JP5606987B2 - 磁気回路要素を冷却する方法及び装置 - Google Patents

磁気回路要素を冷却する方法及び装置 Download PDF

Info

Publication number
JP5606987B2
JP5606987B2 JP2011092788A JP2011092788A JP5606987B2 JP 5606987 B2 JP5606987 B2 JP 5606987B2 JP 2011092788 A JP2011092788 A JP 2011092788A JP 2011092788 A JP2011092788 A JP 2011092788A JP 5606987 B2 JP5606987 B2 JP 5606987B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
mandrel
coolant
housing
flange
magnetic circuit
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
JP2011092788A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2011142354A (ja
Inventor
リチャード エム ネス
ウィリアム エヌ パートロ
ポール シー メルチャー
ジョージ エックス ファーガソン
ロバート ビー シースル
Original Assignee
サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー filed Critical サイマー リミテッド ライアビリティ カンパニー
Publication of JP2011142354A publication Critical patent/JP2011142354A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP5606987B2 publication Critical patent/JP5606987B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Active legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/24Magnetic cores
    • H01F27/26Fastening parts of the core together; Fastening or mounting the core on casing or support
    • H01F27/266Fastening or mounting the core on casing or support
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/08Cooling; Ventilating
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/08Cooling; Ventilating
    • H01F27/10Liquid cooling
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F3/00Cores, Yokes, or armatures
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/097Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping by gas discharge of a gas laser
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01FMAGNETS; INDUCTANCES; TRANSFORMERS; SELECTION OF MATERIALS FOR THEIR MAGNETIC PROPERTIES
    • H01F27/00Details of transformers or inductances, in general
    • H01F27/02Casings
    • H01F27/025Constructional details relating to cooling

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)
  • Dc-Dc Converters (AREA)
  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)
  • Transformer Cooling (AREA)

