CN117693873A - 具有受控电抗器复位的脉冲功率系统 - Google Patents

具有受控电抗器复位的脉冲功率系统 Download PDF

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Abstract

一种脉冲功率电路包括一个或多个磁性开关，该一个或多个磁性开关分别被实现为具有可饱和芯的一个或多个电感器，其中在放电脉冲之后，每个可饱和芯通过复位脉冲(该复位脉冲具有例如由腔室操作条件确定的可变特性)可重复地复位到其磁化曲线上的初始偏压点，以使可饱和芯能够可靠且一致地运转。

Description

具有受控电抗器复位的脉冲功率系统
相关申请的交叉引用
本申请要求于2021年7月15日提交的题为“具有受控电抗器复位的脉冲功率系统”的美国申请号63/222,074的优先权，其全部内容通过引用并入本文。
技术领域
本发明涉及一种用于例如在用作半导体光刻系统中的照射源的激光器中生成电脉冲的装置。
背景技术
半导体光刻装置将期望图案施加到诸如由半导体材料制成的晶片之类的衬底上，通常施加到衬底的目标部分上。图案形成装置(其还可以被称为掩模或掩模版)可以被用来生成要形成在晶片的个别层的部分上的电路图案。通常，通过成像到设在衬底上的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上来实现图案的转印。一般而言，单个衬底将包括经连续图案化的相邻目标部分。
半导体光刻装置包括所谓的步进器，其中通过一次将整个图案曝光到目标部分上来照射每个目标部分；以及所谓的扫描仪，其中通过经图案化的辐射束沿给定方向对每个目标部分进行扫描，同时使衬底同时平行或反平行于该方向平移。还可以通过将图案压印到衬底上来将图案从图案形成装置转印到衬底。
用于照射图案并且将图案投射到衬底上的光源可以处于若干中配置中的任一配置。通常用于光刻系统的深紫外准分子激光器包括波长为248nm的氟化氪(KrF)激光器和波长为193nm的氟化氩(ArF)激光器。
诸如所描述的激光器之类的激光器产生光脉冲。每个光脉冲由通过脉冲功率系统供应给激光器的电能的对应放电脉冲生成。激光器可以具有单个腔室或多个腔室。通常使用的双腔室配置是主振荡器功率放大器(“MOPA”)配置，其具有两个放电腔室，即主振荡器(“MO”)放电腔室和功率放大器(“PA”)放电腔室。用于生成放电脉冲的MOPA激光器的脉冲功率系统通常包括高压电源、谐振充电电源、MO转接器模块、MO压缩头模块、PA转接器模块和PA压缩头模块。单腔室激光器可以仅使用单个转接器和单个压缩头来向单个放电腔室供应放电脉冲。在各种实现方式中，功率放大器可以采取单通放大器、双通放大器、功率环放大器、功率振荡器的形式或其他形式。辅助模块可以包括激光控制系统，该激光控制系统控制放电腔室中电极的操作电压，并且为脉冲功率系统提供定时控制。
这些系统必须能够可再现地和可靠地生成脉冲。出于许多原因，这可能是一项挑战，这些原因包括可能由脉冲功率系统和腔室中的电压和放电定时误差产生的定时变化。例如，诸如转接器和压缩头之类的这些模块中的一些模块包括用作磁性开关的可饱和电抗器，诸如可饱和电感器。可饱和电感器内的可饱和芯为可饱和电感器提供两种不同的状态。在一种状态下，因为磁芯具有高导磁率，可饱和电抗器的电感和因此阻抗都很高。在另一状态下，因为磁芯已经被驱动到与低磁导率相对应的饱和，电感和因此阻抗都很低。
为了使可饱和电感器适当地用作磁性脉冲压缩网络中的开关设备，可饱和电感器的芯最初被偏压在诸如其磁通密度(B)和磁场强度(H)曲线(B-H曲线或B-H回路)上的负饱和通量之类的点处。当在电感器两端施加电压时，磁芯的操作点向上平移B-H曲线，直到达到正饱和通量为止，在该点处，电感器饱和并且实现期望闭合开关功能。然而，在可饱和电感器可以处理下一脉冲之前，其芯的操作点必须被重新定位或“复位”在原始偏压点处。
随着时间或从一个激光器到另一激光器，各种因素可能会干扰激光器的复位可饱和电感器内的芯的偏压点的能力。正是在该上下文中，才产生了对当前所公开的主题的需求。
发明内容
以下呈现了一个或多个实施例的发明内容以便提供对这些实施例的基本理解。本发明内容并非所有预期实施例的广泛综述，并且不旨在标识所有实施例的关键元件或重要元件，也不旨在划定任何或所有实施例的范围。其唯一目的是以简明形式呈现一个或多个实施例的一些概念，作为稍后呈现的具体实施方式的序言。
根据实施例的一方面，公开了一种脉冲功率系统，包括用于磁性饱和电抗器芯的一个或多个脉冲偏压复位电路。脉冲偏压复位电路使得可以实现磁芯的一致的复位电平，而不管磁芯的先前状态或磁芯的复位电平。脉冲偏压电路被设计为在由脉冲间定时间隔和突发间定时间隔所施加的定时约束内完成对磁芯材料的完全复位。
下文参考附图对本发明的其他特征和优点以及本发明的各种实施例的结构和操作进行详细描述。应当注意，本发明不限于本文中所描述的特定实施例。本文中所提出的这些实施例仅用于说明目的。基于本文中所包含的教导，对于一个或多个相关领域的技术人员而言，其他实施例也将是显而易见的。
附图说明
并入本文并且形成说明书的一部分的附图图示了本发明，并且还与说明书一起用来解释本发明的原理，并且使得一个或多个相关领域的技术人员能够制造不并使用本发明。
图1是脉冲功率电路的功能框图。
图2是诸如可以用于图1的布置的脉冲功率电路之类的脉冲功率电路的一些部件的电路图。
图3是根据实施例的一个方面的用于可饱和芯的材料的典型B-H曲线。
图4是示出了根据实施例的一个方面的具有各种特性的复位脉冲的一系列定时示图。
图5是根据实施例的一个方面的脉冲功率电路的功能框图。
图6是示出了根据实施例的一个方面的控制脉冲功率电路中的磁芯的复位的方法的步骤的流程图。
根据下文结合附图阐述的具体实施方式，本发明的特征和优点将变得更加显而易见，在附图中，相同的附图标记始终标识对应元件。在附图中，相同的附图标记通常指示相同的功能相似和/或结构相似的元件。
具体实施方式
本说明书公开了结合所公开的主题的特征的一个或多个实施例。所公开的一个或多个实施例仅例示了所公开的主题。所公开的主题的可适用性的范围不限于所公开的一个或多个实施例。本发明的范围由形成本说明书一部分的权利要求限定。
