JP5567477B2 - リン酸オセルタミビルの製造方法及び中間体化合物 - Google Patents

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Description

本発明は、リン酸オセルタミビルの製造方法及び中間体化合物に関する。
インフルエンザは、インフルエンザウイルスにより引き起こされる急性感染症であり、毎年、世界的な流行を引き起こすことが知られている。インフルエンザウイルスは、ウイルス粒子表面に存在するタンパク質であるヘマグルチニンが、宿主細胞表面の糖タンパク質に結合して宿主細胞内に取り込まれることにより宿主細胞に感染し、宿主細胞内で増殖後、細胞外に分泌されて、新たな宿主細胞に感染する。
ここで、宿主細胞内で増殖したインフルエンザウイルスが、細胞外に分泌される際には、宿主細胞の細胞表面に存在する糖タンパク質と、ウイルス粒子表面に存在するヘマグルチニンとで複合体が形成された状態となる。ウイルス粒子が、宿主細胞から遊離して、他の宿主細胞に感染するためには、糖タンパク質とヘマグルチニンとの結合を切断する必要があり、この結合の切断は、ウイルス粒子表面に存在するノイラミニダーゼにより行われている。
リン酸オセルタミビルは、このノイラミニダーゼの活性を阻害することが知られており、インフルエンザの特効薬として用いられている。リン酸オセルタミビルは、従来、天然物質であるシキミ酸を出発物質とする半合成により合成されていたが（例えば、非特許文献１参照）、出発物質が天然物質であるため、安定した供給が困難になる場合があり、天然物質を用いない全合成による合成法の開発が望まれていた。
ここで、リン酸オセルタミビルを全合成により合成するための中間体として、特許文献１には、ディールズ・アルダー反応を利用して合成されるリン酸オセルタミビルの中間体が開示されている。また、非特許文献１には、天然から単離されるシキミ酸を出発物質とするリン酸オセルタミビルの合成方法が開示されている。非特許文献２には、オキサザボロリジンを不斉触媒として利用する非対称な不斉ディールズ・アルダー反応から始まるリン酸オセルタミビルの合成方法が開示されている。非特許文献３には、イットリウム触媒により触媒されるメソアジリジン環の不斉開環反応を利用したリン酸オセルタミビルの合成方法が開示されている。非特許文献４には、ピリジンから誘導されるジヒドロピリジン誘導体に対する非対称な不斉ディールズ・アルダー反応から始まるリン酸オセルタミビルの合成方法が開示されている。更に、非特許文献５には、パラジウムを触媒とするアリル位に対する不斉アルキル化から始まるリン酸オセルタミビルの合成方法が開示されている。
特開２００８−０８１４８９号公報
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１９，ｐ．６８１（１９９７） Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１２８，ｐ．６３１０（２００６） Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１２８，ｐ．６３１２（２００６） Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ．１１９，ｐ．５８３６（２００７）；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．ｖｏｌ．４６，ｐ．５７３４（２００７） Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｖｏｌ．１２０，ｐ．３８１９（２００８）；Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｔ．Ｅｄ．ｖｏｌ．４７，ｐ．３７５９（２００８）
しかしながら、特許文献１及び非特許文献２から５に記載の方法によりリン酸オセルタミビルを合成する場合、必要とされる反応の数が非常に多くなり、全体としての反応収率が低下するおそれがある。また、いずれの手法も不斉触媒を用いているが、高価な不斉触媒を用いる点、また、無水、不活性雰囲気下で反応を行わなければならない点において、実施上の問題があった。このため、リン酸オセルタミビルを工業的に大量生産する場合には、上記リン酸オセルタミビルの合成方法は利用できなかった。また、これらのリン酸オセルタミビルの合成方法においては、反応の触媒として、多くの金属元素を用いているため、結果として得られるリン酸オセルタミビル製剤を医薬品として安全に利用する上では問題があった。
本発明は、以上の課題に鑑みてなされたものであり、医薬品としての安全性が高いリン酸オセルタミビル製剤を製造可能であり、収率が高く大量合成に好適なリン酸オセルタミビルの製造方法、及びリン酸オセルタミビルの中間体化合物を提供することを目的とする。
本発明者らは、上記課題を解決するため、鋭意研究を行った。その結果、マイケル反応／マイケル反応／ホーナー・ワーズワース・エモンズ反応を利用して、リン酸オセルタミビルの基本骨格を有する中間体化合物を調製し、当該中間体化合物の置換基を変換することにより、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。具体的には、本発明は以下のものを提供する。
（１） 下記工程（１−１）〜工程（１−８）の何れか１つの工程、又は連続する２以上の工程を含むリン酸オセルタミビルの製造方法。
（１−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩ）で表される化合物とをマイケル反応に付し、得られた化合物と下記一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＶ）で表される化合物とをマイケル反応及びホーナー・ワーズワース・エモンズ反応に付すことにより、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）において、Ｒ１はカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、ヘテロアリーレン基、シクロアルキレン基、又はヘテロシクロアルキレン基を示す。］
（１−２）前記一般式（Ｖ）で表される化合物とチオール化合物とをマイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は前記と同様であり、Ｒ４は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
（１−３）前記一般式（ＶＩ）で表される化合物を還元し、逆マイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は前記と同様である。］
（１−４）前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物のアミノ基の保護及びカルボキシル基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ２は前記と同様であり、Ｒ５はアミノ基に保護基が結合した基を示す。］
（１−５）前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物のカルボキシル基をハロゲン化することにより、下記一般式（ＩＸ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＩＸ）において、Ｒ２，Ｒ５は前記と同様であり、Ｒ６はハロゲン原子を示す。］
（１−６）前記一般式（ＩＸ）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより、下記一般式（Ｘ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｘ）において、Ｒ２，Ｒ５は前記と同様である。］
（１−７）前記一般式（Ｘ）で表される化合物をクルティウス転移反応に付すことにより、下記一般式（ＸＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩ）において、Ｒ２，Ｒ５は前記と同様である。］
（１−８）前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の脱アセチル化及びアミノ基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＩ）において、Ｒ２は前記と同様である。］
（２） 下記工程（２−１）〜工程（２−９）の何れか１つの工程、又は連続する２以上の工程を含むリン酸オセルタミビルの製造方法。
（２−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩ）で表される化合物とをマイケル反応に付し、得られた化合物と下記一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＶ）で表される化合物とをマイケル反応及びホーナー・ワーズワース・エモンズ反応に付すことにより、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）において、Ｒ１はカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、ヘテロアリーレン基、シクロアルキレン基、又はヘテロシクロアルキレン基を示す。］
（２−２）前記一般式（Ｖ）で表される化合物とチオール化合物とをマイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は前記と同様であり、Ｒ４は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
（２−３）前記一般式（ＶＩ）で表される化合物のカルボキシル基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
（２−４）前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物のカルボキシル基をハロゲン化することにより、下記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＶ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様であり、Ｒ６はハロゲン原子を示す。］
（２−５）前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより、下記一般式（ＸＶ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
（２−６）前記一般式（ＸＶ）で表される化合物をクルティウス転移反応に付すことにより、下記一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
（２−７）前記一般式（ＸＶＩ）で表される化合物の脱アセチル化を行うことにより、下記一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
（２−８）前記一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を還元することにより、下記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶＩＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
（２−９）前記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を逆マイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を得る工程。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＩ）において、Ｒ２は前記と同様である。］
（３） 下記一般式（Ａ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ａ）において、Ｒ１０は−ＮＡｃ２、カルボキシル基、又はカルボキシル基に保護基が結合した基を示し、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１２はアミノ基に保護基が結合した基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、又はアルコキシアミノ基を示す。］
（４） 下記一般式（Ａ’）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ａ’）において、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１３は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
（５） 下記一般式（Ｂ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｂ）において、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１３は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示し、Ｒ１４はカルボキシル基、カルボキシル基に保護基が結合した基、ハロゲン化カルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ３、−ＮＣＯ、−ＮＡｃ２、又は−ＮＨＡｃを示す。］
（６） 下記一般式（Ｃ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｃ）において、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１５はカルボキシル基、又はカルボキシル基に保護基が結合した基を示す。］
（７） 下記一般式（Ｃ’）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｃ’）において、Ｒ１５はカルボキシル基、又はカルボキシル基に保護基が結合した基を示す。］
（８） 下記構造式（Ｄ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
Figure 0005567477
（９） Ｒ１１がエチル基である（３）から（６）の何れかに記載のリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
（１０） Ｒ１３がｐ−メチルフェニル基である（４）又は（５）に記載のリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
本発明のリン酸オセルタミビルの製造方法においては、触媒として多種類の金属元素を用いていないため、製造されるリン酸オセルタミビル製剤の安全性を十分に確保することができる。また、当該リン酸オセルタミビルの製造方法においては、初回の反応で、リン酸オセルタミビルの基本骨格を有する中間体化合物を調製し、後に当該中間体化合物の置換基を変換するため、少ない反応数でリン酸オセルタミビルを合成でき、全体としての収率も高く維持することができる。
以下、本発明の実施形態について詳細に説明する。
＜第一の態様のリン酸オセルタミビルの製造方法＞
以下、本発明における第一の態様のリン酸オセルタミビルの製造方法について説明する。なお、以下では下記工程（１−１）〜工程（１−８）について説明するが、必ずしも全ての工程を含む必要はない。言い換えれば、下記工程（１−１）〜工程（１−８）の少なくとも１つの工程を含む限り本発明の範囲内である。
まず工程（１−１）では、下記一般式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩ）で表される化合物とをマイケル反応に付し、得られた化合物と下記一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＶ）で表される化合物とをマイケル反応及びホーナー・ワーズワース・エモンズ反応に付すことにより、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）において、Ｒ１はカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、ヘテロアリーレン基、シクロアルキレン基、又はヘテロシクロアルキレン基を示す。］
上記一般式（ＩＩ），（Ｖ）において、Ｒ１であるカルボキシル基の保護基としては、メチルエステル基、エチルエステル基、ベンジルエステル基、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基等が挙げられる。
上記一般式（Ｉ）で表される化合物と上記一般式（ＩＩ）で表される化合物とをマイケル反応に付す場合、下記一般式（Ｅ）で表される触媒を用いることができる。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｅ）において、Ｒ２０及びＲ２１はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示し、Ｒ２２は水素原子、シリル基、又はアルキル基を示し、Ｒ２３は水酸基の保護基を示し、ｎは０又は１を示す。］
上記一般式（Ｅ）において、Ｒ２３である水酸基の保護基としては、アルキル基、アセチル基、シリル基等の通常用いられている保護基を用いることができる。また、ｎ＝１である場合、ＯＲ２３基の置換位置は、３位又は４位のいずれであってもよい。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アリール基」は、特に示さない限り、芳香族炭化水素基を示し、２以上の環が縮合していてもよい。アリール基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数５以上１４以下、より好ましくは炭素数６以上１０以下である。アリール基の例としては、フェニル基、インデニル基、ナフチル基、フェナントリル基、アントリル基等が挙げられる。
このアリール基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「ヘテロアリール基」は、特に示さない限り、上記アリール基の環上の１以上の炭素原子がヘテロ原子によって置換されている基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロアリール基の例としては、ピリジル基、ピラジニル基、ピリミジニル基、ピリダジニル基、ピロリル基、イミダゾリル基、ピラゾリル基、トリアゾリル基、トリアジニル基、テトラゾリル基、オキサゾリル基、インドリジニル基、インドリル基、イソインドリル基、インダゾリル基、プリニル基、キノリジニル基、イソキノリル基、キノリル基、フタラジニル基、ナフチリジニル基、キノキサリニル基、オキサジアゾリル基、チアゾリル基、チアジアゾリル基、ベンズイミダゾリル基、フリル基、チエニル基等が挙げられる。
