JP5489674B2 - 金属表面処理剤ならびにイミダゾール系化合物 - Google Patents
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- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 99
- -1 imidazole compound Chemical class 0.000 title claims description 95
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 title claims description 45
- 239000002184 metal Substances 0.000 title claims description 45
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 title claims description 24
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 22
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 16
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 16
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 16
- 125000003262 carboxylic acid ester group Chemical group [H]C([H])([*:2])OC(=O)C([H])([H])[*:1] 0.000 claims description 15
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 15
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 15
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 15
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 11
- 241000255925 Diptera Species 0.000 claims description 10
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 9
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 239000004480 active ingredient Substances 0.000 claims description 3
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 claims description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N Acetonitrile Chemical compound CC#N WEVYAHXRMPXWCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 57
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 51
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 45
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 42
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 32
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 27
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 27
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 24
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 24
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 21
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 20
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 19
- 238000004895 liquid chromatography mass spectrometry Methods 0.000 description 19
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 18
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 18
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 15
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 14
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 229940095102 methyl benzoate Drugs 0.000 description 12
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 11
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 11
- NLWBJPPMPLPZIE-UHFFFAOYSA-N methyl 4-(bromomethyl)benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(CBr)C=C1 NLWBJPPMPLPZIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 238000005804 alkylation reaction Methods 0.000 description 9
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 9
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 8
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 8
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 8
- 238000002845 discoloration Methods 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 7
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 6
- 238000000034 method Methods 0.000 description 6
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 6
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 6
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N Benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 5
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 5
