JP5502882B2 - 加熱装置 - Google Patents

Description

本発明は、請求項１の上位概念に記載の、特にテクスチャード加工機に用いるための糸用の加熱装置ならびに請求項９の上位概念に記載のテクスチャード加工機に関する。

合成繊維ヤーンを製造する際に、合成糸を溶融紡糸したあとで繊維として使用するために必要な構造を得るために、テクスチャード加工プロセスで処理することが公知である。その際、特にマルチフィラメント糸がテクスチャード加工され、延伸され、リラックス処理（弛緩）される。このような処理ステップを実施するために、テクスチャード加工区間の内側で糸に第１の熱処理を施し、リラックス処理区間の内側で第２の熱処理を施すことが公知である。このために一般的に、独立した加熱装置が用いられ、加熱装置は、糸走行経路上で相前後して配置されている。

テクスチャード加工プロセスでこのような熱処理をできるだけエネルギ学的に効果的に行うために、先行技術において個別の２つの加熱群の縦長の加熱通路を備えた加熱装置が公知である。

ドイツ連邦共和国特許出願公開第１７６０９２３号明細書において加熱装置が開示されており、加熱装置は、相互に鏡面対称的に配置された２つのテクスチャード加工機の対称軸線上に配置されている。加熱装置の内側に、３つの加熱群の、相並んで列を成して配置された加熱通路が配置されている。その際、中央列上に相並んで配置された加熱通路は、両方のテクスチャード加工機の加工箇所に対応して配置されており、テクスチャード加工区間の内側で、供給ボビンから引き出された糸が加熱される。加熱装置の内側に設けられた外側の加熱群は、それぞれテクスチャード加工機の１つに対応して配置されており、その際、加熱通路は、それぞれ糸をテクスチャード加工したあとでリラックス処理区間を形成している。

公知の加熱装置は、多数の糸を２つのテクスチャード加工機の対象平面上で熱処理するのに適している。加熱装置が、機械の略全長にわたって延在しているので、絶縁に関して多大な手間が要求される。

ドイツ連邦共和国特許出願公開第２６１９９９８号明細書において加熱装置が公知であり、ここでは４つの加熱群の相並んで列を成して配置された加熱通路が設けられており、加熱通路は、共通のハウジング内に配置されている。加熱群は、両方のテクスチャード加工機の対称軸線に対して対称的に配置されているので、機械に割り当てられている。その際、加熱通路は、相並んで列を成して配置されていて、かつ機械の略全幅にわたって延在している。その際、加熱通路は、機械の全幅にわたって絶縁する必要がある。

背景技術において、位置的に分けられた２つの加熱群から成る加熱装置も公知である。欧州特許第００３９９３８号においてテクスチャード加工機が公知であり、このテクスチャード加工機は、糸を熱処理するために別個の２つの加熱装置を備えている。各加熱装置は、加熱通路の個別の加熱群を備えており、加熱通路は、第１の加熱装置の内側でテクスチャード加工区間内で束状に配置されている。したがって加熱装置の内側に加熱通路をコンパクトに配置することができるが、テクスチャード加工区間およびリラックス処理区間に個別の加熱装置が必要であるという欠点が存在する。

したがって本発明の課題は、冒頭で述べた加熱装置を改良して、複数の加熱群の加熱通路が、エネルギ学的に好適に配置して保持されているものを提供することである。

さらに本発明の課題は、加熱装置を備えた公知のテクスチャード加工機を改良して、加熱群の加熱通路をコンパクトに配置しつつ、隣接するテクスチャード加工機に依存しない構造群の極めてフレキシブルな配置を実現することである。

この課題は、請求項１の特徴部に記載の構成を有する加熱装置ならびに請求項９の特徴部に記載の構成を有するテクスチャード加工機によって解決される。

本発明の好適な構成は、各従属請求項に規定されている。

本発明の利点によれば、加熱群の加熱通路を特にコンパクトに配置して保持することができるので、外向きに作用する熱絶縁部を最小限に抑えることができる。このために加熱通路は、同心的な横断面配置で保持され、第１の加熱群の加熱通路は、中央域に配置されており、第２の加熱群の加熱通路は、中央域を包囲する縁部域に配置されている。したがって加熱群の入り込んだ（入れ子式の）配置構造が得られる。加熱通路の同心的な横断面配置により、多数の糸を狭い空間でまとめて熱処理を、テクスチャード加工機のテクスチャード加工区間でもテクスチャード加工機のリラックス処理区間でも行うことができる。したがって熱絶縁部および加熱手段の使用を最小限に抑えることができる。