このヘテロアリール基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アリール基の置換基として上述した基が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「シクロアルキル基」は、特に示さない限り、非芳香族の飽和環式炭化水素基を示す。シクロアルキル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数３以上１０以下、より好ましくは炭素数３以上６以下である。シクロアルキル基の例としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基等が挙げられる。
このシクロアルキル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「ヘテロシクロアルキル基」は、特に示さない限り、上記シクロアルキル基の環上の１以上の炭素原子がヘテロ原子によって置換されている基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロシクロアルキル基の例としては、テトラヒドロフリル基、モルホリニル基、ピペラジニル基、ピペリジル基、ピロリジニル基等が挙げられる。
このヘテロシクロアルキル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、シクロアルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「シクロアルケニル基」は、特に示さない限り、非芳香族の不飽和環式炭化水素基を示す。環上の不飽和結合は１つであってもよく、２以上であってもよい。シクロアルケニル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数３以上１０以下、より好ましくは炭素数３以上６以下である。シクロアルケニル基の例としては、シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロヘプテニル基等が挙げられる。
このシクロアルケニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、シクロアルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「ヘテロシクロアルケニル基」は、特に示さない限り、上記シクロアルケニル基の環上の１以上の炭素原子がヘテロ原子によって置換されている基を示す。ヘテロ原子としては、酸素原子、窒素原子、及び硫黄原子が挙げられる。ヘテロシクロアルケニル基の例としては、ジヒドロフリル基、イミダゾリル基、ピロリニル基、ピラゾリニル基等が挙げられる。
このヘテロシクロアルケニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、シクロアルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アルキル基」は、特に示さない限り、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルキル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数１以上２０以下、より好ましくは炭素数１以上６以下である。アルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ペンチル基等を挙げることができる。
このアルキル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、水酸基等が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アルケニル基」は、特に示さない限り、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルケニル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数２以上２０以下、より好ましくは炭素数２以上６以下である。アルケニル基の例としては、ビニル基、１−プロペニル基、アリル基、イソプロペニル、１−ブテニル基、イソブテニル基等が挙げられる。
このアルケニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。
本明細書において、単独で又は他の基の一部として用いられる「アルキニル基」は、特に示さない限り、直鎖状であっても分岐鎖状であってもよい。アルキニル基の炭素数に特に制限はないが、好ましくは炭素数２以上２０以下、より好ましくは炭素数２以上６以下である。アルキニル基の例としては、エチニル基、１−プロピニル基、２−プロピニル基、イソプロピニル基、１−ブチニル基、イソブチニル基等が挙げられる。
このアルキニル基は、無置換であっても、１以上の水素原子が置換基によって置換されていてもよい。置換基としては、アルキル基の置換基として上述した基が挙げられる。
本明細書において、「シリル基」は、Ｈ３Ｓｉ−で表される基、又はこの基の１以上の水素原子がアルキル基、アリール基等によって置換された基を示す。シリル基の例としては、トリメチルシリル（ＴＭＳ）基、トリエチルシリル（ＴＥＳ）基、ｔ−ブチルジメチルシリル（ＴＢＳ）基、トリイソプロピルシリル（ＴＩＰＳ）基、ｔ−ブチルジフェニルシリル（ＴＢＤＰＳ）基等が挙げられる。
次に工程（１−２）では、上記一般式（Ｖ）で表される化合物とチオール化合物とをマイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は上記と同様であり、Ｒ４は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
上記一般式（Ｖ）で表される化合物と反応させるチオール化合物としては、ｐ−トルエンチオール、ベンゼンチオール、ナフチルチオール、エタンチオール、ドデシルチオール等が挙げられる。
次に工程（１−３）では、上記一般式（ＶＩ）で表される化合物を還元し、逆マイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は上記と同様である。］
次に工程（１−４）では、上記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物のアミノ基の保護及びカルボキシル基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ２は上記と同様であり、Ｒ５はアミノ基に保護基が結合した基を示す。］
上記一般式（ＶＩＩＩ）において、アミノ基の保護基としては、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フタロイル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニル基等が挙げられる。
次に工程（１−５）では、上記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物のカルボキシル基をハロゲン化することにより、下記一般式（ＩＸ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＩＸ）において、Ｒ２，Ｒ５は上記と同様であり、Ｒ６はハロゲン原子を示す。］
次に工程（１−６）では、上記一般式（ＩＸ）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより、下記一般式（Ｘ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｘ）において、Ｒ２，Ｒ５は上記と同様である。］
上記一般式（ＩＸ）で表される化合物と反応させるアジ化物としては、アジ化ナトリウム、アジ化リチウム、トリメチルシリルアジド等が挙げられる。
次に工程（１−７）では、上記一般式（Ｘ）で表される化合物をクルティウス転移反応に付すことにより、下記一般式（ＸＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩ）において、Ｒ２，Ｒ５は上記と同様である。］
次に工程（１−８）では、上記一般式（ＸＩ）で表される化合物の脱アセチル化及びアミノ基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＩ）において、Ｒ２は上記と同様である。］
この第一の態様の製造方法においては、上記工程（１−１）をシングルポットで行うことができる。このため、工業的なスケールで実施する場合に、製造方法をより簡略なものとすることができる。また、当該反応においては、リン酸オセルタミビルの基本骨格を有する上記一般式（Ｖ）で表される化合物を合成することができるため、後の反応において、置換基の変換等を行うのみで、目的とするリン酸オセルタミビルを合成することができる。このため、リン酸オセルタミビルの製造方法全体としての反応の数を減少させることができる。
＜第二の態様のリン酸オセルタミビルの製造方法＞
以下、本発明における第二の態様のリン酸オセルタミビルの製造方法について説明する。なお、以下では下記工程（２−１）〜工程（２−９）について説明するが、必ずしも全ての工程を含む必要はない。言い換えれば、下記工程（２−１）〜工程（２−９）の少なくとも１つの工程を含む限り本発明の範囲内である。
まず工程（２−１），工程（２−２）では、上記工程（１−１），工程（１−２）と同様にして上記一般式（ＶＩ）で表される化合物を得る。
次に工程（２−３）では、上記一般式（ＶＩ）で表される化合物のカルボキシル基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は上記と同様である。］
次に工程（２−４）では、上記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物のカルボキシル基をハロゲン化することにより、下記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＩＶ）において、Ｒ２，Ｒ４は上記と同様であり、Ｒ６はハロゲン原子を示す。］
次に工程（２−５）では、上記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより、下記一般式（ＸＶ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶ）において、Ｒ２，Ｒ４は上記と同様である。］
上記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物と反応させるアジ化物としては、アジ化ナトリウム、アジ化リチウム、トリメチルシリルアジド等が挙げられる。
次に工程（２−６）では、上記一般式（ＸＶ）で表される化合物をクルティウス転移反応に付すことにより、下記一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は上記と同様である。］
次に工程（２−７）では、上記一般式（ＸＶＩ）で表される化合物の脱アセチル化を行うことにより、下記一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は上記と同様である。］
次に工程（２−８）では、上記一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を還元することにより、下記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を得る。
Figure 0005567477
 ［一般式（ＸＶＩＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は上記と同様である。］
次に工程（２−９）では、上記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を逆マイケル反応に付すことにより、上記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を得る。
この第二の態様の製造方法においては、工程（２−１）〜工程（２−２）、工程（２−３）〜工程（２−５）、工程（２−６）〜工程（２−９）を、それぞれシングルポットで行うことができる。このため、工業的なスケールで実施する場合に、製造方法をより簡略なものとすることができ、全体としての収率を向上させることもできる。
＜リン酸オセルタミビルの中間体化合物＞
本発明のリン酸オセルタミビルの中間体化合物としては、以下の一般式（Ａ）から（Ｃ）、（Ａ’）、及び（Ｃ’）、並びに化学式（Ｄ）に示す化合物を挙げることができる。
Figure 0005567477
［一般式（Ａ）において、Ｒ１０は−ＮＡｃ２、カルボキシル基、又はカルボキシル基に保護基が結合した基を示し、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１２はアミノ基に保護基が結合した基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、又はアルコキシアミノ基を示す。］
Figure 0005567477
 ［一般式（Ａ’）において、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１３は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｂ）において、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１３は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示し、Ｒ１４はカルボキシル基、カルボキシル基に保護基が結合した基、ハロゲン化カルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ３、−ＮＣＯ、−ＮＡｃ２、又は−ＮＨＡｃを示す。］
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｃ）において、Ｒ１１は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ１５はカルボキシル基、又はカルボキシル基に保護基が結合した基を示す。］
Figure 0005567477
 ［一般式（Ｃ’）において、Ｒ１５はカルボキシル基、又はカルボキシル基に保護基が結合した基を示す。］
Figure 0005567477
ここで、一般式（Ａ）で表される化合物において、Ｒ１０が−ＮＡｃ２又はカルボキシル基のときには、Ｒ１２はアミノ基に保護基が結合した基であり、Ｒ１０がカルボキシル基に保護基が結合した基のときには、Ｒ１２はアミノ基、ヒドロキシアミノ基、又はアルコキシアミノ基である。また、アミノ基の保護基としては、特に限定されるものではないが、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フタロイル基、ｐ−トルエンスルホニル基、ｐ−ニトロベンゼンスルホニル基等を挙げることができる。カルボキシル基の保護基としては、メチルエステル基、エチルエステル基、ベンジルエステル基、ｔｅｒｔ−ブチルエステル基等を挙げることができる。また、一般式（Ａ）において、Ｒ１１であるアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基を挙げることができる。また、Ｒ１１であるアリール基は置換基を有していてもよく、具体的には、ナフチル基、トリル基、及びキシリル基等を挙げることができる。これらの中でも、エチル基が好ましい。
具体的な化合物を列挙すれば、一般式（Ａ）で表される化合物としては、以下の化合物（Ａ−１）から（Ａ−５）を挙げることができる。
Figure 0005567477
 ［一般式（Ａ−５）において、Ｒ’’は一価の有機基である。］
一般式（Ａ’）において、Ｒ１１であるアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基を挙げることができる。また、Ｒ１１であるアリール基は置換基を有していてもよく、具体的には、ナフチル基、トリル基、及びキシリル基等を挙げることができる。これらの中でも、エチル基が好ましい。また、Ｒ１３としては特に限定されず、ｐ−メチルフェニル基、フェニル基、ナフチル基、エチル基、ドデシル基等を挙げることができるが、ｐ−メチルフェニル基であることが好ましい。
具体的な化合物を列挙すれば、一般式（Ａ’）で表される化合物としては、以下の化合物（Ａ’−１）を挙げることができる。
Figure 0005567477
一般式（Ｂ）で表される化合物において、カルボキシル基の保護基としては、上記と同様である。また、一般式（Ｂ）において、Ｒ１１であるアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基を挙げることができる。また、Ｒ１１であるアリール基は置換基を有していてもよく、具体的には、ナフチル基、トリル基、及びキシリル基等を挙げることができる。これらの中でも、エチル基が好ましい。また、Ｒ１３としては特に限定されず、ｐ−メチルフェニル基、フェニル基、ナフチル基、エチル基、及びドデシル基等を挙げることができるが、ｐ−メチルフェニル基であることが好ましい。
具体的な化合物を列挙すれば、一般式（Ｂ）で表される化合物としては、以下の化合物（Ｂ−１）から（Ｂ−７）を挙げることができる。
Figure 0005567477
Figure 0005567477
また、一般式（Ｃ）で表される化合物において、カルボキシル基の保護基としては、上記と同様である。また、一般式（Ｃ）において、Ｒ１１であるアルキル基は直鎖状でも分岐鎖状でもよく、置換基を有していてもよい。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、及びｔｅｒｔ−ブチル基を挙げることができる。また、Ｒ１１であるアリール基は置換基を有していてもよく、具体的には、ナフチル基、トリル基、キシリル基等を挙げることができる。これらの中でも、エチル基が好ましい。
