JPH0670922B2 - 高電圧パルス発生装置用磁性部品 - Google Patents
高電圧パルス発生装置用磁性部品Info
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- JPH0670922B2 JPH0670922B2 JP63211353A JP21135388A JPH0670922B2 JP H0670922 B2 JPH0670922 B2 JP H0670922B2 JP 63211353 A JP63211353 A JP 63211353A JP 21135388 A JP21135388 A JP 21135388A JP H0670922 B2 JPH0670922 B2 JP H0670922B2
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- H01F27/08—Cooling; Ventilating
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- H01F30/00—Fixed transformers not covered by group H01F19/00
- H01F30/06—Fixed transformers not covered by group H01F19/00 characterised by the structure
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- H01F38/02—Adaptations of transformers or inductances for specific applications or functions for non-linear operation
- H01F38/023—Adaptations of transformers or inductances for specific applications or functions for non-linear operation of inductances
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- H01F7/06—Electromagnets; Actuators including electromagnets
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエキシマレーザ、銅蒸気レーザ等の放電励起レ
ーザ、加速器等に用いられる高電圧パルス発生回路に使
用される可飽和リアクトル、変圧器、チョークコイル、
アクセラレータ・セル等の磁性部品に関するものであ
る。
ーザ、加速器等に用いられる高電圧パルス発生回路に使
用される可飽和リアクトル、変圧器、チョークコイル、
アクセラレータ・セル等の磁性部品に関するものであ
る。
放電励起レーザの１つであるエキシマレーザ用高電圧パ
ルス発生回路の１例を第15図に示す。第15図の回路は磁
気圧縮回路と呼ばれるものであり、入力端91−92間には
図示の極性で、直流電圧Viが印加されており、サイラト
ロン94がオフの期間に主コンデンサ96には図示の極性に
通常数十kv程度の電圧viが印加されてる。本回路におけ
る可飽和リアクトル98は、サイラトロン94がターンオン
した後にコンデンサ97の両端に印加される電圧V2を、エ
キシマレーザの発振に必要な100ns程度のパルス幅の電
圧V0に圧縮するために使用されるものであり、この意味
から磁気スイッチとも呼ばれる。尚、前記コンデンサ97
の両端に印加される電圧V2のパルス幅はキャパシタンス
96及び97と、インダクタンス95の時定数で定められる。
また同図において、93,102は主コンデンサ96の充電用イ
ンダクタンス、101はエキシマレーザ主放電電極であ
る。本回路においては、可飽和リアクトル98を用いるこ
とでパルス圧縮が可能なため、サイラトロン94のターン
オン時に生ずるピーク損失、アフタカレント及び反転電
流による損失を抑制することができ、エキシマレーザの
高繰返し化、高出力化及び長寿命化が可能となる。
ルス発生回路の１例を第15図に示す。第15図の回路は磁
気圧縮回路と呼ばれるものであり、入力端91−92間には
図示の極性で、直流電圧Viが印加されており、サイラト
ロン94がオフの期間に主コンデンサ96には図示の極性に
通常数十kv程度の電圧viが印加されてる。本回路におけ
る可飽和リアクトル98は、サイラトロン94がターンオン
した後にコンデンサ97の両端に印加される電圧V2を、エ
キシマレーザの発振に必要な100ns程度のパルス幅の電
圧V0に圧縮するために使用されるものであり、この意味
から磁気スイッチとも呼ばれる。尚、前記コンデンサ97
の両端に印加される電圧V2のパルス幅はキャパシタンス
96及び97と、インダクタンス95の時定数で定められる。
また同図において、93,102は主コンデンサ96の充電用イ
ンダクタンス、101はエキシマレーザ主放電電極であ
る。本回路においては、可飽和リアクトル98を用いるこ
とでパルス圧縮が可能なため、サイラトロン94のターン
オン時に生ずるピーク損失、アフタカレント及び反転電
流による損失を抑制することができ、エキシマレーザの
高繰返し化、高出力化及び長寿命化が可能となる。
第16図はエキシマレーザ用高電圧パルス発生回路の別の
例であり、本回路は磁気アシスト回路と呼ばれるもので
ある。本回路における可飽和リアクトル98の役割は、図
示電流i1の立上りを遅らせることにより、サイラトロン
94のターンオン時に生ずるスイッチング損失を低減させ
ることにあり、第15図の回路と同様にエキシマレーザの
高繰返し化、高出力化及び長寿命化が可能となる。
例であり、本回路は磁気アシスト回路と呼ばれるもので
ある。本回路における可飽和リアクトル98の役割は、図
示電流i1の立上りを遅らせることにより、サイラトロン
94のターンオン時に生ずるスイッチング損失を低減させ
ることにあり、第15図の回路と同様にエキシマレーザの
高繰返し化、高出力化及び長寿命化が可能となる。
高電圧パルス発生回路の他の例として、電子ビーム等の
加速器であるインダクション・ライナックに用いられる
ものの回路ブロック図を第17図に示す。本回路における
変圧器206は、昇圧を行うためのものであり、２次巻線2
08の巻数を１次巻線207の巻数より大とすることによ
り、入力電圧V1以上の波高値を有する電圧パルスを２次
巻線208の両端に発生させることができる。又コンデン
サ209,211,可飽和リアクトル210,212は２段の磁気圧縮
回路を構成しており、通常、209の端子電圧V2のパルス
幅数μ程度を、負荷213の両端電圧V4のパルス幅100ns程
度以下までパルス圧縮するように構成されている。負荷
213はアクセラレータ・セルと呼ばれる電子ビーム等を
加速するための変換素子であり、磁心を用いた一種の変
圧器的な動作を行うものである。尚、インダクション・
ライナックにおける高電圧パルス発生装置、及びアクセ
ラレータ・セルの詳細については、例えばD.L.Brix,S.
