JP5536398B2

JP5536398B2 - 離型フィルム

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Publication number: JP5536398B2
Application number: JP2009204814A
Authority: JP
Inventors: 慶太武久
Original assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Current assignee: Teijin DuPont Films Japan Ltd
Priority date: 2009-09-04
Filing date: 2009-09-04
Publication date: 2014-07-02
Anticipated expiration: 2029-09-04
Also published as: JP2011051313A

Description

本発明は離型フィルムに関する。特には、光学用部材の製造工程において用いられる離型フィルムに関する。

近年、表示体としてはフラットパネルが主流であるが、その生産工程においては、表示体の表示面を保護する表面保護フィルム（プロテクトフィルム）が多くのフラットパネルの製造工程に用いられており、光学用部品の表面保護用として、その需要はますます伸びている。例えば、テレビ、コンピュータ、ワードプロセッサやカーナビゲーション等の各種ディスプレイの製造時の表面保護に使用されており、中でも現在急激に伸びている液晶ディスプレイ表示板（ＬＣＤ）等の表面保護、さらにその製造に用いられる偏光板、位相差板、視野角拡大フィルム等の光学部品や、それらを積層した光学積層体の表面保護に使用されている。

表面保護フィルムは、一般的にプラスチックフィルムを基材とし、そのフィルムの片面に粘着剤層を設けた構成である。かかる表面保護フィルムの基材としては、一般的にポリエチレンやポリプロピレン等の透明なオレフィン系フィルムが使用されており、液晶ディスプレイ等の製造組み立てが完了した後や実際の使用に際して、これらの表面保護フィルムは剥離して除去される。

近年、ＴＦＴ方式による液晶ディスプレイが、その高精細さ、高応答性等の点により特に注目されており、その製造工程中における表面保護フィルムへの要求も厳しくなっている。例えば、製品の欠点検査は表面保護フィルムを貼り合せたまま行うことが多いが、表面保護フィルムを製品に貼り合せた時に気泡が入ってしまうと、検査時に気泡により作業性が悪くなる問題がある。

表面保護フィルムは、使用されるまでの間、離型フィルムが貼り合わされた状態で粘着剤層を保護しており、離型フィルムを剥がして使用する。この場合、表面保護フィルムと離型フィルムとが共に透明である場合、どちらが保護フィルムであるか識別しにくく、作業性が悪いといった問題があった。

かかる問題に対しては、例えば、表面保護フィルムか離型フィルムかの識別をしやすくするために、離型フィルムを白くする等が考えられる。しかしながら、白くするためには、白色とするために添加する微粒子の添加量が多くなり、一般に、離型フィルムの表面が粗くなってしまい、すなわち離型フィルムの表面に凹凸が形成されてしまう。そして、かかる凹凸が、表面保護フィルムの粘着剤層に転写してしまい、製品に貼り合せた時に気泡が混入しやすくなり、また粘着剤層の凹凸による高精細ディスプレイのギラツキを生じてしまう。

本発明は、上記従来技術に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、識別性が高く、同時に離型層表面の平滑性に優れた離型フィルムを提供することにある。

本発明者は、上記課題を解決するため鋭意検討を行った。その結果、基材フィルムと離型層との間に平坦化層を有し、かつ全光線透過率を特定の数値範囲とした離型フィルムが、識別性と平滑性とを両立できることを見出し、本発明に到達した。

すなわち本発明は、全光線透過率が３０％以下である基材フィルムの少なくとも片面にポリビニルアルコールを主たる成分とする平坦化層、および付加型シリコーンからなる離型層をこの順序で有し、全光線透過率が３０％以下である離型フィルムである。

また本発明は、基材フィルムが、平均粒径０．０３μｍ以上０．５μｍ以下の金属酸化物粒子を、基材フィルムの全質量に対して８質量％以上２５質量％以下含有すること、離型フィルムの離型層表面の１０点平均粗さＲｚが４００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下であり、平坦化層の厚みが２μｍ以上１０μｍ以下であることのうち、少なくともいずれか１つの態様を具備することによって、さらに優れた離型フィルムを得ることができる。
また本発明は、プロテクトフィルムの粘着剤層の保護用として用いられる態様を包含する。

本発明によれば、離型フィルムの識別性が高く、同時に離型層表面の平滑性に優れた離型フィルムを提供することができる。このような作用効果を奏する本発明の離型フィルムをプロテクトフィルムの保護用として用いた場合は、プロテクトフィルムの粘着剤層に凹凸を形成せず良好な光学部材を得ることができる。また、識別性が高いため、歩留まりを低下させない。