所描述的一个或多个实施例和说明书中对“一个实施例”、“一实施例”、“示例实施例”、“示例性实施例”等的引用指示所描述的一个或多个实施例可以包括特定特征、结构或特性，但每个实施例可能未必包括特定特征、结构或特性。而且，这些短语不一定是指同一实施例。进一步地，当结合实施例描述特定特征、结构或特性时，应当理解，无论这种包含是否明确描述，在其他实施例中包括这种特征、结构或特性都在所属领域的技术人员的知识范围内。
转向图1，示出了脉冲功率电路50的示例，该脉冲功率电路50包括高压电源模块100、谐振充电器模块110、转接器模块120和压缩头模块130。脉冲功率电路50可以被用来生成电功率的短且强的脉冲(例如，在60ns至150ns的范围内，并且典型能量为每个脉冲5mJ至20mJ)。电脉冲可以作为放电脉冲供应给激光器腔室中的电极，以便从激光器生成光脉冲。
例如，可以向激光器腔室模块140供应压缩头模块130的输出，该激光器腔室模块140例如可以是所谓的双腔室系统的一个腔室(MO或PA)。一般而言，每个放电腔室设有其自身的相应脉冲功率电路50。然而，用于每个腔室的脉冲功率电路50可以共享各种元件，诸如共享的高压电源模块100和谐振充电器模块110。脉冲功率电路50可以被配置为固态脉冲功率模块(SSPPM)。
操作时，高压电源模块100将外部功率(例如，三相正常工厂用功率)转换为高DC电压。谐振充电器模块110将转接器模块120中的电容器组充电到经调节电压，以生成脉冲。转接器模块120缩短脉冲，并且增加它们的电压。压缩头模块130还在时间上压缩来自转接器模块120的电脉冲，同时电流对应地增加，以产生具有期望放电电压的脉冲。然后，跨激光器腔室模块140中的电极(未示出)施加这些脉冲。这种激光系统的布置和操作的其他细节可以见于例如于2006年7月18日公布的题为“Control System for a Two Chamber GasDischarge Laser”的美国专利号7,079,564，其全部内容通过引用并入本文。关于该电路系统的操作的其他细节可以见于2006年2月21日公布的题为“Method and Apparatus forCooling Magnetic Circuit Elements”的美国专利号7,002,443，其全部内容通过引用并入本文。
图2是根据实施例的一个方面的连接到高压电源模块100的SSPPM的某些部件的简化电路图，该SSPPM包括诸如可以用于图1的脉冲功率电路中的谐振充电器模块110和转接器模块120。虚线A和B之间的元件包括实现转接器模块120的电路系统。高压电源模块100将电力提供至以已知方式操作的谐振充电器模块110。来自谐振充电器模块110的脉冲被供应给转接器模块120以对电容器200充电。电容器200通常被称为C0，电容器200上的电压通常被称为VC0。当触发信号T被供应给转接器固态开关210时，该转接器固态开关210闭合，从而通过充电电感230将电容器200放电到电容器220。电容器220通常被称为C1，且在电容器220两端的电压通常被称为VC1。该电压被保持在电容器220上，直到可饱和电抗器240(其具有绕组250和芯260(被示意性地示出)，充当磁性开关)饱和并且经由变压器270将电容器220放电到压缩头模块130(来自图1)中的电容器组中为止。压缩头模块130还典型地包含充当以与刚才描述的方式相似的方式操作的磁性开关的一个或多个可饱和电抗器。
可饱和电抗器240初始地阻止来自电容器220的电流流动。更具体地，通常，在生成放电电脉冲之前，可饱和电抗器240被偏压到负饱和。当下一电流脉冲来自电容器200以对电容器220充电时，该电流脉冲在可饱和电抗器240中感应出反电动势，该反电动势阻止电流脉冲流动，直到芯260在正向方向上变得饱和为止。在饱和时，反电动势消失，并且累积在电容器220上的电荷通过可饱和电抗器240转移就好像电路开关突然被闭合。
因此，可饱和电抗器240充当脉冲激光器的磁性开关。可饱和芯为电感器提供两种不同的状态。在一种状态下，因为磁芯具有高导磁率，所以可饱和电抗器的电感较高。在另一状态下，因为磁芯已经被驱动到与低磁导率相对应的饱和，所以电感较低。
在放电脉冲到达了负载(在这种情况下，激光放电腔室)之后，磁性开关的芯保持被偏压在B-H曲线上靠近正饱和通量的点处。在能够生成下一放电脉冲之前，磁芯必须被复位到B-H曲线上与负饱和通量相对应的点。
如上文所讨论的，在可饱和电感器可以处理下一脉冲之前，其芯的操作点应当被重新定位或“复位”于原始偏压点处。依据偏压电路的复位时间，在一些传统脉冲功率系统中，脉冲间时间(脉冲之间的时间)和突发间时间(脉冲突发之间的时间)可能不允许磁芯的完全或一致复位。这可能会造成不同的脉冲间(即，放电脉冲间)和突发间(即，多个放电脉冲的突发)复位电平，从而还会影响磁芯的饱和定时。
脉冲功率系统和腔室中存在可能会影响磁芯的复位电平的附加变化。这些变化包括施加到腔室中的电极的操作电压、腔室气压和磁芯温度。前两个参数可能会直接影响脉冲功率系统中的反射能量，进而影响磁性可饱和电抗器的复位定时和复位电平。芯材料特性也可能存在变化，诸如材料的饱和通量密度、方形度和矫顽磁性。
可靠放电脉冲间可重复性需要在每次向电感器施加电压之前使磁芯复位到相同的预放电脉冲状态。如图2所示，可饱和电抗器的偏压点的复位可以通过复位脉冲R(由复位电路280供应的电脉冲)进行。在诸如所示的布置之类的布置中，复位通常通过使得DC电流流过芯260上的辅助绕组290来实现，从而提供适当的磁化场(H)以将芯260偏压于负饱和通量。可替代地，复位电路280可以直接连接到初级绕组250，从而无需辅助绕组。
通常一个电路将被用来向多个磁性开关提供复位电流。复位电路通常在复位期间向复位绕组提供恒定电流。关于复位电路的功能和设计的更多细节可以从例如于1993年2月2日公布的题为“High Voltage Pulse Generating Circuit,and Discharge-ExcitedLaser and Accelerator Containing Such Circuit”的美国专利号5,184,085中获得，该专利的整个说明书在此通过引入并入。
