JP5577917B2 - チップバリスタ - Google Patents

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Description

本発明は、チップバリスタに関するものであり、特に抵抗体が一体化されたチップバリスタに関する。
電圧非直線特性(バリスタ特性)を発現するバリスタに抵抗体を一体化させたチップバリスタが知られている(例えば、特許文献1参照)。このような抵抗付きのチップバリスタでは、抵抗体が外部電極間を連結するようにバリスタ部上面に抵抗体が形成される構成となっている。
特許第3097332号公報
このような抵抗付きのチップバリスタにおいて小型化の要求が強まってきており、例えば、1005タイプ(長さ1.0mm×高さ0.5mm×幅0.5mm)といったような極小サイズのチップバリスタが望まれるようになってきている。ところが、チップバリスタが小型化されるにつれて、その素体の厚みも薄くなり、製造時の熱処理(焼成等)により素体が反ってしまう場合があった。このため、所定の寸法のチップバリスタを製造することが難しいといった問題があった。
本発明は、素体の反りを抑制し、寸法精度のよいチップバリスタを提供することを目的とする。
上記課題を解決するため、本発明に係るチップバリスタは、互いに対向する第一及び第二の主面を有するバリスタ素体と、バリスタ素体内に配置され、第一及び第二の主面の対向方向において一部が互いに対向する第一及び第二の内部電極と、バリスタ素体の第一の主面の両端側それぞれに配置された第一及び第二の外装電極と、第一及び第二の外装電極を連結するように第一の主面に配置された抵抗体と、抵抗体が配置された第一の主面を覆うように第一の主面に配置された第一のガラス層と、第二の主面を覆うように第二の主面に配置された第二のガラス層と、第一及び第二のガラス層よりも薄い層であって、バリスタ素体と第一及び第二の外装電極と抵抗体と第一及び第二のガラス層とを含んで構成される素体全体を覆うように素体の外表面に配置された絶縁層と、素体の一端を覆うように配置され、且つ、第一の内部電極と第一の外装電極とに接続される第一の外部電極と、素体の他端を覆うように配置され、且つ、第二の内部電極と第二の外装電極とに接続される第二の外部電極と、を備えている。
本発明に係るチップバリスタでは、バリスタ素体の第一及び第二の主面それぞれに第一又は第二のガラス層が配置され、これら一対のガラス層によってバリスタ素体が挟み込まれる構成となっている。このため、所定の強度を有するガラス層によってバリスタ素体の反りが抑止され、寸法精度のよいチップバリスタを得ることができる。また、一対のガラス層によって挟み込まれる構成であるため、チップバリスタが小型化・薄型化した場合であっても、その強度を高めに保つことができる。
また、バリスタ素体は、例えば酸化亜鉛(ZnO)等を主成分として構成されるため相対的に脆い構造となっているが、本発明に係るチップバリスタでは、一対のガラス層によってバリスタ素体が挟み込まれる構成となっているため、バリスタ素体が両面から支えられるようになっている。このため、製造時等において多数のバリスタ素体に対応するシート積層体から切断によって個々のバリスタ素体又は素体を得ようとした際、バリスタ素体に欠けが発生してしまうといったことを防止できる。これにより、バリスタ素体における欠落を抑制したチップバリスタを得ることができる。
また、本発明に係るチップバリスタでは、絶縁層によって素体全体を覆うようになっている。この場合、バリスタ素体や抵抗体等へ外部電極を構成するメッキ等が入り込むといったことが防止できる。これにより、例えばバリスタ素体等へメッキが入り込むことによるバリスタ特性の低下等を防止できる。