具体的な化合物を列挙すれば、一般式（Ｃ）で表される化合物としては、以下の化合物（Ｃ−１）及び（Ｃ−２）を挙げることができる。
Figure 0005567477
更に、一般式（Ｃ’）で表される化合物において、カルボキシル基の保護基としては、上記と同様である。
具体的な化合物を列挙すれば、一般式（Ｃ’）で表される化合物としては、以下の化合物（Ｃ’−１）及び（Ｃ’−２）を挙げることができる。
Figure 0005567477
以下、本発明について、実施例を挙げて詳細に説明する。なお、本発明は、以下に示す実施例に何ら限定されるものではない。
＜リン酸オセルタミビルの全合成１＞
下記の合成スキームに従って、リン酸オセルタミビルの全合成を行った。以下の反応例に示す化合物の番号は、この合成スキーム中の化合物の番号に基づくものである。
Figure 0005567477
＜反応例１；３−（アリロキシ）ペンタン（化合物Ｓ１）の調製＞
０℃、アルゴン雰囲気下において、３−ペンタノール（４ｇ、４５．５ｍｍｏｌ）のテトラヒドロフラン（２０ｍＬ）溶液に、ＮａＨ（６０％ ｉｎ ｏｉｌ、２．７６ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を０℃で１０分間撹拌した後、臭化アリル（８．２ｇ、６８．３ｍｍｏｌ）とヨウ化テトラブチルアンモニウム（６０ｍｇ、０．０１６ｍｍｏｌ）を加えた。この混合液を、２３℃で１６時間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。有機層をトリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させて、減圧下で濃縮した。大気圧下で蒸留を行い、３−（アリロキシ）ペンタン（化合物Ｓ１、４．８ｇ、収率８２％、沸点１１５℃〜１２０℃）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ， ＣＤＣｌ３）δ ５．９３（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．２，１０．４，８．０Ｈｚ，１Ｈ），５．２６（ｄｄ，Ｊ＝１７．２，１．６Ｈｚ，１Ｈ），５．１３（ｄｄ，Ｊ＝１０．４，１．２Ｈｚ，１Ｈ），３．９８（ｄｄ，Ｊ＝８．０，１．２Ｈｚ，２Ｈ），３．１７（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），１．５１（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）．
＜反応例２；２−（３−ペンチルオキシ）アセトアルデヒド（化合物２）の調製１＞
テトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）と水（２０ｍＬ）との混合溶媒中に化合物Ｓ１（２ｇ、１５．６ｍｍｏｌ）、四酸化オスミウム（０．０２Ｍ ｔ−ブタノール溶液、１５．６ｍＬ、０．３１ｍｍｏｌ）、及び２，６−ルチジン（３．６４ｍＬ、３１．２ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下において、過ヨウ素酸ナトリウム（１３．４ｇ、６２．４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を４０℃で２時間撹拌し、２３℃で飽和チオ硫酸ナトリム水溶液を添加して反応を停止させた。有機層をジエチルエーテルで抽出し、飽和硫酸銅水溶液及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させて、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：１０％酢酸エチル−ヘキサン）により２−（３−ペンチルオキシ）アセトアルデヒド（化合物２、８９０ｍｇ、収率４４％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ９．７６（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，２Ｈ），３．３０（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），１．５５（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．９３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２０２．０，８３．４，７４．５，２５．６，９．４；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ １７３６，１４６２，１３８２，９５３ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ７Ｈ１４ＮａＯ２］＋：１５３．０８８６，ｆｏｕｎｄ：１５３．０８８７．
＜反応例３；２−ヒドロキシ−ニトロプロピオン酸ｔｅｒｔ−ブチル（化合物Ｓ２）の調製＞
テトラヒドロフラン（３００ｍＬ）と水（１００ｍＬ）の混合溶媒に、アクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（５ｇ、３９．１ｍｍｏｌ）、四酸化オスミウム（０．０２Ｍ ｔ−ブタノール溶液、３９ｍＬ、０．７８ｍｍｏｌ）、及び２，６−ルチジン（９．１７ｍＬ、７８．２ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下において、過ヨウ素酸ナトリム（３３．３ｇ、１５６．４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液は４０℃で５時間撹拌し、２３℃で飽和チオ硫酸ナトリム水溶液を添加して反応を停止させた。有機層はトリクロロメタンで抽出し、飽和硫酸銅水溶液及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させて、減圧下で濃縮した。粗生成物をそのまま、次の反応に用いた。
２３℃、アルゴン雰囲気下において、上記粗生成物のニトロメタン（１７ｍＬ）溶液に酸化アルミニウム（７．８ｇ、アルミナ）を添加した。この懸濁液を１８時間撹拌し、酸化アルミニウムを濾過により除去した。溶媒を除去した後、フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：３０％酢酸エチル−ヘキサン）により２−ヒドロキシ−３−ニトロプロピオン酸ｔｅｒｔブチル（化合物Ｓ２、５．３６ｇ、収率７２％（２工程））を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ４．７１（ｄｄ，Ｊ＝４．４，１．２Ｈｚ，２Ｈ），４．４９（ｑ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），３．１３（ｄ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），１．５３（ｓ，９Ｈ）；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６９．７，８４．６，７６．７，６７．６，２７．８；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ３３７１，２９８６，２９２４，１７３０，１５６０，１４６０，１４２１，１２１４，１１５７，１１２４，１０３３，９１１，８７１，８４２ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ７Ｈ１３ＮＮａＯ５］＋：２１４．０６８２，ｆｏｕｎｄ：２１４．０６８６．
＜反応例４；（Ｅ）−３−ニトロアクリル酸ｔｅｒｔ−ブチル（化合物３）の調製＞
化合物Ｓ２（１．３６ｇ、７．１ｍｍｏｌ）と、トリエチルアミン（１．５ｍＬ、２１．３ｍｍｏｌ）とのジクロロメタン（８ｍＬ）溶液に、−２０℃、アルゴン雰囲気下において、メタンスルフォニルクロリド（１．６ｍＬ、２１．３ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を−２０℃で１時間撹拌し、水を添加して反応を停止させた。有機層はジエチルエーテルで抽出し、飽和硫酸銅水溶液及び飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させて、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：５％酢酸エチル−ヘキサン）により（Ｅ）−３−ニトロアクリル酸ｔｅｒｔブチル（化合物３、９３３ｍｇ、収率７６％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．５８（ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ，１Ｈ），７．００（ｄ，Ｊ＝１７．６Ｈｚ，１Ｈ），１．５２（ｓ，９Ｈ）．
＜反応例５；（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ ｏｒ Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物６）の調製１＞
化合物２（２２２．６ｍｇ，１．７１ｍｍｏｌ）、化合物３（２００ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ）、及び（Ｒ）−ジフェニルプロリノールトリメチルシリルエーテル（化合物４、８４．８ｍｇ、０．２３ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に、−２０℃、アルゴン雰囲気下において、安息香酸（５６．８ｍｇ、０．４６ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液は−２０℃で３６時間混合し、温度を維持したまま、エチル−２−（ジエトキシホスホリル）−アクリレート（化合物５、３９９．８ｍｇ、１６．９ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（１．８８ｇ、５．７８ｍｍｏｌ）を添加した。この懸濁液を０℃で更に１時間撹拌した後、反応溶液にエタノール（４ｍＬ）を添加した。この反応溶液を２３℃で更に３０分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液で反応を停止させた。
有機層をトリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させて、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィーにより（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ ｏｒ Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物６、３０５．２ｍｇ、化合物３を基準として収率６９％、Ｃ−５についてのジアステレオマー混合物（５Ｓ：５Ｒ＝１：４））及び（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物Ｓ３、３１．２ｍｇ、７％）を得た。化合物６のジアステレオマー混合物を次工程の反応に用いた。
Figure 0005567477
全ての分光学的データはシリカゲル（Ｗａｋｏｇｅｌ Ｂ−５Ｆ（商品名）、和光純薬工業社製）上で、酸により、４０分間穏やかに異性化した後に行った。最終的なジアステレオマーの存在比は、５Ｓ：５Ｒ＝１．２９：１であった。
Ｆｏｒ ｍａｊｏｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ ｏｆ ６（５Ｓ）：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ６．８５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．７５−４．９０（ｍ，１Ｈ），４．３９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．７１（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．３２（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），３．００−３．１２（ｍ，１Ｈ），２．８０（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝１６．８，１０．８Ｈｚ，１Ｈ），１．４５−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７８−０．９８（ｍ，６Ｈ）．
Ｆｏｒ ｍａｊｏｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ ｏｆ ６（５Ｒ）：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ６．８９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．７５−４．９０（ｍ，１Ｈ），４．５１（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．１２−４．２５（ｍ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．９２−３．２０（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．３９（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７８−０．９８（ｍ，６Ｈ）．
Ａｓ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ ｍｉｘｔｕｒｅ ｏｆ ６；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １７０．０，１６７．５，１６５．５，１６５．１，１３７．６，１３５．０，１２９．５，１２７．２，８３．０，８２．６，８２．２，８１．８，８１．４，７８．０，７３．１，７０．８，６１．２，６１．１，５０．３，４７．６，２８．７，２７．８（４Ｃ），２７．７（２Ｃ），２６．４，２６．３，２５．８，２５．７，２５．４，１４．１（２Ｃ），９．９，９．５，９．３，９．２；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ２９７５，２９３７，２８７８，１７２１，１６６０，１５５７，１４６１，１３６９，１３０２，１２５３，１１５８，１０９８，１０５９，１０２１ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ１９Ｈ３１ＮＮａＯ７］＋：４０８．１９９３，ｆｏｕｎｄ：４０８．１９８３．
Ｆｏｒ ｃｏｍｐｏｕｎｄ Ｓ３（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ６．８４（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．７２（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．４，６．０，４．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３５−４．４０（ｍ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３（ｄｄ，Ｊ＝６．４，４．０Ｈｚ，１Ｈ），３．４４（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．２７（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．６，１０．４，２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．９８（ｄｄ，Ｊ＝１７．６，６．４Ｈｚ，１Ｈ），１．４８−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ），１．３０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １６６．７，１６５．４，１３７．７，１２７．９，８１．９，８０．２，７２．６，６１．０，４６．３，２７．８（３Ｃ），２６．５，２５．７（２Ｃ），２５．３，１４．２，９．２，９．１；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ２９６８，２９３７，２８７９，１７２９，１６５４，１５５４，１４６２，１３６９，１２５８，１２４１，１１５１，１０９６，１０６２，７３６ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ１９Ｈ３１ＮＮａＯ７］＋：４０８．１９９３，ｆｏｕｎｄ：４０８．２００６；
［α］２３ Ｄ＋２２．７（ｃ １．４０，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例６；エナンチオ過剰率を決定するための（２Ｒ，３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル−２−（ニトロメチル）−４−オキソ−３−（３−ペンチルオキシ）ブタノエート（化合物１１）の調製＞
化合物２（５６．４ｍｇ、０．４３ｍｍｏｌ）、化合物３（５０ｍｇ、０．２９ｍｍｏｌ）、及び（Ｒ）−ジフェニルプロリノールトリメチルシリルエーテル（化合物４、１８．８ｍｇ、０．５８ｍｍｏｌ）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に、−２０℃、アルゴン雰囲気下において安息香酸（１４．１ｍｇ、０．１２ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を−２０℃で３６時間撹拌し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応を停止させた。有機層をトリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：５％酢酸エチル−ヘキサンから２０％酢酸エチル−ヘキサン）により、（２Ｒ，３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル−２−（ニトロメチル）−４−オキソ−３−（３−ペンチルオキシ）ブタノエート（化合物１１、８７．８ｍｇ、定量的収率、Ｃ−２についてのジアステレオマー混合物（ｓｙｎ：ａｎｔｉ＝５：１、ｓｙｎ異性体のエナンチオ過剰率：９５％ｅｅ、ａｎｔｉ異性体のエナンチオ過剰率９６％ｅｅ））を得た。