换言之，复位通过将芯磁性恢复到诸如图3中的点300之类的点来实现，图3是芯材料的B-H曲线的示例。图3中还示出了+HSAT和-HSAT，该+HSAT是磁场强度H的饱和值(对于+HSAT，H的增加不会导致磁通密度B的任何其他显著增加)，该-HSAT是磁场强度H的饱和值(对于-HSAT，H的减小不会导致磁通密度B的任何其他显著减小)。还分别示出了对应通量+BSAT和-BSAT。图3还示出了剩磁Br和+/-Hc，该剩磁Br为当外部磁场为零时的通量密度，其中“c”指示矫顽磁性，该矫顽磁性为使通量密度B为零所需的磁场的量值。
如所提及的，脉冲功率系统中的可饱和电抗器通常使用DC功率源来偏压，以便在放电脉冲之间的时间间隔内对电抗器磁芯进行恒定地复位。在放电脉冲的一次能量转移完成之后，还可以使用发生的反向电流脉冲(复位脉冲)来实现芯复位。最初，电感器接收复位电流脉冲，并且电流脉冲的di/dt在电感器两端感应出极性相反的电压。该极性相反的电压引起通量密度的减小，从而驱动芯进入反向饱和并且使磁芯复位。
为了清楚起见，涉及几种不同类型的脉冲和信号。一种是主要脉冲或放电脉冲，其是由脉冲功率电路产生并且施加到激光器腔室以在激光器腔室中引起放电、以及因此产生激光辐射脉冲的电脉冲。另一种类型是触发脉冲或信号，其被施加到转接器固态开关210的栅极并且在图2和图4中被标识为启动放电脉冲的信号T。第三种类型是由复位电路280供应、施加到可饱和电抗器240并且在图2中被标识为信号R而在图4中被标识为R、R2或R3的复位脉冲，该复位脉冲将芯复位到期望饱和状态以准备生成下一放电脉冲。
每个磁性开关的适当复位对于放电脉冲的可重复性很重要。当磁性压缩网络的输出脉冲受到严格定时和抖动要求的约束时，每个磁性开关的适当复位尤其重要。当激光器的重复速率增加时，每个磁芯的适当复位变得更加关键和更具挑战性。这主要是因为脉冲之间的间隔被减小，因此存在针对复位动态的较短时间，以实现可重复状态。在放电脉冲传播通过时，脉冲压缩网络中的剩余能量可能会使得每个芯被适当地复位的问题复杂化。如果没有进行适当管理，该剩余能量可以在其被耗散之前在网络中来回反射，从而潜在地妨碍磁性开关的复位，并且还潜在地影响下一放电脉冲和后续放电脉冲的饱和定时。
偏压电流电平的变化可能会造成磁芯的复位电平不同，从而影响可饱和磁芯的饱和时间。偏压复位电平的变化可能会导致大约为+/-5ns的较大的突发定时变化。如果没有施加足够偏压，则这些变化甚至可能更大。
附加地，在一些传统脉冲功率系统中，依据偏压电路的复位时间，脉冲间时间和突发间时间可能不不允许磁芯的完全或一致的复位。这可能会造成不同的放电脉冲间复位电平和突发间复位电平，从而还会影响磁芯的饱和定时。
除了由偏压供应和复位定时引起的变化之外，脉冲功率系统和腔室中还存在可能会影响磁芯的复位电平的变化。这些变化包括电极的操作电压、腔室压力、磁芯特性和温度。这些变化中的前两个变化可能会直接影响脉冲功率系统中的经反射能量，进而影响磁性可饱和电抗器的复位定时和复位电平。磁芯材料的磁特性也可能存在变化，诸如材料的饱和通量密度、方形度和矫顽磁性。
所有这些变化都可以有利于施加复位脉冲，该复位脉冲具有适合于为每个放电脉冲可重复地提供相同偏压点(或有意选择的不同偏压点)的特性：诸如与放电脉冲相距的定时偏移、幅度、持续时间和形状。突发内的放电脉冲的定时还可以是确定复位脉冲的最佳特性的因素。
因此，稳态DC电流或具有单个特性集合的电复位脉冲并不总是提供如下的控制：该控制足以在脉冲或突发之间可用的时间内将可饱和芯可重复地返回到期望偏压位置。芯材料和几何尺寸的变化、芯温度的变化、经反射能量的变化、施加到激光器腔室中的电极上的电压的变化、诸如气体压力之类的腔室条件的变化、以及芯材料磁特性的变化(诸如材料的饱和通量密度、方形度和矫顽磁性)以及其他因素可能会引入干扰可重复性的复位动态的变化。
更具体地，施加到图2中的转接器固态开关210的栅极的触发信号触发从电容器200到电容器220的电荷转移过程。该触发信号的一个示例的定时示图在图4中被示为迹线T。图4中的迹线的示例被绘制为竖直轴上的信号电平(诸如电压)的量值对水平轴上的时间。迹线T示出了具有重复的方形脉冲形状的触发信号的示例，其中每个触发信号启动放电脉冲。例如，迹线T的方形脉冲可以被施加到图2中的转接器固态开关210的栅极，以启动将电荷从电容器200转移到电容器210的放电脉冲。
当触发信号T为低时(即，在引起放电脉冲发生的触发信号脉冲之间)，复位脉冲可以由复位电路280施加。图4中还示出了被标记为R的复位脉冲迹线的示例。如所示出的，复位脉冲可以基本上是方波脉冲。复位脉冲的各种特性(诸如其幅度H的量值和符号、其宽度W、以及复位脉冲从触发脉冲偏移的偏移时间量D1)都可能会影响复位动态。关于复位脉冲幅度的量值和符号，在大多数情况下，复位脉冲将是单极的，其极性在符号上与放电脉冲的极性相反。然而，在一些实现方式中，复位脉冲是双极的例如在将芯驱动到反向饱和之前，将芯进一步驱动到正向饱和可能是有利的。实现这点的波形的示例在图4中被示为迹线R2，其中一部分具有正幅度(正极性)H1，一部分具有负幅度(负极性)H2。显而易见的是，复位脉冲不必是方形或对称的。图4的迹线R3是既不是方形也不是对称的复位脉冲串的示例。
如图5所示，包括根据实施例的一个方面的脉冲电源系统的脉冲激光源可以包括如上文所描述的高压电源模块100和谐振充电器模块110。在图5所示的双腔室设计的示例中，系统还包括MO转接器模块400和PA转接器模块410。MO转接器模块400向如上文所描述的MO压缩头模块420供应电脉冲，该MO压缩头模块420压缩电脉冲并且将其供应给MO腔室模块430。同样，PA转接器模块410产生由PA压缩头模块440压缩的脉冲，该脉冲然后被供应给PA腔室模块450。
