JP5636053B2 - ガス電界電離イオン源及びその使用方法、並びに、イオンビーム装置 - Google Patents
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Description
(イオンビーム装置の構成)
図1は、本実施の形態に係るイオンビーム装置の全体構成図である。本実施の形態のイオンビーム装置200は、後述する本発明のガス電界電離イオン源(GFIS)100を、従来のガリウム−液体金属イオン源(Ga−LMIS)用に作製された集束イオンビーム(FIB)装置にそのGa−LMISに代えて組み込んで構成したものである。
図2は、図1に示したガス電界電離イオン源(GFIS)100の構成例である。
本実施の形態では、エミッタチップ1,引出電極2,ガス放出口部3が配置される雰囲気を、レンズ系102及び偏向系103が配置されるイオン光学系300の雰囲気から独立した超高真空に保つ。このため、エミッタチップ1等を収容する真空容器10は、イオン光学系300の機器を収容するイオン光学系筐体(図示せず)とは独立した筐体により形成されている。すなわち、ガス電界電離イオン源(GFIS)100は、ユニット化されている。
次に、本実施の形態に係るガス電界電離イオン源(GFIS)100を構成するエミッタチップ1の形状制御の方法と、それによる放射角電流密度の改善について説明する。
本実施の形態に係るエミッタチップ1の製造方法を図4に示す。エミッタチップ1の製造は、基本的にはGFIS100とは別の装置群を用いて行うが、工程6002以降はGFISで行うこともできる。
GFISにおいて使用される先端の原子数が非常に少ないエミッタチップでは、イメージング用のガス(ここではヘリウム)に含まれる不純物ガスの吸着により、先端原子が本来より小さい電界で剥離する現象がある。これがエミッタチップの寿命を決めている。不純物ガスの由来には、装置内壁なども含まれる。このため、装置ごとにその寿命は異なる。
その一方で、エミッタチップの先端を再生する場合、再生の前後で引出電圧Vex が大きく変化すると、イオン光学系へのアライメントのやり直しが必要になる。このアライメントのやり直しに伴う余分な作業時間の発生は、稼働時間を減少させる可能性がある。本実施の形態のエミッタチップでは、単原子を頂点とする三角錐形状の突起が基体部分の曲面に接するように形成されているため、再生によりこの突起の頂点が移動することは無い。従って、再生による引出電圧Vex の変化は微小であり、1週間の間に数回の再生を行っても、12kVの引出電圧Vex は100Vも変化しない。勿論、1回の使用当たりの引出電圧Vex の変化は1%以下である。
前述の通り、本実施の形態のエミッタチップは、頂点に単原子を作った上に放射角を狭めて放射角電流密度を高めることを狙ったものである。しかし、頂点の単原子をわざと剥離して3原子の状態で使用する方法が考えられる。この使用方法では、放射角電流密度を高める効果は3分の1に減ってしまうが、単原子の場合よりも3原子の状態の方が先端原子の剥離に対する尤度が高くなるためにエミッタチップの再生までの時間を延ばせる利点がある。
図4に例示した本実施形態のエミッタチップの製造方法は、W単結晶上に貴金属をコートして先端にナノチップを形成する方法に関するものであり、それ自体が新しい。なぜなら、本発明の必要条件である、電界蒸発による曲率調整に続けて単原子を頂点とする突起(ピラミッド)をエミッタチップの先端に形成するという要請に答えるために新たに開発したためである。例えば非特許文献2に記載された製造方法では、上記の条件を満たせない。
続いて、他の実施の形態を説明する。なお、本実施の形態に係るイオンビーム装置の構成も、実施の形態1に関わるイオンビーム装置200(図1)と同じである。また、GFISの構成も図2のGFIS100と同じである。異なる部分は、GFISに実装するエミッタチップ1の特性である。実施の形態1に係るエミッタチップでは、図3Aのプロット5010に対応する特性を有するものであったのに対し、本実施の形態に係るエミッタチップ1の場合には、図3Aのプロット5011に対応する特性を有するものを使用する。
実施の形態1で実装したプロット5010に対応するエミッタチップ1は、工程6002の電界蒸発を25kVで行ったものであり、ヘリウムの引出電圧Vex は12.2kVであった。
更に、他の実施の形態を説明する。なお、本実施の形態に係るイオンビーム装置の構成も、実施の形態1に関わるイオンビーム装置200(図1)と同じである。また、GFISの構成も図2のGFIS100と同じである。異なる部分は、GFISに実装するエミッタチップ1の組成である。具体的には、エミッタチップ1の全ての部分がWでできている場合を想定する。
本実施の形態に係るエミッタチップ1の製造方法を図8に示す。エミッタチップ1の製造は、基本的には、GFIS100とは別の装置群を用いて行うが、工程6002以降はGFISで行うこともできる。なお、図8には、図4との対応部分に対応する符号を付して示している。
本実施の形態に係るエミッタチップの寿命も、実施の形態1で説明した場合と同様に、イメージング用のガス(ここではHe)に含まれる不純物ガスにより決まる。しかしながら、失われた先端原子をイオン源装置内で短時間に自動的に再生できれば、実質的なエミッタチップの寿命は尽きない。本実施の形態のエミッタチップでは、図8の工程6005−2により先端の単原子を再生することができる。勿論、先端の数原子が失われた場合も同様である。工程6005−2の実行により先端の原子配列が再構成され、単原子を頂点とする突起(ピラミッド)が形成される。