＜離型フィルム＞
本発明の離型フィルムは、基材フィルムの少なくとも片面に平坦化層および離型層をこの順序で有するものである。

（離型フィルムの特性）
本発明の離型フィルムは、全光線透過率が３０％以下である。全光線透過率を上記数値範囲とすることによって、識別性に優れる。全光線透過率が３０％を超えると、表面保護フィルムの全光線透過率と近い値となり、識別性に劣る。このような観点から、全光線透過率は、好ましくは１５％以下、さらに好ましくは５％以下である。かかる全光線透過率は、基材フィルムや平坦化層や離型層の全光線透過率を低くすることによって達成される。

本発明の離型フィルムは、離型層表面の１０点平均粗さＲｚが４００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下であることが好ましい。１０点平均粗さＲｚが上記数値範囲にあると、離型層表面がより平滑となり、表面保護フィルムの粘着剤層への凹凸形状の転写がより軽減され、優れた表面保護フィルムを得ることができる。このような観点から、１０点平均粗さＲｚは、さらに好ましくは８００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下、特に好ましくは１２００ｎｍ以上１６００ｎｍ以下である。

また、離型層表面の最大高さＲｍａｘは、１０００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下であることが好ましく、１５００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下であることがさらに好ましい。最大高さＲｍａｘが上記数値範囲にあると、離型層表面がより平滑となり、より優れた表面保護フィルムを得ることができる。

また、離型層表面の中心線平均表面粗さＲａは、１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。中心線平均表面粗さＲａが上記数値範囲にあると、離型層表面がより平滑となり、より優れた表面保護フィルムを得ることができる。

１０点平均粗さＲｚ、最大高さＲｍａｘ、中心線平均表面粗さＲａは、その値が低いと離型層表面が平滑となり、表面保護フィルムの粘着剤層における欠点を生じ難くなる傾向にあるが、低すぎる場合は、平坦化層の厚みを過剰に厚くする必要が生じ、コストアップとなる傾向にある。また、本発明が規定する全光線透過率を達成し難くなる傾向にある。

これら１０点平均粗さＲｚ、最大高さＲｍａｘ、中心線平均表面粗さＲａは、基材フィルムにおける金属酸化物粒子の態様（種類、平均粒径、含有量）、平坦化層の態様（厚み）を適宜調整することによって達成される。

本発明における離型フィルムは、離型層表面における常温剥離力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上１５０ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。常温剥離力が上記数値範囲にあると、表面保護フィルムの粘着剤層との剥離力が安定し、また適度な剥離力で剥離することができるため好ましい。このような観点から、常温剥離力は、さらに好ましくは４０ｍＮ／２５ｍｍ以上８０ｍＮ／２５ｍｍ以下である。

また、離型層表面における加熱剥離力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上２００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。加熱剥離力が上記数値範囲にあると、高温に晒されたとしても表面保護フィルムの粘着剤層との剥離力が安定し、また高温に晒されたとしても適度な剥離力で剥離することができるため好ましい。このような観点から、加熱剥離力は、さらに好ましくは４０ｍＮ／２５ｍｍ以上１００ｍＮ／２５ｍｍ以下である。

また、離型層表面における経時加熱剥離力が１０ｍＮ／２５ｍｍ以上２００ｍＮ／２５ｍｍ以下であることが好ましい。経時加熱剥離力が上記数値範囲にあると、表面保護フィルムの粘着剤層との剥離力が非常に長期で安定し、また高温に晒されたとしても長期間適度な剥離力で剥離することができるため好ましい。このような観点から、経時加熱剥離力は、さらに好ましくは４０ｍＮ／２５ｍｍ以上１００ｍＮ／２５ｍｍ以下である。

これらは、離型層の態様を適宜調整することにより達成することができる。すなわち、離型層に用いられるシリコーンの架橋点を少なくしたり、塗膜厚みを厚くしたりすると、常温剥離力は高くなる傾向にあり、残存するＳｉ−Ｈを減少させると、加熱剥離力は低くなる傾向にあり、残存するＳｉ−Ｈを多くすると、経時加熱剥離力は高くなる傾向にある。

以下、本発明の離型フィルムを構成する各構成成分について説明する。
＜基材フィルム＞
本発明における基材フィルムは、特に限定されないが、可撓性を有し、耐熱性を備えた熱可塑性樹脂フィルムが好ましく用いられる。かかる熱可塑性樹脂フィルムを構成するポリマーとしては、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル、脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレン、ポリプロピレン等が好ましく例示される。中でも、ポリエステルが好ましい。

本発明におけるポリエステルは、第１成分としてのジカルボン酸成分および第２成分としてのグリコール成分からなる。ジカルボン酸成分としてはテレフタル酸、イソフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、４，４’−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸等を例示できる。特に、基材フィルムの機械特性に優れるという観点から、テレフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。また、グリコール成分としてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−へキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ポリエチレングリコール等を例示できる。特に、基材フィルムの剛直性に優れるという観点から、エチレングリコールが好ましい。