根据实施例的一个方面，MO转接器模块400中的可饱和电抗器由脉冲复位电路405复位。包括在PA转接器模块410中的可饱和电抗器由脉冲复位电路415复位。同样，MO压缩头模块420中的可饱和电抗器由脉冲复位电路425复位。PA压缩头模块440中的可饱和电抗器由脉冲复位电路445复位。脉冲复位电路405、415、425和445在脉冲复位控制电路460的控制下操作。脉冲复位控制电路460可以是系统的整体控制电路的一部分，或可以是单独的专用电路系统。
尽管该示例仅描述了分别结合转接器和压缩头模块中的每一者的一个可饱和电抗器，但是应当理解，这些模块中的每个模块可以包括可能受益于受控复位的多个可饱和电抗器。
在一些实施例中，脉冲复位控制电路460从参数模块470接收信息，诸如例如，MO腔室模块430中的电极电压和腔室气压、以及PA腔室模块450中的电极电压和腔室气压。然后，脉冲复位控制电路460可以基于该信息来确定它将供应的复位脉冲的特性。例如，脉冲复位控制电路460可以控制复位脉冲的定时、幅度、极性、持续时间和形状中的一个或多个，这些复位脉冲使它们各自相关联的可饱和电抗器以最佳方式复位。此外，脉冲复位控制电路460能够控制复位脉冲的相对定时，以优化各种可饱和电抗器的复位。
在一些实施例中，脉冲复位控制电路460的输入无需单独地确定，而是可以从激光器中的其他诊断获得。例如，这些数据可以从已经具有来自用于腔室温度诊断的腔室温度传感器的数据的整体激光器控制电路480获得。此外，激光器控制电路480可以将电极电压确定为经编程电极电压的缩放版本。因此，在图5中，参数模块470的输入可能来自激光器控制电路480，并且参数模块470可能将脉冲复位控制电路460的控制信号直接传达到脉冲复位控制电路460、或通过激光器控制电路480传达到脉冲复位控制电路460。可替代地，激光器控制电路480可以直接根据激光器控制电路480可用的信息来确定控制信号，从而省去或限制对参数模块470的需要。
可替代地，如所提及的，参数模块470可以从激光器控制电路480获得数据并且将其供应给脉冲复位控制电路460，使得参数模块470从激光器控制电路480而非直接从专用传感器获得其数据。当然，这些只是功能的许多可能布置和分布的示例。对于本领域普通技术人员而言，显而易见的是，还可以使用其他布置。
图6是描述了根据某些实施例的各方面的复位脉冲生成系统的操作的各方面的流程图。例如在激光脉冲突发的开始处，可以启动图6中描述的程序。如图6所示，在步骤S10中，获得与诸如电极操作电压或腔室压力之类的一个或多个操作条件有关的数据。然后，在步骤S20中，使用在步骤S10中获得的数据来定义复位脉冲的一个或多个特性。被定义的复位脉冲的特性可以包括偏移、幅度、持续时间和形状。在步骤S30中，使用复位脉冲使可饱和芯电感器复位。然后，在步骤S40中，通过放电脉冲将可饱和芯电感器驱动到正饱和。在步骤S50中，确定放电脉冲是否是突发的结束。如果放电脉冲是突发的结束，则在步骤S60中，终止该过程。如果在步骤S50中确定脉冲不是突发的结束，则过程返回到步骤S30，并且使用复位脉冲再次使可饱和芯复位。
作为一个具体示例，在步骤S10中，该程序可以获得电极操作电压作为操作条件，然后，步骤S20可以使用电极操作电压来定义复位脉冲的持续时间。
以上是复位脉冲控制的一个示例。这些复位脉冲可以施加到上文所提及的磁芯中的任一个或多个磁芯。其他磁芯或其他磁芯组还可以分别使用不同的相关复位脉冲。还可以以启发方式确定复位脉冲的特性，以将该复位脉冲的特征选择为产生最可靠地可重复和一致的复位操作的特性。
以上是其中在突发间的基础上来定义复位脉冲的特性的实施例的示例。然而，对于本领域的普通技术人员而言，显而易见的是，图6的程序可以被用来定义多个突发的复位脉冲的特性。对于本领域的普通技术人员而言，显而易见的是，复位脉冲的特性可以在突发内进行定义，以使它们可以在放电脉冲间的基础上进行调整。
因此，本文中公开了一种系统，包括第一激光器子系统，该第一激光器子系统被配置为生成脉冲种子激光束，该第一激光器子系统包括被配置为容纳第一气体增益介质的第一腔室和在第一腔室中的第一激励机构。第二激光器子系统被配置为基于脉冲种子激光束来产生脉冲输出激光束，该第二光学子系统包括被配置为容纳第二气体增益介质的第二腔室和在第二腔室中的第二激励机构。第一磁性开关网络被配置为激活第一激励机构，即在第一激励机构中诱发激励。第一磁性开关网络包括与第一阻抗特性(例如，磁芯的磁通密度(B)对磁场强度(H))相关联的第一磁芯。激活第一激励机构使得第一光学子系统产生脉冲种子激光束的脉冲。第二磁性开关网络被配置为激活第二激励机构。第二磁性开关网络包括与第二阻抗特性相关联的第二磁芯。第一偏压电路被配置为磁性耦合到第一磁芯，第二偏压电路被配置为磁性耦合到第二磁芯。控制器被配置为通过使得第一偏压电路产生第一电复位电流脉冲来调整第一磁芯的阻抗。第一电复位电流脉冲的一个或多个特性是基于第一激光器子系统的第一操作条件的。控制器还被配置为通过使得第二偏压电路产生第二电复位电流脉冲来调整第二磁芯的阻抗。第二电复位电流脉冲的一个或多个特性是基于第二激光器子系统的第二操作条件的。
第一电复位电流脉冲的一个或多个特性可以包括第一电复位电流脉冲的幅度。然后，控制器可以基于第一操作条件来确定第一电复位电流脉冲的幅度，其中第一磁芯的阻抗取决于第一电复位电流脉冲的幅度。同样，第二电复位电流脉冲的一个或多个特性可以包括第二电复位电流脉冲的幅度。然后，控制器可以基于第二操作条件来确定第二电复位电流脉冲的幅度，其中第二磁芯的阻抗取决于第二电复位电流脉冲的幅度。
第一电复位电流脉冲的一个或多个特性可以包括第一电复位电流脉冲的幅度和/或持续时间。然后，控制器可以基于第一操作条件来确定第一电复位电流脉冲的幅度和/或持续时间，第一磁芯的阻抗取决于第一电复位电流脉冲的幅度，并且调整第一磁芯的阻抗所需的时间取决于第一电复位电流脉冲的持续时间。同样，第二电复位电流脉冲的一个或多个特性可以包括第二电复位电流脉冲的幅度和/或第二电复位电流脉冲的持续时间。然后，控制器可以基于第二操作条件来确定第二电复位电流脉冲的幅度和/或第二电复位电流脉冲的持续时间，第二磁芯的阻抗取决于第二电复位电流脉冲的幅度，并且调整第二磁芯的阻抗所需的时间取决于第二电复位电流脉冲的持续时间。