Description

本発明は、誘導リアクタ及び変成器のような高速及び高電力磁気回路要素、及びこのような装置を十分に冷却する方法及び装置に関する。
図1に、従来技術のパルス電力回路を示す。パルス電力回路は、例えば、高電圧共振電源30、コミュテータモジュール40、圧縮ヘッドモジュール60、及びレーザチャンバモジュール80を含むことができる。高電圧電源モジュール20は、10V乃至300Vの直流源23から得た3相208Vの通常のプラント電力を変換する、例えば300V整流器22を含むことができる。インバータ24は、整流器22の出力を例えば100kHz乃至200kHzの範囲の高周波数の300Vのパルスに変換する。抵抗VDR1及びVDR2を有する分圧器からなる電圧モニタ44の出力に基づいてインバータの周波数及びオン周期を高電圧電源制御盤(図示してない)によって制御し、システムの最終出力パルスエネルギの粗調整を行うことができる。
インバータ24の出力は、ステップアップ変成器26において約1,200Vまでステップアップすることができる。変成器26の出力は、例えば標準ブリッジ整流回路28及びフィルタコンデンサ32を含むことができる整流器28によって1,200Vの直流に変換される。回路20の直流出力は、インバータ24の動作を制御することができる高電圧電源制御盤(図示してない)の指令に基づいて、コミュテータモジュール40内の例えば8.1μFの充電用コンデンサC042を充電するために使用することができる。高電圧電源制御盤(図示してない)内の設定点は、レーザシステム制御盤(図示してない)によって設定することができる。この実施の形態においては、レーザシステムのパルスエネルギ制御は電源モジュール20によって行うことができる。
コミュテータモジュール40及び圧縮ヘッドモジュール60内の電気回路は、電圧を増幅し、電源モジュール20によって充電用コンデンサC042に蓄えられる電気エネルギを圧縮し、例えば700Vを充電用コンデンサC042に供給することができる。この電圧は、充電サイクル中、ソリッドステートスイッチ46によって下流の回路から絶縁することができる。
コミュテータモジュール40は、フィードバック電圧信号を高電圧電源制御盤(図示してない)へ供給するために、充電用コンデンサC042及び分圧器44を含むことができる。充電用コンデンサC042は、合計で例えば8.1μFの容量が得られるように並列接続されているコンデンサのバンク(図示してない)であることができる。制御盤(図示してない)はこのフィードバック電圧信号を使用して充電用コンデンサC042の充電をある電圧(いわゆる“制御電圧”)に制限する。この制御電圧は電気パルスに成形され、コミュテータ40及び圧縮ヘッド60において圧縮され、増幅された時に、ピーキングコンデンサCp82上に、及び電極83及び84にまたがって、所望の放電電圧を発生させることができる。
当分野においては公知のように、図1の従来技術の回路は、3ジュールまたはそれ以上の範囲の、そして毎秒2,000−4,000パルスまたはそれ以上のパルスレートで、14,000Vより高いパルスを発生させるために使用することができる。このような回路においては、直流電源モジュール20が充電用コンデンサC042を例えば700Vまで充電するのに、例えば約250マイクロ秒を必要とし得る。従って、コミュテータ制御盤(図示してない)からソリッドステートスイッチ46を閉じるための信号が供給される時点に、充電用コンデンサC042は完全に充電されており、また所望の電圧において安定であることができる。ソリッドステートスイッチ46は、電極83及び84にまたがる放電を発生させるために、充電用コンデンサC042上に蓄えられた3ジュールの電気エネルギからピーキングコンデンサCp上の例えば14,000Vまたはそれ以上の電荷への変換を非常に高速なステップで開始する。ソリッドステートスイッチ46は、例えばIGBTスイッチ、または例えばSCR、GTO、MCT、大電力MOSFET等のような他の適当な高速動作大電力ソリッドステートスイッチであることができる。ソリッドステートスイッチ46が閉じ、充電用コンデンサC042上に蓄えられた電荷が第1段コンデンサC152へ放電されてパルス圧縮の第1の状態を形成する際に、ソリッドステートスイッチ46を通る電流を一時的に制限するために、ソリッドステートスイッチ46と直列に600nHの充電用インダクタL048を使用することもできる。
パルス発生及び圧縮の第1段50においては、コンデンサC042上の電荷が約5μs以内にコンデンサ(例えば、8.5μFのコンデンサC152)上へスイッチされる。適当なインダクタ54は、それが飽和するまでコンデンサC152上の電圧を遅延させ、飽和するとコンデンサC152から流れる電流に対して本質的に0インピーダンスを呈してコンデンサC152から、例えば1:23のステップアップパルス変成器56を通して圧縮ヘッドモジュール60内のコンデンサCp-162を充電するための電荷の転送を可能にする。この電荷の転送時間は約550nsであり、圧縮の第1段を構成している。
パルス変成器56の設計は、例えば1999年8月10日付Partloらの米国特許第5,936,988号「高パルスレートパルス電力システム」に開示されているように、多くの従来特許に記載されている。このような変成器は、例えば700V、17,500A、550nsパルスを、圧縮ヘッドモジュールのコンデンサCp-162(これも、コンデンサのバンクであることができる)上に極く一時的に蓄えられる例えば16,100V、760A、550nsパルスに変換する。圧縮ヘッドモジュール60は、パルスを更に圧縮することができる。例えば約125nHの飽和したインダクタンスであることができる可飽和リアクタインダクタLp-164は、コンデンサCp-162上の電圧をほぼ550nsの間遅延させ、Cp-1上の電荷が例えば約100ns以内にピーキングコンデンサCp82上へ流れることを可能にする。ピーキングコンデンサCp82は、例えば16.5nFのコンデンサであり、レーザチャンバ(図示してない)の頂部に位置決めされている。ピーキングコンデンサCp82は、電極83及び84と電気的に並列に接続されている。例えば550ns幅のパルスから、ピーキングコンデンサCp82を充電するための例えば100ns幅のパルスへのこの変換は、圧縮の第2の、そして最後の段を構成することができる。レーザチャンバモジュール80内のレーザチャンバ(図示してない)の頂部に、そして該チャンバの一部として取付けられているピーキングコンデンサCp82上へ電荷が流れ始めてから約100nsの後に、ピーキングコンデンサCp82上の電圧は例えば約14,000Vに到達し、電極83と84との間の放電が開始される。放電は例えば約50ns間持続し、この時間中に例えばエキシマレーザの共鳴チャンバ(図示してない)内でレージングが発生する。
図1の従来技術の回路は更に、バイアス電流源I-及びバイアス電流I+によって示されているバイアス回路を含むことができる。例えばインダクタLB1及びLB2のようなバイアスインダクタを、それぞれバイアス電流源I-及びI+に、及びそれぞれ、ソリッドステートスイッチ46上のダイオード47と充電用インダクタL048との間の、及び圧縮ヘッドコンデンサCp-162と圧縮ヘッド可飽和インダクタLp-164との間の第1段圧縮回路50に接続することができる。バイアス電流源I-は、可飽和インダクタL1を事前に飽和させることができるバイアスを供給することができる。インダクタLB1は、圧縮ヘッドモジュール60の時定数に対して比較的長い時定数が得られるように、そしてそれによってバイアス電流源I+をパルス電力から絶縁するように、比較的高いインダクタンス値を有することができる。同様に、バイアス電流I+は、圧縮ヘッド可飽和インダクタLp-164を(バイアスインダクタLB36を通して接地へ戻る)、及びパルス変成器56を(変成器56の二次巻線を通して接地へ戻る)をバイアスすることができる。
電極83、84の間の放電が終了した後に、コンデンサCpは負極性電荷へ駆動され得る。それは、回路40、50、60、80とレーザチャンバモジュールの電極83、84との間のインピーダンスが整合していないこと、及び、可飽和インダクタLp-1がコンデンサCp-1からコンデンサCpへの順電流に対して既に事前に飽和されていて、電極83と84との間に例えば電極83、84を浸食するエネルギリンギングを発生させる代わりに、コンデンサCp上の逆電荷が共振的にコンデンサCp-1内へ戻されるように転送される等々によってコンデンサC0へ戻り、次のパルスのために電源20から充電される前にコンデンサC0を予備充電していることが原因である。このようにして、電子回路は、コンデンサC042が先行パルスから充電される際の過剰エネルギを回復することができ、これはエネルギの浪費を大幅に減少させ、且つレーザチャンバモジュール80内のアフターリンギングを実質的に排除する。
これは、エネルギ回復インダクタ58及びエネルギ回復ダイオード59からなることができるエネルギ回復回路57によっても促進される。充電用コンデンサC042と並列に接続されているこれら2つの要素の直列組合わせは、例えばパルス電力システムのインピーダンスがチャンバのインピーダンスと正確に一致していないことから、また、パルスの放電中にチャンバのインピーダンスが数桁も変化することから、電極83、84にまたがる主パルスから負へ進む“反射”が発生してパルス発生システム40、50、60、80のフロントエンドへ向かって戻り伝播すのを防いでいる。
過剰エネルギが圧縮ヘッド60及びコミュテータ40を通って戻り伝播した後に、コントローラ(図示してない)によってソリッドステートスイッチ46のトリガ信号が除かれてソリッドステートスイッチ46が開く。エネルギ回復回路57は、充電用コンデンサC042上に負電圧を発生させた反射の極性を、共振フリーホイーリングを通して反転させることができる。(共振フリーホイーリングは、充電用コンデンサC042及びエネルギ回復インダクタ58からなるL−C回路のリンギングの半サイクルであって、ダイオード59はインダクタ58内の電流の反転をクランプする。)正味の結果は、チャンバモジュール80からの実質的に全ての反射エネルギを各パルスから回復し、次のパルスのために直ちに使用される正電荷として充電用コンデンサC042上に蓄え得ることである。