A.Hawkins,S.E.Poor,L.L.Reginato and M.W.Smith:
「Ａ MULTIPURPOSE5−MeV LINEAR INDUCTION ACCEL
ERATOR」,IEEE CONFERENCE RECORD OF 1984 POWER
MODULATOR SYMPOSIOM,pp.186−190などに開示されて
いる。
加速器であるインダクション・ライナックに用いられる
ものの回路ブロック図を第17図に示す。本回路における
変圧器206は、昇圧を行うためのものであり、２次巻線2
08の巻数を１次巻線207の巻数より大とすることによ
り、入力電圧V1以上の波高値を有する電圧パルスを２次
巻線208の両端に発生させることができる。又コンデン
サ209,211,可飽和リアクトル210,212は２段の磁気圧縮
回路を構成しており、通常、209の端子電圧V2のパルス
幅数μ程度を、負荷213の両端電圧V4のパルス幅100ns程
度以下までパルス圧縮するように構成されている。負荷
213はアクセラレータ・セルと呼ばれる電子ビーム等を
加速するための変換素子であり、磁心を用いた一種の変
圧器的な動作を行うものである。尚、インダクション・
ライナックにおける高電圧パルス発生装置、及びアクセ
ラレータ・セルの詳細については、例えばD.L.Brix,S.
A.Hawkins,S.E.Poor,L.L.Reginato and M.W.Smith:
「Ａ MULTIPURPOSE5−MeV LINEAR INDUCTION ACCEL
ERATOR」,IEEE CONFERENCE RECORD OF 1984 POWER
MODULATOR SYMPOSIOM,pp.186−190などに開示されて
いる。
上記用途における磁性部品としては、非晶質磁性薄帯を
用い絶縁耐圧を数十kV程度以上とするため層間に絶縁フ
ィルムもしくは絶縁コーティングを施し巻磁心の端面を
第13図のようにして構成した巻磁心が使用されている。
第13図において81は絶縁フィルムもしくは絶縁コーティ
ング層、82は非晶質磁性薄帯であり、絶縁フィルム81を
非晶質磁性薄帯82より、とび出されているのは端面にお
ける沿面で放電による絶縁破壊を防止するためである。
また数百Hz以上の高繰返し用途で用いる場合には、圧縮
空気、フレオンガス、絶縁油等の冷媒により冷却の可能
な構造とすることが考えられる。
用い絶縁耐圧を数十kV程度以上とするため層間に絶縁フ
ィルムもしくは絶縁コーティングを施し巻磁心の端面を
第13図のようにして構成した巻磁心が使用されている。
第13図において81は絶縁フィルムもしくは絶縁コーティ
ング層、82は非晶質磁性薄帯であり、絶縁フィルム81を
非晶質磁性薄帯82より、とび出されているのは端面にお
ける沿面で放電による絶縁破壊を防止するためである。
また数百Hz以上の高繰返し用途で用いる場合には、圧縮
空気、フレオンガス、絶縁油等の冷媒により冷却の可能
な構造とすることが考えられる。
第10図は、特願昭62-145962号に開示されている高電圧
パルス発生装置用可飽和リアクトルの断面図である。図
中、61は入力端もしくは出力端、62は同軸円筒導体、63
は出力端もしくは入力端、64は油入口、65は油出口、66
はコバルト基非晶質磁性薄帯を用い層間絶縁にポリエス
テルフィルムテープを用いて作製した巻磁心、67及び68
は磁心66を固定すると共に油の流れを遮断する機能を有
するリング状絶縁体、69及び70は磁心同志が接触しない
ようにすると共に、磁心の端面を均一に油冷し得るよう
にするためのリング状絶縁体であり、71は入出力端の絶
縁と油をシールする機能を有する絶縁体である。又、図
中、冷却油は油入口64から図示矢印の経路で→→
→→を流れ、各磁心の端面を均一に冷却し、油出口
65を出て、ポンプにより循環される。
パルス発生装置用可飽和リアクトルの断面図である。図
中、61は入力端もしくは出力端、62は同軸円筒導体、63
は出力端もしくは入力端、64は油入口、65は油出口、66
はコバルト基非晶質磁性薄帯を用い層間絶縁にポリエス
テルフィルムテープを用いて作製した巻磁心、67及び68
は磁心66を固定すると共に油の流れを遮断する機能を有
するリング状絶縁体、69及び70は磁心同志が接触しない
ようにすると共に、磁心の端面を均一に油冷し得るよう
にするためのリング状絶縁体であり、71は入出力端の絶
縁と油をシールする機能を有する絶縁体である。又、図
中、冷却油は油入口64から図示矢印の経路で→→
→→を流れ、各磁心の端面を均一に冷却し、油出口
65を出て、ポンプにより循環される。
磁心の端面を均一に冷却する構成としたのは、巻磁心、
特に本例のように層間絶縁した巻磁心の場合、磁心の径
方向への熱伝導率は磁心の径方向と垂直な方向への熱伝
導率に比べて大幅に悪いため、冷却効率を高める上では
磁心の端面を均一に冷却し得るようにすることが有効だ
からである。
特に本例のように層間絶縁した巻磁心の場合、磁心の径
方向への熱伝導率は磁心の径方向と垂直な方向への熱伝
導率に比べて大幅に悪いため、冷却効率を高める上では
磁心の端面を均一に冷却し得るようにすることが有効だ
からである。