Figure 0005567477
なお、ＨＰＬＣ分析に先立って、化合物１１は、ベンゼン中で１．５当量の（トリフェニルホスホラニリデン）酢酸エチルを添加することにより、（４Ｒ，５Ｒ，Ｅ）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−（ニトロメチル）−４−（３−ペンチルオキシ）ヘキサ−２−エンジオエート（化合物Ｓ４）に変換され（２３℃、１４時間、ジアステレオマー混合物に換算して収率９７％）、エナンチオ過剰率をＣｈｉｒａｌｐａｋ ＩＣ Ｃｏｌｕｍｎ（商品名、ＤＩＣＥＬ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、移動相 １：２００＝２−プロパノール：ヘキサン）による１ｍＬ／ｍｉｎでのＨＰＬＣで決定した。ｓｙｎ−ｍａｊｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝６２．２ｍｉｎ，ｓｙｎ−ｍｉｎｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝４１．９ｍｉｎ，ａｎｔｉ−ｍａｊｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝８５．０ｍｉｎ，ａｎｔｉ−ｍｉｎｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝４６．９ｍｉｎ
Figure 0005567477
Ｆｏｒ ｍａｊｏｒ ｓｙｎ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ（１１）：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ９．７２（ｓ，１Ｈ），４．８３（ｄｄ，Ｊ＝１４．４，８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝１４．０，６．０Ｈｚ，１Ｈ），３．９８（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，６．０，３．０Ｈｚ，１Ｈ），３．１９（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），１．４５−１．６２（ｍ，４Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ），０．９４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ２０１．７，１６７．０，８３．５，８３．３，７９．５，７２．２，４６．５，２７．８（３Ｃ），２６．０，２５．１，９．２（２Ｃ）；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ２９７２，２９３７，２８７９，１７３５，１５６０，１４６０，１４２４，１３７０，１２５３，１２１０，１１５７，１１０５，８４３ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ１４Ｈ２５ＮＮａＯ６］＋：３２６．１５７４，ｆｏｕｎｄ：３２６．１５７５．
＜反応例７；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン１，４−ジカルボキシラート（化合物７）の調製１＞
化合物６（１８ｍｇ、０．０４６８ｍｍｏｌ、Ｃ−５についてのジアステレオマー混合物（５Ｓ：５Ｒ＝１：４））及びトリエチルアミン（１９．６ｍＬ、０．１４ｍｍｏｌ）のエタノール（１ｍＬ）溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下でトルエンチオール（２９ｍｇ、０．２３４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液は２３℃で１２時間撹拌し、減圧下で溶媒を除去した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：５％酢酸エチル−ヘキサンから１０％酢酸エチル−ヘキサン）により、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン１，４−ジカルボキシラート（化合物７、１７．０ｍｇ、収率７１％）と、他のエナンチオマー混合物Ｓ５（６．８ｍｇ、収率２１％）が得られた。
Figure 0005567477
Ｆｏｒ ｃｏｍｐｏｕｎｄ ７；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．３８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．５９（ｄｔ，Ｊ＝４．４，１２．４Ｈｚ，１Ｈ），４．００−４．１２（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．９０（ｍ，２Ｈ），３．２７（ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１Ｈ），３．２１（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），２．７３（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．５５（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．６Ｈｚ，１Ｈ），２．３９（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），１．４５（ｓ，９Ｈ），１．２０−１．５０（ｍ，４Ｈ），１．１６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １７０．７，１７０．０，１３７．４，１３２．７（２Ｃ），１３１．２，１２９．５（２Ｃ），８３．８，８２．３，７９．０，７５．７，６１．４，５２１，４９．７，４３．３，２７．９（３Ｃ），２６．９，２４．９，２３．４，２１．０，１４．０，８．７，８．６；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ２９７７，２９３３，２８７８，１７３１，１５５３，１４９２，１４６０，１３６８，１２９２，１２５３，１１９８，１１５７，１１３６，１０９７，１０３０，９５５，８１１ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ２６Ｈ３９ＮＮａＯ７Ｓ］＋：５３２．２３３９，ｆｏｕｎｄ：５３２．２３１９；［α］２０ Ｄ−１８．２（ｃ １．０９，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例８；（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ， ｏｒ Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物６）の調製２＞
化合物Ｓ５（８ｍｇ、０．０１５７ｍｍｏｌ、ジアステレオマー混合物）のジクロロメタン（０．５ｍＬ）溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で、ｍ−クロロ過安息香酸（５．３ｍｇ、０．０２４６ｍｍｏｌ、純度７７％）を加えた。反応溶液を２３℃で１０分撹拌し、ｐＨ７．０リン酸緩衝液を加えて反応を停止させた。有機層を酢酸エチルで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを添加して乾燥させて減圧下で濃縮した。１３ｍｇの粗成生物が得られた。
上記１３ｍｇの粗成生物のエタノール（１ｍＬ）溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で炭酸セシウム（５０ｍｇ、０．１５４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液は２３℃で２０分間撹拌し、過剰量の水を添加して反応を停止させた。有機層をトリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを添加して乾燥させて、減圧下で濃縮した。分取薄層クロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：１０％酢酸エチル−ヘキサン）により、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ， ｏｒ Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物６、４．２ｍｇ、収率７０％（２工程）、Ｃ−５についてのジアステレオマー混合物（５Ｓ：５Ｒ＝１：２．５））が得られた。
Figure 0005567477
＜反応例９；（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−アミノ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物８）の調製＞
テトラヒドロフラン（０．５ｍＬ）と飽和塩化アンモニウム溶液（０．５ｍＬ）の混合溶液に、化合物７（１９ｍｇ、０．０３７３ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で、活性化亜鉛粉末（１ｇ、使用前に１Ｎ塩酸、水、エタノール、及びジエチルエーテルで洗浄）を添加した。反応溶液は５０℃で１時間撹拌し、９０℃で更に３６時間撹拌して、亜鉛粉末を濾過した。濾液に２８％の水酸化アンモニウム水溶液を添加した。有機層を１０％メタノール／トリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥して、減圧下で濃縮、粗生成物１８ｍｇを得た。
上記１８ｍｇの粗生成物のエタノール（１ｍＬ）溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で炭酸セシウム（５０ｍｇ、０．１５４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を２３℃で１０分間撹拌し、過剰量の水を添加することにより反応を停止させた。有機層を１０％メタノール／トリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを添加して乾燥させて、減圧下で濃縮した。ペンシルカラム（固定相：ＳｉＯ２、移動相：１０％酢酸エチル−ヘキサンから１００％酢酸エチル）により、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−アミノ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物８、１２．８ｍｇ、収率９７％（２工程））が得られた。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ６．８３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．３２−４．３８（ｍ，１Ｈ），４．１７（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．０３（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．１５（ｄｔ，Ｊ＝５．６，１０．８Ｈｚ，１Ｈ），２．６７（ｄｄ，Ｊ＝１７．６，５．６Ｈｚ，１Ｈ），２．３３（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，９．２Ｈｚ，１Ｈ），２．０１（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．６，５．６，３．２Ｈｚ，１Ｈ），１．４０−１．５５（ｍ，４Ｈ），１．５０（ｓ，９Ｈ），１．２６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），−ＮＨ２ ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １７３．１，１６６．４，１３８．０，１２９．３，８１．４，８１．０，７４．４，６０．８，５６．５，４９．３，３４．０，２８．２（３Ｃ），２５．９，２５．６，１４．２，９．５，９．４；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ３４４５，２９７９，２９３５，２８７７，１７１６，１６５２，１４５８，１３９２，１３６７，１２４７，１２０２，１１５４，１０５９ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ１９Ｈ３３ＮＮａＯ５］＋：３７８．２２５１，ｆｏｕｎｄ：３２８．２２５９；［α］２０ Ｄ−２８．４（ｃ ０．５５，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例１０；（１Ｒ，２Ｒ，６Ｓ）−６−（１，３−ジオキソイソインドリン−２−イル）−４−（エトキシカルボニル）−２−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−３−エンカルボン酸（化合物９）の調製＞
化合物８（１１ｍｇ、０．０３１ｍｍｏｌ）及びトリエチルアミン（４３．２μＬ、０．３１ｍｍｏｌ）のトルエン（０．５ｍＬ）溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で、無水フタル酸（９．２ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を１１０℃で２６時間撹拌し、溶媒と過剰のトリエチルアミンとを減圧下で除去した。これに、溶媒として０．５ｍＬのジクロロメタンを加えた後、２３℃、アルゴン雰囲気下でトリフルオロ酢酸（０．５ｍＬ）を添加した。この反応溶液を２３℃で更に１２時間撹拌し、溶媒を減圧下で除去した。分取薄層クロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：５０％酢酸エチル−ヘキサン）により（１Ｒ，２Ｒ，６Ｓ）−６−（１，３−ジオキソイソインドリン−２−イル）−４−（エトキシカルボニル）−２−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−３−エンカルボン酸（化合物９、１１．９ｍｇ、９０％）が得られた。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８３（ｄｄ，Ｊ＝５．６，３．２Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｄｄ，Ｊ＝５．６，３．２Ｈｚ，２Ｈ），６．８８（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．６０（ｄｔ，Ｊ＝５．６，１１．２Ｈｚ，１Ｈ），４．４５−４．５４（ｍ，１Ｈ），４．１９（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．５９（ｄｄ，Ｊ＝１２．４，９．６Ｈｚ，１Ｈ），３．３３（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．０４（ｄｄｔ，Ｊ＝１４．４，１１．２，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．５８（ｄｄ，Ｊ＝１４．４，５．６Ｈｚ，１Ｈ），１．５１（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），１．３５（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，２Ｈ），１．２６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），−ＣＯ２Ｈ ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １７６．２，１６７．５（２Ｃ），１６５．７，１３７．７（２Ｃ），１３４．２（２Ｃ），１３１．６，１２９．０，１２３．５（２Ｃ），８１．７，７４．５，６１．０，４８．５，４７．１，２８．０，２６．３，２５．２，１４．２，９．６，９，０；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ３２１４，２９６７，２９３５，２８７７，１７７６，１７１８，１４６８，１３７４，１３３５，１２６２，１１９２，１１１０，１０５６，１０１３，９７８，９４２，８７６，７９５，７２０ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ２３Ｈ２７ＮＮａＯ７］＋：４５２．１６８０，ｆｏｕｎｄ：４５２．１６６６；［α］２３ Ｄ−３３．７（ｃ １．３３，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例１１；（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−エチル−４−（Ｎ−アセチルアセトアミド）−５−（１，３−ジオキソイソインドリン−２−イル）−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エンカルボキシラート（化合物１０）の調製＞
化合物９（１４ｍｇ、０．０３３ｍｍｏｌ）及び触媒量のジメチルホルムアミド（１滴）のジクロロメタン（２ｍＬ）溶液に、０℃、アルゴン雰囲気下でシュウ酸クロリド（２７．８μＬ、０．３３ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液は２３℃で１時間撹拌し、溶媒を減圧下で除去した。これに溶媒として１ｍＬのアセトンを加え、０℃で飽和アジ化ナトリウム水溶液（０．３ｍＬ）を加えた。温度を維持したまま、反応溶液を２０分間撹拌し、過剰量の水（１０ｍＬ）を加えて反応を停止させた。有機層をトリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを添加して乾燥させて、減圧下で濃縮、粗生成物を得た。
