JP5616082B2 - セラミックス被覆材の製造方法 - Google Patents
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また、窒化クロム被覆材の製造において、加熱処理工程の加熱処理温度は、760℃〜1060℃であることが好ましく、760℃〜960℃であることがより好ましく、860℃ないし860℃±50℃であることが特に好ましい。
<反応性スパッタリングによる成膜条件>
・装置:dcマグネトロンスパッタ装置(ヒラノ光音(株)社製)
・ターゲット:Ti円板(直径100mm、板厚7mm、純度99.99%、(株)高純度化学研究所社製)
・反応ガス、作動ガス:窒素(N2)、アルゴン(Ar)
・成膜温度:約200℃
なお、ターゲットと鋼基材表面との距離は70mmとした。また、鋼基材表面の清浄化を図るためにアセトン溶液による超音波洗浄、スパッタ装置真空槽内でのスパッタクリーニング処理(DC power supply:800W, Bias voltage:-100V, Ar gas pressure:0.9Pa)を10分間ずつ行った後、TiNの成膜(DC power supply:800W, Bias voltage:-60V, Ar gas pressure:0.57Pa, N2gas pressure:0.23Pa)を実施し、成膜時間を制御することで、約2.5μmの厚みを有するTiN薄膜を得た。ここで、TiN薄膜の厚みは、走査型電子顕微鏡(SEM)を用いた断面観察により確認した。
<試料の製造条件>
・鋼基材:炭素工具鋼SK105
・成膜方法:AIP法(成膜温度:約400℃)
・加熱処理温度:0℃(加熱処理なし)〜1060℃
・加熱処理時間:20分
なお、加熱処理後、窒素気流下にて自然冷却し、急冷処理・焼入れ焼戻し処理は実施しないものとする。
<スクラッチ試験の測定条件>
・試験機:CSR−01((株)レスカ社製)
・荷重負荷速度:39.2N/分
・試料移動速度:7mm/分
なお、臨界荷重Lcの値が大きい方がセラミックス薄膜と鋼基材との密着強度が高いことを意味する。
Claims (2)
- 基材上に窒化チタンアルミニウムが成膜されたセラミックス被覆材の製造方法において、
窒化チタンアルミニウムを基材上に成膜する成膜工程と、
窒化チタンアルミニウムが成膜された基材を960℃〜1060℃の温度で加熱処理する加熱処理工程と、
を有することを特徴とするセラミックス被覆材の製造方法。 - 請求項1に記載のセラミックス被覆材の製造方法において、
基材は、鋼基材であり、
加熱処理した鋼基材を急冷して、該鋼基材を焼戻し処理する工程を有することを特徴とするセラミックス被覆材の製造方法。
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