上記のポリエステルは、さらに第３成分として、さらに上記ジカルボン酸成分の少なくとも１つ、あるいはグリコール成分の少なくとも１つを共重合したコポリエステルであっても良い。かかる第３成分としては、第１成分として選択されたジカルボン酸成分あるいは第２成分として選択されたグリコール成分とは異なる共重合成分を選択することができる。また、第３成分としては、三官能以上の多価カルボン酸成分あるいはポリオール成分を含んでも良いが、その場合の共重合量は、得られるポリエステルが実質的に線状となる範囲（例えば５モル％以下、さらに好ましくは３モル％以下、特に好ましくは１モル％以下）で少量共重合したポリエステルであることが好ましい。以上のような本発明におけるポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが特に好ましい。

かかるポリエステルは常法により作ることができ、ポリエステルの固有粘度（オルトクロロフェノール中、３５℃における固有粘度）が、０．４５（単位：ｄｌ／ｇ）以上であると、フィルムの剛性が高い等機械特性に優れるため好ましい。

本発明においては、識別性の為に、基材フィルムの全光線透過率が３０％以下であることが好ましく、更に好ましくは１５％以下、特に好ましくは５％以下である。基材フィルムの全光線透過率を上記数値範囲とすることによって、離型フィルムの全光線透過率を本発明が規定する数値範囲とすることが容易となる。

基材フィルムの全光線透過率を上記数値範囲とするためには、基材フィルムに粒子や顔料等の全光線透過率を低下させる添加物を添加する方法や、基材フィルムの少なくとも片面に全光線透過率の低い層を設ける方法があるが、基材フィルムに粒子を添加する方法が、容易に全光線透過率を低下させることができ、また、面内の全光線透過率を均一にすることができるため好ましい。

（粒子）
かかる粒子としては、有機粒子、無機粒子のいずれであっても良いが、添加により基材フィルム内にボイドを形成しやすく、効率よく全光線透過率を低下させる、すなわち基材フィルムを白色化することができることから、金属酸化物粒子が好ましい。かかる金属酸化物粒子としては、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化マグネシウムからなる粒子が好ましい。中でも、特に効率よく基材フィルムを白色化することができることから、酸化チタンが好ましい。

酸化チタン（ＴｉＯ_２）としては、アナターゼ型、ルチル型のいずれの結晶形態のものであっても良い。また、酸化チタンのポリエテルへの分散性向上の目的等で、酸化チタンの表面にアルミニウム、ケイ素、亜鉛等の酸化物、もしくは各種有機物を表面処理したものも用いることができる。

粒子の平均粒径は、０．０３μｍ以上０．５μｍ以下が好ましい。平均粒径が上記数値範囲にあると、基材フィルムを効率良く白色化でき、本発明の規定する離型フィルムの全光線透過率を達成しやすい。また、基材フィルム表面が粗くなりにくく、離型フィルムの離型層表面をより平滑にしやすくなる。このような観点から、粒子の平均粒径は、さらに好ましくは０．０８μｍ以上０．４５μｍ以下、特に好ましくは０．２μｍ以上０．４μｍ以下である。特に好ましい平均粒径の態様とすることによって、表面凹凸形状の転写の抑制効果に特に優れ、とりわけ優れた機能を有する表面保護フィルムを得ることができる。

粒子の含有量は、基材フィルムの全質量に対して８質量％以上２５質量％以下が好ましい。含有量が上記数値範囲にあると、基材フィルムを効率良く白色化でき、本発明の規定する離型フィルムの全光線透過率を達成しやすくなる。また、基材フィルム表面が粗くなりにくく、離型フィルムの離型層表面をより平滑にしやすくなる。このような観点から、粒子の含有量は、さらに好ましくは１０質量％以上２０質量％以下、特に好ましくは１２質量％以上１８質量％以下である。特に好ましい含有量の態様とすることによって、表面凹凸形状の転写の抑制効果に特に優れ、とりわけ優れた機能を有する表面保護フィルムを得ることができる。

また、上記粒子と共に、酸化珪素、炭酸カルシウム、カオリン、タルク、硫酸バリウム等の無機系添加剤や、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン樹脂、架橋アクリル樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂等の耐熱性ポリマーからなる有機系添加剤を含有し、基材フィルム表面の光沢を調整したりすることもできる。このような場合は、好ましくは平均粒径１〜５μｍ、さらに好ましくは平均粒径２〜４μｍのものを、基材フィルムの全質量に対して好ましくは１〜５質量％、さらに好ましくは２〜４質量％添加すればよい。このほかに、ポリエチレン、ポリプロピレン、エチレン・プロピレンコポリマー、オレフィン系アイオノマーのような他の樹脂、安定剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、蛍光増白剤等を必要に応じて含有することもでき、好ましい。