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FHHCKYIBYRNHOZ-UHFFFAOYSA-N 2,5-diphenyl-1h-imidazole Chemical compound C=1N=C(C=2C=CC=CC=2)NC=1C1=CC=CC=C1 FHHCKYIBYRNHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UNIGTGMZYBNFJS-UHFFFAOYSA-N C1C=CC=CC1C2=NC=CN2CC3=CC=C(C=C3)C(=O)O Chemical compound C1C=CC=CC1C2=NC=CN2CC3=CC=C(C=C3)C(=O)O UNIGTGMZYBNFJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SNGUOWFWMNDTLX-UHFFFAOYSA-N COC(=O)C1=CC=C(C=C1)CN2C(=NN=N2)C3CC=CC=C3 Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C=C1)CN2C(=NN=N2)C3CC=CC=C3 SNGUOWFWMNDTLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 4
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 4
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 4
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 4
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 4
- 125000001072 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 150000007529 inorganic bases Chemical class 0.000 description 4
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 4
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 4
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JENBLDVUJUJZQP-UHFFFAOYSA-N C1C=CC=CC1C2=NN=NN2CC3=CC=C(C=C3)C(=O)O Chemical compound C1C=CC=CC1C2=NN=NN2CC3=CC=C(C=C3)C(=O)O JENBLDVUJUJZQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- OSQJJLBYAGYMRC-UHFFFAOYSA-N COC(=O)C1=CC=C(C=C1)CN2C=CN=C2C3CC=CC=C3 Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(C=C1)CN2C=CN=C2C3CC=CC=C3 OSQJJLBYAGYMRC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Malonic acid Chemical compound OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 3
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000002198 insoluble material Substances 0.000 description 3
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 3
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 description 3
- NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M potassium iodide Chemical compound [K+].[I-] NLKNQRATVPKPDG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 3
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HHOIAFRFXGKLDT-UHFFFAOYSA-N 1-benzyl-2,4-diphenylimidazole Chemical compound C1=C(C=2C=CC=CC=2)N=C(C=2C=CC=CC=2)N1CC1=CC=CC=C1 HHOIAFRFXGKLDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC=CN1 LXBGSDVWAMZHDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-1h-imidazole Chemical compound C1=CNC(C=2C=CC=CC=2)=N1 ZCUJYXPAKHMBAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 2-undecyl-1h-imidazole Chemical compound CCCCCCCCCCCC1=NC=CN1 LLEASVZEQBICSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KLIANJXCGMBICV-UHFFFAOYSA-N 4-(benzimidazol-1-ylmethyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1CN1C2=CC=CC=C2N=C1 KLIANJXCGMBICV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 7553-56-2 Chemical group [I] ZCYVEMRRCGMTRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N Glycolic acid Chemical compound OCC(O)=O AEMRFAOFKBGASW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N Methanesulfonic acid Chemical compound CS(O)(=O)=O AFVFQIVMOAPDHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M Potassium chloride Chemical compound [Cl-].[K+] WCUXLLCKKVVCTQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N Sodium methoxide Chemical compound [Na+].[O-]C WQDUMFSSJAZKTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 238000005536 corrosion prevention Methods 0.000 description 2
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 2
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004649 discoloration prevention Methods 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 2