上述した直流バイアス回路は、可飽和インダクタ及びパルス変成器に使用されている磁性材料の全B−H曲線スウィングをより完全に使用するのを援助することができる。上述したように、バイアス電流が各可飽和インダクタL048、L154、及びLp-164へ供給され、ソリッドステートスイッチ46が閉じられることによってパルスが開始される時点に各インダクタL048、L154、及びLp-164を逆飽和させる。コミュテータモジュール40の可飽和インダクタL048及びL154の場合には、これは、正常なパルス電流の流れに対して、即ちバイアス電流源120からインダクタL048及びL154を通るI-の方向に対して約15Aの逆バイアス電流を流すことによって達成する。実際の電流の流れは矢印B1で示すように、電源から、コミュテータの接地接続、パルス変成器56の一次巻線、可飽和インダクタL154、可飽和インダクタL048、及び絶縁インダクタLB1を通ってバイアス電流源120へ戻る。圧縮ヘッド可飽和インダクタの場合には、約5Aのバイアス電流B2が第2のバイアス電流源126から絶縁インダクタLB2を通して供給される。圧縮ヘッドモジュール60においては電流は分流し、一部は可飽和インダクタLp-164を通って進み、絶縁インダクタLB3から第2のバイアス電流源126へ戻る。残余の電流B2-2は、圧縮ヘッドモジュール60とコミュテータモジュール40とを接続している高電圧ケーブルからパルス変成器56の二次巻線を通って接地へ達し、またバイアス用抵抗(図示してない)を通って第2のバイアス電流源126へ戻る。この第2の電流はパルス変成器56をバイアスし、それをパルス化動作に対してリセットさせるように使用することができる。2つの各流路へ分流する電流の量は各流路内の抵抗によって決定することができ、また各流路が正確な量のバイアス電流を受け取るように調整することができる。
プラント電源23から、システム40、50、60、80を通って電極83、84へ、及び電極84を越えて接地へ達するパルスエネルギの流れを以下に“順方向の流れ”と呼び、この方向を順方向と称する。可飽和インダクタのような電気的要素が順方向に導電しているという場合には、これは該要素が飽和するようにバイアスされて“パルスエネルギ”を電極に向かう方向に、即ち順方向に導いていることを意味する。それが逆方向に導電している場合、それは逆方向に飽和するように駆動されており、その方向にバイアスされていよう。システムを通る電流の流れ(または、電子の流れ)の実際の方向は、システム内の観測点及び観測時点に依存する。
充電用コンデンサC042は(例えば)正の700Vで充電することができ、ソリッドステートスイッチ46が閉じた時に、充電用コンデンサC042から充電用インダクタL048及び第1段圧縮インダクタL1を通って第1段圧縮コンデンサC152に向かう方向に電流を流すようになる。同様に、電流はC152からパルス変成器の一次側を通って接地へ向かって流れる。従って、電流及びパルスエネルギの方向は、充電用コンデンサC042からパルス変成器56まで同一である。パルス変成器56の一次ループ及び二次ループの両方内の電流の流れは、例えば接地に向かうことができる。
ソリッドステートスイッチ46は、ペンシルバニア州ヤングウッドのPowerex, Inc.から入手できるP/N CM 1000 HA-28H IGBTスイッチであることができる。
これらの高い電圧及び電流で動作する回路、より特定的には、例えば4,000Hzまで、またはそれ以上のような極めて高いパルス繰り返しレートで動作する磁気回路要素は、大量の熱を発生することは明白である。これは多分、圧縮ヘッド磁気可飽和インダクタ/リアクタLp-1の場合に最もクリティカルであるが、パルス電力供給システム40、50、60、80内の全ての可飽和リアクタ/インダクタにも言えることである。これはまた、ステップアップパルス変成器56の動作のクリティカルファクタでもある。従来は、これらの磁気回路要素は、例えば冷板(コールドプレート)を使用して冷却していた。冷板は、板を通る1つまたはそれ以上の通路を有しており、これらの通路は、例えば1995年11月5日付Birxらの米国特許第5,448,580号「空冷及び水冷モジュレータ」に示されているように、通常、これらの通路の間の冷板の実質的な広がりによって分離されている。例えば2002年8月27日付Oliverらの米国特許第6,442,181号「極度の繰り返しレートガス放電レーザ」に示されているように、磁気回路要素のハウジングの外側に接触している冷却液(例えば、水)を含む配管コイルのような伝導性結合による冷却も提唱されている。この特許は、磁気回路要素のハウジングの外側にヒートシンク型の冷却用フィンを使用するそれ程効果的ではない方法をも示している。勿論、明白な理由から、例えば変圧器油、または例えばCastrol製Brayco Micronic 889、または多数の公知のフルオリナート(Fluorinert)化合物の何れかのような他の適当な誘電性冷却流体のような誘電体でなければならない液体をもハウジング内に導入し、導体及びコア磁気片と接触させなければならない。このような液体絶縁体は、時間が経過するに従って固体粒子、または水、または他の汚染物によって降伏(ブレークダウン)する傾向があるために、部分的に受入れ難いことが分かっている。1991年1月8日付Nakajimaらの米国特許第4,983,859号「高電圧パルス発生装置のための磁気デバイス」はこのような流体を使用し、それをハウジングの内側を通して循環させることをも提唱している。このようなシステムは、特に、高度のクリーンルームが要求される設備、即ち半導体製造設備に使用することはできない。それは、これらが冷却油をポンプし、循環させる必要があるからである。他の従来技術は、ハウジング内に静的にシールされているこのような流体の使用を含む。これは、例えば流体の対流によってハウジング内に循環作用がもたらされ、この循環作用が熱エネルギを導体及び磁気片からハウジングへ運び去るのを少なくとも援助し、上述した引例に記載されているようにして熱エネルギの主要な量を更に熱交換させるようになっている。
電圧及びパルス繰り返しレートをより高め、パルスバースト間の時間を短縮する、即ちデューティサイクルをより高くしようとすると、これらの磁気回路要素において解放される熱エネルギが、調停を益々困難にする。これは、パルス発生機器内に使用されている磁気回路要素のクリティカルな磁気特性の故に、以前にも増して温度を厳密に制御しない限り、適切に動作させることに少なくとも失敗はしないにしても、温度関連ドリフトを極めて受け易いので、パルス間に変動が殆どない1ns程度またはそれ以下のパルス持続時間の極めて狭い、極めて高いパルス繰り返しレートの、極めて高いパルスを必要とする例えばUV、及びEUV、及びより短い光波長のレーザ光源のようなマシンにおいてよりクリティカルである。上述した従来技術の方法及び装置、及びそれらの等価物は、過去の要求に対してはサービスしてきたが、直ちにではないにしても、急速に不十分なものになりつつある。従って、導体、磁気コア片等が発生する熱エネルギを除去するための改善された方法及び装置の磁気回路要素の分野においては、例えばクリーンルーム環境には潜在的に不利である油のような循環流体を使用することなく、冷却中の部品間の電気絶縁を維持する要望が存在している。
パルスステップアップ変成器の物理的構造についても、例えば2000年11月21日付Partloらの米国特許第6,151,346号「高速立ち上がり時間及び低電流を有する高パルスレートパルス電力システム」、及び1999年8月17日付Partloらの米国特許第5,940,421号「パルス化ガス放電レーザのための電流反転防止回路」を含む多くの先行特許に記載されている。
上述したような高電圧応用においては、個々の部品間に電位差をつけて印加される電圧に耐えさせるために、2つの導電性金属部品の間に電気絶縁体を用いる必要がある。多くの場合、空気は絶縁体ではあるが、空気だけでは十分ではない。更に、多くの場合、1つより多くの軸内に存在しているために、これらの金属部品間の絶縁が必要であり得る。上述したような公知の回路内に使用されている公知のインダクタにおいては、金属要素を絶縁するためにカプトン(Kapton:ポリイミド)のような絶縁体が使用されてきた。このような場合、例えば前記米国特許第5,936,988号の図8Bに示されているインダクタハウジングではカプトンのような絶縁体のシートを使用し、そのシートを同図に示されているハウジングの内壁と同図に示されている磁気コア301及び302との間に挿入し、インダクタハウジングの内壁に概ね接する円筒を形成させている。また、公知のインダクタにおいては、このシートはハウジング(同図には示されていない)の内部に形成されている別の内部円筒形壁に隣接する円筒を形成することができる。このような材料のシートは適切な形状及びサイズに切断し、ハウジング内に挿入して例えばハウジングの床をカバーし、ハウジングの床をハウジング内の近傍の電気的に付勢される金属要素から分離することもできる。これらの配列が、カバー内にギャップを生じさせてアーキングその他の望ましくない効果(例えば、絶縁体シートとハウジングとの間に気泡が形成されて誘電率の不一致状態を生じさせ、電界を集中させて電気的降伏をももたらし得る)をもたらす不適切なフィット及び/または変形の存在の傾向を含む多くの理由から、不満足であることが分かっている。
代替として、常にそうであるとは限らないが、形状及びフィットが許容する場合には、例えば絶縁材料を、開放端を有するトロイダル形状の片に加工し、同じような形状のトロイダル要素をその開口の中に配置することができる。しかしながら、加工の際に除かれる例えばマイラーまたはカプトンのような絶縁材料は単純に破棄されるから、これは極めて高価になり得る。更に、絶縁材料の別のシートを使用して開放トロイダル絶縁構造の頂部開口を閉じようとする場合には、ギャップ及び付随問題がもたらされる。
従って、高電力高パルスレート磁気回路要素等におけるこれらの諸問題を解決することが望まれている。
少なくとも1つのコア支持部材壁を有し、中心に配置されているコア支持部材の周りに配置された磁気コアを有する磁気回路要素を冷却する装置及び方法を提供する。本装置は、コア支持体冷却材入口と、コア支持体冷却材出口と、コア支持部材壁内に設けられている複数の相互接続された冷却材流路とを含むことができる。冷却材流路は、冷却材を、1つの冷却材流路から、コア支持体冷却材入口からコア支持冷却材出口までのコア支持部材壁の少なくとも実質的な部分の中の冷却材流路に沿ってコア支持部材壁内の次の冷却材流路まで通過させるように相互接続され、配列されている。更に、各コア支持体冷却材流路は、各コア支持体冷却材流路の各端において流体流通プレナムと流体的に通じており、各流体流通プレナムは、コア支持冷却材入口からコア支持冷却材出口までの冷却材流路に沿うコア支持体冷却材流路の少なくとも第1の流路のための出力プレナムと、コア支持体冷却材流路の少なくとも第2の流路のための入口プレナムとを形成している。コア支持部材は、コア支持部材から伸びるフランジを含むことができ、このフランジは内側寸法及び外側寸法を有している。フランジは更に、コア支持体冷却材入口とコア支持体冷却材出口との間に、内側寸法に向かって及び外側寸法から遠去かるように、次いで外側寸法に向かって及び内側寸法から遠去かるように交互に伸びる複数の相互接続されたフランジ冷却材流路を含むことができる。コア及びコア支持体は、ハウジング内に収容することができる。ハウジングは、ハウジング壁、ハウジング冷却材入口、ハウジング冷却材出口、及びハウジング壁内に設けられている複数の相互接続されたハウジング冷却材流路を含むことができる。ハウジング冷却材流路は、冷却材を、1つの冷却材流路から、ハウジング冷却材入口からハウジング冷却材出口までのハウジング壁の少なくとも実質的な部分内の冷却材流路に沿ってハウジング壁内の次の冷却材流路まで通過させるように相互接続され、配列されている。ハウジング及びコア支持体は、磁気コアの周りに2巻回を形成している電流流路の少なくとも一部の部分を形成することができる。本発明の別の面においては、バスワークを導電性材料の薄いフィルムでコーティングすることができる。