基材フィルムの表面は、上記のごとく粒子の添加によって粗くなってしまうが、基材フィルム表面の１０点平均粗さＲｚは３０００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下となるような粒子の態様とすることが好ましい。基材フィルム表面を粗くしすぎると、平坦化層の厚みを過大に厚くする必要が生じ、生産性が悪くなってしまう。他方、基材フィルム表面が平滑すぎると、光線透過率が高くなりすぎる傾向にある。

（基材フィルムの製造方法）
本発明における基材フィルムは、二軸延伸フィルムであることが好ましい。かかる二軸延伸フィルムは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、ポリエステルからなる二軸延伸フィルムの場合は、ポリエステルを乾燥後、Ｔｍ〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｍはポリエステルの融点（単位：℃）を表す。）で押出機にて溶融し、ダイ（例えばＴ−ダイ、Ｉ−ダイ等）から回転冷却ドラム上に押出し、２０〜９０℃で急冷して未延伸フィルムを製造し、次いで、該未延伸フィルムを（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇはポリエステルのガラス転移点温度（単位：℃）を表す。）で縦方向に２．５〜８．０倍、好ましくは２．９〜５．０倍、さらに好ましくは３．２〜４．０倍の倍率で延伸し、横方向に２．５〜８．０倍、好ましくは３．１〜５．２倍、さらに好ましくは３．４〜４．２倍の倍率で延伸し、必要に応じて１８０〜２５０℃の温度で１〜６０秒間熱固定することにより製造できる。延伸倍率を上記数値範囲とすることによって、厚み斑をより小さくすることができる。

本発明においては、基材フィルムにおける平坦化層を設ける面に、コロナ処理およびプラズマ処理からなる群より選ばれる少なくとも１つの処理を施すと、基材フィルムへのポリビニルアルコール水溶液の塗工性が向上し、ハジキ欠点の少ない平坦化層が得られる。また、基材フィルムと平坦化層との密着性をさらに向上させることができるため好ましい。

なお、本発明における基材フィルムの厚みは、プロテクトフィルムの保護フィルムとしてコシが適度である、取り扱いが容易である等の観点から、１０〜１００μｍが好ましく、２０〜５０μｍがさらに好ましい。

＜平坦化層＞
本発明における平坦化層は、ポリビニルアルコール樹脂（以下、ＰＶＡと呼称する場合がある。）を主たる成分とする。ここで主たる成分とは、平坦化層の全質量に対して８０質量％以上、好ましくは９０質量％以上がポリビニルアルコール樹脂であることを表す。

（ポリビニルアルコール樹脂）
本発明におけるポリビニルアルコール樹脂としては、ポリビニルアルコールまたはその共重合体が用いられる。ポリビニルアルコール共重合体としては、ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、ビニルアルコール−ビニルブチラール共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、分子内にシリル基を有するポリビニルアルコール系高分子等が例示され、これらの中でもビニルアルコール−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体が好ましい。

通常、ポリビニルアルコールは、酢酸ビニルを重合しポリ酢酸ビニルとした後、ケン化することで得られ、ケン化の量はケン化度として表わされる。本発明においては、ポリビニルアルコール樹脂のケン化度は特に限定されないが、ケン化度が７１〜９９．４モル％のものが好ましく用いられる。ケン化度が上記数値範囲にあると、塗液における混和性が高く、より均質な塗膜および平坦化層を得ることができる。また、平坦化層表面をより平滑にすることができる。

また、本発明におけるポリビニルアルコール樹脂の重合度は特に限定されないが、重合度が３００〜２５００のものが好ましく用いられる。重合度が上記数値範囲にあると、塗液における混和性が高く、より均質な塗膜および平坦化層を得ることができる。また、好適な塗液の粘度とすることができ、平坦化層の外観を良好にすることができる。また、平坦化層表面をより平滑にすることができる。

かかるポリビニルアルコール樹脂としては、市販品をそのまま用いることもできる。かかる市販品の具体例としては、株式会社クラレ製ポバールや日本合成化学工業株式会社製ゴーセノール等が挙げられる。

ポリビニルアルコールの水に対する溶解性は、重合度、ケン化度による影響が大きく、一般的には重合度が小さい方が水に溶解しやすい傾向にある。また、ケン化度については、８５〜９０％モル％のものが最も水に溶解しやすい傾向にある。

