸、チオ酢酸、チオサリチル酸、硝酸、硝酸ナトリウム
化合物（２）は、害虫等の有害生物防除剤として有用であることが知られている。本発明は、化合物（２）を製造する方法として産業上利用することができる。
Claims (2)
- 臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物及びチオカルボン酸化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒、並びに、
無機過酸化物、ケトンペルオキシド化合物、ヒドロペルオキシド化合物、過酸化ジアシル化合物、過酸エステル化合物、過酸化合物及びアゾ化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種のラジカル開始剤の存在下、式（１）
Ｒ２は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を表わす。）
で示される（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物を、式（２）
で示される（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物に異性化させる工程を含むことを特徴とする（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物の製造方法。 - 臭素、臭化水素、カルボン酸臭化物、臭化リン化合物、Ｎ−臭化イミド化合物、Ｎ−臭化アミド化合物、臭化アルキルシラン化合物、臭化チオニル、臭化ホウ素化合物、臭化アルミニウム化合物、チオール化合物、ジスルフィド化合物及びチオカルボン酸化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種の異性化触媒、並びに、
無機過酸化物、ケトンペルオキシド化合物、ヒドロペルオキシド化合物、過酸化ジアシル化合物、過酸エステル化合物、過酸化合物及びアゾ化合物からなる群から選ばれる少なくとも一種のラジカル開始剤の存在下、式（１）
Ｒ２は、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基又は置換基を有していてもよいベンジル基を表わす。）
で示される（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物を、式（２）
で示される（Ｚ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物に異性化させることを特徴とする（Ｅ）−シアノアルケニルシクロプロパンカルボン酸化合物の異性化方法。
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