第11図、及び第12図は各々、第10図のＡ−Ａ矢視図、及
びＢ−Ｂ矢視図であり、本例では図示矢印の向き、即ち
径方向に冷却油を流すことにより磁心の端面を均一に冷
却し得るように構成されている。
びＢ−Ｂ矢視図であり、本例では図示矢印の向き、即ち
径方向に冷却油を流すことにより磁心の端面を均一に冷
却し得るように構成されている。
また、同様の冷却方式による高電圧パルス発生装置用磁
性部品としては、例えば第17図に示すインダクション・
ライナックにおける変圧器206,可飽和リアクトル210,21
2、及びアクセラレータ・セル213等がある。
性部品としては、例えば第17図に示すインダクション・
ライナックにおける変圧器206,可飽和リアクトル210,21
2、及びアクセラレータ・セル213等がある。
上記の油冷式高電圧パルス発生装置用磁性部品において
は、第13図に示すように巻磁心の端面において冷却油が
図示矢印の向きで流れるため、冷却油の流れが絶縁フィ
ルム、又は絶縁コーティング層81によって阻害され、非
晶質磁性薄帯82を効率よく冷却することができず、特
に、繰返し周波数が高い場合、あるいは磁心損失の大き
な磁心を用いた場合には磁心温度上昇により、動作磁束
密度量ΔＢが動作開始後に低下していったり、極端な場
合にはヒートスポットが発生し、その部分の磁気特性が
大幅に劣化してしまい、動作停止後、再稼働させた際に
初期の特性を発揮し得ないという問題がある。このヒー
トスポットの発生による磁気特性の劣化は、特に非晶質
磁性薄帯を用いた場合に顕著なことはよく知られてい
る。
は、第13図に示すように巻磁心の端面において冷却油が
図示矢印の向きで流れるため、冷却油の流れが絶縁フィ
ルム、又は絶縁コーティング層81によって阻害され、非
晶質磁性薄帯82を効率よく冷却することができず、特
に、繰返し周波数が高い場合、あるいは磁心損失の大き
な磁心を用いた場合には磁心温度上昇により、動作磁束
密度量ΔＢが動作開始後に低下していったり、極端な場
合にはヒートスポットが発生し、その部分の磁気特性が
大幅に劣化してしまい、動作停止後、再稼働させた際に
初期の特性を発揮し得ないという問題がある。このヒー
トスポットの発生による磁気特性の劣化は、特に非晶質
磁性薄帯を用いた場合に顕著なことはよく知られてい
る。
本発明は、第14図に示すように非晶質磁性薄帯82を用い
絶縁耐圧を数＋kV程度以上とするため層間に絶縁フィル
ム、もしくは絶縁コーティング層81を有する巻磁心にお
ける端面の周方向、即ち図示矢印 の方向に絶縁油、圧縮空気、フレオンガス等の冷媒を流
すことにより、動作時の磁心損失による磁心の温度上
昇、及びヒートスポットの発生を防止した高電圧パルス
発生装置用磁性部品を提供する。
絶縁耐圧を数＋kV程度以上とするため層間に絶縁フィル
ム、もしくは絶縁コーティング層81を有する巻磁心にお
ける端面の周方向、即ち図示矢印 の方向に絶縁油、圧縮空気、フレオンガス等の冷媒を流
すことにより、動作時の磁心損失による磁心の温度上
昇、及びヒートスポットの発生を防止した高電圧パルス
発生装置用磁性部品を提供する。
以下、本発明を実施例による説明する。
実施例１ 第１図は本発明による高電圧パルス発生装置用可飽和リ
アクトルの一実施例断面図である。図中１は入力端もし
くは出力端、２は同軸円筒導体、３は出力端もしくは入
力端、４は油入口、５は油出口、６はコバルト基非晶質
磁性薄帯を用い層間にポリエステルフィルムテープを用
いて構成した巻磁心、７、及び８は磁心６を固定すると
共に油道を設けたリング状絶縁体、9,10,11、及び12は
磁心同志、あるいは磁心と同軸円筒導体が接触しないよ
うにすると共に、磁心の端面における周方向に冷却油を
流すようにするためのリング状絶縁体であり、13は入出
力端の絶縁と油をシールする機能を有する絶縁体であ
る。又、図中、冷却油は油入口４から図示矢印の経路で
→→→→を流れ、各磁心の端面の周方向を流
れて各磁心を冷却し、油出口５を出て、ポンプにより循
環される。
アクトルの一実施例断面図である。図中１は入力端もし
くは出力端、２は同軸円筒導体、３は出力端もしくは入
力端、４は油入口、５は油出口、６はコバルト基非晶質
磁性薄帯を用い層間にポリエステルフィルムテープを用
いて構成した巻磁心、７、及び８は磁心６を固定すると
共に油道を設けたリング状絶縁体、9,10,11、及び12は
磁心同志、あるいは磁心と同軸円筒導体が接触しないよ
うにすると共に、磁心の端面における周方向に冷却油を
流すようにするためのリング状絶縁体であり、13は入出
力端の絶縁と油をシールする機能を有する絶縁体であ
る。又、図中、冷却油は油入口４から図示矢印の経路で
→→→→を流れ、各磁心の端面の周方向を流
れて各磁心を冷却し、油出口５を出て、ポンプにより循
環される。
第２図、及び第３図は本実施例図１におけるＡ−Ａ矢視
図、及びＢ−Ｂ矢視図であり、図中矢印のように磁心の
端面における周方向に冷却油は流される。
図、及びＢ−Ｂ矢視図であり、図中矢印のように磁心の
端面における周方向に冷却油は流される。
第１表は本実施例における高電圧パルス発生装置用可飽
和リアクトルと第10図に示す従来例を第15図に示す回路
を用いたKrFエキシマレーザ装置に使用したときの圧縮