また、本発明に係るチップバリスタでは、本来的なバリスタ部に加え、抵抗体も備えているため、静電気等のサージによりバリスタ部で一時的に発熱が生じるだけでなく、抵抗体において、発熱(ジュール熱)が継続的に生じることになる。ところが、本発明に係るチップバリスタでは、上述したように、一対のガラス層によってバリスタ素体が挟み込まれる構成にすぎず、バリスタ素体の側面にはガラス層がなく極薄の絶縁膜が配置される構成となっている。このように、薄い絶縁層でバリスタ素体の側面を覆う構成であるため、素体側面から、上述した熱の放出を図ることもできる。これにより、良好な放熱性を有するチップバリスタを得ることができる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、第一及び第二のガラス層それぞれの厚みがバリスタ全体の厚みの1%以上であることが好ましい。この場合、バリスタ素体の反りを一層抑制することができる。また、第一及び第二のガラス層それぞれの厚みが5μm以上30μm以下であることが好ましい。このように、ガラス層の厚みが5μm以上であることから、バリスタ素体の反りを一層抑制することができ、その一方、ガラス層の厚みが30μm以下であることから、バリスタ全体の厚みを薄くして、小型・薄型のチップバリスタを得ることができる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、第一及び第二のガラス層それぞれの厚みが略同一であることが好ましい。この場合、バリスタ素体を挟持する各ガラス層からバリスタ素体にかかる応力が略同程度となるため、バリスタ素体の反りを均一に抑制できる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、第一及び第二の外装電極は、バリスタ素体の第一の主面に導電性ペーストを印刷又は転写した後、バリスタ素体と同時焼成することによって形成されていることが好ましい。この場合、両外装電極が印刷又は転写により形成されるため、外装電極間の距離を精度よいものとすることができ、これにより、外装電極間を連結する抵抗体による抵抗値を所定の値にすることが可能となる。つまり、抵抗体による抵抗値のばらつきを抑えることができる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、バリスタ素体は焼成によって形成されており、抵抗体は、バリスタ素体の第一の主面に抵抗体ペーストを印刷又は転写した後、焼き付けることによって形成されていることが好ましい。また、抵抗体がRuOとAgとを含んでおり、バリスタ素体はAgを含んでいないことが好ましい。この場合、バリスタ素体内にAg等が拡散しないことになるため、拡散したAg等によってバリスタ特性が低下してしまうといったことを予防できる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、第一及び第二の外装電極が第一のガラス層によって覆われていることが好ましい。この場合、外部電極を構成するメッキ等が外装電極へ入り込むといったことが一層抑制され、抵抗体による抵抗値の経時変化を少なくすることができる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、第一及び第二の外装電極はPdを含み、第一及び第二の外部電極がAgを含むことが好ましい。この場合、カーケンドール効果により、外装電極と外部電極との間での接触を確実なものとすることができる。
本発明に係るチップバリスタにおいて、第一及び第二の外装電極と第一及び第二の内部電極とが同じ材料から構成されていることが好ましい。この場合、外装電極と内部電極とをバリスタ素体と一体で焼成することが容易に行える。
本発明によれば、素体の反りを抑制し、寸法精度のよいチップバリスタを提供することができる。
本実施形態に係るチップバリスタを示す斜視図である。 図1におけるII−II線断面図である。 図1におけるIII−III線断面図である。 素体における抵抗体や内部電極を模式的に示すための斜視図である。 図1に示したチップバリスタの等価回路図である。
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施形態について詳細に説明する。なお、図面の説明において、同一要素又は同一機能を有する要素には同一符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、図示の便宜上、図面の寸法比率は図示の値に限定されず、また説明のものと必ずしも一致しない。