本発明の離型フィルムは、上記のようなポリビニルアルコール樹脂を主たる成分とした平坦化層を有する。ポリビニルアルコールは、組成に窒素、リン、硫黄といった付加型シリコーンの触媒毒を含まないため、付加型シリコーンの硬化を阻害しない。また、ポリビニルアルコールはシリコーン皮膜との密着性に優れている為、平坦化層を形成する主たる成分として好適に用いる事が出来る。

かかる平坦化層の厚みは、２μｍ以上１０μｍ以下が好ましく、２μｍより薄いと基材フィルムの表面凹凸形状を低減する効果が少なくなる傾向にあり、表面保護フィルムの気泡混入やギラツキの低減効果が不十分となる傾向にある。他方、平坦化層の厚みが１０μｍを超えると、平坦化層を形成するために多量の塗工樹脂が必要となったり、ポリビニルアルコール水溶液の乾燥に多くの熱エネルギーを要したり、乾燥時間が長くなるなど、生産性や省エネルギーの観点より好ましくない。このような観点から、平坦化層の厚みは、さらに好ましくは３μ以上５μｍ以下である。

平坦化層の表面粗さは、１０点平均粗さＲｚが４００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下の範囲が好ましい。１０点平均粗さＲｚが上記数値範囲にあると、離型フィルムの離型層表面の１０点平均粗さＲｚを本発明が規定する数値範囲にしやすくなる。１０点平均粗さＲｚを４００ｎｍよりも低くしようとすると、平坦化層を過大に厚くする必要が生じ、生産性や省エネルギーの観点より好ましくなく、また２５００ｎｍよりも大きいと、離型フィルムの離型層表面が粗くなりすぎる傾向にあり、表面保護フィルムにおいては気泡混入やギラツキ防止の効果が低減する傾向にある。このような観点から、平坦化層の１０点平均粗さは、さらに好ましくは８００ｎｍ以上２０００ｎｍ以下、特に好ましくは１２００ｎｍ以上１６００ｎｍ以下である。かかる１０点平均粗さＲｚは、基材フィルムにおける金属酸化物粒子の態様（種類、平均粒径、含有量）、平坦化層の態様（厚み）を適宜調整することによって達成される。

本発明においては、離型フィルムを白色にすることにより、表面保護フィルムと離型フィルムとの識別が容易にでき、作業効率が向上する。ただし、白色フィルムの表面凹凸が、表面保護フィルムの粘着剤層に形状転写し、気泡の混入や、高精細ディスプレイにおけるギラツキ発生の原因となり、検査工程の効率が下がってしまう。そこで、本発明のごとく平坦化層を有する離型フィルムを用いることによって、表面保護フィルムにおける粘着剤層の凹凸が低減され、保護フィルム貼付時の気泡混入やギラツキ発生が抑制されると共に、識別性を有し、これらの両立が可能となる。

＜離型層＞
本発明における離型層は、付加型シリコーン及び縮合型シリコーンを用いることができるが、生産性の点から、反応の速い付加型シリコーンが好ましく用いられる。縮合型シリコーンは、生産時に十分に硬化しにくいため、離型層を形成する工程内の搬送ローラーにシリコーンが転写し、堆積し、堆積したシリコーンがフィルムに再度移行することにより異物欠点となる場合がある。また、離型性の点からも、樹脂変性シリコーンは、保護フィルムに好適に用いられる低剥離領域を達成し難い。このような観点からも、付加型シリコーンが好適に用いられる。

本発明における離型層の厚みは、０．０１〜１μｍが好ましい。離型層の厚みが上記数値範囲にあると、表面保護フィルムの粘着剤層の保護用として適した離型性を得ることが容易となる。このような観点から、厚みは、さらに好ましくは０．０５〜０．５μｍ、特に好ましくは０．０８〜０．１２μｍである。

＜離型フィルムの製造方法＞
（平坦化層の形成方法）
ポリビニルアルコールの水への溶解方法は、完全ケン化型は、ポリビニルアルコールを冷水または温水（約４０℃以下）に攪拌投入し分散させた後に、直ちに加熱し９０〜９５℃に３０〜６０分保つことにより完全に溶解できる。また、部分ケン化型においては、３０℃以下の水に攪拌しながらポリビニルアルコールを徐々に投入し、良く分散させた後、８０〜９０℃に３０分〜６０分間保ち、完全に溶解させる。このとき急激に温度を上げると発泡が激しくなる事があるため、注意が必要である。ここで言う完全ケン化とは、一般的にケン化度９８％以上の物を指し、部分ケン化とはケン化度７０〜９０％の物を指す。