上記粗生成物を無水酢酸（２ｍＬ）に溶解し、９０℃で３６時間撹拌して、減圧下で溶媒を除去した。分取クロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：酢酸エチル−ヘキサン）により（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ）−エチル−４−（Ｎ−アセチルアセトアミド）−５−（１，３−ジオキソイソインドリン−２−イル）−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エンカルボキシラート（化合物１０、１１．７ｍｇ、収率７４％、９４％ｅｅ（２工程））を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．８１（ｄｄ，Ｊ＝５．６，３．２Ｈｚ，２Ｈ），７．７１（ｄｄ，Ｊ＝５．６，３．２Ｈｚ，２Ｈ），６．８９（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．３５（ｄｔ，Ｊ＝５．６，１１．２Ｈｚ，１Ｈ），４．９６（ｂｒ ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．７１（ｄｄ，Ｊ＝１１．６，９．７Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．３３（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），２．９８（ｄｄｔ，Ｊ＝１４．４，１１．２，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．７０（ｄｄ，Ｊ＝１７．２，５．２Ｈｚ，１Ｈ），２．４７（ｓ，３Ｈ），２．１８（ｓ，３Ｈ），１．３２−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．９２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １７５．９，１７５．０，１６５．８，１３８．１（２Ｃ），１３４．３（２Ｃ），１３１．４，１２８．９，１２３．５（２Ｃ），８１．０，７３．１，６１．０，６０．３，４５．９，２９．７，２７．６，２５．９，２４．８，２４．６，１４．２，９．５，８．８（ｃａｒｂｏｎｙｌ ｇｒｏｕｐ ｏｎ ｐｈｔａｌｉｍｉｄｅ ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ）；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ２９６７，２９３４，１７７７，１７１６，１４６７，１３７６，１２５３，１２２１，１１８９，１１０７，１０５６，９８６，７２２ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ２６Ｈ３２Ｎ２ＮａＯ７］＋：５０７．２１０２，ｆｏｕｎｄ：５０７．２０８８；
［α］２３ Ｄ−４７．９（ｃ １．４７，ＣＨＣｌ３）．
化合物１０のエナンチオ過剰率は、Ｃｈｉｒａｌｐａｋ ＩＣ Ｃｏｌｕｍｎ（商品名、ＤＩＣＥＬ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、移動相 １：２０＝２−プロパノール：ヘキサン）による１ｍＬ／ｍｉｎでのＨＰＬＣで決定した。ｍａｊｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝４１．２ｍｉｎ、ｍｉｎｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝２９．７ｍｉｎ．
＜反応例１２；（−）−オセルタミビル（化合物１）の調製＞
化合物１０（３０ｍｇ、０．０６２ｍｍｏｌ）のエタノール（０．５ｍＬ）溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下において、ヒドラジン１水和物（１５μＬ、０．３１ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を５０℃で１４時間撹拌し、１Ｎ塩酸（３ｍＬ）を加えて反応を停止させた。水層を酢酸エチルで洗浄し、２８％水酸化アンモニウム水溶液でｐＨを１１に調整した。有機層は１０％メタノール／トリクロロメタンで抽出し、飽和食塩水で洗浄した後、硫酸マグネシウムを加えて乾燥させて、減圧下で濃縮、（−）−オセルタミビル（化合物１、１８．５ｍｇ、９６％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ６．７８（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．６２（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．１５−４．２０（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．３４（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．２４（ｄｔ，Ｊ＝５．２，１０．０Ｈｚ，１Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ＝１７．６，５．２Ｈｚ，１Ｈ），２．１５（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．６，１０．０，２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．４０−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．２９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），−ＮＨ２ ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ；
１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ １７０．９，１６６．３，１３７．５，１２９．６，８１．７，７４．８，６０．８，５９．０，４９．２，３３．６，２６．３，２５．８，２３．７，１４．２，９．５，９．３；
ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ ３２７６，３０７７，２９６５，２９３６，２８７７，１７１５，１６５５，１５５８，１４６４，１３７４，１３０３，１２４４，１１９５，１１２７，１０６４，１０３１，９４４，８６１，７７８，７３６ｃｍ−１；
ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ［Ｃ１６Ｈ２８Ｎ２ＮａＯ４］＋：３３５．１９４１，ｆｏｕｎｄ：３３５．１９３４；［α］２３ Ｄ−５４．９（ｃ ０．６８，ＣＨＣｌ３）．
＜リン酸オセルタミビルの全合成２＞
下記の合成スキームに従って、リン酸オセルタミビルの全合成を行った。以下の反応例に示す化合物の番号は、この合成スキーム中の化合物の番号に基づくものである。なお、リン酸オセルタミビルの全合成１と同一の反応については、その記載を省略することがある。
Figure 0005567477
＜反応例１３；２−（３−ペンタニロキシ）アセトアルデヒド（化合物２）の調製２＞
２３℃、アルゴン雰囲気下、テトラヒドロフラン（１７０ｍＬ）及び水（１７５ｍＬ）に、化合物Ｓ１（２．７６ｇ、２１．５ｍｍｏｌ）と四酸化オスミウム（０．０２Ｍ ｔ−ブタノール溶液、２１．５ｍＬ、０．４３ｍｍｏｌ）とを溶解した溶液に、過ヨウ素酸ナトリウム（１８．４ｇ、８６．０ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液は７０℃で５時間撹拌し、２３℃で飽和チオ硫酸ナトリウム水溶液を添加して反応を停止させた。水層にジエチルエーテルを加えて３回抽出した。回収した有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。粗生成物を蒸留（２２Ｔｏｒｒ、沸点６１℃）し、２−（３−ペンチルオキシ）アセトアルデヒド（化合物２、１．７３ｇ、収率６２％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ９．７６（ｓ，１Ｈ），４．０５（ｓ，２Ｈ），３．３０（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），１．５５（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，４Ｈ），０．９３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，６Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ２０２．０，８３．４，７４．５，２５．６，９．４；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ１７３６，１４６２，１３８２，９５３ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ７Ｈ１４ＮａＯ２］＋：１５３．０８８６，ｆｏｕｎｄ：１５３．０８８７．
＜反応例１４；（２Ｒ，３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル−２−（ニトロメチル）−４−オキソ−３−（３−ペンタニロキシ）ブタノエート（化合物１１）の調製＞
２３℃のアルゴン雰囲気下、ジクロロメタン（０．５ｍＬ）に、化合物２（３５．８ｍｇ、０．２７８ｍｍｏｌ）、化合物３（３２ｍｇ、０．１８５ｍｍｏｌ）、及び（Ｒ）−ジフェニルプロリノールトリメチルシリルエーテル（化合物４、３．０ｍｇ、０．００９３ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、クロロ酢酸（３．５ｍｇ、０．０３７ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液は、２３℃で１時間撹拌し、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で反応を停止させた。水層にトリクロロメタンを加えて３回抽出を行い、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄して、硫酸マグネシウムで乾燥させ、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：ｎ−へキサン中５％酢酸エチルから２０％酢酸エチルの濃度勾配）により、（２Ｒ，３Ｓ）−ｔｅｒｔ−ブチル−２−（ニトロメチル）−４−オキソ−３−（３−ペンタニロキシ）ブタノエート（化合物１１、Ｃ−２ジアステレオマー混合物、ｓｙｎ：ａｎｔｉ＝５：１、ｓｙｎ異性体：９６％ｅｅ、ａｎｔｉ異性体：８７％ｅｅ）を得た。
Figure 0005567477
Ｆｏｒ ｍａｊｏｒ ｓｙｎ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ （１１）：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ９．７２（ｓ，１Ｈ），４．８３（ｄｄ，Ｊ＝１４．４，８．０Ｈｚ，１Ｈ），４．４５（ｄｄ，Ｊ＝１４．０，６．０Ｈｚ，１Ｈ），３．９８（ｄ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），３．７３（ｄｄｄ，Ｊ＝８．０，６．０，３．０Ｈｚ，１Ｈ），３．１９（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），１．４５−１．６２（ｍ，４Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ），０．９４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ２０１．７，１６７．０，８３．５，８３．３，７９．５，７２．２，４６．５，２７．８（３Ｃ），２６．０，２５．１，９．２（２Ｃ）；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９７２，２９３７，２８７９，１７３５，１５６０，１４６０，１４２４，１３７０，１２５３，１２１０，１１５７，１１０５，８４３ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ１４Ｈ２５ＮＮａＯ６］＋：３２６．１５７４，ｆｏｕｎｄ：３２６．１５７５．
なお、ＨＰＬＣ分析に先立って、化合物１１は、ベンゼン中で１．５当量の（トリフェニルホスホラニリデン）酢酸エチルを添加することにより、（４Ｒ，５Ｒ，Ｅ）−６−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−（ニトロメチル）−４−（３−ペンチルオキシ）ヘキサ−２−エンジオエート（化合物Ｓ４）に変換され（２３℃、４時間、ジアステレオマー混合物に換算して収率９４％）、エナンチオ過剰率をＣｈｉｒａｌｐａｋ ＩＣ Ｃｏｌｕｍｎ（商品名、ＤＩＣＥＬ Ｃｈｅｍｉｃａｌ社製、移動相 １：２００＝２−プロパノール：ｎ−ヘキサン）による１ｍＬ／ｍｉｎでのＨＰＬＣで決定した。
Figure 0005567477
１ｍＬ／ｍｉｎ；ｓｙｎ−ｍａｊｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝５６．４ｍｉｎ，ｓｙｎ−ｍｉｎｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝３８．５ｍｉｎ，ａｎｔｉ−ｍａｊｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝７６．５ｍｉｎ，ａｎｔｉ−ｍｉｎｏｒ ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒ ｔＲ＝４２．５ｍｉｎ．
＜反応例１５；（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ ｏｒ Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物６）の調製２＞
ジクロロメタン（１．５ｍＬ）に、化合物２（２８．０ｍｇ、０．２１７ｍｍｏｌ）、化合物３（２５ｍｇ、０．１４５ｍｍｏｌ）、及び（Ｒ）−ジフェニルプロリノールトリメチルシリルエーテル（化合物４、２．３４ｍｇ、０．００７ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で、クロロ酢酸（２．７ｍｇ、０．０２９ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液は２３℃で１．５時間撹拌し、その後、０℃でエチル−２−（ジエトキシホスホリル）−アクリレート（化合物５、５１．２ｍｇ、０．２１７ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（２３５．０ｍｇ、０．７２３ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を０℃で更に３時間撹拌した後、エタノール（１ｍＬ）を添加して、２３℃で更に２０分間撹拌し、飽和塩化アンモニウム水溶液を添加して反応を停止させた。水層にトリクロロメタンを加えて３回抽出を行い、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。粗生成物は不安定なため、迅速にフラッシュカラムクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：１０％酢酸エチル−ｎ−へキサン溶液）を行い、（３Ｒ，４Ｒ，５Ｓ ｏｒ Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物６、４０．５ｍｇ、化合物３を基準として収率７３％、Ｃ−５についてのジアステレオマー混合物（５Ｓ：５Ｒ＝１：４））及び（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）シクロヘキサ−１−エン−１，４−ジカルボキシラート（化合物Ｓ３、５．６ｍｇ、収率１０％）を得た。化合物６のジアステレオマー混合物を次工程の反応に用いた。
化合物６の全ての分光学的データはシリカゲル（Ｗａｋｏｇｅｌ Ｂ−５Ｆ（商品名）、和光純薬工業社製）上で、酸により、４０分間穏やかに異性化した後に行った。最終的なジアステレオマーの存在比は、５Ｓ：５Ｒ＝１．２９：１であった。
Figure 0005567477
Ｆｏｒ ｍａｊｏｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ ｏｆ ６（５Ｓ）：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ６．８５（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．７５−４．９０（ｍ，１Ｈ），４．３９（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．７１（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．３２（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），３．００−３．１２（ｍ，１Ｈ），２．８０（ｂｒ ｄｄ，Ｊ＝１６．８，１０．８Ｈｚ，１Ｈ），１．４５−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．４７（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７８−０．９８（ｍ，６Ｈ）．
Ｆｏｒ ｍａｊｏｒ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ ｏｆ ６（５Ｒ）：１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ６．８９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．７５−４．９０（ｍ，１Ｈ），４．５１（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．１２−４．２５（ｍ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝６．８Ｈｚ，２Ｈ），３．４４（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝６．０Ｈｚ，１Ｈ），２．９２−３．２０（ｍ，２Ｈ），１．４５−１．６５（ｍ，４Ｈ），１．３９（ｓ，９Ｈ），１．２８（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７８−０．９８（ｍ，６Ｈ）．