第一电复位电流脉冲的幅度和第二电复位电流脉冲的幅度可能相同或不同。控制器可以被配置为：在产生脉冲种子激光束的每个脉冲之前，调整第一磁芯的阻抗，并且在产生脉冲输出激光束的每个脉冲之前，调整第二磁芯的阻抗。
第一阻抗特性可以包括磁通密度与磁场强度之间的第一关系，因此包括磁场强度与第一磁芯的磁导率以及电感之间的关系。第二阻抗特性可以包括磁通密度与磁场强度之间的第二关系，因此包括磁场强度与第二磁芯的磁导率以及电感之间的关系。
第一激光器子系统可以包括主振荡器，第二光学子系统可以包括功率放大器。功率放大器可以包括功率环放大器。功率放大器可以包括功率振荡器。脉冲种子激光束和脉冲输出激光束都可以包括深紫外(DUV)范围内的一个或多个波长。
第一偏压电路还可以被配置为提供在复位期间具有恒定幅度的第一偏压电流，并且第二偏压电路还可以被配置为提供在复位期间具有恒定幅度的恒定的第二偏压电流。第一偏压电路可以进一步或可替代地被配置为提供第一脉冲偏压电流，并且第二偏压电路可以进一步或可替代地被配置为提供第二脉冲偏压电流。
因此，本文中还公开了一种控制器，包括触发模块，该触发模块被配置为：向第一磁性开关网络提供第一启动触发信号，该第一启动触发信号使得第一磁性开关网络中的第一磁芯饱和，使得第一磁性开关网络激活第一激光器子系统中的增益激励机构；并且向第二磁性开关网络提供第二启动触发信号。控制器还被配置为提供第二启动触发信号，该第二启动触发信号使得第二磁性开关网络中的第二磁芯饱和，使得第二磁性开关网络激活第二激光器子系统中的增益激励机构。控制器还包括电流模块，该电流模块被配置为：基于第一操作条件来确定第一电复位电流脉冲的一个或多个特性，其中第一电复位电流脉冲被配置为将饱和的第一磁芯的阻抗调整到第一复位电平，并且基于第二操作条件来确定第二电复位电流脉冲的一个或多个特性，其中第二电流脉冲被配置为将第二磁芯的阻抗调整到第二复位电平。
激活第一光学子系统中的增益机构产生种子激光束的脉冲，并且激活第二光学子系统中的增益机构放大种子激光束的脉冲。在一个实施例中，电流模块被配置为：每当第一光学子系统中的增益激励机构被激活时，将饱和的第一磁芯的阻抗调整到第一复位电平；并且每当第二子系统中的增益激励机构被激活时，将饱和的第二磁芯的阻抗调整到第二复位电平。第一电复位电流脉冲的一个或多个特性包括第一幅度和/或第一持续时间，并且第二电流的一个或多个特性包括第二幅度和/或第二持续时间。
因此，还公开了一种控制磁芯的阻抗的方法，该磁芯位于产生脉冲激光束的激光系统中，该方法包括：基于激光器的操作条件来确定脉冲复位电流的一个或多个特性；通过向磁性耦合到磁芯的线圈提供脉冲复位电流，来将磁芯的阻抗调整到复位电平；以及在调整磁芯的阻抗之后，产生激光辐射脉冲，其中产生激光辐射脉冲包括：使磁芯饱和，使得电脉冲被提供至激光系统的激励机构。
脉冲复位电复位电流脉冲的一个或多个特性可以包括幅度。在产生多个激光辐射脉冲中的每个激光辐射脉冲之前，复位脉冲可以使磁芯的阻抗复位到相同的值。在产生多个激光辐射脉冲中的第一激光辐射脉冲之前提供给线圈的脉冲复位电流的幅度或持续时间或两者可以与在产生多个激光辐射脉冲中的第二激光辐射脉冲之前提供给线圈的复位电流的幅度或持续时间不同。多个激光辐射脉冲中的第一激光辐射脉冲可以是激光辐射脉冲突发中的第一激光辐射脉冲，多个激光辐射脉冲中的第二激光辐射脉冲可以是同一激光辐射脉冲突发中的稍后的激光辐射脉冲。多个激光辐射脉冲可以是单个激光辐射脉冲突发中的连续的激光辐射脉冲。
应当领会，具体实施方式部分而非发明内容和摘要部分旨在用于解释权利要求。发明内容和摘要部分可以阐述如本发明人所预期的本发明的一个或多个但并非所有的示例性实施例，因此不旨在以任何方式限制本发明和所附权利要求。
上文借助于说明特定功能及其关系的实现方式的功能构建块对本发明进行了描述。为了便于描述，这些功能构建块的边界在本文中进行了任意定义。只要适当地执行指定功能，就可以定义备选边界。
对具体实施例的前述描述将充分揭示本发明的一般性质：在没有背离本发明的一般概念的情况下，其他人可以通过应用本领域的技术内的知识针对各种应用容易修改和/或调适这样的具体实施例，而无需过多实验。因此，基于本文中所呈现的教导和指导，这样的修改和调适旨在落入被用来描述所公开的实施例的语言的含义之内。应当理解，本文中的措辞或术语是为了描述而非限制的目的，使得本说明书的术语或措辞要由技术人员根据本文中所提供的教导和指导进行解释。
还可以使用以下条款对这些实施例进行描述。
1.一种系统，包括：
第一激光器子系统，被配置为生成脉冲种子激光束，所述第一激光器子系统包括：
第一腔室，被配置为容纳第一增益介质；以及
在所述第一腔室中的第一激励机构；
第二激光器子系统，被配置为基于所述脉冲种子激光束来产生脉冲输出激光束，所述第二光学子系统包括：
第二腔室，被配置为容纳第二增益介质；以及
在所述第二腔室中的第二激励机构；
第一磁性开关网络，被配置为：激活所述第一激励机构，其中所述第一磁性开关网络包括第一磁芯；并且激活所述第一激励机构使得所述第一光学子系统产生所述脉冲种子激光束的脉冲；以及
第二磁性开关网络，被配置为激活所述第二激励机构，其中所述第二磁性开关网络包括第二磁芯，并且激活所述第二激励机构使得所述第二光学子系统产生所述脉冲输出激光束的脉冲；
第一偏压电路，被配置为电气或磁性耦合到所述第一磁芯；
第二偏压电路，被配置为电气或磁性耦合到所述第二磁芯；以及
控制器，被配置为：
通过使得所述第一偏压电路产生第一电复位电流脉冲来调整所述第一磁芯的阻抗，其中所述第一电复位电流脉冲的一个或多个特性是基于所述第一激光器子系统的操作条件的；以及
通过使得所述第二偏压电路产生第二电复位电流脉冲来调整所述第二磁芯的阻抗，其中所述第二电复位电流脉冲的一个或多个特性是基于所述第二激光器子系统的操作条件的。
2.根据条款1所述的系统，
其中所述第一电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第一电复位电流脉冲的幅度，其中所述控制器基于所述第一激光器子系统的所述操作条件来确定所述第一电复位电流脉冲的所述幅度，并且所述第一磁芯的所述阻抗取决于所述第一电复位电流脉冲的所述幅度；以及