まず、図1〜図4を参照して、チップバリスタ1について説明する。チップバリスタ1は、略直方体形状の素体3と、素体3の外表面の略全体を覆う絶縁層5と、絶縁層5によって覆われた素体3の両端部それぞれを覆うように配置される第一及び第二の外部電極7,9と、を備えている。チップバリスタ1は、抵抗体21とバリスタ部37とが並列に接続される抵抗付きの積層型チップバリスタ(図5参照)である。このようなチップバリスタ1は、例えば、図1のY方向における長さが1.0mm、Z方向における高さが0.5mm、X方向における幅が0.5mmといった極小サイズ(いわゆる1005タイプ)である。
素体3は、図2〜図4に示されるように、略直方体形状のバリスタ素体11と、バリスタ素体11内に配置される第一及び第二の内部電極13,15と、バリスタ素体11の図示上面11aに配置される第一及び第二の外装電極17,19と、第一及び第二の外装電極17,19を連結する抵抗体21と、バリスタ素体11を挟むように配置される第一及び第二のガラス層23,25と、を備えている。なお、素体3は、互いに対向し且つ略長方形状の主面3a,3bと、互いに対向し且つ略正方形状の端面3c,3dと、互いに対向し且つ略長方形状の側面3e,3fと、を有している。端面3c,3d及び側面3e,3fは、主面3a,3b間を連結するように伸びている。
バリスタ素体11は、略直方体形状であり、互いに対向し且つ略長方形状の主面11a,11bと、互いに対向し且つ略長方形状の端面11c,11dと、互いに対向し且つ略長方形状の側面11e,11fと、を有している。端面11c,11d及び側面11e,11fは、主面11a,11b間を連結するように伸びている。なお、端面11c,11dは、素体3の端面3c,3dの中央部を構成し、側面11e,11fは、素体3の側面3e,3fの中央部を構成する。
バリスタ素体11は、バリスタ層31,33,35から構成される。各バリスタ層31,33,35は、例えば主成分として酸化亜鉛(ZnO)を含み、副成分としてビスマス(Bi)及びプラセオジム(Pr)を含む半導体セラミック層を、両主面11a,11bの対向方向に所定数(少なくとも一層)、積層することによってそれぞれ形成される。各バリスタ層31,33,35を構成する半導体セラミック層は、Al等の微量添加物を含んでいてもよい。なお、以下、主面11a,11bの対向方向を積層方向として説明する場合もある。
第一及び第二の内部電極13,15は、それぞれ略長方形状をなしており、例えば厚さが0.5μm〜5μmに設定されている。第一及び第二の内部電極13,15は、積層方向において、バリスタ素体11を構成するバリスタ層33を間に挟むように、互いの先端側の部分13a,15aが互いに対向するように配置される。第一及び第二の内部電極13,15が対向する部分によりバリスタ特性を発現するバリスタ部37が形成される。
第一及び第二の内部電極13,15は、基端側の部分13b,15bが素体3(バリスタ素体11)の端面3c,3d(11c,11d)にそれぞれ露出するように形成されている。第一及び第二の内部電極13,15は、例えばパラジウム(Pd)を含む導電性ペーストの焼結体から構成される。
第一及び第二の外装電極17,19は、それぞれ略長方形状をなしており、例えば厚さが0.5μm〜5μmに設定されている。第一及び第二の外装電極17,19は、図4の点線で示されるように、バリスタ素体11の主面11aの両端面11c,11d側にそれぞれ配置されている。第一及び第二の外装電極17,19は、基端側の部分17b,19bが素体3の端面3c,3dにそれぞれ露出するように形成されている。
第一及び第二の外装電極17,19は、例えばパラジウム(Pd)を含む導電性ペーストを、焼成前のバリスタ素体11の主面11aに印刷又は転写により塗布し、その後、バリスタ素体11と同時焼成することによって形成される。印刷又は転写により導電性ペーストが塗布されるため、第一及び第二の外装電極17,19間の距離L(図4参照)の精度を高くすることができる。