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 2
- HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N glyoxylic acid Chemical compound OC(=O)C=O HHLFWLYXYJOTON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 2
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 2
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 2
- JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N lactic acid Chemical compound CC(O)C(O)=O JVTAAEKCZFNVCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 2
- 230000003449 preventive effect Effects 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N sodium oxide Chemical compound [O-2].[Na+].[Na+] KKCBUQHMOMHUOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001948 sodium oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000005017 substituted alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L zinc bromide Chemical compound Br[Zn]Br VNDYJBBGRKZCSX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L zinc dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Zn+2] JIAARYAFYJHUJI-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N zinc nitrate Chemical compound [Zn+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O ONDPHDOFVYQSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- PTBPTNCGZUOCBK-UHFFFAOYSA-N 2,4,5-trimethyl-1h-imidazole Chemical compound CC1=NC(C)=C(C)N1 PTBPTNCGZUOCBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RDMODFHZZDKNAO-UHFFFAOYSA-N 4-(benzotriazol-1-ylmethyl)benzoic acid Chemical compound C1=CC(C(=O)O)=CC=C1CN1C2=CC=CC=C2N=N1 RDMODFHZZDKNAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 5-phenyl-2h-tetrazole Chemical compound C1=CC=CC=C1C1=NNN=N1 MARUHZGHZWCEQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 5K8XI641G3 Chemical compound CCC1=NC=C(C)N1 ULKLGIFJWFIQFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L Magnesium sulfate Chemical compound [Mg+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] CSNNHWWHGAXBCP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M Sodium bicarbonate-14C Chemical compound [Na+].O[14C]([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-DEQYMQKBSA-M 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000011054 acetic acid Nutrition 0.000 description 1
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001508 alkali metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003973 alkyl amines Chemical class 0.000 description 1
- 230000002152 alkylating effect Effects 0.000 description 1
- 230000029936 alkylation Effects 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- VNEMVKOXLBIWTB-UHFFFAOYSA-N aminomethyl benzoate Chemical compound NCOC(=O)C1=CC=CC=C1 VNEMVKOXLBIWTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000003354 benzotriazolyl group Chemical group N1N=NC2=C1C=CC=C2* 0.000 description 1
- KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N benzyl chloride Chemical compound ClCC1=CC=CC=C1 KCXMKQUNVWSEMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940073608 benzyl chloride Drugs 0.000 description 1
- ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M bromocopper(1+) Chemical compound Br[Cu+] ODWXUNBKCRECNW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 239000012141 concentrate Substances 0.000 description 1
- 150000001879 copper Chemical class 0.000 description 1
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 1