空間利用に関して、一方または両方の加熱群の加熱通路を相並んで円を描くように配置して保持するような配置が特に好適である。したがって加熱装置の糸は、全面からガイドすることができる。本発明による加熱装置は、とりわけテクスチャード加工機の中央で糸の熱処理を行うために適している。

加熱装置の加熱群において様々な熱処理を行うために、本発明の好適な別の構成では、個別に制御可能な複数の加熱手段が設けられていて、その際、加熱通路の各加熱群に対応して少なくとも１つの加熱手段が配置されている。

加熱手段として、電気式の加熱エレメントまたは熱伝達媒体の加熱循環路またはそのような加熱手段の組み合わせが用いられる。

同時に処理しようとする糸が多数ある場合に加工群を形成するために、本発明の別の格別に好適な構成によれば、加熱通路の複数の部分加熱群が加熱群の内側に形成されていて、加熱通路の各部分加熱群に対応して１つの加熱手段が配置されている。したがって熱処理を行う際に高い融通性が得られる。したがって加熱通路の部分加熱群は、隣接する部分加熱群とは無関係に加熱することができる。

熱処理の要求に応じて、加熱群の加熱通路は、個々の加熱管または個々の加熱溝によって形成することができ、その際、加熱溝に対応して単数または複数のカバー手段が配置されている。

加熱溝を備えた加熱群は、好適な構成によれば、加熱装置の縁部域に形成されているので、糸は、外側から、開いた加熱溝に導入可能である。したがって多数の糸でも、簡単に操作して、外側の加熱群の加熱通路に導入することができる。

好適には、加熱管として形成された加熱通路に対応して、入口側でも出口側でも、ガイド管が配置されるので、糸を通すために、入口に作用する吸込流を形成するインジェクタを用いることができる。

加熱群の相互の影響を回避するために、加熱通路の加熱手段の間に複数の絶縁エレメントが設けられている。したがって加熱群において、糸を、様々な温度範囲で処理することが保証される。

本発明によるテクスチャード加工機の特徴によれば、従来のテクスチャード加工機と比べて所要スペースが大幅に削減されている。

空間利用に関して、加工箇所のゴデット搬送装置は、好適には、加熱装置に対して対称的に配置されている。したがって好適には、加工箇所において糸を延伸する際に、均等な延伸長さが得られる。

加熱装置の縁部域の加熱通路がテクスチャード加工区間の内側に位置し、加熱装置の中央域の加熱通路がリラックス処理区間の内側に位置するように、ゴデット搬送装置が加工箇所に配置されていることによって、テクスチャード加工機において特に好適な配置構造が実現される。

このために加熱装置は好適には鉛直に方向付けされており、その際、複数のテクスチャード加工アセンブリが、加熱装置に対して間隔を有して、相並んで部分円を描くように配置して保持されている。

加工箇所が極めて多数ある場合に全ての加工箇所で簡単で迅速な操作性を得るために、本発明によるテクスチャード加工機の別の好適な構成によれば、加工箇所が複数の加工群に分けられており、各加工群に対応して加熱装置の加熱通路の部分加熱群が配置されている。したがって加熱通路の部分加熱群、加工群の搬送装置、テクスチャード加工アセンブリを機械モジュールにまとめることができ、その際、機械モジュールは、相互に独立して制御可能である。

本発明によるテクスチャード加工機は、極めてコンパクトで省エネルギの機械構想において優れており、自動テクスチャード加工機にも半自動のテクスチャード加工機にも使用可能である。

以下に、図面に示す幾つかの実施の形態に基づいて、本発明による加熱装置ならびに本発明によるテクスチャード加工機を詳説する。

本発明による加熱装置の第１の実施の形態を示す概略縦断面図である。 本発明による加熱装置の第１の実施の形態を示す概略横断面図である。 本発明による加熱装置の別の実施の形態を示す概略横断面図である。 本発明によるテクスチャード加工機の１つの実施の形態を示す概略平面図である。 図４に示すテクスチャード加工機の実施の形態の加工箇所を示す概略横断面図である。