Ａｓ ｄｉａｓｔｅｒｅｏｍｅｒ ｍｉｘｔｕｒｅ ｏｆ ６；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７０．０，１６７．５，１６５．５，１６５．１，１３７．６，１３５．０，１２９．５，１２７．２，８３．０，８２．６，８２．２，８１．８，８１．４，７８．０，７３．１，７０．８，６１．２，６１．１，５０．３，４７．６，２８．７，２７．８（４Ｃ），２７．７（２Ｃ），２６．４，２６．３，２５．８，２５．７，２５．４，１４．１（２Ｃ），９．９，９．５，９．３，９．２；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９７５，２９３７，２８７８，１７２１，１６６０，１５５７，１４６１，１３６９，１３０２，１２５３，１１５８，１０９８，１０５９，１０２１ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ１９Ｈ３１ＮＮａＯ７］＋：４０８．１９９３，ｆｏｕｎｄ：４０８．１９８３．
Ｆｏｒ ｃｏｍｐｏｕｎｄ Ｓ３（３Ｓ，４Ｒ，５Ｒ）；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ６．８４（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．７２（ｄｄｄ，Ｊ＝１０．４，６．０，４．０Ｈｚ，１Ｈ），４．３５−４．４０（ｍ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），３．６３（ｄｄ，Ｊ＝６．４，４．０Ｈｚ，１Ｈ），３．４４（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．２７（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．６，１０．４，２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．９８（ｄｄ，Ｊ＝１７．６，６．４Ｈｚ，１Ｈ），１．４８−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．４２（ｓ，９Ｈ），１．３０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１６６．７，１６５．４，１３７．７，１２７．９，８１．９，８０．２，７２．６，６１．０，４６．３，２７．８（３Ｃ），２６．５，２５．７（２Ｃ），２５．３，１４．２，９．２，９．１；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９６８，２９３７，２８７９，１７２９，１６５４，１５５４，１４６２，１３６９，１２５８，１２４１，１１５１，１０９６，１０６２，７３６ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ１９Ｈ３１ＮＮａＯ７］＋：４０８．１９９３，ｆｏｕｎｄ：４０８．２００６；［α］２３ Ｄ＋２２．７（ｃ １．４０，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例１６；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン１，４−ジカルボキシラート（化合物７）の調製２＞
エタノール（１ｍＬ）に、化合物６（１４．４ｍｇ、０．０３７４ｍｍｏｌ、Ｃ−５についてのジアステレオマー混合物；５Ｓ：５Ｒ＝１：４．６）、及び炭酸セシウム（６１ｍｇ、０．１８７ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液に、−４０℃、アルゴン雰囲気下でトルエンチオール（４６．５ｍｇ、０．３７４ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を−１５℃まで徐々に加温し、４５時間撹拌して、１Ｎ塩酸を加えて反応を停止させた。水層にトリクロロ酢酸を加えて３回抽出を行い、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：ヘキサン中５％酢酸エチルから１０％酢酸エチルの濃度勾配）により（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン１，４−ジカルボキシラート（化合物７、１７．２ｍｇ、収率９０％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３８（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），４．５９（ｄｔ，Ｊ＝４．４，１２．４Ｈｚ，１Ｈ），４．００−４．１２（ｍ，２Ｈ），３．７５−３．９０（ｍ，２Ｈ），３．２７（ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１Ｈ），３．２１（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），２．７３（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．５５（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．６Ｈｚ，１Ｈ），２．３９（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），１．４５（ｓ，９Ｈ），１．２０−１．５０（ｍ，４Ｈ），１．１６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６７（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７０．７，１７０．０，１３７．４，１３２．７（２Ｃ），１３１．２，１２９．５（２Ｃ），８３．８，８２．３，７９．０，７５．７，６１．４，５２１，４９．７，４３．３，２７．９（３Ｃ），２６．９，２４．９，２３．４，２１．０，１４．０，８．７，８．６；ＩＲ （ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９７７，２９３３，２８７８，１７３１，１５５３，１４９２，１４６０，１３６８，１２９２，１２５３，１１９８，１１５７，１１３６，１０９７，１０３０，９５５，８１１ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２６Ｈ３９ＮＮａＯ７Ｓ］＋：５３２．２３３９，ｆｏｕｎｄ：５３２．２３１９；［α］２０ Ｄ−１８（ｃ １．０９，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例１７；化合物２及び３から化合物７へ至るシングルポット反応＞
ジクロロメタン（２ｍＬ）に、化合物２（２２５ｍｇ、１．７３ｍｍｏｌ）、化合物３（２００ｍｇ、１．１６ｍｍｏｌ）、及び（Ｒ）−ジフェニルプロリノールトリエチルシリルエーテル（化合物４、１８．８ｍｇ、０．０５８ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下でクロロ酢酸（２１．８ｍｇ、０．２３１ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を２３℃で４０分間撹拌し、０℃でエチル−２−（ジエトキシホスホリル）−アクリレート（化合物５、４０９．２ｍｇ、１．７３ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム（１．１３ｇ、３．４７ｍｍｏｌ）を添加した。反応溶液を０℃で更に３時間撹拌した後、０℃の減圧条件下、溶媒を留去して、エタノール（３ｍＬ）を加えた。反応溶液を２３℃で１５分間混合して、−１５℃でトルエンチオール（７１６．７ｍｇ、５．７８ｍｍｏｌ）を加え、−１５℃で３６時間混合して、冷却した２Ｎ塩酸を加えて反応を停止させた。水層にトリクロロメタンを加えて３回抽出し、回収した有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。フラッシュクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：ｎ−へキサン中５％酢酸エチルから１０％酢酸エチルの濃度勾配）により（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−ｔｅｒｔ−ブチル−１−エチル−５−ニトロ−３−（３−ペンチルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン１，４−ジカルボキシラート（化合物７、４１３．７ｍｇ、化合物３を基準として収率７０％）を得た。
Figure 0005567477
＜反応例１８；（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ，６Ｓ）−４−（エトキシカルボニル）−６−ニトロ−２−（３−ペンタニルオキシ）−３−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン−カルボン酸（化合物１２）の調製＞
ジクロロメタン（１．５ｍＬ）に、化合物７（１８０ｍｇ、０．３５４ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下でトリフルオロ酢酸（１．５ｍＬ）を加えた。反応溶液を２３℃で２時間撹拌し、減圧下で溶媒とトリフルオロ酢酸を留去した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：７０％酢酸エチル−ｎ−ヘキサン溶液）により、（１Ｒ，２Ｓ，３Ｒ，４Ｓ，６Ｓ）−４−（エトキシカルボニル）−６−ニトロ−２−（３−ペンタニルオキシ）−３−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサン−カルボン酸（化合物１２、１４１．７ｍｇ、収率８８％）を得た。
Figure 0005567477
ｍｐ １３５−１３６℃；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ ７．３９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６６（ｄｔ，Ｊ＝４．８，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０９−４．２０（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｔ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），３．８９−３．９９（ｍ，１Ｈ），３．８２（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，３．６Ｈｚ，１Ｈ），３．５４（ｔ，Ｊ＝１０．８Ｈｚ，１Ｈ），３．１７（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），２．７７（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．６７（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３１（ｓ，３Ｈ），２．２９（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），１．３０−１．５０（ｍ，２Ｈ），１．２０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．０５−１．２０（ｍ，２Ｈ），０．７５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），−ＣＯ２Ｈ ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７５．３，１６９．８，１３７．７，１３２．８（２Ｃ），１３０．９，１２９．６（２Ｃ），８２．６，８０．３，７６．３，６１．６，５２．３，４８．３，４３．４，２７．１，２４．９，２３．２，２１．０，１４．０，８．９，８．２；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９６７，２９３７，２８７８，１７２２，１５５６，１４９２，１４５７，１３７０，１２８２，１２５３，１２００，１０９８，１０２９，９５０，８１１ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２２Ｈ３１ＮＮａＯ７Ｓ］＋：４７６．１７１３，ｆｏｕｎｄ：４７６．１７２２；［α］２３ Ｄ−２７（ｃ １．６４，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例１９；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）４−（クロロカルボニル）−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１３）の調製＞
ジクロロメタン（１ｍＬ）に、化合物１２（１１ｍｇ、０．０２１６ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液に、０℃で、触媒量のジメチルホルムアミド（１μＬ）とシュウ酸塩化物（２０μＬ、０．２１６ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物を２３℃で１時間撹拌して、溶媒と過剰量のシュウ酸塩化物を減圧下で留去することにより、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）４−（クロロカルボニル）−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１３、１０ｍｇ、収率９８％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３９（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），４．７０−４．８０（ｍ，１Ｈ），４．１０−４．２０（ｍ，１Ｈ），４．０３（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．８９−４．００（ｍ，３Ｈ），３．１８（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝４．４Ｈｚ，１Ｈ），２．７５（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．７５（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．３１（ｓ，３Ｈ），２．２８（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），１．３２−１．５２（ｍ，２Ｈ），１．１９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．００−１．２０（ｍ，２Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７２．８，１６９．５，１３７．９，１３２．８（２Ｃ），１３０．５，１２９．５（２Ｃ），８２．６，８０．０，７６．５，６１．６，５８．７，５２．１，４３．２，２６．７，２４．６，２３．０，２１．０，１４．０，８．６，８．２；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９６７，１７９２，１７３２，１６８４，１６５３，１５５７，１５２１，１５０７，１４９１，１４７４，１４５７，１３７０，１２８２，１２００，１１０２，１０２８，９５０，８１０ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２２Ｈ３０ＣｌＮＮａＯ６Ｓ］＋：４９４．１３７５，ｆｏｕｎｄ：４９４．１３８１；［α］２３ Ｄ−１８（ｃ ０．６１，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２０；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−（アジドカルボニル）−５−ニトロ−３−（３−ペンタニルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１４）の調製＞