- 229910000365 copper sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L copper(II) chloride Chemical compound Cl[Cu]Cl ORTQZVOHEJQUHG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N copper(II) nitrate Chemical compound [Cu+2].[O-][N+]([O-])=O.[O-][N+]([O-])=O XTVVROIMIGLXTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L copper(II) sulfate Chemical compound [Cu+2].[O-][S+2]([O-])([O-])[O-] ARUVKPQLZAKDPS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L copper(ii) acetate Chemical compound [Cu+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O OPQARKPSCNTWTJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 238000004128 high performance liquid chromatography Methods 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 230000003301 hydrolyzing effect Effects 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- 239000004310 lactic acid Substances 0.000 description 1
- 235000014655 lactic acid Nutrition 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 229940098779 methanesulfonic acid Drugs 0.000 description 1
- SATDLKYRVXFXRE-UHFFFAOYSA-N methyl 4-(chloromethyl)benzoate Chemical compound COC(=O)C1=CC=C(CCl)C=C1 SATDLKYRVXFXRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 150000007530 organic bases Chemical class 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 1
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001103 potassium chloride Substances 0.000 description 1
- 235000011164 potassium chloride Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 239000012085 test solution Substances 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 1
- 229960000314 zinc acetate Drugs 0.000 description 1
- 229940102001 zinc bromide Drugs 0.000 description 1
- 239000011592 zinc chloride Substances 0.000 description 1
- 235000005074 zinc chloride Nutrition 0.000 description 1
- 229960001939 zinc chloride Drugs 0.000 description 1
- NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L zinc sulfate Chemical compound [Zn+2].[O-]S([O-])(=O)=O NWONKYPBYAMBJT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000368 zinc sulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960001763 zinc sulfate Drugs 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23F—NON-MECHANICAL REMOVAL OF METALLIC MATERIAL FROM SURFACE; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL; MULTI-STEP PROCESSES FOR SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL INVOLVING AT LEAST ONE PROCESS PROVIDED FOR IN CLASS C23 AND AT LEAST ONE PROCESS COVERED BY SUBCLASS C21D OR C22F OR CLASS C25
- C23F11/00—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent
- C23F11/08—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids
- C23F11/10—Inhibiting corrosion of metallic material by applying inhibitors to the surface in danger of corrosion or adding them to the corrosive agent in other liquids using organic inhibitors
- C23F11/14—Nitrogen-containing compounds
- C23F11/149—Heterocyclic compounds containing nitrogen as hetero atom
Landscapes
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Description
また、特に銅で形成される電気部品や、銅で回路が形成されるプリント配線板、その他銅のメッキを表面に形成した部品などにおいては、銅の表面は容易に腐食されて変色されるために、防錆剤を含む変色防止剤を塗布して腐食変色を防ぐことがおこなわれていた。
なお、本発明における「有効成分として含有する」とは、金属表面処理剤全量に対して、アゾール系化合物(A)を通常0.000001重量%以上、好ましくは0.00001重量%以上、特に好ましくは0.0001重量%以上含有するものである。
1位無置換イミダゾール系化合物、水酸化ナトリウム、炭酸カリウムなどの無機塩基、トリエチルアミンなどの有機塩基及び有機溶媒との混合液に、攪拌下、4−クロロメチル安息香酸メチル、4−ブロモメチル安息香酸メチルなどのハロメチル安息香酸エステルの有機溶媒の溶液を滴下した後、攪拌下反応させる。
上記有機溶媒としては、THF(テトラヒドロフラン)、ジオキサンなどのエーテル類、N,N−ジメチルホルムアミド、N,N−ジメチルアセトアミドなどのアミド類、アセトニトリルなどが挙げられる。
なお、本発明における金属表面処理とは、金属表面の防錆処理に有効なものであるが、その他にも、洗浄処理、エッチング処理、フラックス処理等も含むものである。
(式中、Rは、水素原子またはアルキル基である。)
(式中、Rは、水素原子またはアルキル基である。)
(式中、Rは、水素原子またはアルキル基である。)
(製造例1)
4−(1H−2,4−ジフェニルイミダゾール−1−イルメチル)−安息香酸(A−1)の合成