抵抗体21は、第一及び第二の外装電極17,19を連結するようにバリスタ素体11の主面11a上に配置される。抵抗体21は、焼成後のバリスタ素体11の主面11aに抵抗体ペーストを印刷又は転写により塗布し、その後、焼き付けることによって形成される。抵抗体21を形成するための抵抗体ペーストは、例えば主成分として酸化ルテニウム(RuO)を含み、副成分として銀(Ag)を含んでいる。焼成後のバリスタ素体11に抵抗体ペーストを印刷等して焼き付けるため、抵抗体ペーストに含まれるAgがバリスタ素体11に拡散しないようになっている。
第一及び第二のガラス層23,25は、バリスタ素体11の主面11a,11bそれぞれを覆うように配置される。第一のガラス層23は、第一及び第二の外装電極17,19及び抵抗体21とこれらが形成された主面11aの略全面を覆うように主面11aに配置される。第二のガラス層25は、主面11bの略全面を覆うように主面11bに配置される。このような配置により、バリスタ素体11が一対のガラス層23,25により挟持される。第一及び第二のガラス層23,25それぞれは、例えばその厚さが5〜30μmになるように設定されており、好ましくは10μmに設定されている。なお、両ガラス層23,25それぞれの厚みは略同一であることが好ましい。
第一及び第二のガラス層23,25の材料としては、例えば、SiO、B又はZnO系のガラスが用いられる。
絶縁層5は、素体3の外表面の略全体を覆うように配置されている。素体3の側面3e,3fにはガラス層23,25のようなガラス層が形成されていないため、バリスタ素体11の側面11e,11f等が絶縁層5によって直接覆われる。絶縁層5は、例えば厚さが50〜150nm程度の極薄膜であり、第一及び第二のガラス層23,25よりも薄く形成されている。絶縁層5は、例えばシリカ(SiO)からなり、スパッタリングにより形成される。
第一及び第二の外部電極7,9は、素体3の各端面3c,3dを覆うように多層状に形成されている。各外部電極7,9は、Ag等を主成分とした導電性粉末及びガラスフリットを含む第一電極層7a,9aと、第一電極層7a,9aを覆うように形成され且つニッケル(Ni)を主成分とする第二電極層7b,9bと、第二電極層7b,9bを覆うように形成され且つすず(Sn)を主成分とする第三電極層7c,9cとを含む。
第一の外部電極7の第一電極層7aは、素体3の端面3cに基端13b,17bが露出している第一の内部電極13と第一の外装電極17とに接続される。第二の外部電極9の第一電極層9aは、素体3の端面3dに基端15b,19bが露出している第二の内部電極15と第二の外装電極19とに接続される。内部電極13,15及び外装電極17,19と外部電極7,9の第一電極層7a,9aとは、面心立方の結晶構造を有する異種の金属(例えばPdとAg)によって構成されているため、カーケンドール効果により、これら金属が接触界面を通って互いに拡散し、確実に接続される。なお、素体3と外部電極7,9との間には絶縁層5が介在するものの、絶縁層5が100nm程度の極薄膜であるため、上述した接続が阻害されることはほとんどないようになっている。
続いて、上記構成を有するチップバリスタ1の製造方法について説明する。
まず、バリスタ層31,33,35の主成分であるZnOと、副成分であるBi及びPrと、微量添加物であるAl等とを混合し、バリスタ材料を調製する。調製後、このバリスタ材料に、有機バインダ、有機溶剤、及び有機可塑剤等を加え、ボールミルを用いて混合、粉砕を行い、スラリーを得る。
続いて、例えばドクターブレード法を用いることにより、ポリエチレンテレフタレートからなるフィルム上にスラリーを塗布し、これを乾燥させた後、フィルムから剥離する。これにより、所定の厚みのグリーンシートを得る。
続いて、一部のグリーンシートに内部電極13,15に対応する電極部分をそれぞれ形成する。この内部電極13,15に対応する電極部分は、Pdを主成分とする金属粉末、有機バインダ、及び有機溶剤等を混合した導電性ペーストを、例えばスクリーン印刷によってグリーンシート上に印刷し、これを乾燥させることによって、形成する。