図１には、本発明による加熱装置の第１の実施の形態を概略縦断面図で示し、図２には、概略横断面図で示す。図面についてどの図面に関するものか特記していない場合は、以下の記載は、両方の図面に当てはまる。

加熱装置は、加熱される複数の加熱通路２．１，３．１を備えている。加熱通路２．１，３．１は、２つの加熱群２，３に分けられている。加熱群２の加熱通路２．１は、加熱装置の縁部域５に形成されている。加熱群３の加熱通路３．１は、中央域４に配置されており、中央域４は、縁部域５の中央に同心的に位置していて、縁部域５により包囲されている。加熱群２の加熱通路２．１は、加熱群３の加熱通路３．１に対して同心的に配置されていて、加熱通路３．１を包囲している。加熱群２は、本実施の形態では、全体で５本の加熱通路２．１によって形成され、加熱通路２．１は、円を描くように配置して保持されていて、縁部域５の周にわたって均等に分配されている。第２の加熱群３は、同様に５本の加熱通路３．１を備えており、加熱通路３．１は、加熱装置の中央域４の中央に配置されている。

加熱群３の加熱通路３．１は、本実施の形態では、加熱管１４によって形成されており、加熱管１４は、それぞれ加熱被覆体７によって包囲されている。加熱管１４は、端部で開いていて、糸入口と糸出口とを形成している。加熱管１４に対応して配置された加熱被覆体７は、中空円筒形に形成されていて、外側の加熱循環路８を介して加熱被覆体７に供給される熱伝達媒体を収容する。加熱循環路８に対応して加熱循環路制御装置９が配置されており、加熱循環路制御装置９により、加熱管１４において所望の処理温度を調節することができる。加熱管１４および加熱被覆体７は、絶縁エレメント１３．２により包囲されていて、縁部域５に対して絶縁されている。絶縁エレメント１３．２は、中央域４を形成している。

加熱群２の加熱通路２．１は、それぞれ加熱溝１５によって形成されており、加熱溝１５の溝底に対応して電気的な加熱エレメント６が配置されている。加熱溝１５の加熱エレメント６は、加熱制御装置１０と接続されており、加熱制御装置１０は、これに対応して配置された電源１６によって、温度の閉ループ制御および開ループ制御を行う。

糸をガイドするために、加熱溝１５の内側にガイドレール３９が配置されており、ガイドレール３９を備えた加熱溝１５は、全長にわたって、カバー手段により、周囲に対してカバーされていて、絶縁されている。

図２から看取されるように、カバー手段１２．１〜１２．４は、セグメント（円弧）状に形成されていて、加熱溝１５を開放するために、それぞれ縁部域５から取り出すことができる。縁部域５は、第２の絶縁エレメント１３．１によって形成されており、第２の絶縁エレメント１３．１に、加熱エレメント６および加熱溝１５が埋め込まれている。加熱溝１５は、加熱装置の端面で開いていて、したがって糸入口と糸出口とを形成する。

運転時には、縁部域５に形成された加熱群２の加熱溝２．１が、これに対応して配置された加熱エレメント６によって加熱され、加熱制御装置１０によって、第２の加熱群３とは無関係に、個別に、加熱に関して制御される。加熱群３の加熱通路３．１は、これに対応して配置された加熱被覆体７によって加熱され、加熱循環路８の制御装置９によって制御される。したがって加熱通路２．１，３．１を通ってガイドされる糸に、好適には多様な温度処理が行われる。したがって加熱装置は、好適にはテクスチャード加工機に用いられ、複数の糸に、テクスチャード加工区間内で第１の熱処理が施され、後置のリラックス処理区間内で別の加熱が行われる。

図１および図２に示す実施の形態では、加熱通路の数は例示したものに過ぎない。原則として、このような加熱装置は、１００本を超える糸を１つの加熱群で同時に加熱するように拡張することができる。さらに図示の実施の形態では、両方の加熱群２，３における加熱通路の数は同じである。原則として、１つの加熱群に複数の糸の加熱通路を形成することもできる。したがってたとえば１本の加熱溝の内側に２本の糸のためのガイドレールを配置することができる。同様に両方の加熱群２，３の加熱通路は、様々な加熱長さに形成することもできる。したがって追加的な自由度が所与され、テクスチャード加工区間およびリラックス処理区間において糸に様々な熱処理を施すことができる。