磁気誘導リアクタを使用する従来技術のパルス電力回路を示す図である。 本発明の一実施の形態による磁気誘導リアクタのハウジングの斜視図である。 図2のハウジングの、図2の3−3矢視断面図である。 図2及び3に示すハウジングの側壁部分のより詳細な断面図である。 図1−3のハウジングの上面図であって、明瞭化のためにハウジングの上側部分を取り除いてある。 図8の6−6矢視断面図であって、本発明の一実施の形態による磁気コアバスケットアセンブリが一部を切除されて示されている。 図6の本発明の一実施の形態による磁気コアバスケットアセンブリのマンドレル形成部分内に形成されている冷却材通路の概要図である。 図6の本発明の一実施の形態による磁気コアバスケットアセンブリの一部を形成しているマンドレルの上面図である。 本発明の一実施の形態によるパルス電力変成器巻線の囲い板及びマンドレルに適用される本発明による代替実施の形態を示す図である。
図2に、本発明の一実施の形態による磁気誘導リアクタハウジング200を斜視図で示す。ハウジング200の形状はほぼ円筒形であり、底部分202、中央部分204、及び上側部分206を有することができる。図4に示すように、棚218は環状のシール溝232を有することができ、この溝の中に、例えば“ビトン(viton)”製のOリングのような環状のシール用リング(図示してない)を挿入することができる。ハウジングカバー230は、カバー230上の環状フランジ(図示してない)と係合し且つ上側部分206の一部を形成している棚218内に形成されているねじ孔内にねじをねじ込むことによって側壁210に取付けられる環状の保持リング(図示してない)によって、側壁210に取付けることができる。ハウジング200は更に、中心円柱212を有することができる。中心円柱212は、例えば溶接または真空ろう付け(当分野において公知の真空ろう付けの技術の何れかを使用する)によってハウジング200の底板216に取付けることができる。代替として、底部分202全部を、底板216及び中心円柱212と共に、1つの材料片から加工することができる。中心円柱212は、複数のねじ(図示してない)によってハウジングカバー230をハウジング200に取付けるためのねじ孔214を有することができる。これらのねじは、ハウジングカバー230と中心円柱212との間の電気的接続を行うのにも役立たせることができる。図3に示すように、ハウジング200は、ハウジング200のシーリングの一部を形成している頂板208を有することができる。
図4に、ハウジング200の側壁210をより詳細に示す。図4は、側壁210の内面211を左側に示している。ハウジング200の側壁210の底部分202は、真空ろう付け接続224によって中央部分244に取付けることができる。中央部分204も、真空ろう付け接続222によって上側部分206に接続することができる。図4の断面図から明かなように、ハウジング側壁210の中央部分204には、その中に複数のほぼ垂直の冷却材通路240が形成されている。各冷却材流路240は、ハウジング壁冷却材上側プレナム242及びハウジング壁冷却剤下側プレナム244と流体的に通じさせることができる。
図5は、ハウジング200の上側部分206を示すハウジング200の上面図であり、明瞭化のために側壁210は図示してない。図5は、ハウジング側壁の中央部分204内の各冷却材通路が、図5にそれぞれ破線で示されているハウジング冷却材上側プレナム242(中央部分204の頂リム内に加工されている溝によって形成することができる)、またはハウジング冷却材下側プレナム244(ハウジング中央部分の底リム内に加工されている溝によって形成することができる)の何れかを通して各近傍冷却材通路240と流体的に通じている。このように接続されていない2つだけの冷却材通路240は、それぞれ冷却材入口管246及び冷却材出口管248に接続されている。冷却材入口管246及び冷却材出口管248に接続されているこれら2つの冷却材通路は、中空の、真空にされた孔245によって分離されている。以下に詳述するように、ハウジング内に収容されている磁気リアクティブインダクタ回路要素の動作によってハウジング200内に発生する熱に起因してハウジング側壁210、底板216、及び頂板208、及び/またはカバー230に進入する熱を除去するために、例えば水のような冷却材を、ハウジング熱除去システムとして使用できることは理解されよう。
冷却材は、入口管246を通して図5に示すように入口管246と流体的に通じている冷却材通路240内へ導入することができ、その後に冷却材は冷却材通路を通って下方へ流れて図5に破線で示すハウジング壁冷却材下側プレナムへ達する。この下側冷却材プレナムにおいて冷却材通路240は、次に続く冷却材通路240と流体的に通ずるように配置されており、冷却材は後者の冷却材通路240を通ってハウジング壁冷却材上側プレナムへ戻る。ハウジング壁上側冷却材プレナムは、この次の冷却材通路240を更に次に続く冷却材通路240と流体的に通じさせる等々と、冷却材が冷却材出口管248と流体的に通じている冷却材通路240を通過するまで続く。冷却材出口管248において、冷却材を、例えば適当な熱交換器のような適当な熱除去ユニット(図示してない)へ戻すことができる。
冷却材通路240、及びハウジング壁冷却材上側プレナム242、及びハウジング壁冷却材下側プレナム244は、後述するように下側部分202及び上側部分206を中央部分に取付ける前に、ハウジング側壁210の中央部分204内に加工することができることも理解されよう。
図6は図8の6−6矢視部分切除断面図であり、本発明の一実施の形態による磁気コアバスケットアセンブリ150を示している。磁気コアバスケットアセンブリ150は、例えばマンドレル250を含むことができる。マンドレル25は、ほぼ円筒形のマンドレル下側部分252、ほぼ円筒形のマンドレル中央部分254を含むことができる。マンドレル中央部分254は、一体形成されたマンドレルフランジ底部分256を含むことができる(本明細書に使用している頂及び底という方向は、図示の向きを表すのに便宜上使用しているに過ぎないことを理解されたい)。マンドレル250は更に、マンドレルフランジ頂部分258を含むことができる。マンドレル下側部分252、中央部分254、マンドレル底部分256、及び頂部分258は、ほぼ円筒形の中央開口260を限定している。マンドレル下側部分は、例えば真空ろう付けによってマンドレル中央部分254に取付けることができ、またマンドレルフランジ底部分256は、同様に例えば真空ろう付けによってマンドレルフランジ頂部分258に取付けることができる。
例えば真空ろう付けによって、複数の(例えば、6つの)スタンドオフ280がマンドレルフランジ頂部分258に取付けられている。これらのスタンドオフ280の中の2つ(図6にそれらが示されており、また図6には1つが断面で示されている)は、図6に断面で示してあるスタンドオフの内部の入口/出口プレナム284と通じているマンドレル入口管282及びマンドレル出口管283を通して冷却材システム(図示してない)に接続することができる。これもまた図6に示されているように、マンドレル入口または出口プレナム284は4つの入口/出口プレナム指276のセットと流体的に通じさせることができる。これらの入口/出口プレナム指276は、マンドレルフランジ底部分256の上面に溝を加工することによって、そしてその後に、上述したようにマンドレルフランジ頂部分258をマンドレルフランジ底部分256に取付けることによって、マンドレルフランジ底部分256内に形成することができる。入口/出口指276を形成している溝に整合する溝は、マンドレルフランジ頂部分258の下側に形成させることもできることは理解されよう。しかしながら、図示の実施の形態においては、マンドレルフランジの底部分256だけがそれぞれの溝を有するように示されている。マンドレル下側部分252及びマンドレル中央部分254も、内側側壁262及び外側側壁264を有するほぼ円筒形のマンドレル壁を形成している。図6に断面で示してあるように、マンドレル中央部分254は、マンドレル中央部分254内をほぼ垂直に伸びる複数のマンドレル冷却材通路270を含むことができる。各マンドレル冷却材通路270は、図7に示すように、マンドレル中央部分上側冷却材混合プレナム272及びマンドレル中央部分冷却材混合プレナム274の両方と流体的に通じている。但し、2つの指276と流体的に通じている2つのマンドレル冷却材通路270が、マンドレル冷却材入口管282及びマンドレル冷却材出口管283とそれぞれ流体的に通じているマンドレル冷却材入口プレナム284から伸びていることを除く。
図7は、マンドレル中央部分254内に形成され、マンドレル中央部分256を180°取り巻いて伸びる冷却材通路270の概要図である。これらの通路270は、入口管282から出口管283まで2つのほぼ平行な流路を形成しており、マンドレル冷却材上側混合プレナム272とマンドレル冷却材下側混合プレナム274とを混合する。冷却材は、図7の右側に示されているスタンドオフ280の内部プレナム284を通して、入口管282と流体的に通じている指276内へ進入し、指276と流体的に通じている2つのマンドレル冷却材通路270のそれぞれに分流する。これらの2つの冷却材通路270自体は、複数のマンドレル中央部分冷却材下側混合プレナム274の1つと流体的に通じている。複数のマンドレル中央部分冷却材下側混合プレナム274において冷却材は混合され、別の2つの冷却材通路270内を分流してマンドレル中央部分冷却材上側混合プレナム272の1つに達する等々、冷却材が複数のマンドレル中央部分冷却材下側混合プレナム274の1つに到達するまで続けられる。図7の左側に示されているように、マンドレル中央部分冷却材下側混合プレナム274は1対の冷却材通路270と流体的に通じており、これらの冷却剤通路対はスタンドオフ出口プレナム284と流体的に通じ、そしてスタンドオフ出口プレナム284はスタンドオフ出口管283と流体的に通じている。
図8に上面図で示すように、指276、冷却材通路270、冷却材上側混合プレナム272、及び冷却材下側混合プレナム274と同一のシステムが、入口管282から出口管283まで、マンドレル中央部分254の他方を180°取り巻いて冷却材を輸送できることが理解されよう。
マンドレル250の部分切除上面図である図8を、図7と共に参照する。図8は、マンドレル中央部分のフランジ底部分256内に蛇行フランジ冷却通路330が形成されている様子を示す。蛇行フランジ冷却通路332は、マンドレルフランジ256、258の内側半径のほぼ近くからマンドレルフランジ256、258の外側半径のほぼ近くまで、ほぼ対称的なループを形成することによってその内側直径からその外側直径までフランジの冷却を平衡させるのに役立つ。このパターンは、指276(冷却材をフランジ256、258の内側半径に向かって運ぶのに役立っている)付近だけは変化している。ハウジング中央部分204、冷却材通路270、及びプレナム272、274は、指276を形成している溝及び蛇行フランジ冷却チャンネル330と共に、マンドレル下側部分252及びフランジ頂部分258をそれぞれマンドレル中央部分254及びフランジ底部分256に真空ろう付け等によって取付ける前に加工できることも理解されよう。
