JP5523099B2 - 円板状物品の表面から液体を除去するための装置及び方法 - Google Patents
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Description
・1個の円板状物品を保持しかつ回転させるための回転手段、
・円板状物品上に液体を分配するための液体分配手段、
・円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも1個のノズルを
備えた第1の気体分配手段、
・円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも1個のノズルを
備えた第2の気体分配手段、
・第2の気体分配手段と液体分配手段とが縁の領域に向かって動くように、液体分配手
段と第2の気体分配手段とを円板状物品を横切って動かすための移動手段、及び
・第2の気体分配手段とは別の第1の気体分配手段を通って分配される気体の流量を制
御するための手段
を備え、第1の気体分配手段のオリフィスの断面積の和が第2の気体分配手段のオリフィスの断面積の和より小さい装置を提供することにより目的を達成する。
、回転運動の中心を通りかつスリット状ノズルが直線運動に関して実質的に直角に取り付られたとき第2の気体分配手段の直線運動により達成することができる。スリット状ノズルがスイベルアームに取り付けられた場合は、スリット状ノズルを回転運動の半径に対して実質的に直角な位置に維持するためにノズルの逆方向移動を行わなければならない。
・円板状物品の表面に直角な軸線まわりに円板状物品を回転させ、
・回転しているときに円板状物品の上に液体を供給し、この液体は供給ポートから供給
され、これは円板状物品の縁に 向かって基板を横切って動かされ、
・第1の気体流を、第1の気体供給ポートを通してある一領域に向かって円板状物品上
に供給し、この領域の中心は20mmより大きくない回転運動の中心までの距離を有し
、第1の気体が供給されるこの領域は、第1の気体が供給されるとき液体層で覆われ、
そしてこれにより液体層が分離した領域において開口され、更に
・第2の気体供給ポートを通して第2の気体流を回転中の円板状物品上に供給し、この
第2の気体流は第2の気体供給ポートより供給され、基板の縁の方に基板を横切って動
かされ、第2の気体供給ポートの中心までの距離は、第2の気体流及び液体が供給され
ている間の液体供給ポートの中心までの距離より小さい
諸段階よりなる方法である。
ル組立体とウエハー表面との間にはただ一定の距離a1が維持される。かかる距離はプロセス要因(例えば流体の流量、チャックの速度)に応じて最適化され、1mmから5cmの間、好ましくは3mmから2cmの間で選定される。ノズル組立体の距離は、ウエハーに最寄りのノズルオリフィスの距離であるとして定義される。
図5に示されたノズル組立体の第4の実施例は第2の実施例(図3)に基づくが、リンス用ノズルは別のアームにが取り付けられる。これは機械的にはより複雑な解を導くが、これは、リンス用ノズルをウエハーの上方の空間から取り去ることができ、従ってリンス用ノズルが液体除去プロセスを妨害しないという利点を与える。
は、濡らし用ノズル10の中心の位置Pの距離rに依存して次式に示されるように調整すべきである。
ここに
w1は、基本回転速度であり、
r1は、円周方向速度を一定にしようとする衝撃点と回転中心との距離である。
Claims (14)
- 1個の単一円板状物品を保持しかつ回転させるためのスピンチャック、
円板状物品上に液体を分配して液体層を形成するための液体分配手段、
円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも1個のノズルを備えた第1の気体分配手段、
円板状物品上に気体を吹き付けるためのオリフィスを有する少なくも1個のノズルを備えた第2の気体分配手段、
第2の気体分配手段と液体分配手段とが縁部の領域に向かって動くように、液体分配手段と第2の気体分配手段とを円板状物品を横切って動かすための移動手段、及び
第2の気体分配手段とは別の第1の気体分配手段を通って分配される気体の流量を制御するための手段、
を備え、
第1の気体分配手段のオリフィスの断面積の和が第2の気体分配手段のオリフィスの断面積の和より小さく、
第1の気体流の気体速度v1が最小3m/sであるように制御して液体層を開口させ、
円板状物品を横切って液体分配手段と第2の気体分配手段とを動かすための移動手段が、第2の気体分配手段が液体分配手段に追随するように構成され、
移動手段は、第1の気体分配手段が液体分配手段に追随するように、円板状物品を横切って第1の気体分配手段を動かすための手段を更に備え、
第2の気体分配手段は、気体のカーテンを分配するように回転運動の半径に対して実質的に直角に配列されたスリット状のノズル、または気体のカーテンを分配するように第2の気体分配手段の運動方向と実質的に直角である直線上に配列されたノズルの列、のいずれかを備えている、円板状物品の表面から液体を除去するための装置。 - 第1及び第2の気体分配手段のオリフィスの断面積の和が1:1.1から1:20の比率を有する請求項1による装置。
- 第1の気体分配手段が20mm2より小さい断面積の和を有する請求項1による装置。
- 第2の気体分配手段が5mm2より大きい断面積の和を有する請求項1による装置。
- 第2の気体分配手段と液体分配手段とが、第2の気体分配手段と液体分配手段との間の距離d2で互いに固定される請求項1による装置。
- 第1の気体分配手段、第2の気体分配手段及び液体分配手段が、第1の気体分配手段と液体分配手段との間の距離d1で互いに固定される請求項5による装置。
- 距離d2と距離d1との差(d2−d1)が、−1cmと+1cmとの間である請求項5による装置。
- 円板状物品の主表面に直角な軸線まわりで円板状物品を回転させる工程、
回転しているときに円板状物品の上に液体を供給し、この液体が円板状物品の縁部に向かって基板を横切って動かされる供給ポートから供給される工程、
第1の気体供給ポートを通して一つの領域に向かって円板状物品上に第1の気体流を供給し、この領域の中心が20mmより大きくない回転運動の中心までの距離を有し、第1の気体が供給されるこの領域は、第1の気体が供給されるとき液体層で覆われ、そしてこれにより分離した領域において液体層を開口させる工程、更に
第2の気体供給ポートが、気体のカーテンを分配するように回転運動の半径に対して実質的に直角に配列されたスリット状のノズル、または気体のカーテンを分配するように第2の気体供給ポートの運動方向と実質的に直角である直線上に配列されたノズルの列、のいずれかを備える工程、
回転されたときの円板状物品上に第2の気体供給ポートを通して第2の気体流を供給し、この第2の気体流が基板の縁部に向かって基板を横切って動かされる第2の気体供給ポートより供給され、第2の気体供給ポートから中心までの距離が、第2の気体流及び液体が供給されている間の液体供給ポートから中心までの距離より小さい工程、
を有し、
第1の気体流の気体速度v1が最小3m/sであり、
第2の気体供給ポートが液体供給ポートに追随し、
第2の気体流の供給が、第1の気体流が開始された後で開始され、
第2の気体流の気体速度v2が最大5m/sである、
円板状物品の表面から液体を除去するための方法。 - 第2の気体供給ポートの外側の縁部が回転運動の中心まで少なくも20mmの距離にあるとき、第2の気体流が開始される請求項8による方法。
- 第1の気体流の気体速度が第2の気体流の気体速度の少なくも2倍である請求項8による方法。
- 第1の気体流の気体体積流量が、第2の気体流の気体体積流量の半分より多くない請求項8による方法。
- 液体供給ポートが縁部に向かって動くとき、回転速度が減少する請求項8による方法。
- 液体供給ポートが縁部に向かうとき、液体供給ポートが縁部に向かって動く移動速度が減少する請求項8による方法。
- 除去液体の表面張力を減少させる物質が、除去液体を経て、又は少なくも第2の気体流を経て、或いは除去液体と少なく第2の気体流との両者を通して適用される請求項8による方法。
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