特に多数の糸の場合に簡単でエネルギ効率的な操作性を実現するために、１つの加熱群の複数の加熱通路を、好適には、複数の部分加熱群に分けることができ、部分加熱群に対応して個別の加熱手段が配置されている。これに関して図３には、１つの実施の形態を横概略断面図で示している。図３に示す実施の形態の基本構造は、図１および図２に示す実施の形態に対して実質的に同一であり、ここでは相違点についてだけ説明するので、その他の点については前述の記載を参照されたい。

図３に示す実施の形態では、第１の加熱群３は、全部で９本の加熱溝３．１を備えており、加熱溝３．１は、加熱管１４として形成されていて、それぞれ加熱被覆体７を介して加熱される。加熱管３．１は、絶縁エレメント１３．２に埋め込まれている。絶縁エレメント１３．２は、縁部域５に配置された絶縁エレメント１３．１によって包囲されており、絶縁エレメント１３．１には、別の加熱群の加熱通路２．１が配置されている。加熱群２．１は、本実施の形態では、加熱溝１５によって形成されていて、加熱溝１５は、電気的な加熱エレメント６によって加熱される。加熱装置を示す図３では、加熱溝１５のためのカバー手段は図示していない。

加熱群２の加熱通路２．１は、複数の部分加熱群１１．１，１１．２，１１．３に分けられている。部分加熱群１１．１〜１１．３は、それぞれ３本の加熱通路２．１を備えており、加熱通路２．１は、それぞれ加熱エレメント６によって加熱される。第１の部分加熱群１１．１の加熱通路２．１に対応して配置された加熱エレメント６は、第１の加熱制御装置１０．１と接続されている。相応に部分加熱群１１．２の加熱エレメント６は、別の加熱制御装置１０．２を介して制御され、第３の部分加熱群１１．３の加熱エレメント６は、別の加熱制御装置１０．３を介して制御される。

これに対して全体で９本の加熱通路３．１を有する加熱群３の加熱手段７は、加熱循環路の制御装置９によって制御される。

図３に示す、本発明によるテクスチャード加工機の実施の形態は、テクスチャード加工機の内側で、とりわけそれぞれ一群の加工箇所を備えた個別に制御可能な機械モジュールを形成するのに適している。

図３に示す、加熱群と複数の部分加熱群との組み合わせは、例示したものでしかない。原則として、両方の加熱群は、複数の部分加熱群に分けることができる。部分加熱群の数もまた例示したものでしかない。さらに部分加熱群内に設けられる加熱通路の数は、変更することができる。

図４および図５は、本発明によるテクスチャード加工機の第１の実施の形態を示しており、ここでは供給ステーションおよび巻き取り装置は、中央に配置された加熱装置に対して同じ間隔を置いて対称的に配置されている。図４は、第１の実施の形態を示す概略平面図であり、図５は、第１の実施の形態を示す概略横断面図である。図面に基づく詳細な説明において明確に言及していない限り、後続の記載は両方の図面に当てはまるものとする。

本発明によるテクスチャード加工機の図示の実施の形態では、全体で１２個の加工部または加工箇所１７．１〜１７．１２が、中央の加熱装置１に対応して配置されている。図４から看取されるように、加熱装置１は、機械の中央の設置部分に配置されている。加工箇所１７．１〜１７．１２のプロセス装置は、相互に加熱装置１に対して間隔を置いて部分円を描くように配置して保持されている。加熱装置１は、機械配置構造の中心を成している。残りの全てのプロセス装置は、加熱装置１を中心として星形に分配して配置されている。たとえばテクスチャード加工アセンブリ２２と同等のプロセス装置は、加工箇所１７．１〜１７．１２で、それぞれ加熱装置１に対して同じ間隔を有しているので、同じ長さのテクスチャード加工区間が、加工箇所１７．１〜１７．１２の内側に形成される。

加工箇所１７．１〜１７．１２は、プロセス装置の構造および配置において同一に形成されている。加工箇所１７．１〜１７．１２の基本構造について、１つの加工箇所を例に挙げて以下に説明する。

