JP5572874B2 - カーボンナノチューブの製造方法 - Google Patents
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(1)式から、一酸化炭素(CO)のモル比を調整することにより、炭化水素化合物(CnHm)との反応の結果として、化学量論的に過不足無く水を生成することができることが明らかである。
(2)式から、二酸化炭素(CO2)のモル比を調整することにより、炭化水素化合物(CnHm)との反応の結果として、化学量論的に過不足無く水を生成することができることが明らかである。
本実施例では、まず、Si基材上に、スパッタ法を用いてバッファ層となるAl層を5nmの厚さに製膜した。次に、前記Al層を大気暴露した後、該Al層上に、スパッタ法を用いてFeからなる触媒材料層を0.5nmの厚さに製膜し、さらに該触媒材料層上に保護層となるAl層を0.5nmの厚さに製膜して基板9を形成した。
原料ガス導入部3から、水素を40sccmの流量で流通すると共に、原料ガスとして二酸化炭素とメタンとを1:1のモル比で合計10sccmの流量で流通した以外は、実施例1と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する原料ガスの濃度は20モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表1に示す。
原料ガス導入部3から、水素を25sccmの流量で流通すると共に、原料ガスとして二酸化炭素とメタンとを1:1のモル比で合計25sccmの流量で流通した以外は、実施例1と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する原料ガスの濃度は50モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表1に示す。
原料ガス導入部3から、水素ガスを全く流通せず、原料ガスとして二酸化炭素とメタンとを1:1のモル比で合計50sccmの流量で流通した以外は、実施例1と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する原料ガスの濃度は100モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表1に示す。
原料ガス導入部3から、水素を45sccmの流量で流通すると共に、原料ガスとして二酸化炭素とメタンとを1:1のモル比で合計5sccmの流量で流通した以外は、実施例1と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する原料ガスの濃度は10モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表1に示す。
本実施例では、Feからなる触媒材料層の厚さを0.1nm、保護層となるAl層の厚さを0.15nmとして基板9を形成した以外は、実施例4と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表2に示す。
本実施例では、Feからなる触媒材料層の厚さを0.2nm、保護層となるAl層の厚さを0.2nmとして基板9を形成した以外は、実施例4と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表2に示す。
本実施例では、Feからなる触媒材料層の厚さを1.0nm、保護層となるAl層の厚さを1.0nmとして基板9を形成した以外は、実施例4と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正したGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表2に示す。
本実施例では、まず、Si基材上に、スパッタ法を用いてバッファ層となるAl層を5nmの厚さに製膜した。次に、前記Al層を大気暴露した後、該Al層上に、スパッタ法を用いてFeからなる触媒材料層を0.5nmの厚さに製膜し、さらに該触媒材料層上に保護層となるAl層を1.0nmの厚さに製膜して基板9を形成した。
本実施例では、原料ガス導入部3から、水素を25sccmの流量で流通すると共に、一酸化炭素を25sccmの流量で流通した以外は、実施例9と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する一酸化炭素の濃度は50モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正していないGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表3に示す。
本実施例では、原料ガス導入部3から、水素を45sccmの流量で流通すると共に、一酸化炭素を5sccmの流量で流通した以外は、実施例9と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する一酸化炭素の濃度は10モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正していないGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表3に示す。
本実施例では、Feからなる触媒材料層を0.1nmの厚さに製膜し、さらに該触媒材料層上に保護層となるAl層を0.15nmの厚さに製膜して基板9を形成し、原料ガス導入部3から、水素を10sccmの流量で流通すると共に、一酸化炭素を40sccmの流量で流通した以外は、実施例9と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する一酸化炭素の濃度は80モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正していないGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表3に示す。