ジクロロメタン（１ｍＬ）に化合物１２（４０ｍｇ、０．０８８ｍｍｏｌ）を溶解させた溶液に、０℃で、触媒量のジメチルホルムアミド（２μＬ）とシュウ酸塩化物（７３μＬ、０．８８ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を２３℃で１時間撹拌し、減圧下で溶媒と過剰量のシュウ酸塩化物を留去した。得られた化合物１３の粗生成物をアセトン（１ｍＬ）に溶解した溶液に、０℃で、飽和アジ化ナトリウム水溶液（１ｍＬ）を添加した。反応溶液を０℃で３０分間撹拌し、水を加えて反応を停止させた。水層にトリクロロメタンを加えて３回抽出し、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮し、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）４−（アジドカルボニル）−５−ニトロ−３−（３−ペンタニルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１４、４０．５ｍｇ、収率９６％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），４．６６（ｄｔ，Ｊ＝４．８，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．０７−４．１８（ｍ，１Ｈ），４．００（ｔ，Ｊ＝３．２Ｈｚ，１Ｈ），３．８５−３．９７（ｍ，１Ｈ），３．７８（ｄｄ，Ｊ＝１０．８，３．６Ｈｚ，１Ｈ），３．４７（ｔ，Ｊ＝１１．２Ｈｚ，１Ｈ），３．１３（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝４．８Ｈｚ，１Ｈ），２．７６（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．６Ｈｚ，１Ｈ），２．６８（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．６Ｈｚ，１Ｈ），２．３１（ｓ，３Ｈ），２．２８（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），１．２８−１．４８（ｍ，２Ｈ），１．２１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），１．０３−１．１８（ｍ，２Ｈ），０．７６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６３（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７９．４，１６９．７，１３７．７，１３２．９（２Ｃ），１３０．８，１２９．６（２Ｃ），８２．８，８０．４，６１．６，５２．５，４９．８，４３．４，２７．０，２４．８，２３．２，２１．０，１４．０，８．９，８．０（１Ｃ ｏｖｅｒｌａｐｐｅｄ ＣＤＣｌ３）；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９６７，２９３７，２８７８，２１４２，１７３３，１５５６，１４９３，１４６１，１３６９，１１７４，１１２４，１０２８，８１０ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２２Ｈ３０Ｎ４ＮａＯ６Ｓ］＋：５０１．１７７８，ｆｏｕｎｄ：５０１．１７７６；［α］２３ Ｄ−５５（ｃ １．０１，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２１；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−イソシアナート−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１５）の調整＞
ベンゼン−ｄ６（０．５ｍＬ）に、化合物１４（２１ｍｇ、０．０４４ｍｍｏｌ）を溶解した溶液を、ＮＭＲサンプルチューブに３６時間封入した。溶媒を留去した時点で、化合物１４は完全に（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−イソシアナート−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１５、２０．５ｍｇ、定量的収率）に変化していた。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６）δ７．４７（ｄ，Ｊ＝８．４Ｈｚ，２Ｈ），６．８１（ｄ，Ｊ＝８．１Ｈｚ，２Ｈ），４．５７（ｔ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），３．８９−４．００（ｍ，２Ｈ），３．８０（ｄｔ，Ｊ＝４．４，１１．８Ｈｚ，１Ｈ），３．６７−３．７５（ｍ，１Ｈ），３．０１（ｄｄ，Ｊ＝１０．０，３．６Ｈｚ，１Ｈ），２．９７−３．０５（ｍ，２Ｈ），２．３７（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．０８−２．１７（ｍ，１Ｈ），１．９８（ｓ，３Ｈ），１．９２（ｄｔ，Ｊ＝１３．２，３．６Ｈｚ，１Ｈ），１．４０−１．５０（ｍ，１Ｈ），１．２８−１．３８（ｍ，１Ｈ），１．００−１．２０（ｍ，１Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．７４（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，Ｃ６Ｄ６）δ１６９．４，１３７．７，１３３．１（２Ｃ），１３１．８，１２９．８（２Ｃ），８６．６，８０．０，７７．５，６１．３，５７．１，５２．４，４３．２，２７．６，２５．２，２３．７，２０．８，１４．０，８．８，８．７（Ｏ＝Ｃ＝Ｎ− ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ）；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９６８，２９３８，２８７８，２２４５，１７３６，１５５９，１４９３，１４５６，１３６９，１２５１，１２０１，１１００，１０２９，９５２，８６２，８１０ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２２Ｈ３０Ｎ２ＮａＯ６Ｓ］＋：４７３．１７１７，ｆｏｕｎｄ：４７３．１７１９；［α］２３ Ｄ−６．９（ｃ １．４１，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２２；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−（Ｎ−アセチルアセトアミド）−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１６）の調製＞
ジクロロメタン（１ｍＬ）中に化合物７（８０ｍｇ、０．１５７ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下でトリフルオロ酢酸（１ｍＬ）を加えた。反応溶液を２３℃で４時間撹拌し、減圧下で溶媒とトリフルオロ酢酸を留去した。得られた化合物１２の粗生成物をジクロロメタン（２ｍＬ）に溶解した溶液に、０℃で、触媒量のジメチルスルホキシド（１滴）とシュウ酸塩化物（１５０μＬ、１．５７ｍｍｏｌ）を加えた。この混合物を２３℃で１時間撹拌し、減圧下で溶媒と過剰量のシュウ酸塩化物を留去した。得られた化合物１３の粗生成物をアセトン（２ｍＬ）に溶解した溶液に、０℃で、飽和アジ化ナトリム水溶液（１ｍＬ）を加えた。反応溶液を０℃で２０分間撹拌し、水を添加して反応を停止させた。水層にトリクロロメタンを加えて３回抽出し、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、化合物１４の粗生成物を得た。得られた化合物１４の粗生成物を無水酢酸（２ｍＬ）に溶解し、９０℃で３６時間撹拌して、減圧下で溶媒を留去した。粗生成物をフラッシュカラムクロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：１０％酢酸エチル−ｎ−ヘキサン溶液）で精製し、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−（Ｎ−アセチルアセトアミド）−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１６、６８．５ｍｇ、収率８６％、４工程）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０８（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），５．５２（ｄｔ，Ｊ＝４．８，１１．４Ｈｚ，１Ｈ），４．７１（ｔ，Ｊ＝１０．４Ｈｚ，１Ｈ），４．４３（ｄｄ，Ｊ＝１０．０，３．６Ｈｚ，１Ｈ），４．１２−４．２０（ｍ，１Ｈ），４．０９（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．９３−４．０３（ｍ，１Ｈ），３．０６（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），２．８７（ｄｔ，Ｊ＝１０．０，３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．５５−２．６５（ｍ，１Ｈ），２．５０（ｓ，３Ｈ），２．４２（ｑ，Ｊ＝１３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．４０（ｓ，３Ｈ），２．３１（ｓ，３Ｈ），１．２２−１．３２（ｍ，２Ｈ），１．２２（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．９０−１．１０（ｍ，２Ｈ），０．６６（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．５５（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７６．０，１７４．５，１６９．８，１３７．７，１３２．７（２Ｃ），１３１．０，１２９．６（２Ｃ），８１．７，８０．１，７４．０，６１．６，５９．８，５４．１，４２．９，２８．５，２８．３，２５．０，２４．３，２３．２，２１．０，１４．１，８．４，８．２；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ２９６６，２９３３，２８８０，１７２１，１７０１，１５５６，１４９３，１４５７，１３６８，１２７８，１２５３，１２２９，１１９１，１０９５，１０３０，９７１，８１０ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２５Ｈ３６Ｎ２ＮａＯ７Ｓ］＋：５３１．２１３５，ｆｏｕｎｄ：５３１．２１３６；［α］２３ Ｄ−２２（ｃ ０．５９，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２３；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−アセトアミド−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１７）の調製＞
エタノール（０．５ｍＬ）中に、２３℃、アルゴン雰囲気下で化合物１６（１５．２ｍｇ、０．０３ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、ヒドラジン１水和物（７．２μＬ、０．２９９ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を２３℃で３時間撹拌し、減圧下で溶媒を留去した。粗生成物が結晶を形成した時点で２０％酢酸エチル−ｎ−ヘキサン溶液で洗浄し、純粋な（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−アセトアミド−５−ニトロ−３−（３−ペンタニロキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１７、１０．８ｍｇ、収率７８％）を得た。
Figure 0005567477
ｍｐ １９２−１９５℃；１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３７（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），５．８８（ｄ，Ｊ＝６．４Ｈｚ，１Ｈ），５．５０（ｄｔ，Ｊ＝４．８，１２．０Ｈｚ，１Ｈ），４．４２（ｄｄ，Ｊ＝４．０，１０．４Ｈｚ，１Ｈ），４．０８−４．１４（ｍ，１Ｈ），４．０５−４．０６（ｍ，１Ｈ），３．８４−３．９４（ｍ，２Ｈ），３．１５−３．２１（ｍ，１Ｈ），２．８７（ｔｄ，Ｊ＝２．８，１３．２Ｈｚ，１Ｈ），２．５２−２．５５（ｍ，１Ｈ），２．３５（ｑ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．３０（ｓ，３Ｈ），１．９３（ｓ，３Ｈ），１．３１−１．５０（ｍ，２Ｈ），１．１７（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），１．０５−１．１４（ｍ，２Ｈ），０．８１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），０．６１（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７１．４，１７０．０，１３７．４，１３２．７（２Ｃ），１３１．４，１２９．５（２Ｃ），８２．８，８０．８，７３．４，６１．３，５５．６，５４．１，４３．０，２７．９，２５．２，２４．１，２３．７，２０．９，１３．９，９．０，８．８；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ３２７４，２９６５，２８７８，１７３８，１６６０，１５５６，１４９４，１４５５，１３７０，１１９９，１０９８，１０３１，９４７，８６３，８１０，７３７，６０６ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２３Ｈ３４Ｎ２ＮａＯ６Ｓ］＋：４８９．２０３０，ｆｏｕｎｄ：４８９．２０２０；［α］２３ Ｄ−４１（ｃ ０．３２，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２４；（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−アセトアミド−５−アミノ−３−（３−ペンタニルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１８）の調製＞
エタノール（１ｍＬ）及び２Ｎ塩酸（１ｍＬ）中に、化合物１７（３０ｍｇ、０．０６４ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で活性化した亜鉛粉末（６３０ｍｇ、使用前に１Ｎ塩酸、水、エタノール、及びジエチルエーテルで洗浄したもの）を加えた。反応溶液を２３℃で３時間撹拌し、濾過して、濾液に２８％水酸化アンモニウム水溶液を添加した。水層に１０％メタノール−トリクロロメタン溶液を加え、３回抽出して、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。分取薄層クロマトグラフィー（固定相：ＳｉＯ２、移動相：２０％メタノール−トリクロロメタン溶液）により、（１Ｓ，２Ｒ，３Ｓ，４Ｒ，５Ｓ）−４−アセトアミド−５−アミノ−３−（３−ペンタニルオキシ）−２−（ｐ−トリルチオ）シクロヘキサンカルボン酸エチル（化合物１８、２４ｍｇ、収率８６％）を得た。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ７．３６（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），７．０２（ｄ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，２Ｈ），６．２０（ｂｒ ｓ，１Ｈ），４．００−４．１０（ｍ，１Ｈ），４．００（ｂｒ ｓ，１Ｈ），３．８２−３．９０（ｍ，２Ｈ），３．６０−３．７０（ｍ，１Ｈ），３．２２−３．３２（ｍ，１Ｈ），３．２０（ｑｕｉｎｔｅｄ，Ｊ＝４．２Ｈｚ，１Ｈ），２．８１（ｄｔ，Ｊ＝１２．８，２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．５０−２．８０（ｍ，２Ｈ），２．２８（ｓ，３Ｈ），２．２１（ｂｒ ｄ，Ｊ＝１４．０Ｈｚ，１Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．８４（ｑ，Ｊ＝１２．８Ｈｚ，１Ｈ），１．３２−１．５０（ｍ，２Ｈ），１．０５−１．２０（ｍ，２Ｈ），１．１４（ｔ，Ｊ＝７．０Ｈｚ，３Ｈ），０．８２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ），０．６２（ｔ，Ｊ＝７．４Ｈｚ，３Ｈ）；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７１．６，１７１．３，１３６．９，１３２．６（２Ｃ），１３２．３，１２９．４（２Ｃ），８０．５，７６．４，６０．９，５４．５，５０．８，４３．９，２９．７（ｂｒ），２９．３（ｂｒ），２５．１，２４．１（２Ｃ），２１．０，１４．０，９．１，８．７；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ３４４６，２９６２，２９３２，２８７５，１７３３，１６５３，１５５８，１４９３，１４５７，１３７３，１３００，１１９４，１１１２，１０３２，９４７，８１０ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ２３Ｈ３６Ｎ２ＮａＯ４Ｓ］＋：４５９．２２８８，ｆｏｕｎｄ：４５９．２２９３；［α］２０ Ｄ−１８（ｃ ０．４９，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２５；（−）−オセルタミビルの調製＞
エタノール（２ｍＬ）中に、化合物１８（８．８ｍｇ、０．０２ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃で炭酸カリウム（１９５．４ｍｇ、１．４ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液は４時間撹拌し、濾過した。過剰量のエタノールを減圧下で留去した後、０℃で残渣に２Ｎ塩酸を加えた。水層を酢酸エチルで洗浄した後、２８％水酸化アンモニウム水溶液でｐＨを１１に調整した。水層を１０％メタノール−トリクロロメタンで３回抽出して、回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮した。（−）−オセルタミビル（化合物１、５．７ｍｇ、収率９１％）が得られた。全ての分光学的データは、報告されたデータと一致した。
Figure 0005567477
１Ｈ ＮＭＲ（４００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ６．７８（ｔ，Ｊ＝２．０Ｈｚ，１Ｈ），５．６２（ｄ，Ｊ＝７．６Ｈｚ，１Ｈ），４．２０（ｑ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，２Ｈ），４．１５−４．２０（ｍ，１Ｈ），３．５２（ｑ，Ｊ＝８．０Ｈｚ，１Ｈ），３．３４（ｑｕｉｎｔｅｔ，Ｊ＝５．６Ｈｚ，１Ｈ），３．２４（ｄｔ，Ｊ＝５．２，１０．０Ｈｚ，１Ｈ），２．７５（ｄｄ，Ｊ＝１７．６，５．２Ｈｚ，１Ｈ），２．１５（ｄｄｔ，Ｊ＝１７．６，１０．０，２．８Ｈｚ，１Ｈ），２．０４（ｓ，３Ｈ），１．４０−１．６０（ｍ，４Ｈ），１．２９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．９０（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），０．８９（ｔ，Ｊ＝７．２Ｈｚ，３Ｈ），−ＮＨ２ ｕｎｄｅｔｅｃｔｅｄ；１３Ｃ ＮＭＲ（１００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３）δ１７０．９，１６６．３，１３７．５，１２９．６，８１．７，７４．８，６０．８，５９．０，４９．２，３３．６，２６．３，２５．８，２３．７，１４．２，９．５，９．３；ＩＲ（ｆｉｌｍ）νｍａｘ３２７６，３０７７，２９６５，２９３６，２８７７，１７１５，１６５５，１５５８，１４６４，１３７４，１３０３，１２４４，１１９５，１１２７，１０６４，１０３１，９４４，８６１，７７８，７３６ｃｍ−１；ＨＲＭＳ（ＥＳＩ）［Ｍ＋Ｎａ］＋ ｃａｌｃｕｌａｔｅｄ ｆｏｒ ［Ｃ１６Ｈ２８Ｎ２ＮａＯ４］＋：３３５．１９４１，ｆｏｕｎｄ：３３５．１９３４；［α］２３ Ｄ−５４．９（ｃ ０．６８，ＣＨＣｌ３）．