2,4−ジフェニルイミダゾール9.6g(44mmol)、水酸化ナトリウム4.6g(115mmol)のアセトニトリル60mL溶液に、室温で攪拌下、4−ブロモメチル安息香酸メチル10.0g(44mmol)のアセトニトリル20mL溶液を滴下した後、更に2時間攪拌した。ついで水30mLを加え、40℃に昇温し、1時間攪拌した後、20℃まで冷却し、20%塩酸水溶液でpHを4.9とした。析出した結晶を濾取し、水20mLで2回、次いでメタノール15mLで2回洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物(A−1)を11.1g(収率71.8%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):5.5(s, 2H), 7.2〜7.9(m, 15H)
13C-NMR (DMSO-d6):50.4, 119.6, 125.0, 127.2, 129.0, 129.2, 129.3, 129.5, 130.5, 130.8, 131.0, 134.8, 140.7, 143.1, 148.0, 167.7
4−(1H−2,4−ジフェニルイミダゾール−1−イルメチル)−安息香酸メチル(A−2)の合成
2,4−ジフェニルイミダゾール17.0g(77mmol)、及び4−ブロモメチル安息香酸メチル18.6g(81mmol)のアセトニトリル800mL溶液に、水酸化ナトリウム3.8g(95mmol)を加え、室温下で4時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ液に濃塩酸を加え酸性とした後、減圧下濃縮した。残渣に水300mLを加えて攪拌し、水をデカンテーションにて除去した。残った固体を必要最小量のメタノールに溶解させ、酢酸エチルを加えて結晶を析出させた。析出した結晶を濾取し、酢酸エチルで洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物(A−2)を15.8g(収率55.5%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):3.8(s,3H),5.6(s, 2H), 7.4〜8.4(m, 15H)
13C-NMR (DMSO-d6):51.4,53.0,120.4,123.7,126.3、128.0,128.3,129.8,129.9,130.1,130.3,130.6,132.6,134.4,140.9,146.3,166.5
2,4−ジフェニル−1−ベンジルイミダゾール(A−3)の合成
2,4−ジフェニルイミダゾール10.0g(45mmol)、水酸化ナトリウム6.3g(115mmol)のアセトニトリル30mL溶液に、室温で攪拌下、ベンジルクロリド6.3g(50mmol)を滴下した後、更に6時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ過固体を更にアセトニトリル20mLで洗浄した。ろ液と洗液をまとめて減圧下濃縮し、得られたオイル状残渣に水10mLと酢酸エチル30mLを加え結晶化させた。析出した結晶を濾取し、水10mL、次いで酢酸エチル10mLで洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物(A−3)を6.5g(収率46.1%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6): 5.4(s, 2H), 7.1〜7.8(m, 16H)
4−(1H−2−メチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸(A−4)の合成
2−メチルイミダゾール4.0g(49mmol)、水酸化ナトリウム3.9g(98mmol)のアセトニトリル30mL溶液に、室温で攪拌下、4−ブロモメチル安息香酸メチル11.2g(49mmol)のアセトニトリル22mL溶液を滴下し、更に3時間攪拌した。析出した結晶を濾取し、アセトニトリル30mLで洗浄した後、固形分を水15mLに溶解させ、酢酸エチル10mLを添加し、分液後、20%塩酸水溶液でpHを5.8とした後、減圧下濃縮乾固した。残渣にメタノール5mLを加え、不溶分を濾取により除去し、アセトンを加え、析出した結晶を濾取し、アセトンで洗浄後、乾燥しイミダゾール系化合物(A−4)を3.7g(収率35.0%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):2.2(s, 3H), 5.2(s, 2H), 6.8(d, 1H), 7.17(d, 1H), 7.19(d, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):13.3, 49.0, 121.2, 127.1, 127.4, 130.3, 132.8, 142.1, 144.7, 168.3
4−(1H−2−メチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸メチル(A−5)の合成
2−メチルイミダゾール4.0g(49mmol)、水酸化ナトリウム3.9g(98mmol)のアセトニトリル30mL溶液に、室温で攪拌下、4−ブロモメチル安息香酸メチル11.2g(49mmol)のアセトニトリル22mL溶液を滴下し、更に3時間攪拌した。反応液をろ過し、ろ過固体を更にアセトニトリル30mL洗浄した。ろ液と洗液をあわせて減圧下濃縮し、残渣に酢酸エチル/トルエン混合液(=1/1)を4mL添加し、不溶物をろ過し、ろ液を減圧下濃縮乾固することで、イミダゾール系化合物(A−5)を4.3g(収率38.4%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):2.2(s, 3H), 3.8(s, 3H), 5.2(s, 2H), 6.8(d, 1H), 7.1(d, 1H), 7.2(d, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):13.3, 48.9, 52.8, 121.1, 127.3, 127.8, 129.4, 130.3, 143.7, 144.7, 166.6
4−(1H−2−エチル−4−メチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸メチル(A−6)の合成
2−エチル−4−メチルイミダゾール11.0g(100mmol)、水酸化ナトリウム5.0g(125mmol)、4−ブロモメチル安息香酸メチル24.0g(105mmol) のアセトニトリル400mL溶液を室温下で12時間攪拌した。析出した結晶をろ過し、アセトニトリル50mLで洗浄し、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣に水50mL、次いで20%塩酸19.6gを添加、溶解させた後、酢酸エチル50mLを加えた後、分液した。水層に20%水酸化ナトリウム水溶液21.4gを加え、中和後、酢酸エチル100mLで2回抽出した。得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液50mL、次いで水50mLで2回洗浄した。有機層を減圧下濃縮し、イミダゾール系化合物(A−6)を17.5g(収率67.8%)で得た。得られたイミダゾール系化合物(A−6)は、4−(1H−2−エチル−4−メチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸メチルと4−(1H−2−エチル−5−メチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸メチルの混合物であった。
1H-NMR (DMSO-d6):1.1,1.2(t, 3H), 2.0,2.1(s, 3H), 2.5(q, 2H), 3.9,4.1(s, 3H), 5.20,5.23(s, 2H), 6.7,6.8(s, 1H), 7.1,7.2(d, 2H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):9.9, 12.7, 14.2, 14.7, 19.9, 20.5, 21.3, 46.1, 48.5, 52.7, 60.4, 117.1, 125.0, 126.8, 127.5, 127.6, 129.3, 129.4, 129.8, 130.2, 130.3, 135.5, 143.8, 144.0, 148.5, 149.1, 166.6, 171.0