このように、ポリビニルアルコール水溶液（以下、平坦化層塗液と呼称する場合がある。）を作成し、基材フィルムに塗布し、乾燥することによって平坦化層を形成する。平坦化層は、ポリビニルアルコールをイソシアネート化合物等により硬化したものであってもよいが、硬化しすぎると基材フィルムとの密着性が低下する傾向にある。

平坦化層塗液を基材フィルムに塗布するための塗布方法としては、公知の任意の塗布方法が適用でき、例えばグラビアロールコート法、リバースロールコート法、ダイコート法、キスコート法、リバースキスコート法、オフセットグラビアコート法、マイヤーバーコート法、ロールブラッシュ法、スプレーコート法、エアーナイフコート法、含浸法、カーテンコート法、ドクターブレード法等を単独または組み合わせて適用することができる。また、ハジキなど塗布外観の安定性を向上させる目的で、塗液には若干量の界面活性剤を含有させることができる。

平坦化層塗液を基材フィルムに塗布後、乾燥する条件としては、１００℃以上１８０℃以下の温度で１０秒以上１２０秒以下の時間加熱することが好ましく、１２０℃以上１６０℃以下の温度で２０秒以上９０秒以下の時間加熱することがさらに好ましく、１３０℃以上１５０℃以下の温度で３０秒以上６０秒以下の時間加熱することが特に好ましい。上記のごとく乾燥条件を採用することによって、平坦化層の強度をより高くすることができる。また、基材フィルムと平坦化層との密着性をより高くすることができる。

（離型層の形成方法）
本発明における離型層は、離型層を構成する各構成成分を含有する塗液（以下、離型層塗液と呼称する場合がある。）を、平坦化層の上に塗布し、乾燥、硬化することによって形成する。
離型層塗液を塗布するための塗布方法としては、上記平坦化層塗液を基材フィルムに塗布するための塗布方法と同様の塗布方法を適用することができる。

離型層塗液を塗布後、乾燥、および硬化する条件としては、１００℃以上１８０℃以下の温度で１０秒以上１２０秒以下の時間加熱することが好ましく、１２０℃以上１６０℃以下の温度で２０秒以上９０秒以下の時間加熱することがさらに好ましく、１３０℃以上１５０℃以下の温度で３０秒以上６０秒以下の時間加熱することが特に好ましい。上記のごとく乾燥条件を採用することによって、離型層の強度をより高くすることができる。また、平坦化層と離型層の密着性をより高くすることができる。

以下、実施例を挙げて本発明をさらに説明する。なお、各特性値は以下の方法で測定した。

（１）厚み
（１−１）離型層
離型フィルムを三角形の小片に切り出した後、コーティングにより、厚み２ｎｍのＰｔ（白金）層を離型層表面に形成した。得られたサンプルを多軸包埋カプセルに固定して、エポキシ樹脂を用いて包埋処理し、ミクロトームＵＬＴＲＡＣＵＴ−Ｓを用いて、離型フィルムの面方向に垂直な方向にスライスして、厚さ５０ｎｍの超薄サンプルを得た。次いで、得られた超薄サンプルをグリッドに載台して、２％オスミウム酸により、６０℃、２時間の条件で蒸気染色した。蒸気染色後の超薄サンプルについて、透過電子顕微鏡ＬＥＭ−２０００により、加速電圧１００ｋｖの条件で観測し、離型層の厚みを測定した。測定は、離型フィルムの任意の１０点について実施し、それらの平均値を離型層の厚み（単位：μｍ）とした。

（１−２）平坦化層
上記と同様にして得られた超薄サンプルを用いて、光学顕微鏡により観測し、平坦化層の厚みを測定した。測定は、離型フィルムの任意の１０点について実施し、それらの平均値を平坦化層の厚み（単位：μｍ）とした。

（１−３）基材フィルム
打点式厚み計を用いて、任意の１０点について測定を実施し、それらの平均値を基材フィルムの厚み（単位：μｍ）とした。

（２）粒子の平均粒径
試料台上に、粒子の粉体を個々の粒子ができるだけ重ならないように散在させ、金スパッター装置によりこの表面に金薄膜蒸着層を厚み２００〜３００オングストロームで形成し、走査型電子顕微鏡を用いて１万〜３万倍で観察し、日本レギュレーター（株）製ルーゼックス５００にて、少なくとも１１０個の粒子について、長径（Ｄｌｉ）、短径（Ｄｓｉ）、および面積円相当径（Ｄｉ）を求めた。
粒子の個数ｎとし、上記で得られた値を下記式に用いて、面積相当粒径（Ｄｉ）の数平均値を平均粒径（Ｄ）とした。