比（第15図においてサイラトロン94がターンオン後に生
ずるコンデンサ96の端子電圧V2のパルス幅をコンデンサ
99の端子電圧V0のパルス幅で割った値。）の時間変化を
比較したものである。本発明では圧縮比の時間変化が極
めて小さく実用上十分な特性を有するのに対し、従来例
では磁心損失による温度上昇の影響により磁心の動作磁
束密度量ΔＢが低下し、圧縮比の大幅な低下が生じてい
ることがわかる。
和リアクトルと第10図に示す従来例を第15図に示す回路
を用いたKrFエキシマレーザ装置に使用したときの圧縮
比（第15図においてサイラトロン94がターンオン後に生
ずるコンデンサ96の端子電圧V2のパルス幅をコンデンサ
99の端子電圧V0のパルス幅で割った値。）の時間変化を
比較したものである。本発明では圧縮比の時間変化が極
めて小さく実用上十分な特性を有するのに対し、従来例
では磁心損失による温度上昇の影響により磁心の動作磁
束密度量ΔＢが低下し、圧縮比の大幅な低下が生じてい
ることがわかる。
第２表は第１表と同一の装置、同一条件下で５分間動作
後、可飽和磁心の冷却に十分な時間をおいた後再動作さ
せる試験を行ったときの動作再開時の圧縮比の動作回数
による特性劣化を示したものである。本発明の場合にお
ける圧縮比は動作回数に依存しないのに対し、従来例で
は動作時のヒートスポットの発生によると思われる可飽
和磁心の磁気特性劣化が生じていることがわかる。
後、可飽和磁心の冷却に十分な時間をおいた後再動作さ
せる試験を行ったときの動作再開時の圧縮比の動作回数
による特性劣化を示したものである。本発明の場合にお
ける圧縮比は動作回数に依存しないのに対し、従来例で
は動作時のヒートスポットの発生によると思われる可飽
和磁心の磁気特性劣化が生じていることがわかる。
実施例２ 第４図は本発明による高電圧パルス発生装置用可飽和リ
アクトルの別の実施例を示す断面図である。図中21は入
力端もしくは出力端、22は同軸円筒導体、23は出力端も
しくは入力端、24は油入口、25は油出口、26はコバルト
基非晶質磁性薄帯を用い層間にポリエステルフィルムテ
ープを用いて構成した巻磁心、27、及び28は磁心26を固
定すると共に油道を設けたリング状絶縁体、29、及び30
は磁心同志、あるいは磁心と同軸円筒導体が接触しない
ようにすると共に、磁心の端面における周方向に冷却油
を流すようにするためのリング状絶縁体であり、31は入
出力端の絶縁と油をシールする機能を有する絶縁体であ
る。又、図中、冷却油は油入口24から→→→→
を流れ、各磁心の端面の周方向を流れて各磁心を冷却
し、油出口25を出て、ポンプにより循環される。
アクトルの別の実施例を示す断面図である。図中21は入
力端もしくは出力端、22は同軸円筒導体、23は出力端も
しくは入力端、24は油入口、25は油出口、26はコバルト
基非晶質磁性薄帯を用い層間にポリエステルフィルムテ
ープを用いて構成した巻磁心、27、及び28は磁心26を固
定すると共に油道を設けたリング状絶縁体、29、及び30
は磁心同志、あるいは磁心と同軸円筒導体が接触しない
ようにすると共に、磁心の端面における周方向に冷却油
を流すようにするためのリング状絶縁体であり、31は入
出力端の絶縁と油をシールする機能を有する絶縁体であ
る。又、図中、冷却油は油入口24から→→→→
を流れ、各磁心の端面の周方向を流れて各磁心を冷却
し、油出口25を出て、ポンプにより循環される。
第５図、及び第６図は本実施例図４におけるＡ−Ａ矢視
図、及びＢ−Ｂ矢視図であり、図中矢印のように磁心の
端面における周方向に冷却油は流される。
図、及びＢ−Ｂ矢視図であり、図中矢印のように磁心の
端面における周方向に冷却油は流される。
第３表は本実施例における高電圧パルス発生装置用可飽
和リアクトルと第10図に示す従来例を第15図に示す回路
を用いたKrFエキシマレーザ装置に使用したときの圧縮
比の時間変化を比較したものである。本発明では圧縮比
の時間変化が極めて小さく実用上十分な特性を示すこと
がわかる。
和リアクトルと第10図に示す従来例を第15図に示す回路
を用いたKrFエキシマレーザ装置に使用したときの圧縮
比の時間変化を比較したものである。本発明では圧縮比
の時間変化が極めて小さく実用上十分な特性を示すこと
がわかる。
第４表は第３表と同一装置、同一条件下で５分間動作
後、可飽和磁心の冷却に十分な時間をおいた後に再度動
作させる試験を行ったときの動作再開時の圧縮比動作回
数による特性劣化を示したものであり、本実施例では試
験開始前後で特性に変化のないことがわかる。
後、可飽和磁心の冷却に十分な時間をおいた後に再度動
作させる試験を行ったときの動作再開時の圧縮比動作回
数による特性劣化を示したものであり、本実施例では試
験開始前後で特性に変化のないことがわかる。
実施例３ 第７図は本発明による高電圧パルス発生装置用可飽和リ
アクトルの他の実施例断面図である。図中41は入力端、
42は楕円筒導体、43は出力端、44−1,44−２はグランド
端、45は楕円筒導体、46−1,46−２はグランド端、47は
油入口、48は油出口、49はコバルト基非晶質磁性薄帯を
用い層間にポリエステルフィルムテープを用いて構成し
