JP5622481B2 - 磁気記録媒体用基板の製造方法 - Google Patents
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Description
また、基板の製造コストの低減のため、多段による研磨工程の段数を減らすことが求められている。そして、特許文献2には、一台の研磨盤に多種類のスラリーを適用する研磨方法が記載されている。
(1) アルミニウム合金基板の表面にNiPめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第1の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、前記磁気記録媒体用基板を洗浄した後に、第2の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と、を含み、前記粗研磨工程の最後に、アルミナ砥粒を含む研磨液の供給を停止し、代わりに砥粒を含まない洗浄液を供給して研磨盤からアルミナ砥粒を除去し、その後、前記第1の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら前記磁気記録媒体用基板の表面を研磨する中間研磨工程を設けたことを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
(2) 前記砥粒を含まない洗浄液として水を用いることを特徴とする前項(1)記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
(3) 前記粗研磨工程において使用する前記アルミナ砥粒の体積換算の50%累積平均径(D50)を0.1〜0.7μmとすると共に、前記中間研磨工程において使用するコロイダルシリカ砥粒の体積換算の50%累積平均径(D50)を15〜400nmとすることを特徴とする前項(1)に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
(4) 前記仕上げ研磨工程において使用する前記コロイダルシリカ砥粒の体積換算の50%累積平均径(D50)を5〜180nmとすることを特徴とする前項(1)〜(3)のうち、いずれか1項記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
なお、以下の説明で用いる図面は、特徴をわかりやすくするために、便宜上特徴となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率などが実際と同じであるとは限らない。また、以下の説明において例示される材料、寸法等は一例であって、本発明はそれらに必ずしも限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲で適宜変更して実施することが可能である。
この段階において、第1の研磨盤には、ほとんどアルミナ砥粒が残留しない。そのため、コロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を用いて研磨を行うことで、磁気記録媒体用基板に突き刺さったアルミナ砥粒を効率よく除去することができる。
また、仕上げ研磨工程において使用するコロイダルシリカ砥粒の平均径は、中間研磨工程に用いるコロイダルシリカ砥粒の平均径より細かくするのが、基板に突き刺さったアルミナ砥粒を除去し、かつ、表面の平滑度が高い基板を製造する上で特に好ましい。
実施例1,2では、以下の条件にて基板を製造した。先ず、外径65mm、内径20mm、厚さ1.3mmのドーナツ状のアルミニウム合金製ブランク材(5086相当品)の内外周端面、データ面を旋削加工後、全表面に厚さ約10μmの無電解Ni−Pめっき処理を施し、この基板を本発明の研磨加工に供した。
比較例1,2では、1段目の研磨工程の最後に、水洗とコロイダルシリカ砥粒を用いた中間研磨工程を行わなかった。また、第1の研磨盤を用いた1段目の研磨工程を5分間、第2の研磨盤を用いた仕上げ研磨工程を2分間(比較例1)又は4分間(比較例2)とした。それ以外は実施例1,2と同様に基板の研磨工程を行った。
Claims (4)
- アルミニウム合金基板の表面にNiPめっき被膜を形成した磁気記録媒体用基板の表面を研磨する際に、第1の研磨盤を用いてアルミナ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する粗研磨工程と、前記磁気記録媒体用基板を洗浄した後に、第2の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら研磨する仕上げ研磨工程と、を含み、
前記粗研磨工程の最後に、アルミナ砥粒を含む研磨液の供給を停止し、代わりに砥粒を含まない洗浄液を供給して研磨盤からアルミナ砥粒を除去し、その後、前記第1の研磨盤を用いてコロイダルシリカ砥粒を含む研磨液を供給しながら前記磁気記録媒体用基板の表面を研磨する中間研磨工程を設け、前記仕上げ研磨工程に用いるコロイダルシリカ砥粒の平均径を、前記中間研磨工程に用いるコロイダルシリカ砥粒の平均径より細かくすることを特徴とする磁気記録媒体用基板の製造方法。 - 前記砥粒を含まない洗浄液として水を用いることを特徴とする請求項1記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
- 前記粗研磨工程において使用する前記アルミナ砥粒の体積換算の50%累積平均径(D50)を0.1〜0.7μmとすると共に、前記中間研磨工程において使用するコロイダルシリカ砥粒の体積換算の50%累積平均径(D50)を15〜400nmとすることを特徴とする請求項1に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
- 前記仕上げ研磨工程において使用する前記コロイダルシリカ砥粒の体積換算の50%累積平均径(D50)を5〜180nmとすることを特徴とする請求項1ないし3のうち、いずれか1項記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
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