図５は、互いに反対側に位置する２つの加工箇所１７．３，１７．１０を断面図で示す。加工箇所１７．３は、供給ステーション１８を備えており、供給ステーション１８は、加熱装置１に対して最大間隔を有して機械の外側部分に配置されている。供給ステーション１８は、供給ボビン２９を備えており、供給ボビン２９は、糸２１を、第１のゴデット搬送装置２０を介して引き出す。糸をガイドするために、第１のゴデット搬送装置２０と供給ステーション１８との間に、糸先端ガイド１９が配置されている。第１のゴデット搬送装置２０は、ゴデットと走行ローラとによって形成され、ゴデットは、ゴデットモータを介して駆動される。供給ボビン２９から糸２１を引き出すために必要な引張力を及ぼすために、ゴデット搬送装置２０には、幾度にも糸が巻き掛けられている。

糸の後続の走行経過において、糸２１は、加熱装置１の糸入口３３．１に向かってガイドされる。このために加熱装置１は、鉛直に方向付けされていて、下面に糸入口３３．１を備えている。反対側の上面に、糸出口３４．１が形成されている。糸入口３３．１および糸出口３４．１は、加熱通路２．１の端部に形成されている。加熱通路２．１は、加熱群２の内側で加熱可能に形成されている。本実施の形態では、加熱通路２．１は、加熱管１４によって形成されており、加熱管１４は、たとえば電気式の加熱被覆体によって加熱可能である。糸入口３３．１、糸出口３４．１に対応して、それぞれ入口糸ガイド３１．１、出口糸ガイド３２．１が配置されており、入口糸ガイド３１．１、出口糸ガイド３２．１によって、進入するかもしくは退出する糸２１が変向される。加熱装置１の上方で、加工箇所１７．３は、冷却装置２３とテクスチャード加工アセンブリ２２と第２のゴデット搬送装置２４とを備えている。冷却装置２３、テクスチャード加工アセンブリ２２および第２のゴデット搬送装置２４は、真っ直ぐな糸走行経過上で相前後して配置されており、テクスチャード加工アセンブリ２２と入口糸ガイド３１．１とは、テクスチャード加工区間を成しており、そこでは糸２１がテクスチャード加工される。

同様にゴデットと走行ローラとから形成される第２のゴデット搬送装置２４は、第１のゴデット搬送装置２０よりも高い周速で駆動されるので、糸２１は、テクスチャード加工区間の内側でドラフトされる。各加工箇所１７．１〜１７．１２において、糸２１のテクスチャード加工区間は、同じ長さで形成されている。

加工箇所１７．３の内側において、糸２１は、第２のゴデット搬送装置２４で１８０度変向され、加熱装置１に向かって戻しガイドされる。加熱装置１の内側で、第２群の処理通路３．１が形成されており、処理通路３．１を通って、テクスチャード加工された糸のリラックス処理が実施可能である。第２の加熱群３の第２の加熱通路３．１は、加熱装置１の上面に糸入口３３．２を備え、下面に糸出口３４．２を備えている。したがって加熱通路２．１，３．１では、糸２１が、逆向きに走行する。加熱通路３．１は、本実施の形態では、同様に加熱管１４によって形成されており、加熱管１４は、個別の加熱手段、たとえば蒸気を用いて加熱する加熱被覆体によって加熱可能である。

糸２１をガイドするために、加熱装置１の下方に、第３のゴデット搬送装置３０が設けられており、第３のゴデット搬送装置３０は、同様に被駆動のゴデットと回動可能な走行ローラとによって形成されている。その際、第２のゴデット搬送装置２４と第３のゴデット搬送装置３０との間に、収縮処理に必要とされる速度差が形成される。リラックス処理区間は、両方のゴデット搬送装置２４，３０によって規定されている。糸をガイドするために、糸入口３３．２および糸出口３４．２に対応して、同様に第２の糸ガイド３１．２，３２．２が配置されている。入口糸ガイドおよび出口糸ガイドは、変向ローラまたは変向ピンによって形成することができる。