たレーストラック形状の巻磁心、50、及び51は磁心49を
固定すると共に油道を設けたリング状絶縁体、52,53,5
4、及び55は磁心同志あるいは磁心と楕円筒導体42、も
しくは45が接触しないようにすると供に磁心の端面にお
ける周方向に冷却油を流すようにするためのリング状絶
縁体であり、56、及び57は、２つの楕円筒導体42、及び
45の絶縁と油をシールする機能を有する絶縁体である。
又、図中、冷却油は油入口47から図示矢印の経路で→
→→→を流れ、各磁心の端面の周方向を流れて
各磁心を冷却し、油出口48を出て、ポンプにより循環さ
れる。
アクトルの他の実施例断面図である。図中41は入力端、
42は楕円筒導体、43は出力端、44−1,44−２はグランド
端、45は楕円筒導体、46−1,46−２はグランド端、47は
油入口、48は油出口、49はコバルト基非晶質磁性薄帯を
用い層間にポリエステルフィルムテープを用いて構成し
たレーストラック形状の巻磁心、50、及び51は磁心49を
固定すると共に油道を設けたリング状絶縁体、52,53,5
4、及び55は磁心同志あるいは磁心と楕円筒導体42、も
しくは45が接触しないようにすると供に磁心の端面にお
ける周方向に冷却油を流すようにするためのリング状絶
縁体であり、56、及び57は、２つの楕円筒導体42、及び
45の絶縁と油をシールする機能を有する絶縁体である。
又、図中、冷却油は油入口47から図示矢印の経路で→
→→→を流れ、各磁心の端面の周方向を流れて
各磁心を冷却し、油出口48を出て、ポンプにより循環さ
れる。
第８図、及び第９図は本実施例図７におけるＡ−Ａ矢視
図、及びＢ−Ｂ矢視図であり、図中矢印のように磁心の
端面における周方向に冷却油は流される。
図、及びＢ−Ｂ矢視図であり、図中矢印のように磁心の
端面における周方向に冷却油は流される。
第６表は第５表と同一の装置、同一条件下で５分間動作
後、可飽和磁心の冷却に十分な時間をおいた後再動作さ
せる試験を行ったときの動作再開時の圧縮比の動作回数
による特性劣化を示したものである。本発明の場合にお
ける圧縮比は動作回数に依存せず実用上問題ないことが
わかる。
後、可飽和磁心の冷却に十分な時間をおいた後再動作さ
せる試験を行ったときの動作再開時の圧縮比の動作回数
による特性劣化を示したものである。本発明の場合にお
ける圧縮比は動作回数に依存せず実用上問題ないことが
わかる。
〔発明の効果〕 以上説明したように本発明のよれば、磁心を効率的に冷
却することができるため巻磁心を用いて構成した強制冷
却式パルス発生装置用磁性部品において問題であった磁
心の温度上昇の抑制、及びヒートスポットの発生を防止
することが可能となる。
却することができるため巻磁心を用いて構成した強制冷
却式パルス発生装置用磁性部品において問題であった磁
心の温度上昇の抑制、及びヒートスポットの発生を防止
することが可能となる。
特に磁心として非晶質磁性薄帯のようにヒートショック
による特性変化が非可逆的な材質を用いた場合には、ヒ
ートスポットの発生による磁心の極部的な結晶化或いは
変質による特性劣化を防止できる等の効果もある。
による特性変化が非可逆的な材質を用いた場合には、ヒ
ートスポットの発生による磁心の極部的な結晶化或いは
変質による特性劣化を防止できる等の効果もある。
また本明細書では実施例として磁気圧縮回路用可飽和リ
アクトルを例に説明したが、インダクション・ライナッ
クに用いられるアクセラレータ・セル、あるいは変圧
器、チョーク・コイル等においても同様の効果が得られ
ることは言うまでもない。
アクトルを例に説明したが、インダクション・ライナッ
クに用いられるアクセラレータ・セル、あるいは変圧
器、チョーク・コイル等においても同様の効果が得られ
ることは言うまでもない。
第１図は本発明による高電圧パルス発生装置用可飽和リ
アクトルの一実施例を示す構成断面図、第２図は第１図
における可飽和リアクトルのＡ−Ａ矢視図、第３図は第
１図の可飽和リアクトルのＢ−Ｂ矢視図、第４図は本発
明による高電圧パルス発生装置用可飽和リアクトルの別
の実施例を示す構成断面図、第５図は第４図の可飽和リ
アクトルのＡ−Ａ矢視図、第６図は第４図の可飽和リア
クトルのＢ−Ｂ矢視図、第７図は本発明による高電圧パ
ルス発生装置用可飽和リアクトルの他の実施例を示す構
成断面図、第８図は第７図の可飽和リアクトルのＡ−Ａ
矢視図、第９図は第７図の可飽和リアクトルのＢ−Ｂ矢
視図、第10図は従来の高電圧パルス発生装置用可飽和リ
アクトルの断面図、第11図は第10図の可飽和リアクトル
のＡ−Ａ矢視図、第12図は第10図の可飽和リアクトルの
Ｂ−Ｂ矢視図、第13図は第10図に示す従来の可飽和リア
クトルの磁心端面における冷却油の流れる方向を示した
図、第14図は本発明による可飽和リアクトルの磁心端面
における冷却油の流れる方向を示した図、第15図は磁気
圧縮高電圧パルス発生回路を有するエキシマレーザの励
起回路構成図、第16図は磁気アシスト型高電圧パルス発
生回路を有するエキシマレーザの励起回路構成図、第17
図はインダクション・ライナックに用いられる高電圧パ
ルス発生回路の構成図である。
アクトルの一実施例を示す構成断面図、第２図は第１図