続いて、下から順に、バリスタ層35、第二の内部電極15、バリスタ層33、第一の内部電極13、バリスタ層31と積層されるように、電極部分が形成されたグリーンシートと、電極部分が形成されていないグリーンシートとを所定の順序で重ねてプレスし、複数のバリスタ素体11に対応するシート積層体を形成する。
続いて、このシート積層体の上面の所定箇所に外装電極17,19に対応する電極部分をそれぞれ形成する。この外装電極17,19に対応する電極部分は、内部電極13,15と同様、Pdを主成分とする金属粉末、有機バインダ、及び有機溶剤等を混合した導電性ペーストを、例えばスクリーン印刷によってシート積層体の上面に印刷し、これを乾燥させることによって、形成する。なお、外装電極17,19を予めグリーンシート上に形成しておいて、そのグリーンシートが最上層となるように、上述した電極部分が形成されたグリーンシート等と共に積層してシート積層体を得るようにしてもよい。
続いて、外装電極17,19が形成されたシート積層体を、例えば、大気雰囲気中において、5〜300℃/時間の条件で昇温した後、180〜400℃の温度で0.5時間〜24時間加熱し、脱バインダ処理を行う。
続いて、脱バインダ処理が行われたシート積層体を、例えば、大気雰囲気中において、50〜500℃/時間の条件で昇温した後、900〜1300℃の温度で0.5〜8時間加熱し、更に、50〜500℃/時間の条件で冷却することにより、シート積層体の焼成を行う。これにより、外装電極17,19に対応する電極部分が、バリスタ素体11に対応する積層体と同時に焼成される。この同時焼成により、外装電極17,19に対応する電極部分とバリスタ素体11に対応する積層体との結合強度が向上する。
続いて、外装電極17,19に対応する電極部分が形成されたシート積層体の上面に、外装電極17,19に対応する電極間を連結するように抵抗体21を形成する。この抵抗体21は、RuOとAgとを含んだ抵抗体ペーストを、例えばスクリーン印刷によってシート積層体の上面に印刷し、これを850℃〜900℃の温度で焼き付けることによって形成する。
続いて、外装電極17,19と抵抗体21とが形成されたシート積層体の上面及び下面の略全面に、ガラス層23,25をそれぞれ形成する。このガラス層23,25は、所定のガラス材料(例えば、SiO、B又はZnO系のガラスなど)を、例えばスクリーン印刷によってシート積層体の上面及び下面それぞれに印刷し、これを所定の温度(例えば800℃〜850℃)で焼き付けることによって形成する。なお、ガラス層23,25は、例えばその厚みが10μm程度になるように調整されている。
その後、ガラス層23,25でバリスタ素体11が挟持された状態となったシート積層体をチップ単位に切断することにより、分割された複数の素体3を得る。なお、この切断の際に内部電極13,15及び外装電極17,19の基端13b,15b,17b,19bが各端面3c,3dに露出するように、導電性ペーストが塗布されている。
続いて、こうして得られた素体3の端面3c,3dに、バレル研磨やサンドブラストによる研磨を施す。そして、端面3c,3dや角部等が研磨されて略直方体形状となった素体3の外表面の略全面を覆うように、絶縁層5を形成する。絶縁層5の形成は、例えば、スパッタリングによってSiO膜を形成することによって為される。なお、絶縁層5は、例えばその厚みが100nm程度の極薄膜になるよう調整されているが、例えばその厚みが50〜150nmの間であればよい。
続いて、絶縁層5が被覆された素体3の端面3c,3dそれぞれを覆うように、外部電極7,9を形成する。この外部電極7,9の形成にあたっては、まず、Agを含む金属粉末に、ガラスフリット、有機バインダ、及び有機溶剤等を混合した導電性ペーストを用意する。次に、用意した導電性ペーストを、例えばディップ法によって素体3の長手方向における両端部に塗布し、これを乾燥させることによって、外部電極7,9の第一電極層7a,9aに対応する電極部分を形成する。そして、形成した電極部分を例えば900℃で焼き付けることにより、各電極部分が第一電極層7a,9aとなる。