加工箇所１７．３において、第３のゴデット搬送装置３０の下流側に巻き取り装置２５が配置されている。巻き取り装置２５は、ボビンホルダ３５を備えており、ボビンホルダ３５に、糸を巻き取るためのボビン２７が回動可能に保持されている。ボビン２７は、周面で、駆動ローラ２６に当接し、駆動ローラ２６によって、ボビン２７は、一定の周速度で駆動される。駆動ローラ２６は、糸走行経路でみて綾巻き装置２８の下流側に配置されているので、テクスチャード加工された糸２１は、綾巻きパッケージに巻き取られる。

図４および図５に示す実施の形態では、ボビン交換のための操作は、内側の操作部３７から行われる。操作部３７は、加熱装置１と加工箇所１７．１〜１７．１２の巻き取り装置２５との間の中間スペースに形成されている。機械の、巻き取り装置２５に対向する外側には、操作部３８が形成されており、操作部３８は、供給ボビン２９を供給ステーション１８に搬送するために用いられる。プロセス開始時における加工箇所１７．１〜１７．１２における糸の設置は、内側の操作部３７から行われる。

図４から看取されるように、加工箇所１７．１〜１７．１２の間に、進入部３６が形成されており、進入部３６によって、内側の操作部３７は、外側の操作部３８と接続されている。

プロセス装置の、図４および図５に示す構成は、例示したものでしかなく、糸をガイド、ドラフトおよびテクスチャード加工するための主要のプロセス装置を有しているに過ぎない。原則として、巻き取り装置２５の上流側で糸２１に薬品を着けることも一般的である。さらに、リラックス処理のまえでテクスチャード加工のあとで糸に撚りを掛けることが公知である。したがってたとえば第２のゴデット搬送装置と加熱装置１の糸入口との間のガイド区間に撚り装置および別の搬送装置を配置することもできる。

本発明による加熱装置も本発明によるテクスチャード加工機も、その特徴によれば、糸を熱処理する際にエネルギ消費を大幅に節約することができる。さらに、周囲に対して十分な熱絶縁を得るために、加熱装置は、僅かな絶縁手段しか必要としない。

１ 加熱装置、 ２ 加熱群、 ２．１ 加熱通路、 ３ 加熱群、 ３．１ 加熱通路、 ４ 中央域、 ５ 縁部域、 ６ 加熱エレメント、 ７ 加熱被覆体、 ８ 加熱循環路、 ９ 加熱循環路制御装置、 １０．１０．１，１０．２，１０．３ 加熱制御装置、 １１．１，１１．２，１１．３ 部分加熱群、 １２．１，１２．２，１２．３，１２．４ カバー手段、 １３．１ 絶縁エレメント、 １３．２ 絶縁エレメント、 １４ 加熱管、 １５ 加熱溝、 １６ 電源、 １７．１，１７．２，１７．３，１７．４，１７．５，１７．６，１７．７，１７．８，１７．９，１７．１０．１７，１１，１７．１２ 加工箇所、 １８ 供給ステーション、 １９ 糸先端ガイド ２０ 第１のゴデット搬送装置、 ２１ 糸、 ２２ テクスチャード加工アセンブリ、 ２３ 冷却装置、 ２４ 第２のゴデット搬送装置、 ２５ 巻き取り装置、 ２６ 駆動ローラ、 ２７ ボビン、 ２８ 綾巻き装置、 ２９ 供給ボビン、 ３０ 第３のゴデット搬送装置、 ３１．１，３１．２ 入口糸ガイド、 ３２．１，３２．２ 出口糸ガイド、 ３３．１ 糸入口、 ３３．２ 糸入口、 ３４．１ 糸出口、 ３４．２ 糸出口、 ３５ ボビンホルダ、 ３６ 進入部、 ３７ 内側の操作部、 ３８ 外側の操作部、 ３９ ガイドレール

Claims (14)