所述第二电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第二电复位电流脉冲的幅度，所述控制器基于所述第二激光器子系统的所述操作条件来确定所述第二电复位电流脉冲的所述幅度，并且所述第二磁芯的所述阻抗取决于所述第二电复位电流脉冲的所述幅度。
3.根据条款1所述的系统，其中
所述第一电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第一电复位电流脉冲的幅度和持续时间，其中所述控制器基于所述第一激光器子系统的所述操作条件来确定所述第一电复位电流脉冲的所述幅度和所述持续时间，其中所述第一磁芯的所述阻抗取决于所述第一电复位电流脉冲的所述幅度，并且其中调整所述第一磁芯的所述阻抗所需的时间取决于所述第一电复位电流脉冲的所述持续时间；以及
其中所述第二电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第二电复位电流脉冲的幅度和所述第二电复位电流脉冲的持续时间，所述控制器基于所述第二激光器子系统的所述操作条件来确定所述第二电复位电流脉冲的所述幅度和所述第二电复位电流脉冲的所述持续时间，其中所述第二磁芯的所述阻抗取决于所述第二电复位电流脉冲的所述幅度，并且其中调整所述第二磁芯的所述阻抗所需的所述时间取决于所述第二电复位电流脉冲的所述持续时间。
4.根据条款3所述的系统，其中所述第一电复位电流脉冲的所述幅度和所述第二电复位电流脉冲的所述幅度彼此不同。
5.根据条款1所述的系统，其中所述控制器被配置为在产生所述脉冲种子激光束的每个脉冲之前，调整所述第一磁芯的所述阻抗；并且在产生所述脉冲输出激光束的每个脉冲之前，调整所述第二磁芯的所述阻抗。
6.根据条款1所述的系统，其中所述第一激光器子系统包括主振荡器，并且所述第二光学子系统包括功率放大器。
7.根据条款6所述的系统，其中所述功率放大器包括功率环放大器。
8.根据条款1所述的系统，其中所述脉冲种子激光束和所述脉冲输出激光束均包括所述深紫外DUV范围内的一个或多个波长。
9.一种控制器，包括：
触发模块，被配置为：
向第一磁性开关网络提供第一启动触发信号，所述第一启动触发信号使得所述第一磁性开关网络中的第一磁芯饱和，以使得所述第一磁性开关网络激活第一激光器子系统中的增益激励机构；
向第二磁性开关网络提供第二启动触发信号，所述第二启动触发信号使得所述第二磁性开关网络中的第二磁芯饱和，以使得所述第二磁性开关网络激活第二激光器子系统中的增益激励机构；以及
电流模块，被配置为：
基于所述第一激光器子系统的操作条件来确定第一电复位电流脉冲的一个或多个特性，其中所述第一电复位电流脉冲被配置为将所述第一磁芯的阻抗调整到第一复位电平；以及
基于所述第二激光器子系统的操作条件来确定第二电复位电流脉冲的一个或多个特性，其中所述第二电复位电流脉冲被配置为将所述第二磁芯的阻抗调整到第二复位电平。
10.根据条款9所述的控制器，其中激活所述第一光学子系统中的所述增益机构产生种子激光束的脉冲，并且激活所述第二光学子系统中的所述增益机构放大所述种子激光束的所述脉冲。
11.根据条款9所述的控制器，其中所述电流模块被配置为：每当所述第一光学子系统中的所述增益激励机构被激活时，将所述第一磁芯的所述阻抗调整到所述第一复位电平；并且每当所述第二子系统中的所述增益激励机构被激活时，将所述第二磁芯的所述阻抗调整到所述第二复位电平。
12.根据条款9所述的控制器，其中所述第一电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括第一幅度和第一持续时间，并且所述第二电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括第二幅度和第二持续时间。
13.一种控制磁芯的阻抗的方法，所述磁芯位于产生脉冲激光束的激光系统中，所述方法包括：
基于所述第一激光器子系统的操作条件来确定电复位电流脉冲的一个或多个特性；
通过向磁性耦合到所述磁芯的线圈提供所述电复位电流脉冲来将所述磁芯的所述阻抗调整到复位电平；以及
在调整所述磁芯的所述阻抗之后，产生激光辐射脉冲，其中产生激光辐射脉冲包括：使所述磁芯饱和，以使得放电电脉冲被提供至所述激光系统的激励机构。
14.根据条款13所述的方法，其中所述电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述电复位电流脉冲的幅度。
15.根据条款13所述的方法，其中在产生多个激光辐射脉冲中的每个激光辐射脉冲之前，所述电复位电流脉冲将所述磁芯的所述阻抗复位到相同的值。
16.根据条款15所述的方法，其中在产生所述多个激光辐射脉冲中的第一激光辐射脉冲之前提供给所述线圈的所述电复位电流脉冲的所述幅度或所述持续时间与在产生所述多个激光辐射脉冲中的第二激光辐射脉冲之前提供给所述线圈的所述电复位电流脉冲的所述幅度或所述持续时间不同。
17.根据条款16所述的方法，其中所述多个激光辐射脉冲中的所述第一激光辐射脉冲是激光辐射脉冲突发中的第一激光辐射脉冲，而所述多个激光辐射脉冲中的所述第二激光辐射脉冲是同一激光辐射脉冲突发中的稍后的激光辐射脉冲。
18.根据条款15所述的方法，其中所述多个激光辐射脉冲是单个激光辐射脉冲突发中的连续的脉冲。
19.一种用于向激光放电腔室供应放电脉冲的脉冲功率系统，所述脉冲功率系统包括：
压缩头模块，包括压缩头模块磁性开关，所述压缩头模块磁性开关具有压缩头模块可饱和电抗器；
压缩头模块复位电路，被适配为向所述压缩头模块可饱和电抗器供应压缩头模块复位脉冲，以使所述压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定压缩头偏压点；以及
复位电路控制模块，被布置为基于所述激光放电腔室中的至少一个操作条件来控制所述压缩头模块复位电路的操作。
20.一种脉冲功率系统，所述脉冲功率系统用于向主振荡器MO激光器腔室供应包括MO放电脉冲的放电脉冲，所述脉冲功率系统包括：
MO压缩头模块，包括MO压缩头模块磁性开关，所述MO压缩头模块磁性开关具有MO压缩头模块可饱和电抗器；