＜反応例２６；化合物７から（−）−オセルタミビルへ至るシングルポット反応＞
ジクロロメタン（１ｍＬ）中に、化合物７（２１５ｍｇ、０．４２２ｍｍｏｌ）を溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下でトリフルオロ酢酸（０．５ｍＬ）を加えた。反応溶液を２３℃で２時間撹拌し、減圧下で溶媒とトリフルオロ酢酸を留去した。得られた化合物１２をジクロロメタン（１．５ｍＬ）に溶解した溶液に、０℃で、触媒量のジメチルホルムアミド（１滴）とシュウ酸塩化物（３５７μＬ、４．２２ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を２３℃で１時間撹拌し、減圧下で溶媒と過剰量のシュウ酸塩化物を留去した。得られた化合物１３の粗生成物をアセトン（１ｍＬ）に溶解した溶液に０℃で飽和アジ化ナトリウム水溶液（０．５ｍＬ）を加えた。反応溶液を０℃で２０分間撹拌し、水を添加して反応を停止させた。水層にトリクロロメタンを添加して、３回抽出を行った。回収した有機層は飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて、減圧下で濃縮して化合物１４の粗生成物を得た。化合物１４の粗生成物を無水酢酸（２ｍＬ）に溶解し、反応溶液を９０℃で３６時間撹拌して、減圧下で溶媒を留去した。得られた化合物１６の粗生成物をエタノール（３ｍＬ）に溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下でヒドラジン１水和物（４０．９μＬ、０．８４４ｍｍｏｌ）を加えた。反応溶液を２３℃で２時間撹拌し、減圧下で溶媒を留去した。得られた化合物１７の粗生成物をエタノール（４ｍＬ）及びトリメチルクロロシラン（１．６２ｍＬ、１２．７ｍｍｏｌ）に溶解した溶液に、２３℃、アルゴン雰囲気下で活性化した亜鉛粉末（１．３８ｇ、２１．１ｍｍｏｌ、使用前に１Ｎ塩酸、水、エタノール、及びジエチルエーテルで洗浄したもの）を加えた。反応溶液を７０℃で１時間撹拌し、０℃で１０分間アンモニアガスをバブリングした。得られた反応溶液に、２３℃で炭酸カリウム（１．１７ｇ、８．４４ｍｍｏｌ）を加え、２３℃で６時間撹拌して濾過した。減圧下で過剰量のエタノールを除去した後、０℃で残渣に２Ｎ塩酸を加えた。水層を酢酸エチルで洗浄して、２８％水酸化アンモニウム水溶液でｐＨを１１に調整した。水層に１０％メタノール−トリクロロメタンを添加して、３回抽出した。回収した有機層を飽和食塩水で洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥させて減圧下で濃縮して、（−）−オセルタミビル（化合物１、１０９．５ｍｇ、化合物８を基準として収率８３％）が得られた。
Figure 0005567477

Claims (9)

  1. 下記工程（１−１）〜工程（１−８）を含むリン酸オセルタミビルの製造方法。
    （１−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩ）で表される化合物とをマイケル反応に付し、得られた化合物と下記一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＶ）で表される化合物とをマイケル反応及びホーナー・ワーズワース・エモンズ反応に付すことにより、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）において、Ｒ１はカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、ヘテロアリーレン基、シクロアルキレン基、又はヘテロシクロアルキレン基を示す。］
    （１−２）前記一般式（Ｖ）で表される化合物とチオール化合物とをマイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＶＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は前記と同様であり、Ｒ４は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
    （１−３）前記一般式（ＶＩ）で表される化合物を還元し、逆マイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＶＩＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は前記と同様である。］
    （１−４）前記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物のアミノ基の保護及びカルボキシル基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＶＩＩＩ）において、Ｒ２は前記と同様であり、Ｒ５はアミノ基に保護基が結合した基を示す。］
    （１−５）前記一般式（ＶＩＩＩ）で表される化合物のカルボキシル基をハロゲン化することにより、下記一般式（ＩＸ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＩＸ）において、Ｒ２，Ｒ５は前記と同様であり、Ｒ６はハロゲン原子を示す。］
    （１−６）前記一般式（ＩＸ）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより、下記一般式（Ｘ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（Ｘ）において、Ｒ２，Ｒ５は前記と同様である。］
    （１−７）前記一般式（Ｘ）で表される化合物をクルティウス転移反応に付すことにより、下記一般式（ＸＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＩ）において、Ｒ２，Ｒ５は前記と同様である。］
    （１−８）前記一般式（ＸＩ）で表される化合物の脱アセチル化及びアミノ基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＩＩ）において、Ｒ２は前記と同様である。］
  2. 下記工程（２−１）〜工程（２−９）を含むリン酸オセルタミビルの製造方法。
    （２−１）下記一般式（Ｉ）で表される化合物と下記一般式（ＩＩ）で表される化合物とをマイケル反応に付し、得られた化合物と下記一般式（ＩＩＩ）又は一般式（ＩＶ）で表される化合物とをマイケル反応及びホーナー・ワーズワース・エモンズ反応に付すことにより、下記一般式（Ｖ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＩＩ）〜（Ｖ）において、Ｒ１はカルボキシル基の保護基を示し、Ｒ２は置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、Ｒ３はそれぞれ独立に置換基を有していてもよいアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基を示し、互いに結合して環構造を形成してもよい。Ａは置換基を有していてもよいアリーレン基、ヘテロアリーレン基、シクロアルキレン基、又はヘテロシクロアルキレン基を示す。］
    （２−２）前記一般式（Ｖ）で表される化合物とチオール化合物とをマイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＶＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＶＩ）において、Ｒ１，Ｒ２は前記と同様であり、Ｒ４は置換基を有していてもよいアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基を示す。］
    （２−３）前記一般式（ＶＩ）で表される化合物のカルボキシル基の脱保護を行うことにより、下記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＩＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
    （２−４）前記一般式（ＸＩＩＩ）で表される化合物のカルボキシル基をハロゲン化することにより、下記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＩＶ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様であり、Ｒ６はハロゲン原子を示す。］
    （２−５）前記一般式（ＸＩＶ）で表される化合物とアジ化物とを反応させることにより、下記一般式（ＸＶ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＶ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
    （２−６）前記一般式（ＸＶ）で表される化合物をクルティウス転移反応に付すことにより、下記一般式（ＸＶＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＶＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
    （２−７）前記一般式（ＸＶＩ）で表される化合物の脱アセチル化を行うことにより、下記一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＶＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
    （２−８）前記一般式（ＸＶＩＩ）で表される化合物を還元することにより、下記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＶＩＩＩ）において、Ｒ２，Ｒ４は前記と同様である。］
    （２−９）前記一般式（ＸＶＩＩＩ）で表される化合物を逆マイケル反応に付すことにより、下記一般式（ＸＩＩ）で表される化合物を得る工程。
    Figure 0005567477
     ［一般式（ＸＩＩ）において、Ｒ２は前記と同様である。］
  3. 下記一般式（Ａ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
    Figure 0005567477
     ［一般式（Ａ）において、Ｒ１０は−ＮＡｃ２、カルボキシル基、又はカルボキシル基にメチルエステル基、エチルエステル基、ベンジルエステル基、及びｔｅｒｔ−ブチルエステル基からなる群より選ばれるいずれか一の基が結合した基を示し、Ｒ１１ はアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基（但し、アルキル基の水素原子は、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、アリール基及びヘテロアリール基の水素原子はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、シクロアルキル基及びヘテロシクロアルキル基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよい。）を示し、Ｒ１２はアミノ基にｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、ベンジルオキシカルボニル基、９−フルオレニルメチルオキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、アリルオキシカルボニル基、フタロイル基、ｐ−トルエンスルホニル基、及びｐ−ニトロベンゼンスルホニル基からなる群より選ばれるいずれか一の基が結合した基、アミノ基、ヒドロキシアミノ基、又はアルコキシアミノ基を示す。］
  4. 下記一般式（Ａ’）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
    Figure 0005567477
     ［一般式（Ａ’）において、Ｒ１１ はアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基（但し、アルキル基の水素原子は、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、アリール基及びヘテロアリール基の水素原子はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、シクロアルキル基及びヘテロシクロアルキル基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよい。）を示し、Ｒ１３ はアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基（但し、アリール基及びヘテロアリール基の水素原子はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基及びヘテロシクロアルケニル基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基の水素原子は、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよい。）を示す。］
  5. 下記一般式（Ｂ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
    Figure 0005567477
     ［一般式（Ｂ）において、Ｒ１１ はアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基（但し、アルキル基の水素原子は、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、アリール基及びヘテロアリール基の水素原子はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、シクロアルキル基及びヘテロシクロアルキル基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよい。）を示し、Ｒ１３ はアリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基、ヘテロシクロアルケニル基、アルキル基、アルケニル基、又はアルキニル基（但し、アリール基及びヘテロアリール基の水素原子はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、シクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、シクロアルケニル基及びヘテロシクロアルケニル基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、アルキル基、アルケニル基及びアルキニル基の水素原子は、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよい。）を示し、Ｒ１４はカルボキシル基、カルボキシル基にメチルエステル基、エチルエステル基、ベンジルエステル基、及びｔｅｒｔ−ブチルエステル基からなる群より選ばれるいずれか一の基が結合した基、ハロゲン化カルボニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ３、−ＮＣＯ、−ＮＡｃ２、又は−ＮＨＡｃを示す。］
  6. 下記一般式（Ｃ）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
    Figure 0005567477
     ［一般式（Ｃ）において、Ｒ１１ はアルキル基、アリール基、ヘテロアリール基、シクロアルキル基、又はヘテロシクロアルキル基（但し、アルキル基の水素原子は、アルコキシ基、アシル基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、アリール基及びヘテロアリール基の水素原子はアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、アルキレンジオキシ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよく、シクロアルキル基及びヘテロシクロアルキル基の水素原子は、アルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基、アルコキシカルボニル基、アルコキシカルボニルアルキル基、アシル基、アシルアルキル基、アルキルチオ基、ハロゲン原子、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、チオール基、及び水酸基からなる群より選ばれる１以上の置換基によって置換されていてもよい。）を示し、Ｒ１５はカルボキシル基、又はカルボキシル基にメチルエステル基、エチルエステル基、ベンジルエステル基、及びｔｅｒｔ−ブチルエステル基からなる群より選ばれるいずれか一の基が結合した基を示す。］
  7. 下記一般式（Ｃ’）で表されるリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
    Figure 0005567477
     ［一般式（Ｃ’）において、Ｒ１５はカルボキシル基、又はカルボキシル基にメチルエステル基、エチルエステル基、ベンジルエステル基、及びｔｅｒｔ−ブチルエステル基からなる群より選ばれるいずれか一の基が結合した基を示す。］
  8. Ｒ１１がエチル基である請求項３から６の何れかに記載のリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
  9. Ｒ１３がｐ−メチルフェニル基である請求項４又は５に記載のリン酸オセルタミビルの中間体化合物。
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