磁気コアバスケットアセンブリ150は、マンドレル下側部分のほぼ円形の底板300に取付けることもできる。底板300自体は、例えば底板300を通ってマンドレル下側部分252のねじ孔303内にねじ込まれるねじ(図示してない)によって、マンドレル下側部分252に取付けることができる。フランジ256、258の周縁に離間している複数のスタンドオフ302及び底板300を含み、且つねじ孔308及び306を通してそれぞれフランジ256、258及び底板300に取付けられている磁気コアバスケットアセンブリ150は、1つまたはそれ以上の磁気コア(図示してない)を閉じ込めるのに役立つ。磁気コアは、例えば磁性材料の1つまたはそれ以上のトロイダル片によって形成することができる。これらは、例えば、金属のトロイダル片によって形成することができる。この金属のトロイダル片は、例えばアルミニウムであって、その上に例えばニッケル、または鉄、またはニッケル・鉄合金製の磁気テープをスプール状に巻き付け、それによって、アルミニウムがマンドレルの底部分252、または中央部分254、または少なくとも1つの場合には両方と電気的に接触させてマンドレル250上にフィットするコアを形成させることができる。若干の場合には、例えば製造公差にを斟酌して、マンドレル底部分252及び/または中央部分254との間に良好な電気的接触を得るために、例えばシートのテープの形状の、例えば銅のような適当な導電性材料のシムを、アルミニウムトロイド(図示してない)とマンドレル250との間に挿入することができる。磁気コア(図示してない)は、例えばマンドレル底部分252及び中央部分254内に挿入し、底板300によって所定の位置に保持することができる。バスケットアセンブリ150は頂板304を有することもでき、頂板304は、例えばスタンドオフ280が通る孔を用いてフィットさせることができる。頂板304は、例えば、ねじ孔214内にねじ込まれるねじ(図示してない)によって、中心円柱212に取付けることもできる。
フランジ256、258、及びスタンドオフ280を含むマンドレル250は、ニッケルめっきされた銅で製造することができ、また頂及び底板もニッケルめっきされた銅で製造することができる。スタンドオフ302は、例えばアルミニウムで製造することができる。底板300及びスタンドオフ280が通る孔の中を含む頂板304は、適当な誘電材料でコーティングすることができ、これらの孔には、例えばパリレンのコーティングを噴霧することができる。ハウジングの内壁及び側壁の突起234上を伸びてシール用溝218へ下る部分も、絶縁の目的のためにパリレンでコーティングすることができる。動作中、磁気誘導リアクタを図1の回路に接続し、カバー230を例えば圧縮ヘッドモジュール60内の例えばコンデンサCp-1と電気的に接触させることができる。従って、電流は、カバー230を通ってカバー230と電気的に接触しているスタンドオフ280に達し、マンドレル中央部分254及び底部分252を通って底板に進み、孔303内のねじを通り、孔306内のねじによって底板300に電気的に接続されているスタンドオフ302へ上昇し、次いで孔308内のねじを通して頂板へ達し、次いで孔214内のねじを通って中心円柱に進み、回路内の電気的に接続されているハウジングの底から例えば次段のコンデンサCpへ流れる。従って、ハウジング200及び磁気コアバスケットアセンブリ150内に収容されている磁気コア(図示してない)は、例えば2巻回の誘導性要素Lp-1を形成することができる。
図9に示す本発明の別の実施の形態は、例えば図1の変成器56のような変成器の巻線要素で実現することができる。巻線要素350は、囲い板の形状であることができる。囲い板は、右囲い板壁352及び左囲い板壁354を含み、これらの壁はマンドレル358と共に右壁352と左壁354との間を伸びるマンドレル358を形成し、各壁はマンドレル358のフランジを形成している。マンドレルは、変成器56の二次巻線を通すための中心開口356を有している。変成器巻線要素350への本発明の適用例として、右壁352はその中に、冷却材入口プレナム371を通して冷却材垂直通路376へ達する冷却用入口通路372(右壁352の部分的に切除した部分内に示す)を形成することができる。図9から明白なように、同じようにしてマンドレル358内に冷却材通路376を形成させることができる。この通路376は、ハウジング中央部分204内の上側プレナム242及び下側プレナム244のマンドレル内の冷却材右側プレナム374及び冷却材左側プレナム375によって相互接続される。
本発明は、ハウジング200を形成している隣接要素、例えば内側壁211、ハウジングの底216の内側、及びカバー230の内側、並びにハウジング内の要素、中心円柱212、チャンネル260の内壁262、及びマンドレル250のフランジ部分256、258の表面上に、絶縁材料のコーティングを使用する。電気絶縁性のコーティングの使用は、極めて高いカバレッジで、即ち電気絶縁の面から見て本質的に完璧なカバレッジで、当該金属表面に直接適用することができる。コーティングのための電気絶縁材料は、少なくともマイラーまたはカプトンのような極めて良好な絶縁特性を有するが、同時に比較的高い熱伝導特性をも有する材料(殆どの電気絶縁体は、熱絶縁体でもある)から選択される。これは、高パルスレートで、従って高い平均電力で動作する磁気インダクタのような回路要素の熱予算の管理を改善する。
この材料は、例えば約10−500μmの範囲の極めて選択可能な厚みを有する薄いフィルムを堆積させるために使用することができるプラズマコーティング、溶射または熱噴霧コーティング、化学または物理蒸着等のような多くの公知堆積技術の何れかによって堆積させることができる。材料は、パリレン、サファイア、窒化アルミニウム、または酸窒化アルミニウムを含む酸化アルミニウムまたは他の類似セラミック材料、ダイヤモンドまたはダイヤモンド状炭素(“DLC”)コーティング、ダイヤモンド結合を有する炭素のアモルファス形のような電気絶縁性ではあるが熱伝導性の材料のグループから選択することができる。アルファアルミナ(アモルファスアルミナ)、イットリア安定化ジルコニア、McrAlY等のコーティングのようなこれらの材料の若干のための堆積プロセスは、堆積が行われる基体に分子結合され、ピンホールもボイドも存在しないが必要な電気抵抗及び熱伝導性を呈する極めて薄いフィルムを形成するものであることができる。これらのコーティングは、例えばオハイオ州コロンバスのApplied Coatings, Inc.から入手可能である。
DLCコーティングの例として、例えばペンシルバニア州アレンタウンのDiamonex社のDiamonexは、106−1012Ω/cmの固有抵抗と、本質的にガラスまたは金属と類似の熱伝導率とを有する0.001乃至10μmの範囲内で入手することができる。本発明の実施の形態に使用可能なパリレンも公知であり、実質的に如何なる形状にも順応するポリマーコーティングからなり、例えば真空堆積プロセスによって分子レベルで付着させることもできる。始めに、例えばパリレン蒸気のようなジ・パラ・キシレンの蒸気を先ず熱分解し、次いで堆積チャンバ内において真空の下で堆積させてポリマーコーティングを形成させる。パリレンも、約1016の範囲内の高い固有抵抗を有し、合理的な熱伝導体である。カリフォルニア州ランチョ・クカモンガのAdvanced Coating製のパリレンC、パリレンD、及びパリレンNのような他の公知のパリレン二量体も使用することができる。
例えば頂板298と磁気コアバスケット150の底板300とを接続しているスタンドオフ302のようなハウジング200内に収容されているリアクタのアルミニウムバスワーク、またはハウジング200の外部の他の類似スタンドオフ(図示してない)は、特に別の金属導体との界面(例えば、ねじ孔304、306)において導電率の劣化を受け得る。これは、このようなバスワークのために現在使用されている無被覆アルミニウムが原因であることが分かった。即ち、このバスワーク要素が存在している環境に部分的に起因して、及び/またはこの界面を通過する電流に部分的に起因して、界面に不要なコーティング、例えば絶縁体である酸化アルミニウムが形成されることが分かった。若干の場合には、絶縁コーティングが界面においてアーキング及び/または炭化をもたらし、最終的には例えばアーキングがより強くなる等によってアセンブリに障害をもたらす恐れがある。
この問題に対する解決方法として、バスワークの露出された表面上に、例えばSheffield Plates製のMIL-C5541仕様のChem Filmのような、クロム酸転換コーティングのようなコーティングを配置することが提唱されている。これは、バスワークの表面を導電性にし、腐食を阻止するのを援助することができる。しかしながら、例えばChem Filmのようなコーティングは、十分な厚みに付着させることが困難であり、極めて脆く、そして引掻き及び摩耗に起因する毀損を受け易い。このため、意図した目的のためには、このようなコーティングは効果的ではない。
出願者らは、例えば非電着性ニッケルコーティングのような非電着性金属コーティングを使用すると、Chem Filmの低電気抵抗及び良好な耐食性という利点を、Chem Film等のコーティングの使用に有害な影響を与えることなく達成できることを見出した。制御が公知であるめっきプロセスによって付着させた非電着性ニッケルのような材料を用いてコーティングをより正確に制御することによって、引掻きまたは摩耗による劣化に耐える極めて頑丈なコーティングの形成と同時に、表面抵抗のような抵抗を極めて効果的に制御して高パルス電力回路バスワークの有効性及び信頼性を大幅に改善することができる。
上述した本発明の実施の形態は単に説明を目的とするに過ぎず、これらの実施の形態が本発明を限定するものではない。当業者ならば、本発明の意図及び範囲から逸脱することなく、上述した実施の形態の多くの変更及び変化が理解されよう。例えば、冷却材通路は、上述した実施の形態のようにハウジングまたはマンドレルの中心軸に対応する軸方向に形成する必要はなく、例えばハウジングまたはマンドレルの中心部分を形成している複数の部分を使用することによって、ハウジングまたはマンドレルの中心部分の周縁を伸びる通路を加工することも、または図1に示すような垂直以外の、垂直に対してある角度をなすことも、または他の類似変更を行うこともできる。また上述した実施の形態は、例えば単なるねじ止めまたはボルト止めとOリングとの併用等によって適当にシーリングしたろう付け以外の異なるアセンブリ技術の使用のような、若干の構造面の変更もあり得る。従って、本発明の範囲は特許請求の範囲によってのみ限定されることを理解されたい。