続いて、第一電極層7a,9aを形成した後、第一電極層7a,9aそれぞれの上に、Niメッキからなる第二電極層7b,9bを形成し、さらに、第二電極層7b、9bの上にSnメッキからなる第三電極層7c,9cを形成する。この場合のメッキ方法としては、例えば、電解メッキが用いられる。
以上により、図1に示したチップバリスタ1が完成する。このように形成されたチップバリスタ1では、図5の等価回路図で示されるように、抵抗体21とバリスタ部37とが並列に接続される構成となっており、抵抗付きのチップバリスタとして機能する。
以上のように、本実施形態に係るチップバリスタ1では、バリスタ素体11の主面11a,11bそれぞれにガラス層23,25が配置され、これら一対のガラス層23,25によってバリスタ素体11が挟み込まれる構成となっている。このため、所定の強度を有するガラス層23,25によってバリスタ素体11の反りが抑止され、寸法精度のよいチップバリスタ1を得ることができる。また、一対のガラス層23,25によって挟み込まれる構成であるため、チップバリスタ1が小型化・薄型化した場合であっても、その強度を高めに保つことができる。
また、バリスタ素体11は、例えばZnO等を主成分として構成されるため相対的に脆い構造となっているが、チップバリスタ1では、一対のガラス層23,25によってバリスタ素体11が挟み込まれる構成となっているため、バリスタ素体11が上下両面から支えられるようになっている。このため、製造時等において多数の素体3に対応するシート積層体から切断によって個々の素体3を得ようとした際、バリスタ素体11に欠けが発生してしまうといったことを防止できる。これにより、バリスタ素体11における欠落を抑制したチップバリスタ1を得ることができる。
また、チップバリスタ1では、絶縁層5によって素体3全体が覆われるようになっている。このため、バリスタ素体11や抵抗体21等へ外部電極7,9の第二電極層7b,9bや第三電極層7c,9cを構成するメッキ等が入り込むといったことが防止できる。これにより、例えばバリスタ素体11等へメッキが入り込むことによるバリスタ特性の低下等を防止できる。
また、チップバリスタ1では、本来的なバリスタ部37に加え、抵抗体21も備えているため、静電気等のサージによりバリスタ部37で一時的に発熱が生じるだけでなく、抵抗体21において、発熱(ジュール熱)が継続的に生じることになる。ところが、チップバリスタ1では、上述したように、一対のガラス層23,25によってバリスタ素体11が挟み込まれる構成となっており、バリスタ素体11の側面11e,11fにはガラス層がなく極薄の絶縁層5が配置されている。このように、薄い絶縁層5でバリスタ素体11の側面11e,11fを覆っているため、素体3の側面3e,3fから、上述した熱放出を図ることもできる。これにより、良好な放熱性を有するチップバリスタ1を得ることができる。
また、チップバリスタ1では、上述したように、一対のガラス層23,25によってバリスタ素体11が挟み込まれる構成となっている一方、バリスタ素体11の側面11e,11fには厚めのガラス層がなく極薄の絶縁層5のみが配置されるようになっている。このため、チップバリスタ1を基板等に実装した後、基板等に何らかの歪み等が発生して、チップバリスタ1に対して何らかの応力が働いたとしても、チップバリスタ1であれば、チップバリスタ1に対する応力を側面3e,3f等から逃がして分散できるので、チップバリスタ1の素子3やガラス層23,25に生じるクラック等を防止することもできる。
また、チップバリスタ1において、例えばガラス層23,25それぞれの厚みが10μmであり、チップバリスタ1全体の厚みである500μmの1%(5μm)以上の厚みとなっている。このようにガラス層23,25が所定比率以上の厚みを有しているため、バリスタ素体11の反りを一層抑制することができる。
また、チップバリスタ1において、ガラス層23,25それぞれの厚みは略同一である。このため、バリスタ素体11を挟持する各ガラス層23,25からバリスタ素体11にかかる応力が同程度となるため、バリスタ素体11の反りを均一に抑制できる。