における可飽和リアクトルのＡ−Ａ矢視図、第３図は第
１図の可飽和リアクトルのＢ−Ｂ矢視図、第４図は本発
明による高電圧パルス発生装置用可飽和リアクトルの別
の実施例を示す構成断面図、第５図は第４図の可飽和リ
アクトルのＡ−Ａ矢視図、第６図は第４図の可飽和リア
クトルのＢ−Ｂ矢視図、第７図は本発明による高電圧パ
ルス発生装置用可飽和リアクトルの他の実施例を示す構
成断面図、第８図は第７図の可飽和リアクトルのＡ−Ａ
矢視図、第９図は第７図の可飽和リアクトルのＢ−Ｂ矢
視図、第10図は従来の高電圧パルス発生装置用可飽和リ
アクトルの断面図、第11図は第10図の可飽和リアクトル
のＡ−Ａ矢視図、第12図は第10図の可飽和リアクトルの
Ｂ−Ｂ矢視図、第13図は第10図に示す従来の可飽和リア
クトルの磁心端面における冷却油の流れる方向を示した
図、第14図は本発明による可飽和リアクトルの磁心端面
における冷却油の流れる方向を示した図、第15図は磁気
圧縮高電圧パルス発生回路を有するエキシマレーザの励
起回路構成図、第16図は磁気アシスト型高電圧パルス発
生回路を有するエキシマレーザの励起回路構成図、第17
図はインダクション・ライナックに用いられる高電圧パ
ルス発生回路の構成図である。
Claims (1)
- 【請求項１】巻磁心収納部と冷媒の入出力口とを有する
巻磁心収納容器と、 該巻磁心収納部に配置される磁性材料薄帯から構成され
る巻磁心と、を有する高電圧パルス発生装置用磁性部品
において、 前記巻磁心の軸方向端面に、冷媒が前記巻磁心の周方向
に流れる周方向冷媒流路を形成したことを特徴とする高
電圧パルス発生装置用磁性部品。
Priority Applications (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211353A JPH0670922B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 高電圧パルス発生装置用磁性部品 |
| US07/396,709 US4983859A (en) | 1988-08-25 | 1989-08-22 | Magnetic device for high-voltage pulse generating apparatuses |
| CA000609224A CA1293539C (en) | 1988-06-09 | 1989-08-24 | Magnetic device for high-voltage pulse generating apparatuses |
| DE3943626A DE3943626C2 (de) | 1988-08-25 | 1989-08-25 | Induktivität für eine Hochspannungsimpulsgeneratorvorrichtung |
| DE19893928223 DE3928223C2 (de) | 1988-08-25 | 1989-08-25 | Magnetische Einrichtung für eine Hochspannungsimpulsgeneratorvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP63211353A JPH0670922B2 (ja) | 1988-08-25 | 1988-08-25 | 高電圧パルス発生装置用磁性部品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0258811A JPH0258811A (ja) | 1990-02-28 |
| JPH0670922B2 true JPH0670922B2 (ja) | 1994-09-07 |
Family
ID=16604564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP63211353A Expired - Lifetime JPH0670922B2 (ja) | 1988-06-09 | 1988-08-25 | 高電圧パルス発生装置用磁性部品 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4983859A (ja) |
| JP (1) | JPH0670922B2 (ja) |
| DE (1) | DE3943626C2 (ja) |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH03141621A (ja) * | 1989-10-27 | 1991-06-17 | Agency Of Ind Science & Technol | パルス回路素子 |
| US5541566A (en) * | 1994-02-28 | 1996-07-30 | Olin Corporation | Diamond-like carbon coating for magnetic cores |
| CN2232618Y (zh) * | 1995-12-28 | 1996-08-07 | 胡素珍 | 磁性材料保护盒兼作低压绕组的变压器 |