Claims (15)

  1. 中心に位置決めされたマンドレルの周囲に配置されている磁気コアを有する磁気回路要素であって、
    第1のマンドレルフランジ(256)に接続された第1のスタンドオフ(280)に接続されたマンドレル入口管(282)と、ここで、前記第1のスタンドオフ(280)はマンドレル入口管(282)を頂板(304)から電気的に絶縁し、
    第1の端部が第1のマンドレルフランジ(256)と接続されたマンドレル(250)と、
    を備え、前記マンドレル(250)は、
    複数のマンドレル冷却材上側混合プレナム(272)、
    少なくとも1つのマンドレル冷却材下側混合プレナム(274)、
    前記マンドレル冷却材上側混合プレナム(272)の少なくとも1つ及び前記マンドレル冷却材下側混合プレナム(274)の1つと流体的に通じているマンドレル冷却材通路(270)、
    前記第1のマンドレルフランジ(256)内の複数の冷却剤指(276)のうちの1つを通してマンドレル入口管(282)と流体的に通じている第1のマンドレル冷却材上側混合プレナム(272)、
    前記第1のマンドレルフランジ(256)内の複数の冷却剤指(276)のうちの他の1つを通してマンドレル出口管(283)と流体的に通じている第2のマンドレル冷却材上側混合プレナム(272)、
    マンドレル入口管(282)、第1のスタンドオフ(280)、第1のマンドレルフランジ(256)、マンドレル(250)を含む電流経路、
    を含むことを特徴とする磁気回路要素。
  2. さらに、
    前記マンドレル(250)の前記第1の端部と反対側の第2の端部と物理的に接続された第2のマンドレルフランジ(300)と、
    前記第2のマンドレルフランジ(300)を頂板(304)と接続する複数のスタンドオフ(302)と、
    を含み、前記電流経路は、さらに、前記第2のマンドレルフランジ(300)から前記複数のスタンドオフ(302)の少なくとも1つを通して前記頂板(304)、中心円柱(212)の第1端につながる経路を含んでいる、請求項1に記載の磁気回路要素。
  3. 前記第1のマンドレルフランジ(256)は、少なくとも1つの蛇行フランジ冷却通路(332)を含み、前記蛇行フランジ冷却通路(332)は、前記第1のマンドレルフランジ(256)の内側と外側の間を交互に蛇行するよう伸びている、請求項1に記載の磁気回路要素。
  4. 請求項2に記載の磁気回路要素は、さらに磁気コア及びコア支持部材を含むハウジングを備え、前記ハウジングは、
    ハウジング壁、
    ハウジング冷却材入口、
    ハウジング冷却材出口、及び
    前記ハウジング壁内に設けられている複数の相互接続されたハウジング冷却材流路であって、ハウジング冷却材入口からハウジング冷却材出口までのハウジング壁の冷却材流路に沿って、冷却材を、1つの冷却材流路から前記ハウジング壁内の冷却剤流路まで通過させるように相互接続され、配列されている、複数のハウジング冷却材流路、
    を含んでいる、請求項2に記載の磁気回路要素。
  5. 前記電流経路は、さらに、前記ハウジング及び前記コア支持部材を含んでいる、請求項4に記載の磁気回路要素。
  6. 前記ハウジング壁は、電気的絶縁性の絶縁フィルムを含んでいる、請求項4に記載の磁気回路要素。
  7. 前記電気的絶縁性の絶縁フィルムには、電気絶縁性かつ熱電導性の、分子的に結合した有機化合物及び無機化合物のグループから選択された材料が含まれる、請求項6に記載の磁気回路要素。
  8. さらに、外側の表面が非電着性金属化合物の薄いフィルでコーティングされた、前記磁気回路要素の電気的部品を相互に電気的に接続するバスワーク要素を有する、請求項1に記載の磁気回路要素。
  9. 前記非電着性金属化合物はめっきによって堆積させたものである、請求項8に記載の磁気回路要素。
  10. 前記電気絶縁性の絶縁フィルムには、酸化アルミニウム、酸窒化アルミニウム、窒化アルミニウム、サファイヤ、ダイヤモンド、ダイヤモンド状炭素(DLC)、及びパリレンのうちの少なくとも1つが含まれる、請求項7に記載の磁気回路要素。
  11. 中心に位置決めされたマンドレルの周囲に配置されている磁気コアを有する磁気回路要素を冷却する方法であって、
    前記マンドレル(250)に接続された第1のマンドレルフランジ(256)に接続された第1のスタンドオフ(280)に接続されたマンドレル入口管(282)を含む電流経路を定義するステップと、ここで、前記マンドレル入口管(282)、第1のスタンドオフ(280)、第1のマンドレルフランジ(256)、及びマンドレル(250)のうちの少なくとも1つは、対応する少なくとも1つの冷却剤通路を含んでおり、
    前記電流経路に電流を流すのと同時に、前記対応する少なくとも1つの冷却剤通路に冷却剤を流すステップと、
    を含み、
    前記マンドレル入口管(282)は、前記第1のマンドレルフランジ(256)に接続された第1のスタンドオフ(280)に接続され、前記第1のスタンドオフ(280)は前記マンドレル入口管(282)を頂板(304)から電気的に絶縁し、
    前記マンドレル(250)は、その第1の端部が第1のマンドレルフランジ(256)と接続され、前記マンドレル(250)は、
    複数のマンドレル冷却材上側混合プレナム(272)、
    少なくとも1つのマンドレル冷却材下側混合プレナム(274)、
    前記マンドレル冷却材上側混合プレナム(272)の少なくとも1つ及び前記マンドレル冷却材下側混合プレナム(274)の1つと流体的に通じているマンドレル冷却材通路(270)、
    前記第1のマンドレルフランジ(256)内の複数の冷却剤指(276)のうちの1つを通してマンドレル入口管(282)と流体的に通じている第1のマンドレル冷却材上側混合プレナム(272)、
    前記第1のマンドレルフランジ(256)内の複数の冷却剤指(276)のうちの他の1つを通してマンドレル出口管(283)と流体的に通じている第2のマンドレル冷却材上側混合プレナム(272)、
    を含むことを特徴とする方法。
  12. 前記磁気回路要素には、
    前記マンドレル(250)の前記第1の端部と反対側の第2の端部と物理的に接続された第2のマンドレルフランジ(300)と、
    前記第2のマンドレルフランジ(300)を頂板(304)と接続する複数のスタンドオフ(302)とがさらに含まれ、
    前記電流経路は、さらに、前記第2のマンドレルフランジ(300)から前記複数のスタンドオフ(302)の少なくとも1つを通して前記頂板(304)、中心円柱(212)の第1端につながる経路を含んでいる、請求項11に記載の方法。
  13. 前記第1のマンドレルフランジ(256)は、少なくとも1つの蛇行フランジ冷却通路(332)を含み、前記蛇行フランジ冷却通路(332)は、前記第1のマンドレルフランジ(256)の内側と外側の間を交互に蛇行するよう伸びている、請求項11に記載の方法。
  14. 前記磁気回路要素は、さらに磁気コア及びコア支持部材を含むハウジングを備え、前記ハウジングは、
    ハウジング壁、
    ハウジング冷却材入口、
    ハウジング冷却材出口、及び
    前記ハウジング壁内に設けられている複数の相互接続されたハウジング冷却材流路であって、ハウジング冷却材入口からハウジング冷却材出口までのハウジング壁の冷却材流路に沿って、冷却材を、1つの冷却材流路から前記ハウジング壁内の冷却剤流路まで通過させるように相互接続され、配列されている、複数のハウジング冷却材流路、
    を含んでいる、請求項12に記載の方法。
  15. 前記電流経路は、さらに、前記ハウジング及び前記コア支持部材を含んでいる、請求項14に記載の方法。
JP2011092788A 2003-06-25 2011-04-19 磁気回路要素を冷却する方法及び装置 Active JP5606987B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US10/607,407 US7002443B2 (en) 2003-06-25 2003-06-25 Method and apparatus for cooling magnetic circuit elements
US10/607,407 2003-06-25