1. テクスチャード加工機に用いるための糸用の加熱装置であって、複数の縦長の加熱通路（２．１，３．１）を備えており、該加熱通路（２．１，３．１）は、２つの加熱群（２，３）に分けられており、一方の加熱群（２）の、相並んで位置する加熱通路（２．１）が、テクスチャード加工区間の内側で糸を加熱し、他方の加熱群（３）の、相並んで位置する加熱通路（３．１）が、リラックス処理区間の内側で糸を加熱するようになっているものにおいて、
   加熱通路（２．１，３．１）は、同心的な横断面配置で保持され、加熱通路（３．１）の第１の加熱群（３）は、中央域（４）に配置されていて、加熱通路（２．１）の第２の加熱群（２）は、中央域（４）を包囲する縁部域（５）に配置されていることを特徴とする、加熱装置。
2. 一方の加熱群（２，３）または両方の加熱群（２，３）の加熱通路（２．１，３．１）は、相並んで円を描くように配置して保持されている、請求項１記載の加熱装置。
3. 個別に制御可能な複数の加熱手段（６，７）が設けられており、加熱通路（２．１，３．１）の各加熱群（２，３）に対応して、少なくとも１つの加熱手段（６，７）が配置されている、請求項１または２記載の加熱装置。
4. 加熱手段は、複数の電気式の加熱エレメント（６）および／または熱伝達媒体の単数または複数の加熱循環路（８）によって形成されている、請求項３記載の加熱装置。
5. 加熱通路（２．１）の複数の部分加熱群（１１．１，１１．２）が、加熱群（２）の１つの内に形成されており、加熱通路（２．１）の各部分加熱群（１１．１，１１．２）に対応して加熱手段（６）の１つが配置されている、請求項３または４記載の加熱装置。
6. 加熱通路（２．１，３．１）は、加熱管（１４）および／または加熱溝（１５）によって形成されており、加熱溝（１５）に対応して単数または複数のカバー手段（１２．１，１２．２）が配置されている、請求項１から５までのいずれか１項記載の加熱装置。
7. 加熱溝（１５）は、糸が外側から開いた該加熱溝（１５）に導入可能であるように、縁部域（５）に配置されている、請求項６記載の加熱装置。
8. 複数の絶縁エレメント（１３．１，１３．２）が設けられており、該絶縁エレメント（１３．１，１３．２）は、加熱通路（２．１，３．１）の加熱手段（６，７）の間に配置されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の加熱装置。
9. 複数の加工箇所（１７．１，１７．２，１７．３，１７．４，１７．５，１７．６，１７．７，１７．８，１７．９，１７．１０，１７．１１，１７．１２）と、該加工箇所（１７．１，１７．２，１７．３，１７．４，１７．５，１７．６，１７．７，１７．８，１７．９，１７．１０，１７．１１，１７．１２）に対応して配置された加熱装置とを備えた、複数のマルチフィラメント糸をテクスチャード加工するためのテクスチャード加工機において、
   請求項１から８までのいずれか１項記載の加熱装置（１）が設けられていることを特徴とする、テクスチャード加工機。
10. 加工箇所（１７．１，１７．２，１７．３，１７．４，１７．５，１７．６，１７．７，１７．８，１７．９，１７．１０，１７．１１，１７．１２）は、複数のゴデット搬送装置（２０）を備えており、該ゴデット搬送装置（２０）は、加熱装置（１）に対して対称的な配置で保持されている、請求項９記載のテクスチャード加工機。
11. ゴデット搬送装置（２０，２４，３０）が、加工箇所（１７．１，１７．２，１７．３，１７．４，１７．５，１７．６，１７．７，１７．８，１７．９，１７．１０，１７．１１，１７．１２）に配置されており、加熱装置（１）の縁部域（５）の加熱通路（２．１）が、テクスチャード加工区間の内側に位置しており、加熱装置（１）の中央域（４）の加熱通路（３．１）が、リラックス処理区間の内側に位置している、請求項１０記載のテクスチャード加工機。
12. 加熱装置（１）が、鉛直に形成されており、複数のテクスチャード加工アセンブリ（２２）が、加熱装置（１）に対して間隔を置いて、相並んで部分円を描くように配置して保持されている、請求項９から１１までのいずれか１項記載のテクスチャード加工機。
13. 加工箇所が、複数の加工群に分けられており、各加工群に対応して加熱装置の加熱通路の部分加熱群が配置されている、請求項９から１２までのいずれか１項記載のテクスチャード加工機。
14. 加工群に対応して配置された加熱通路の部分加熱群が、加工群に対応して配置された搬送装置およびテクスチャード加工アセンブリと共に、機械モジュールを形成しており、該機械モジュールが、相互に独立して制御可能である、請求項１３記載のテクスチャード加工機。

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