また、チップバリスタ1において、外装電極17,19は、バリスタ素体11の主面11aに導電性ペーストを印刷した後、バリスタ素体11と同時に焼成することによって形成されている。このように、両外装電極17,19がバリスタ素体11に印刷により形成され、しかも、変形や凹凸が発生し易い焼成後ではなくて、焼成前のバリスタ素体11に印刷されるため、両外装電極17,19間の距離Lを予め定めた値に容易に調整することができる。これにより、外装電極17,19間を連結する抵抗体21による抵抗値を所定の値にすることが可能となる。つまり、抵抗体21による抵抗値のばらつきを抑えることができる。
また、チップバリスタ1において、バリスタ素体11は焼成によって形成されており、抵抗体21は、バリスタ素体11の主面11aに抵抗体ペーストを印刷した後、焼き付けることによって形成されている。また、抵抗体21がRuOとAgとを含んでおり、バリスタ素体11はAgを含まないようになっている。このように、バリスタ素体11内にAgが拡散していないため、拡散したAgによるバリスタ特性の低下といった事態を避けることができる。
また、チップバリスタ1において、外装電極17,19や抵抗体21がガラス層23によって覆われている。このため、各外装電極17,19や抵抗体21へ上述したメッキ等が入り込むといったことが一層抑制され、抵抗体21による抵抗値の経時変化を少なくすることができる。つまり、抵抗体21等の外部環境による特性変化が抑制される。
また、チップバリスタ1において、内部電極13,15及び外装電極17,19はPdを含み、外部電極7,9がAgを含むようになっている。このため、カーケンドール効果により、内部電極13,15及び外装電極17,19と外部電極7,9との間での接触を確実なものとすることができる。
また、チップバリスタ1において、外装電極17,19と内部電極13,15とが同じ材料から構成されている。このため、外装電極17,19と内部電極13,15とをバリスタ素体11と一体で仮焼成することが容易に行える。
以上、本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。例えば、上記実施形態では、ガラス層23,25の厚みを10μmとしたが、ガラス層23,25の厚みはこれに限定されるわけではなく、素体3の反りを抑制することができる程度の厚みであればよい。例えば、ガラス層23,25それぞれの厚みが5μm以上30μm以下の何れかの厚みであってもよい。このように、ガラス層23,25の厚みが5μm以上であると、素体3の反りを抑制することができ、その一方、ガラス層23,25の厚みが30μm以下であることから、チップバリスタ1全体の厚みを薄くして、小型・薄型のチップバリスタを得ることができる。
また、上記実施形態では、内部電極13,15、外装電極17,19、及び抵抗体21等をスクリーン印刷によって形成するようにしていたが、形成方法はスクリーン印刷に限定されるわけではなく、転写等、他の方法によって形成するようにしてももちろんよい。
また、上記実施形態では、ガラス層23,25の厚みを略同一としたが、ガラス層23,25の厚みが異なっていてもよい。また、上記実施形態では、内部電極13,15と外装電極17,19とを同じ材料から形成するようにしたが、異なる材料で形成するようにしてももちろんよい。
1…チップバリスタ、3…素体、5…絶縁層、7,9…外部電極、11…バリスタ素体、13,15…内部電極、17,19…外装電極、21…抵抗体、23,25…ガラス層。

Claims (9)

  1. 互いに対向する第一及び第二の主面を有するバリスタ素体と、
    前記バリスタ素体内に配置され、前記第一及び第二の主面の対向方向において一部が互いに対向する第一及び第二の内部電極と、
    前記バリスタ素体の前記第一の主面の両端側それぞれに配置された第一及び第二の外装電極と、
    前記第一及び第二の外装電極を連結するように前記第一の主面に配置された抵抗体と、