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006517266A Division JP2007524226A (ja) 2003-06-25 2004-06-14 磁気回路要素を冷却する方法及び装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2011142354A JP2011142354A (ja) 2011-07-21
JP5606987B2 true JP5606987B2 (ja) 2014-10-15

Family

ID=33540258

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006517266A Pending JP2007524226A (ja) 2003-06-25 2004-06-14 磁気回路要素を冷却する方法及び装置
JP2011092788A Active JP5606987B2 (ja) 2003-06-25 2011-04-19 磁気回路要素を冷却する方法及び装置

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006517266A Pending JP2007524226A (ja) 2003-06-25 2004-06-14 磁気回路要素を冷却する方法及び装置

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7002443B2 (ja)
EP (1) EP1644945A4 (ja)
JP (2) JP2007524226A (ja)
KR (1) KR101151260B1 (ja)
CN (1) CN1809903B (ja)
TW (1) TWI282993B (ja)
WO (1) WO2005001853A2 (ja)

Families Citing this family (41)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050259709A1 (en) 2002-05-07 2005-11-24 Cymer, Inc. Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate
US7087914B2 (en) * 2004-03-17 2006-08-08 Cymer, Inc High repetition rate laser produced plasma EUV light source
US20060222034A1 (en) * 2005-03-31 2006-10-05 Cymer, Inc. 6 Khz and above gas discharge laser system
US20070071047A1 (en) * 2005-09-29 2007-03-29 Cymer, Inc. 6K pulse repetition rate and above gas discharge laser system solid state pulse power system improvements
US7471455B2 (en) 2005-10-28 2008-12-30 Cymer, Inc. Systems and methods for generating laser light shaped as a line beam
US7317179B2 (en) * 2005-10-28 2008-01-08 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate
US7679029B2 (en) * 2005-10-28 2010-03-16 Cymer, Inc. Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations
US7864825B2 (en) * 2006-08-10 2011-01-04 Lasertel, Inc. Method and system for a laser diode bar array assembly
JP2009212147A (ja) * 2008-02-29 2009-09-17 Shinshu Univ 大電流用インダクタ及びその製造方法
JP5348948B2 (ja) * 2008-06-20 2013-11-20 株式会社東芝 変圧器
US20090322460A1 (en) * 2008-06-25 2009-12-31 Lin Hsun-I High-frequency switching-type direct-current rectifier
KR101711145B1 (ko) * 2010-09-03 2017-03-13 삼성전자주식회사 휴대용 4중극자 이온트랩 질량분석기
DE102011005778A1 (de) * 2011-03-18 2012-09-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Optisches Element
US9524820B2 (en) 2012-11-13 2016-12-20 Raytheon Company Apparatus and method for thermal management of magnetic devices
US9349523B2 (en) 2013-07-15 2016-05-24 Raytheon Company Compact magnetics assembly
US10892140B2 (en) * 2018-07-27 2021-01-12 Eagle Harbor Technologies, Inc. Nanosecond pulser bias compensation
US9373436B2 (en) * 2014-07-07 2016-06-21 Hamilton Sundstrand Corporation Liquid cooled inductors
US9911532B2 (en) 2014-08-25 2018-03-06 Raytheon Company Forced convection liquid cooling of fluid-filled high density pulsed power capacitor with native fluid
CN104319072A (zh) * 2014-10-21 2015-01-28 国家电网公司 变压器降温换热装置
US9564266B2 (en) 2014-10-31 2017-02-07 Raytheon Company Power converter magnetics assembly
US9730366B2 (en) 2015-02-10 2017-08-08 Raytheon Company Electromagnetic interference suppressing shield
JPWO2016143033A1 (ja) * 2015-03-09 2018-02-01 ギガフォトン株式会社 高電圧パルス発生装置
US10804886B2 (en) 2016-06-21 2020-10-13 Eagle Harbor Technologies, Inc. High voltage pre-pulsing
US10529479B2 (en) * 2016-11-04 2020-01-07 Ford Global Technologies, Llc Inductor cooling systems and methods
US10141095B2 (en) * 2016-11-04 2018-11-27 Ford Global Technologies, Llc Inductor cooling systems and methods
US11025031B2 (en) 2016-11-29 2021-06-01 Leonardo Electronics Us Inc. Dual junction fiber-coupled laser diode and related methods
EP3330983B1 (en) * 2016-11-30 2023-10-04 Danfoss Editron Oy An inductive device
ES2842882T3 (es) * 2018-05-08 2021-07-15 Abiomed Europe Gmbh Imán permanente resistente a la corrosión y bomba de sangre intravascular que comprende el imán
US11406004B2 (en) 2018-08-13 2022-08-02 Leonardo Electronics Us Inc. Use of metal-core printed circuit board (PCB) for generation of ultra-narrow, high-current pulse driver
US11056854B2 (en) 2018-08-14 2021-07-06 Leonardo Electronics Us Inc. Laser assembly and related methods
US11348717B2 (en) * 2018-10-31 2022-05-31 Hamilton Sundstrand Corporation Thermal management of high power inductors
US11296481B2 (en) 2019-01-09 2022-04-05 Leonardo Electronics Us Inc. Divergence reshaping array
KR102562520B1 (ko) 2019-05-22 2023-08-01 사이머 엘엘씨 다수의 레이저 빔을 생성하는 장치 및 방법
US11752571B1 (en) 2019-06-07 2023-09-12 Leonardo Electronics Us Inc. Coherent beam coupler
US11594364B2 (en) * 2020-03-18 2023-02-28 Hamilton Sundstrand Corporation Systems and methods for thermal management in inductors
US20220084740A1 (en) * 2020-09-14 2022-03-17 Intel Corporation Embedded cooling channel in magnetics
DE102020212388A1 (de) * 2020-09-30 2022-03-31 Mahle International Gmbh Bodenbaugruppe für eine induktive Ladevorrichtung
US20220172872A1 (en) * 2020-11-30 2022-06-02 Hamilton Sundstrand Corporation Cooling system for a transformer and a method of cooling a transformer
WO2022140071A1 (en) 2020-12-22 2022-06-30 Cymer, Llc Pulsed power circuits using hybrid non-linear magnetic materials and inductors incorporating the same
CN117693873A (zh) 2021-07-15 2024-03-12 西默有限公司 具有受控电抗器复位的脉冲功率系统
WO2023069206A1 (en) 2021-10-21 2023-04-27 Cymer, Llc Apparatus for and method of conditioning laser electrodes