本実施例では、原料ガス導入部3から、水素を25sccmの流量で流通すると共に、一酸化炭素を25sccmの流量で流通した以外は、実施例12と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する一酸化炭素の濃度は50モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正していないGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表3に示す。
本実施例では、原料ガス導入部3から、水素を全く流通せず、一酸化炭素のみを50sccmの流量で流通した以外は、実施例12と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。ここで、流通ガスの全量に対する一酸化炭素の濃度は100モル%である。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析し、その品質をバックグラウンドを補正していないGバンドとDバンドとの強度の比G/Dにより評価した。結果を表3に示す。
本比較例では、触媒材料層の還元を、原料ガス導入部3から10sccmの流量で水素ガスを流通すると共に、原料ガスとして二酸化炭素とメタンとを1:1のモル比で合計40sccmの流量で流通し、基板9を700℃まで昇温させながら、5分間アニールすることにより行った以外は、実施例1と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。
本比較例では、プラズマを全く発生させなかったこと以外は、実施例9と全く同一にしてカーボンナノチューブの形成を行った。得られたカーボンナノチューブをラマン分光装置(励起波長633nm)により分析したが、通常のカーボンナノチューブの生成で観察されるGバンド及びDバンドは認められなかった。
Claims (7)
- アンテナを備え該アンテナの先端からプラズマを発生させるアンテナ型プラズマCVDを用い、
該アンテナが配設された処理室内に、基材上に形成されカーボンナノチューブ成長の核となる触媒材料層と、該基材と該触媒材料層との間に設けられ該基材と該触媒材料層との反応を防止する反応防止層とを備える基板を、該アンテナに発生するプラズマの発生領域に対し、該領域で発生したラジカルに副生するイオンの攻撃を避け得ると共に該ラジカルがラジカル状態を維持して到達し得る距離を存して保持し、
カーボンナノチューブの原料となる気体の流通下、該処理室内を所定の圧力に減圧し、該アンテナにプラズマを発生させて該基板上にカーボンナノチューブを形成するカーボンナノチューブの製造方法において、
該アンテナにプラズマを発生させる前に、該処理室内に水素のみを流通して該触媒材料層を還元し、
該触媒材料層を還元した後、該カーボンナノチューブの原料となる気体として、一酸化炭素のみ、一酸化炭素及び一酸化炭素と反応したときに化学量論的に過不足無く水を生成することができる気体との混合気体、二酸化炭素及び二酸化炭素と反応したときに化学量論的に過不足無く水を生成することができる気体との混合気体からなる群から選択されるいずれか1種の気体を流通させることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。 - 請求項1記載のカーボンナノチューブの製造方法において、前記一酸化炭素及び一酸化炭素と反応したときに化学量論的に過不足無く水を生成することができる気体との混合気体は、一酸化炭素と水素との混合気体であることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
- 請求項2記載のカーボンナノチューブの製造方法において、前記一酸化炭素と水素との混合気体は、一酸化炭素と水素とを1:1のモル比で含むことを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
- 請求項1記載のカーボンナノチューブの製造方法において、前記二酸化炭素及び二酸化炭素と反応したときに化学量論的に過不足無く水を生成することができる気体との混合気体は、二酸化炭素とメタンとの混合気体であることを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
- 請求項4記載のカーボンナノチューブの製造方法において、前記二酸化炭素とメタンとの混合気体は、二酸化炭素とメタンとを1:1のモル比で含むことを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
- 請求項1乃至請求項5のいずれか1項記載のカーボンナノチューブの製造方法において、前記基板は前記触媒材料層上に形成された保護層を備え、該触媒材料層は0.1〜1.0nmの厚さに相当する量を有し、該保護層は0.15〜1.0nmの厚さに相当する量を有することを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
- 請求項6記載のカーボンナノチューブの製造方法において、前記触媒材料層はFe又はCoを含み、前記保護層はAlを含むことを特徴とするカーボンナノチューブの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US41402510A | 2010-11-16 | 2010-11-16 | |
US61/414,025 | 2010-11-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2012106921A JP2012106921A (ja) | 2012-06-07 |
JP5572874B2 true JP5572874B2 (ja) | 2014-08-20 |
Family
ID=46492986
Family Applications (2)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011244020A Expired - Fee Related JP5572874B2 (ja) | 2010-11-16 | 2011-11-07 | カーボンナノチューブの製造方法 |