| US5835545A (en) * | 1997-07-30 | 1998-11-10 | The United States Of America As Represented By The Secretary Of The Air Force | Compact intense radiation system |
| US6198761B1 (en) | 1999-05-07 | 2001-03-06 | Lambda Physik Gmbh | Coaxial laser pulser with solid dielectrics |
| WO2001084678A2 (en) | 2000-04-18 | 2001-11-08 | Lambda Physik Ag | Stabilization technique for high repetition rate gas discharge lasers |
| US6862307B2 (en) * | 2000-05-15 | 2005-03-01 | Lambda Physik Ag | Electrical excitation circuit for a pulsed gas laser |
| US20050259709A1 (en) | 2002-05-07 | 2005-11-24 | Cymer, Inc. | Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate |
| US6946096B2 (en) * | 2002-05-03 | 2005-09-20 | Honeywell International, Inc. | Use of powder metal sintering/diffusion bonding to enable applying silicon carbide or rhenium alloys to face seal rotors |
| US7056595B2 (en) * | 2003-01-30 | 2006-06-06 | Metglas, Inc. | Magnetic implement using magnetic metal ribbon coated with insulator |
| US7277188B2 (en) | 2003-04-29 | 2007-10-02 | Cymer, Inc. | Systems and methods for implementing an interaction between a laser shaped as a line beam and a film deposited on a substrate |
| US7002443B2 (en) * | 2003-06-25 | 2006-02-21 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for cooling magnetic circuit elements |
| US20060222034A1 (en) * | 2005-03-31 | 2006-10-05 | Cymer, Inc. | 6 Khz and above gas discharge laser system |
| US20070071047A1 (en) * | 2005-09-29 | 2007-03-29 | Cymer, Inc. | 6K pulse repetition rate and above gas discharge laser system solid state pulse power system improvements |
| US7706424B2 (en) * | 2005-09-29 | 2010-04-27 | Cymer, Inc. | Gas discharge laser system electrodes and power supply for delivering electrical energy to same |
| US7317179B2 (en) * | 2005-10-28 | 2008-01-08 | Cymer, Inc. | Systems and methods to shape laser light as a homogeneous line beam for interaction with a film deposited on a substrate |
| US7679029B2 (en) * | 2005-10-28 | 2010-03-16 | Cymer, Inc. | Systems and methods to shape laser light as a line beam for interaction with a substrate having surface variations |
| JP5499432B2 (ja) * | 2007-10-05 | 2014-05-21 | ソニー株式会社 | 撮像装置 |
| DE102008045846A1 (de) * | 2008-09-05 | 2010-03-25 | B2 Electronic Gmbh | Hochspannungstransformator |