Family Cites Families (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2547065A (en) * 1947-10-30 1951-04-03 Ohio Crankshaft Co Fluid cooled core for electromagnetic apparatus
JPS5138045B2 (ja) * 1971-08-20 1976-10-19
JPS53141319U (ja) * 1977-04-14 1978-11-08
JPS54147656U (ja) * 1978-04-06 1979-10-13
GB2096403B (en) * 1981-04-03 1985-10-02 Marconi Co Ltd An inductor
JPS5893206A (ja) * 1981-11-30 1983-06-02 Toshiba Corp 変圧器
US4716013A (en) * 1983-04-29 1987-12-29 Westinghouse Electric Corp. Nuclear reactor
US4770846A (en) * 1984-02-03 1988-09-13 Westinghouse Electric Corp. Replacement support pin for guide tubes in operating plants
US4696792A (en) * 1984-07-30 1987-09-29 General Electric Company Nuclear reactor coolant recirculation
JPS63117411A (ja) * 1986-11-06 1988-05-21 Toshiba Corp 箔巻変圧器の冷却パネル
US4764339A (en) * 1986-12-16 1988-08-16 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy High flux reactor
JPS63197311A (ja) * 1987-02-12 1988-08-16 Toshiba Corp 箔巻変圧器
JPH0198206A (ja) * 1987-06-11 1989-04-17 Hitachi Metals Ltd 高電圧パルス発生装置用磁性部品
JPH0670922B2 (ja) * 1988-08-25 1994-09-07 日立金属株式会社 高電圧パルス発生装置用磁性部品
US4902998A (en) * 1988-11-21 1990-02-20 Westinghouse Electric Corp. Inductor assembly with cooled winding turns
JP2703631B2 (ja) * 1989-08-22 1998-01-26 ニチコン株式会社 鉄芯の冷却方法
US5100609A (en) * 1990-11-19 1992-03-31 General Electric Company Enhancing load-following and/or spectral shift capability in single-sparger natural circulation boiling water reactors
DE69110273T2 (de) * 1991-04-26 1996-01-25 Ibm Koaxiale schwingungsdämpfende Anordnung eines Ringkerntransformators.
US5325407A (en) * 1993-03-22 1994-06-28 Westinghouse Electric Corporation Core barrel and support plate assembly for pressurized water nuclear reactor
DE9307081U1 (ja) * 1993-05-10 1993-07-01 Siemens Ag, 8000 Muenchen, De
US5448580A (en) * 1994-07-05 1995-09-05 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Air and water cooled modulator
CA2178146C (en) * 1995-06-06 2002-01-15 Mark W. Zitko Electroless nickel cobalt phosphorous composition and plating process
CN2298590Y (zh) * 1997-03-03 1998-11-25 湖南省资兴市东屋机电制造有限责任公司 变压器用的复式冷却装置
US5936988A (en) * 1997-12-15 1999-08-10 Cymer, Inc. High pulse rate pulse power system
US6151346A (en) * 1997-12-15 2000-11-21 Cymer, Inc. High pulse rate pulse power system with fast rise time and low current
US5940421A (en) * 1997-12-15 1999-08-17 Cymer, Inc. Current reversal prevention circuit for a pulsed gas discharge laser
US6240112B1 (en) * 1997-12-15 2001-05-29 Cymer, Inc. High pulse rate pulse power system with liquid cooling
US6477193B2 (en) * 1998-07-18 2002-11-05 Cymer, Inc. Extreme repetition rate gas discharge laser with improved blower motor
US6442181B1 (en) * 1998-07-18 2002-08-27 Cymer, Inc. Extreme repetition rate gas discharge laser
JP2000057534A (ja) * 1998-08-12 2000-02-25 Read Rite Smi Kk 複合型薄膜磁気ヘッド
JP2001250726A (ja) * 2000-03-07 2001-09-14 Hitachi Metals Ltd 可飽和リアクトルおよびこれを用いた電力変換装置
JP2002166361A (ja) * 2000-11-29 2002-06-11 Nippei Toyama Corp ローラ軸支装置
JP4119628B2 (ja) * 2001-08-31 2008-07-16 株式会社日立国際電気 基板処理装置

Also Published As

Publication number Publication date
US7002443B2 (en) 2006-02-21
US20040264521A1 (en) 2004-12-30
WO2005001853A3 (en) 2005-11-24
JP2011142354A (ja) 2011-07-21
EP1644945A2 (en) 2006-04-12
EP1644945A4 (en) 2012-06-13
KR20060035635A (ko) 2006-04-26
JP2007524226A (ja) 2007-08-23
KR101151260B1 (ko) 2012-06-14
TWI282993B (en) 2007-06-21
TW200509153A (en) 2005-03-01
WO2005001853A2 (en) 2005-01-06
CN1809903B (zh) 2010-06-16
CN1809903A (zh) 2006-07-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5606987B2 (ja) 磁気回路要素を冷却する方法及び装置
US11587768B2 (en) Nanosecond pulser thermal management
US6815633B1 (en) Inductively-coupled toroidal plasma source
KR100810258B1 (ko) 플라즈마 점화 장치, 플라즈마 장치, 유도결합형 플라즈마 공정 장치, 플라즈마 점화 방법, 플라즈마 공정 방법
US7166816B1 (en) Inductively-coupled torodial plasma source
US7569790B2 (en) Method and apparatus for processing metal bearing gases
TW480792B (en) High pulse rate pulse power system with liquid cooling
US8779322B2 (en) Method and apparatus for processing metal bearing gases
WO2007041232A2 (en) 6k pulse repetition rate and above gas discharge laser system solid state pulse power system improvements
TWI301039B (ja)
US20240196506A1 (en) Inductively Coupled Plasma Light Source with Switched Power Supply
WO2024123565A1 (en) Inductively coupled plasma light source with switched power supply
Sievers A wide aperture final focus quadrupole for CLIC
Kasao et al. STUDY OF CAPILLARY DISCHARGE LIGHT SOURCE FOR EXTREME-ULTRAVIOLET LITHOGRAPHY

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110518

A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20110518

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20130415

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20130430

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130731

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130805

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130902

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20130905

A601 Written request for extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601

Effective date: 20130930

A602 Written permission of extension of time

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602

Effective date: 20131003

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20140303

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20140703

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A712

Effective date: 20140703

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20140715

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20140804

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20140827

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 5606987

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R3D02

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250