JP5535129B2 - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
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Description
図1は、本発明の実施の形態1に係る光ファイバの製造方法の実施に用いる光ファイバの製造装置の全体構成を示す模式図である。図1に示すように、この製造装置100は、石英ガラスを主成分とする光ファイバ母材1の一端を加熱溶融するための、ヒータ11aを有する線引炉11と、線引炉11の下方において、光ファイバ母材1の一端から線引きしたガラス光ファイバ2の通路に配置された、樹脂塗布装置としての樹脂塗布ダイス12と、被覆形成装置13と、被覆形成装置13の下方に配置されたガイドローラ14、15および巻取りドラム16とを備えている。
図5は、本発明の実施の形態2に係る光ファイバの製造方法の実施に用いる光ファイバの製造装置の全体構成を示す模式図である。図5に示すように、この製造装置200は、図1に示す製造装置100において、樹脂塗布ダイス12を樹脂塗布ダイス12Aに置き換え、かつ被覆形成装置13とガイドローラ14との間に、樹脂塗布装置としての樹脂塗布ダイス12Bと被覆形成装置13とをもう一組追加した構成を有しており、その他の点は製造装置100と同様の構成である。なお、樹脂塗布ダイス12A、12Bは、それぞれ、液状の樹脂を供給するための樹脂供給管12Aa、12Baを備えている。また、樹脂塗布ダイス12Bは、一次被覆光ファイバ2Aを導入するためのニップルを備えている(たとえば、特許文献3参照)。
このように、上側の被覆形成装置13にカバー136を設けることにより、塗布された樹脂は、十分な量の紫外線によって十分に硬化し、その後傷つけられることもない。その結果、良質の被覆を有する光ファイバ3Aが製造される。
図7において、樹脂塗布ダイス12は、図1に示したものと同一である。また、被覆形成装置33は、図6に示す被覆形成装置23からカバー136を削除した構成を有している。
つぎに、本発明の実施例1〜6、比較例1として、図6に示すカバーを有する構成の被覆形成装置、または図7に示すカバーが無い構成の被覆形成装置を図1に示す光ファイバの製造装置に用いて、ガラス光ファイバの線速および透明管(石英管)内の流速を様々な値として光ファイバの製造を行なった。ここで、不活性ガスとしては純度が99.9%の窒素ガスを用いた。保護管へ供給する窒素ガスの流量を35SLMとした。保護管と固定具との間の間隙の幅を40mmとした。また、カバー有りの実施例においては、カバーの長さを45mmとし、カバーが紫外線照射部には接触しないようにした。
つぎに、本発明の実施例7、8として、図6に示すカバーを有する構成の被覆形成装置、または図7に示すカバーが無い構成の被覆形成装置を図5に示す光ファイバの製造装置に用いて光ファイバの製造を行なった。ここで、不活性ガスとしては純度が99.9%の窒素ガスを用いた。保護管へ供給する窒素ガスの流量を35SLMとした。保護管と固定具との間の間隙の幅を40mmとした。また、カバー有りの実施例においては、カバーの長さを45mmとし、カバーが紫外線照射部には接触しないようにした。
2、2a ガラス光ファイバ
2A 一次被覆光ファイバ
3、3A 光ファイバ
11 線引炉
11a ヒータ
12、12A、12B 樹脂塗布ダイス
12a、12b、12Aa、12Ba 樹脂供給管
13〜33 被覆形成装置
14、15 ガイドローラ
16 巻取りドラム
100 製造装置
131、231 保護管
131a、231a 不活性ガス供給管
132 透明管
133 紫外光源
134 筐体
135 固定具
136 カバー
137 封止部材
137a 排気管
138 紫外線照射部
231b 邪魔板
f 随伴流
G1 不活性ガス
G2 ガス
Claims (3)
- 走行するガラス光ファイバの外周に紫外線硬化型の樹脂を塗布する樹脂塗布工程と、
前記樹脂を塗布した直後のガラス光ファイバを不活性ガス雰囲気下に通過させ、該樹脂の表面近傍に該不活性ガスからなる随伴流を形成する随伴流形成工程と、
前記随伴流を伴うガラス光ファイバを、雰囲気ガスが1.8m/s以上の流速で流れる紫外線透過管内に通過させながら、前記随伴流に覆われた樹脂に紫外線を照射して硬化させ、被覆を形成する被覆形成工程と、
を含み、前記随伴流形成工程において前記随伴流を形成するために前記不活性ガスが供給される不活性ガス雰囲気形成部と、前記紫外線透過管と前記紫外線を出射する紫外光源とを含む紫外線照射部とが離間していることを特徴とする光ファイバの製造方法。 - 前記ガラス光ファイバの線速を850m/min以上とすることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記不活性ガス雰囲気形成部と前記紫外線照射部との間の間隙を覆い、かつ該不活性ガス雰囲気形成部および該紫外線照射部の両方には同時に接触しないカバーを設けることを特徴とする請求項1または2に記載の光ファイバの製造方法。
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