MO压缩头模块复位电路，被适配为向所述MO压缩头模块可饱和电抗器供应MO压缩头模块复位脉冲，以使所述MO压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定MO压缩头偏压点；以及
复位电路控制模块，被布置为基于所述MO激光器腔室中的至少一个条件来控制所述MO压缩头模块复位电路的操作。
21.根据条款20所述的脉冲功率系统，还包括：
MO转接器模块，被布置为向所述MO压缩头模块提供MO转接器脉冲，所述MO转接器模块包括MO转接器模块磁性开关，所述MO转接器模块磁性开关具有MO转接器模块可饱和电抗器；以及
MO转接器模块复位电路，被适配为向所述MO转接器模块可饱和电抗器供应MO转接器模块复位脉冲，以将所述MO压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定MO转接器偏压点，
所述复位电路控制模块还被布置为：基于所述MO激光器腔室中的至少一个条件来控制所述MO转接器模块复位电路的操作。
22.根据条款20所述的脉冲功率系统，还包括：
功率放大器PA压缩头模块，包括PA压缩头模块磁性开关，所述PA压缩头模块磁性开关具有PA压缩头模块可饱和电抗器；
PA压缩头模块复位电路，被适配为向所述PA压缩头模块可饱和电抗器供应PA压缩头模块脉冲，以使所述PA压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定PA压缩头偏压点；
PA转接器模块，被布置为向所述PA压缩头模块提供PA转接器脉冲，所述PA转接器模块包括PA转接器模块磁性开关，所述PA转接器模块磁性开关具有PA转接器模块可饱和电抗器；以及
PA转接器模块复位电路，被适配为向所述PA转接器头模块可饱和电抗器供应PA转接器模块复位脉冲，以使所述PA转接器模块可饱和电抗器的操作点复位到预定PA转接器偏压点，
所述复位电路控制模块还被布置为：基于所述PA激光器腔室中的至少一个条件来控制所述PA压缩头复位电路的操作，并且基于所述PA激光器腔室中的至少一个条件来控制所述PA转接器复位电路的操作。
其他实现方式在以下权利要求的范围内。

Claims (22)

1.一种系统，包括：
第一激光器子系统，被配置为生成脉冲种子激光束，所述第一激光器子系统包括：
第一腔室，被配置为容纳第一增益介质；以及
在所述第一腔室中的第一激励机构；
第二激光器子系统，被配置为基于所述脉冲种子激光束来产生脉冲输出激光束，所述第二光学子系统包括：
第二腔室，被配置为容纳第二增益介质；以及
在所述第二腔室中的第二激励机构；
第一磁性开关网络，被配置为激活所述第一激励机构，其中所述第一磁性开关网络包括第一磁芯，并且激活所述第一激励机构使得所述第一光学子系统产生所述脉冲种子激光束的脉冲；以及
第二磁性开关网络，被配置为：激活所述第二激励机构，其中所述第二磁性开关网络包括第二磁芯，并且激活所述第二激励机构使得所述第二光学子系统产生所述脉冲输出激光束的脉冲；
第一偏压电路，被配置为电气或磁性耦合到所述第一磁芯；
第二偏压电路，被配置为电气或磁性耦合到所述第二磁芯；以及
控制器，被配置为：
通过使得所述第一偏压电路产生第一电复位电流脉冲来调整所述第一磁芯的阻抗，其中所述第一电复位电流脉冲的一个或多个特性是基于所述第一激光器子系统的操作条件的；以及
通过使得所述第二偏压电路产生第二电复位电流脉冲来调整所述第二磁芯的阻抗，其中所述第二电复位电流脉冲的一个或多个特性是基于所述第二激光器子系统的操作条件的。
2.根据权利要求1所述的系统，
其中所述第一电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第一电复位电流脉冲的幅度，其中所述控制器基于所述第一激光器子系统的所述操作条件来确定所述第一电复位电流脉冲的所述幅度，并且所述第一磁芯的所述阻抗取决于所述第一电复位电流脉冲的所述幅度；以及
所述第二电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第二电复位电流脉冲的幅度，所述控制器基于所述第二激光器子系统的所述操作条件来确定所述第二电复位电流脉冲的所述幅度，并且所述第二磁芯的所述阻抗取决于所述第二电复位电流脉冲的所述幅度。
3.根据权利要求1所述的系统，其中
所述第一电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第一电复位电流脉冲的幅度和持续时间，其中所述控制器基于所述第一激光器子系统的所述操作条件来确定所述第一电复位电流脉冲的所述幅度和所述持续时间，其中所述第一磁芯的所述阻抗取决于所述第一电复位电流脉冲的所述幅度，并且其中调整所述第一磁芯的所述阻抗所需的时间取决于所述第一电复位电流脉冲的所述持续时间；以及
其中所述第二电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述第二电复位电流脉冲的幅度和所述第二电复位电流脉冲的持续时间，所述控制器基于所述第二激光器子系统的所述操作条件来确定所述第二电复位电流脉冲的所述幅度和所述第二电复位电流脉冲的所述持续时间，其中所述第二磁芯的所述阻抗取决于所述第二电复位电流脉冲的所述幅度，并且其中调整所述第二磁芯的所述阻抗所需的时间取决于所述第二电复位电流脉冲的所述持续时间。
4.根据权利要求3所述的系统，其中所述第一电复位电流脉冲的所述幅度和所述第二电复位电流脉冲的所述幅度彼此不同。
5.根据权利要求1所述的系统，其中所述控制器被配置为：在产生所述脉冲种子激光束的每个脉冲之前，调整所述第一磁芯的所述阻抗；并且在产生所述脉冲输出激光束的每个脉冲之前，调整所述第二磁芯的所述阻抗。
6.根据权利要求1所述的系统，其中所述第一激光器子系统包括主振荡器，并且所述第二光学子系统包括功率放大器。
7.根据权利要求6所述的系统，其中所述功率放大器包括功率环放大器。
8.根据权利要求1所述的系统，其中所述脉冲种子激光束和所述脉冲输出激光束均包括所述深紫外DUV范围内的一个或多个波长。
9.一种控制器，包括：
触发模块，被配置为：