| DE102009031665B4 (de) * | 2009-07-05 | 2016-02-25 | Msm Krystall Gbr (Vertretungsberechtigte Gesellschafter: Dr. Rainer Schneider, 12165 Berlin; Arno Mecklenburg, 10999 Berlin) | Elektrodynamischer Aktor |
| EP2602799B1 (en) * | 2011-12-08 | 2015-12-02 | ABB Technology AG | Coil-fixture and oil-transformer |
| WO2014086948A2 (en) * | 2012-12-05 | 2014-06-12 | Abb Technology Ag | Transformer assembly |
| US11255612B2 (en) | 2014-07-25 | 2022-02-22 | Enure, Inc. | Wound strip machine |
| WO2016014849A1 (en) | 2014-07-25 | 2016-01-28 | Prippel Technologies, Llc | Fluid-cooled wound strip structure |
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| US20180191228A1 (en) * | 2016-12-29 | 2018-07-05 | General Electric | Magnetic apparatus having electrically insulating layer |
| DE102018201488A1 (de) | 2018-01-31 | 2019-08-01 | Siemens Aktiengesellschaft | Elektrisches Gerät mit Pressplatten zum Verspannen eines magnetisierbaren Kerns |
Family Cites Families (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| BE807944A (fr) * | 1973-11-28 | 1974-05-28 | Elphiac Sa | Self a saturation brusque generatrice d'harmoniques pour dispositif multiplicateur de frequence |
| US3902146A (en) * | 1974-11-27 | 1975-08-26 | Gen Electric | Transformer with improved liquid cooled disc winding |
| US4207550A (en) * | 1978-02-23 | 1980-06-10 | Hitachi, Ltd. | Winding structure of electric devices |
| US4431980A (en) * | 1980-10-08 | 1984-02-14 | Hitachi, Ltd. | Electrical apparatus winding |
| US4602177A (en) * | 1984-12-20 | 1986-07-22 | Westinghouse Electric Corp. | Homopolar generators with thermosyphons for improved cooling |
| JPS63211608A (ja) * | 1987-02-26 | 1988-09-02 | Mitsubishi Electric Corp | リアクトル |
| JPH0680611B2 (ja) * | 1987-10-23 | 1994-10-12 | 日立金属株式会社 | 磁 心 |
-
1988
- 1988-08-25 JP JP63211353A patent/JPH0670922B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1989
- 1989-08-22 US US07/396,709 patent/US4983859A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-08-25 DE DE3943626A patent/DE3943626C2/de not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4983859A (en) | 1991-01-08 |
| JPH0258811A (ja) | 1990-02-28 |
| DE3943626C2 (de) | 1994-03-31 |
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