    前記抵抗体が配置された前記第一の主面を覆うように前記第一の主面に配置された第一のガラス層と、
    前記第二の主面を覆うように前記第二の主面に配置された第二のガラス層と、
    前記第一及び第二のガラス層よりも薄い層であって、前記バリスタ素体と前記第一及び第二の外装電極と前記抵抗体と前記第一及び第二のガラス層とを含んで構成される素体全体を覆うように前記素体の外表面に配置された絶縁層と、
    前記素体の一端を覆うように配置され、且つ、前記第一の内部電極と前記第一の外装電極とに接続される第一の外部電極と、
    前記素体の他端を覆うように配置され、且つ、前記第二の内部電極と前記第二の外装電極とに接続される第二の外部電極と、を備え、
    前記第一及び第二の外装電極は、前記バリスタ素体の前記第一の主面に導電性ペーストを印刷又は転写した後、前記バリスタ素体と同時焼成することによって形成され、
    前記抵抗体は、前記バリスタ素体を焼成によって形成後、前記バリスタ素体の前記第一の主面に抵抗体ペーストを印刷又は転写した後に焼付けることによって形成されることを特徴とするチップバリスタ。
  2. 前記第一及び第二のガラス層それぞれの厚みがチップバリスタ全体の厚みの1%以上であることを特徴とする請求項1に記載のチップバリスタ。
  3. 前記第一及び第二のガラス層それぞれの厚みが5μm以上30μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載のチップバリスタ。
  4. 前記第一及び第二のガラス層それぞれの厚みが同一であることを特徴とする請求項1〜3の何れか一項に記載のチップバリスタ。
  5. 前記抵抗体は、RuOとAgとを含んでおり、
    前記バリスタ素体は、Agを含んでいないことを特徴とする請求項1〜の何れか一項に記載のチップバリスタ。
  6. 前記第一及び第二の外装電極が前記第一のガラス層によって覆われていることを特徴とする請求項1〜の何れか一項に記載のチップバリスタ。
  7. 前記第一及び第二の外装電極はPdを含み、前記第一及び第二の外部電極がAgを含むことを特徴する請求項1〜の何れか一項に記載のチップバリスタ。
  8. 前記第一及び第二の外装電極と前記第一及び第二の内部電極とが同じ材料から構成されていることを特徴とする請求項1〜の何れか一項に記載のチップバリスタ。
  9. 互いに対向する第一及び第二の主面を有するバリスタ素体と、
    前記バリスタ素体内に配置され、前記第一及び第二の主面の対向方向において一部が互いに対向する第一及び第二の内部電極と、
    前記バリスタ素体の前記第一の主面の両端側それぞれに配置された第一及び第二の外装電極と、
    前記第一及び第二の外装電極を連結するように前記第一の主面に配置された抵抗体と、
    前記抵抗体が配置された前記第一の主面を覆うように前記第一の主面に配置された第一のガラス層と、
    前記第二の主面を覆うように前記第二の主面に配置された第二のガラス層と、
    前記第一及び第二のガラス層よりも薄い層であって、前記バリスタ素体と前記第一及び第二の外装電極と前記抵抗体と前記第一及び第二のガラス層とを含んで構成される素体全体を覆うように前記素体の外表面に配置された絶縁層と、
    前記素体の一端を覆うように配置され、且つ、前記第一の内部電極と前記第一の外装電極とに接続される第一の外部電極と、
    前記素体の他端を覆うように配置され、且つ、前記第二の内部電極と前記第二の外装電極とに接続される第二の外部電極と、を備えたチップバリスタの製造方法であって、
    前記バリスタ素体の前記第一の主面に導電性ペーストを印刷又は転写した後、前記バリスタ素体と同時焼成することによって前記第一及び第二の外装電極を形成し、
    前記バリスタ素体を焼成によって形成後、前記バリスタ素体の前記第一の主面に抵抗体ペーストを印刷又は転写した後に焼付けることによって前記抵抗体を形成することを特徴とするチップバリスタの製造方法。
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