（３）表面粗さ
（３−１）中心線平均表面粗さ（Ｒａ）
非接触式３次元粗さ計（小坂研究所製、ＥＴ３０ＨＫ）を用いて波長７８０ｎｍの半導体レーザー、ビーム径１．６μｍの光触針で測定長（Ｌｘ）１ｍｍ、サンプリングピッチ２μｍ、カットオフ０．２５ｍｍ、縦方向拡大倍率５０００倍、横方向拡大倍率２００倍、走査線数１００本（したがって、Ｙ方向の測定長Ｌｙ＝０．２ｍｍ）の条件にて離型フィルムの離型層表面の突起プロファイルを測定し、その粗さ曲面をＺ＝ｆ（ｘ，ｙ）で表したとき、次の式で得られる値を中心線平均表面粗さ（Ｒａ、単位：ｎｍ）とした。

（３−２）１０点平均粗さ（Ｒｚ）
また、上記により得られた離型フィルムの離型層表面の突起プロファイルにおいて、ピーク（Ｈｐ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低い方から５点をとり、次の式により１０点平均粗さ（Ｒｚ、単位：ｎｍ）を求めた。

（３−３）最大高さ（Ｒｍａｘ）
さらに、上記により得られた離型フィルムの離型層表面の突起プロファイルから、最大高さ（Ｒｍａｘ、単位：ｎｍ）を求めた。

（４）剥離力測定
（４−１）常温剥離力
１０ｃｍ×２０ｃｍの離型フィルムサンプルを切り出し、この離型層表面に２５ｍｍ幅のポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ、日東電工株式会社製）を貼り、２ｋｇ×４５ｍｍ幅の圧着ローラーで、１往復荷重をかける。テープを貼り合せたサンプルを２５ｍｍ幅×１５０ｍｍ長さに切り出し、室温（２３℃）にて２０時間保管する。３１Ｂ粘着テープ面側を５０ｍｍ幅×１２５ｍｍの長さのアルミ板に貼りつけて固定し、引っ張り試験機に固定し、離型フィルムを１８０゜の角度で剥離速度３００ｍｍ/分にて剥離し、その荷重を測定する。この測定を３回行い、その平均値を以って剥離力（単位：Ｎ／２５ｍｍ）とした。

（４−２）加熱剥離力
保管の条件を２０ｇ／ｃｍ^２の荷重をかけ７０℃にて２０時間とする以外は、上記（４−１）常温剥離力と同様にして測定を実施し、加熱剥離力（単位：Ｎ／２５ｍｍ）を求めた。

（４−３）経時加熱剥離力
保管の条件を７０℃にて１週間とする以外は、上記（４−１）常温剥離力と同様にして測定を実施し、経時加熱剥離力（単位：Ｎ／２５ｍｍ）を求めた。

（４−４）常温残留接着率
ポリエステル粘着テープ（Ｎｏ．３１Ｂ、日東電工株式会社製）を、ＪＩＳＧ４３０５に規定する冷間圧延ステンレス板（ＳＵＳ３０４）に貼り付けた後、それを剥離して剥離力を測定し、基礎接着力（ｆ_０）とする。次に、新しいポリエステル粘着テープをサンプルフィルムの離型層表面に２ｋｇの圧着ローラーで圧着し、３０秒間放置した後ポリエステル粘着テープを剥がす。そして、この剥がしたポリエステル粘着テープを上記のステンレス板に貼り付け、それを剥離して剥離力を測定し、残留接着力（ｆ）とする。得られた基礎接着力（ｆ_０）と残留接着力（ｆ）とから下記式を用いて残留接着率（単位：％）を求めた。
残留接着率（％）＝（ｆ／ｆ_０）×１００

（５）硬化性評価
（５−１）スミア
離型フィルムの離型層表面を、清浄にした人差し指にて軽く擦り、塗膜の白化状態を確認し、硬化性の評価を行った。
○：白化が認められず、塗膜が硬化している。
×：白化が認められ、塗膜の硬化が不完全である。

（５−２）ラブオフ
離型フィルムの離型層表面を、清浄にした親指にて、強く一方向に１０回擦り離型層の白化状態を確認し、硬化性の評価を行った。評価は、離型フィルムを作成してから１日経時した時点と、１ヶ月経時した時点で行なった。
○：白化や塗膜の脱落が認められず、塗膜が密着している。
×：白化や塗膜の脱落が認められ、塗膜の密着が不完全である。