本実施の形態のエミッタチップでは、実施の形態1で説明したのと同様に、単原子を頂点とする三角錐形状の突起が基体部分の曲面に接するように形成される。このため、再生処理により、この突起の頂点が移動することは無い。従って、本実施形態のエミッタチップの先端再生時の引出電圧Vex の変化も、実施の形態1で説明したのと同様に微小である。実際、1週間の間に数回の再生を行っても、その変化量は1%以下の変化である。このため、前述した再生処理を行ったとしても、イオン光学系のアライメントをやり直す必要は生じない。なお、エミッタチップ先端を電界蒸発により何層か剥がして出てくる先端の3原子を使う従来の再生方法では、引出電圧が500V程度ずつ変化するため、前述したようなイオン光学系のアライメント作業が発生してしまう。
本実施の形態のエミッタチップは、実施の形態1の場合に比べて、頂点の単原子が失われた場合にこれを再生できる確率が低い。このため、再生処理を何度も繰り返す場合がある。この原因は、頂点の単原子(ここではW原子)の供給源を実施の形態1のように特別に設けていないためと推定される。そこで、頂点の単原子をわざと剥離して3原子の状態で使用する方法が考えられる。この使用方法では、放射角電流密度を高める効果は3分の1に減ってしまうが、単原子の場合よりも3原子の状態の方が先端原子の剥離に対する尤度が高くなるためにエミッタチップ再生までの時間を延ばせる利点がある。
以上、本発明を適用して好適な実施の形態例について説明してきたが、エミッタチップの先端に単原子を頂点とする角錐形状または円錐形状の突出部を作成する方法は、前述した実施の形態1及び実施の形態3に記載の方法に限られるものでは無い。例えば窒素(N2)の雰囲気中でエミッタチップに電界をかけて先端をエッチングする方法など、種々考えられる。また、イオン化するためのガスはHeに限らず、ネオン(Ne)やアルゴン(Ar)などの希ガス、水素(H2)なども使用できる。
Claims (9)
- 真空中に保持した導電性で針状の先端を持つエミッタチップと、該エミッタチップの先端方向に離間した位置に開口を有する引出電極と、該エミッタチップの先端近傍にガスを供給するガス供給配管と、該エミッタチップと該引出電極との間に引出電圧を印加して該ガスをイオン化する電界を形成する引出電圧印加手段と、を有するガス電界電離イオン源において、
該エミッタチップの少なくとも基体が単結晶の金属であり、
該エミッタチップの先端が頂点に単原子を有する角錐形状又は円錐形状であり、かつ、次のいずれか1つの条件を満たすことを特徴とするガス電界電離イオン源。
(A)該単原子が電界蒸発するしきい値電圧が11kV以上である。
(B)ヘリウムガスをイオン化して発生した該単原子からのイオンビームがベストイメージを形成する条件になるときの前記引出電圧印加手段に印加する引出電圧が10kV以上である。
(C)ヘリウムガスをイオン化する場合の該単原子からのイオンビームの放射半開角が0.7°以下である。 - 請求項1に記載のガス電界電離イオン源において、
前記エミッタチップの少なくとも基体である単結晶がタングステンであり、前記エミッタチップの長手方向に該タングステンの[111]結晶方位を沿わせていることを特徴とするガス電界電離イオン源。 - 請求項1に記載のガス電界電離イオン源において、
前記エミッタチップの先端の表面が貴金属でコートされていることを特徴とするガス電界電離イオン源。 - 請求項1に記載のガス電界電離イオン源において、
前記頂点の単原子が失われた場合に、真空又は任意のガス中での加熱処理を含むプリセット条件の処理だけで、前記頂点に単原子を再生できることを特徴とするガス電界電離イオン源。 - 請求項4に記載のガス電界電離イオン源において、
前記エミッタチップの前記頂点の単原子を再生により維持する場合に、累積使用時間1週間での引出電圧の使用開始前に対する変化が1%以下であることを特徴とするガス電界電離イオン源。 - 請求項4に記載のガス電界電離イオン源において、
前記エミッタチップの前記頂点の単原子を再生により維持する場合に、1回使用後の引出電圧の使用開始前に対する変化が1%以下であることを特徴とするガス電界電離イオン源。 - 請求項4に記載のガス電界電離イオン源におけるプリセット条件が、前記頂点の単原子を再生しながら維持して使用するか、又は前記頂点の単原子のみを剥離して先端に3個の原子を配置した状態で使用するかの選択情報に応じて自動的に設定されることを特徴とするガス電界電離イオン源の使用方法。
- 請求項1〜7のいずれか一つに記載のガス電界電離イオン源と、
試料を保持する試料ステージと、
前記イオン源から放出されるイオンを加速及び集束して該試料上に照射するレンズ系と、
前記イオンを偏向して試料上におけるイオンの照射位置を変える偏向系と、
前記試料から放出される2次粒子を検出する2次粒子検出器と、
前記2次粒子検出器から得られる2次粒子信号を当該イオンの偏向に対応させて2次粒子画像を形成する手段と、
画面上に表示された前記2次粒子画像上でイオンの照射位置の指定入力を受け付ける手段と
を有するイオンビーム装置。 - 請求項8に記載のイオンビーム装置において、
前記ガス電界電離イオン源を構成する前記エミッタチップの頂点の単原子を再生しながら維持して使用するか、又は頂点の単原子のみを剥離して先端を3個の原子の状態にして使用するかをユーザに選択させる制御系を有するとともに、該制御系が選択された原子の状態に応じて前記エミッタチップの頂点の再生処理を自動で実行することを特徴とするイオンビーム装置。
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