JP2011244021A Expired - Fee Related JP5555944B2 (ja) | 2010-11-16 | 2011-11-07 | カーボンナノチューブの製造方法 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2011244021A Expired - Fee Related JP5555944B2 (ja) | 2010-11-16 | 2011-11-07 | カーボンナノチューブの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (2) | JP5572874B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5312638B2 (ja) | 2011-06-17 | 2013-10-09 | キヤノン株式会社 | プロセスカートリッジ、電子写真画像形成装置、およびプロセスカートリッジの組立方法 |
JP6037287B2 (ja) * | 2013-10-09 | 2016-12-07 | 本田技研工業株式会社 | カーボンナノチューブの製造方法 |
JP7349111B1 (ja) | 2023-03-08 | 2023-09-22 | 株式会社アビット・テクノロジーズ | 還元反応装置、及び被処理化合物の還元体の製造方法 |
Family Cites Families (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3415038B2 (ja) * | 1998-03-25 | 2003-06-09 | 株式会社島津製作所 | カーボンの製造方法 |
JP4872154B2 (ja) * | 2000-12-28 | 2012-02-08 | 株式会社島津製作所 | 微細中空状炭素の製造方法 |
JP4852787B2 (ja) * | 2001-01-12 | 2012-01-11 | 三菱化学株式会社 | 炭素製造装置 |
JP3725063B2 (ja) * | 2001-09-25 | 2005-12-07 | 株式会社国際基盤材料研究所 | カーボンナノチューブの製造方法 |
JP3961440B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2007-08-22 | 三菱マテリアル株式会社 | カーボンナノチューブの製造方法 |
JP2006026532A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-02 | Electric Power Dev Co Ltd | 単層カーボンナノチューブ合成用触媒及びその調製方法並びにこの触媒を使用した単層カーボンナノチューブの製造方法 |
JP2006036593A (ja) * | 2004-07-27 | 2006-02-09 | Univ Waseda | 単層カーボンナノチューブの製造方法およびその製造装置 |
KR20060091521A (ko) * | 2005-02-15 | 2006-08-21 | 삼성에스디아이 주식회사 | 탄소나노튜브의 형성방법 및 이를 이용한 전계방출소자의제조방법 |
JP4853861B2 (ja) * | 2005-04-05 | 2012-01-11 | 国立大学法人京都工芸繊維大学 | カーボンナノ構造体の形成方法及び装置 |
JP5016791B2 (ja) * | 2005-05-31 | 2012-09-05 | 株式会社アルバック | グラファイトナノファイバーの製造方法 |
TWI429585B (zh) * | 2006-05-29 | 2014-03-11 | Ulvac Inc | Carbon nanotubes growth substrate, carbon nanotubes growth method, carbon nanotubes growth catalyst with particle size control method, and nano-carbon tube diameter control method |
JP5269352B2 (ja) * | 2007-06-08 | 2013-08-21 | 学校法人早稲田大学 | 単層カーボンナノチューブ製造方法、半導体配線構造の製造方法、フィールドエミッションディスプレイ用電子部品の製造方法及び探針製造方法 |
JP4799623B2 (ja) * | 2009-01-19 | 2011-10-26 | 株式会社東芝 | カーボンナノチューブ成長方法 |
EP2419553A4 (en) * | 2009-04-17 | 2014-03-12 | Seerstone Llc | PROCESS FOR PRODUCING SOLID CARBON BY REDUCING CARBON OXIDES |
JP5732636B2 (ja) * | 2009-08-31 | 2015-06-10 | 本田技研工業株式会社 | 配向カーボンナノチューブの製造方法 |
JP2012057206A (ja) * | 2010-09-08 | 2012-03-22 | Ulvac Japan Ltd | ガス分散用装置、真空処理装置、基板の処理方法及びカーボンナノチューブの形成方法 |
-
2011
- 2011-11-07 JP JP2011244020A patent/JP5572874B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2011-11-07 JP JP2011244021A patent/JP5555944B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
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JP2012106921A (ja) | 2012-06-07 |
JP2012106922A (ja) | 2012-06-07 |
JP5555944B2 (ja) | 2014-07-23 |
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