（６）粘着剤塗布面面質評価
アクリル系粘着剤として、２−エチルヘキシルアクリレート（主モノマー）、ｎ−ブチルアクリレート（コモノマー）、酢酸ビニル（コモノマー）、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（官能基含有モノマー）が５：２：２：１の重量比で混合された組成物と、エポキシ変性ステアリルアクリレートからなる添加剤とを、前者の組成物１０質量部に対し後者の添加物０．５質量部となるように加え、酢酸エチルの溶剤下で反応触媒としてアゾビスイソブチロニトリルを用い溶液重合した。得られた粘着剤用ポリマーの重量平均分子量は約３５万であった。この粘着剤用ポリマーに、トリレンジイソシアネート（ＴＤＩ）系イソシアネート架橋剤（日本ポリウレタン社製コロネートＬ）を固形分比で粘着剤用ポリマー１００質量部に対し、架橋剤７質量部の割合で添加した後、本発明の離型フィルムの離型層表面に乾燥後の厚みが１５μｍとなるように塗布し、１００℃下２分乾燥した後、３８μ厚みの透過率８５％以上、ヘーズ２％以下のポリエステルフィルムと該粘着剤層面とを貼り合せ、４５℃で１週間のエージング処理を行って、離形フィルムを剥がし、粘着層を厚さ５ｍｍの清浄なガラス表面にゴムローラーにて貼り合せ、ガラス貼付状態を観察した。
○：濁りは認められない。
×：濁りが認められる。

（７）全光線透過率
ＪＩＳＫ７１５０に従い、スガ試験機（株）製のヘイズメーターＨＣＭ−２Ｂにて測定した。測定は、離型フィルムの任意の５箇所について実施し、それらの平均値を全光線透過率（単位：％）とした。

［実施例１］
［基材フィルム］
極限粘度０．６５のポリエチレンテレフタレートペレット（ＰＥＴ）（ガラス転移点温度Ｔｇ＝７８度、融点Ｔｍ＝２５８℃、ＤＳＣ法による。）を８１質量部、平均粒径０．３μｍの二酸化チタンを１５質量部、平均粒径４μｍのシリカを４質量部、蛍光増白剤（ユビテックス０８、チバカイギー株式会社製）０．００４質量部の割合にて混合した後、２軸タイプエスクトルーダーにて溶融混合し、冷却ドラム上に押出し、未延伸シートを得た。続いて、かかる未延伸シートを９０℃で縦延伸倍率３．３倍、１３０℃で横延伸倍率３．５倍で延伸した後、２１０℃、４秒間熱処理し、厚さ３８μの二軸延伸ポリエステルフィルムを得た。

［平坦化層］
部分ケン化型ポリビニルアルコール（ゴーセノールＧＨ−１７、日本合成化学株式会社製、ケン化度８６．５〜８９．０％、重合度＝１５００〜２５００）２０質量部を２５℃の水８０質量部に攪拌して分散させた後、攪拌しながら加熱して３０分で９０℃まで加熱して溶解し、平坦化層塗液を作成した。この平坦化層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られた二軸延伸ポリエステルフィルムの片面に塗布し、１４０℃の乾燥温度にて６０秒乾燥し、乾燥膜厚みが４μｍの平坦化層を形成した。

［離型層］
メチルエチルケトン（ＭＥＫ）７０質量部とトルエン３０質量部とからなる混合溶剤に、ポリジメチルシロキサンを主成分とするシリコーン（信越化学工業株式会社製：ＴＰＲ６７００）６質量部を溶解し、触媒（信越化学工業株式会社製：ＣＭ６７０）をシリコーン１００質量部に対し２質量部の割合で混合して離型層塗液を作成した。この離型層塗液を常法のロールコートにより、上記で得られた平坦化層上に塗布し、１４０℃の乾燥温度にて３０秒乾燥し、乾燥膜厚みが０．１０μｍの離型層を形成し、離型フィルムを得た。
得られた離型フィルムの特性を表１に示す。

［比較例１］
平坦化層を設けない以外は実施例１と同様にして離型フィルムを作成した。
得られた離型フィルムの特性を表１に示す。

［比較例２］
離型層を設けない以外は実施例１と同様にして離型フィルムを作成した。
得られた離型フィルムの特性を表１に示す。

Claims

全光線透過率が３０％以下である基材フィルムの少なくとも片面にポリビニルアルコールを主たる成分とする平坦化層、および付加型シリコーンからなる離型層をこの順序で有し、全光線透過率が３０％以下である離型フィルム。
基材フィルムが、平均粒径０．０３μｍ以上０．５μｍ以下の金属酸化物粒子を、基材フィルムの全質量に対して８質量％以上２５質量％以下含有する請求項１に記載の離型フィルム。
離型フィルムの離型層表面の１０点平均粗さＲｚが４００ｎｍ以上２５００ｎｍ以下であり、平坦化層の厚みが２μｍ以上１０μｍ以下である請求項１または２に記載の離型フィルム。
プロテクトフィルムの粘着剤層の保護用として用いられる請求項１〜３のいずれか１項に記載の離型フィルム。