向第一磁性开关网络提供第一启动触发信号，所述第一启动触发信号使得所述第一磁性开关网络中的第一磁芯饱和，以使得所述第一磁性开关网络激活第一激光器子系统中的增益激励机构；
向第二磁性开关网络提供第二启动触发信号，所述第二启动触发信号使得所述第二磁性开关网络中的第二磁芯饱和，以使得所述第二磁性开关网络激活第二激光器子系统中的增益激励机构；以及
电流模块，被配置为：
基于所述第一激光器子系统的操作条件来确定第一电复位电流脉冲的一个或多个特性，其中所述第一电复位电流脉冲被配置为将所述第一磁芯的阻抗调整到第一复位电平；以及
基于所述第二激光器子系统的操作条件来确定第二电复位电流脉冲的一个或多个特性，其中所述第二电复位电流脉冲被配置为将所述第二磁芯的阻抗调整到第二复位电平。
10.根据权利要求9所述的控制器，其中激活所述第一光学子系统中的所述增益机构产生种子激光束的脉冲，并且激活所述第二光学子系统中的所述增益机构放大所述种子激光束的所述脉冲。
11.根据权利要求9所述的控制器，其中所述电流模块被配置为：每当所述第一光学子系统中的所述增益激励机构被激活时，将所述第一磁芯的所述阻抗调整到所述第一复位电平；并且每当所述第二子系统中的所述增益激励机构被激活时，将所述第二磁芯的所述阻抗调整到所述第二复位电平。
12.根据权利要求9所述的控制器，其中所述第一电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括第一幅度和第一持续时间，并且所述第二电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括第二幅度和第二持续时间。
13.一种控制磁芯的阻抗的控制方法，所述磁芯位于产生脉冲激光束的激光系统中，所述方法包括：
基于所述第一激光器子系统的操作条件来确定电复位电流脉冲的一个或多个特性；
通过向磁性耦合到所述磁芯的线圈提供所述电复位电流脉冲来将所述磁芯的所述阻抗调整到复位电平；以及
在调整所述磁芯的所述阻抗之后，产生激光辐射脉冲，其中产生激光辐射脉冲包括：使所述磁芯饱和，以使得放电电脉冲被提供至所述激光系统的激励机构。
14.根据权利要求13所述的方法，其中所述电复位电流脉冲的所述一个或多个特性包括所述电复位电流脉冲的幅度。
15.根据权利要求13所述的方法，其中在产生多个激光辐射脉冲中的每一者之前，所述电复位电流脉冲使所述磁芯的所述阻抗复位到相同的值。
16.根据权利要求15所述的方法，其中在产生所述多个激光辐射脉冲中的第一激光辐射脉冲之前提供给所述线圈的所述电复位电流脉冲的所述幅度或所述持续时间与在产生所述多个激光辐射脉冲中的第二激光辐射脉冲之前提供给所述线圈的所述电复位电流脉冲的所述幅度或所述持续时间不同。
17.根据权利要求16所述的方法，其中所述多个激光辐射脉冲中的所述第一激光辐射脉冲是激光辐射脉冲突发中的第一激光辐射脉冲，而所述多个激光辐射脉冲中的所述第二激光辐射脉冲是同一激光辐射脉冲突发中的稍后的激光辐射脉冲。
18.根据权利要求15所述的方法，其中所述多个激光辐射脉冲是单个激光辐射脉冲突发中的连续的脉冲。
19.一种用于向激光放电腔室供应放电脉冲的脉冲功率系统，所述脉冲功率系统包括：
压缩头模块，包括压缩头模块磁性开关，所述压缩头模块磁性开关具有压缩头模块可饱和电抗器；
压缩头模块复位电路，被适配为向所述压缩头模块可饱和电抗器供应压缩头模块复位脉冲，以使所述压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定压缩头偏压点；以及
复位电路控制模块，被布置为基于所述激光放电腔室中的至少一个操作条件来控制所述压缩头模块复位电路的操作。
20.一种脉冲功率系统，所述脉冲功率系统用于向主振荡器MO激光器腔室供应包括MO放电脉冲的放电脉冲，所述脉冲功率系统包括：
MO压缩头模块，包括MO压缩头模块磁性开关，所述MO压缩头模块磁性开关具有MO压缩头模块可饱和电抗器；
MO压缩头模块复位电路，被适配为向所述MO压缩头模块可饱和电抗器供应MO压缩头模块复位脉冲，以使所述MO压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定MO压缩头偏压点；以及
复位电路控制模块，被布置为基于所述MO激光器腔室中的至少一个条件来控制所述MO压缩头模块复位电路的操作。
21.根据权利要求20所述的脉冲功率系统，还包括：
MO转接器模块，被布置为向所述MO压缩头模块提供MO转接器脉冲，所述MO转接器模块包括MO转接器模块磁性开关，所述MO转接器模块磁性开关具有MO转接器模块可饱和电抗器；以及
MO转接器模块复位电路，被适配为向所述MO转接器模块可饱和电抗器供应MO转接器模块复位脉冲，以使所述MO压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定MO转接器偏压点，
所述复位电路控制模块还被布置为：基于所述MO激光器腔室中的至少一个条件来控制所述MO转接器模块复位电路的操作。
22.根据权利要求20所述的脉冲功率系统，还包括：
功率放大器PA压缩头模块，包括PA压缩头模块磁性开关，所述PA压缩头模块磁性开关具有PA压缩头模块可饱和电抗器；
PA压缩头模块复位电路，被适配为向所述PA压缩头模块可饱和电抗器供应PA压缩头模块脉冲，以使所述PA压缩头模块可饱和电抗器的操作点复位到预定PA压缩头偏压点；
PA转接器模块，被布置为向所述PA压缩头模块提供PA转接器脉冲，所述PA转接器模块包括PA转接器模块磁性开关，所述PA转接器模块磁性开关具有PA转接器模块可饱和电抗器；以及
PA转接器模块复位电路，被适配为向所述PA转接器头模块可饱和电抗器供应PA转接器模块复位脉冲，以使所述PA转接器模块可饱和电抗器的操作点复位到预定PA转接器偏压点，
所述复位电路控制模块还被布置为：基于所述PA激光器腔室中的至少一个条件来控制所述PA压缩头复位电路的操作，并且基于所述PA激光器腔室中的至少一个条件来控制所述PA转接器复位电路的操作。
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