4−(1H−2−エチル−4−メチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸(A−7)の合成
イミダゾール系化合物(A−6)6.7g(26mmol)のメタノール20mL溶液に20%水酸化ナトリウム水溶液10.7gを加え、室温下で4時間反応させた。反応終了後、20%塩酸9.8gを加え、中和し、減圧下濃縮した。得られた残渣にメタノール15mLを加え、ろ過し、メタノール5mLで洗浄した。得られたろ液を減圧下濃縮し、イミダゾール系化合物(A−7)を5.8g(収率91.5%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):1.1(t, H), 2.1(s, 3H), 2.6(q, 2H), 5.3(s, 2H), 6.8(s, 1H), 7.5(d, 2H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):12.6, 13.2, 19.6, 48.8, 117.6, 127.5, 130.4, 131.9, 134.0, 142.3, 148.6, 168.1
4−(1H−2,4,5−トリメチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸メチル(A−8)の合成
2,4,5−トリメチルイミダゾール19.8g(180mmol)のメタノール40mL溶液に5mol/Lナトリウムメトキシド/メタノール溶液36mL(180mmol)を加えた後、減圧下濃縮乾固した。残渣にDMF140mLを加え、氷浴下にて冷却した。これに4−ブロモメチル安息香酸メチル41.2g(180mol)のDMF80mL溶液を2時間かけて滴下した。滴下終了後、氷浴をはずし、室温で2時間攪拌した。不溶物をろ過し、DMF50mLで洗浄し、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチル300mLを加え、不溶物をろ過し、酢酸エチル100mLで洗浄した。得られた酢酸エチル層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液100mLで2回、次いで水100mLで2回洗浄した。得られた有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮し、イミダゾール系化合物(A−8)を41.1g(収率88.5%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):1.9(s, 3H), 2.0(s, 3H), 2.1(s, 3H), 3.8(s, 3H), 5.2(s, 2H), 7.1(d, 2H), 7.9(sd, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):9.2, 13.2, 13.5, 46.6, 52.8, 122.1, 126.9, 129.2, 130.3, 131.3, 142.6, 143.9, 166.6
4−(1H−2,4,5−トリメチルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸(A−9)の合成
イミダゾール系化合物(A−8)17.0g(66mmol)のメタノール50mL溶液に20%水酸化ナトリウム水溶液26.3gを加え、室温下で2時間反応させた。反応終了後、20%塩酸24.0gを加え、中和し、減圧下、約半分になるまで濃縮した。濃縮物に水50mLを加え攪拌し、析出した結晶をろ過、水30mLで2回、次いでアセトン30mLで洗浄後、乾燥し、イミダゾール系化合物(A−9)を12.8g(収率79.6%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):2.0(s, 3H), 2.1(s, 3H), 2.3(s, 3H), 5.2(s, 2H), 7.1(d, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):9.1, 12.4, 13.0, 46.8, 122.9, 126.7, 123.0, 130.4, 132.3, 142.0, 142.8, 168.3
4−(1H−2−フェニルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸メチル(A−10)の合成
2−フェニルイミダゾール14.4g(100mmol)、水酸化ナトリウム8.0g(200mmol)のアセトニトリル100mL溶液に、室温で攪拌下、4−ブロモメチル安息香酸メチル22.9g(100mmol)のアセトニトリル50mL溶液を2時間かけて滴下し、更に30分間攪拌した。析出した結晶をろ過し、アセトニトリル30mLで2回洗浄した後、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣に酢酸エチル100mLを加え、不溶物をろ過した後、酢酸エチル10mLで洗浄し、得られたろ液を減圧下濃縮した。残渣にトルエン30mLを加え溶解後、極少量の水を添加、冷却し、析出した結晶をろ過、冷トルエン10mLで洗浄後、乾燥しイミダゾール系化合物(A−10)を8.5g(収率29.1%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):3.8(s, 3H), 5.4(s, 2H), 7.1(m, 3H), 7.4(m, 4H), 7.5(m, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):50.1, 52.8, 123.5, 127.2, 128.9, 129.0, 129.2, 129.4, 130.3, 131.3, 143.9, 147.5, 166.6
4−(1H−2−フェニルイミダゾール-1-イルメチル)−安息香酸(A−11)の合成
イミダゾール系化合物(A−10)8.0g(27mmol)のメタノール24mL溶液に20%水酸化ナトリウム水溶液10.9gを加え、室温下で1.5時間反応させた。反応終了後、20%塩酸9.9gを加え、中和した後、冷却し、析出した結晶をろ過し、水16mLで洗浄後、乾燥し、イミダゾール系化合物(A−11)を6.9g(収率91.0%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):5.4(s, 2H), 7.1(m, 3H), 7.4(m, 4H), 7.5(m, 2H), 7.9(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):50.1, 123.5, 127.1, 128.9, 129.0, 129.2, 130.4, 131.2, 143.3, 147.5, 167.7
4−(1H−2−ウンデシルイミダゾール−1−イルメチル)−安息香酸メチル(A−12)の合成
2−ウンデシルイミダゾール7.0g(31mmol)、及び4−ブロモメチル安息香酸メチル7.6g(33mmol)のアセトニトリル300mL溶液に、水酸化ナトリウム1.6g(39mmol)を加え、室温で16時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ液に濃塩酸を加え酸性とした後、減圧下濃縮した。残渣に水100mLを加え、炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性とし、酢酸エチルで抽出した後、酢酸エチル層を減圧下、濃縮した。残渣にメタノールを加え、不溶物をろ別した後、減圧下濃縮乾固した。残渣を少量の酢酸エチルで洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物(A−12)を8.3g(収率71.6%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):0.9(t, 3H), 1.1-1.2(m, 16H), 1.5(m, 2H), 3.0(t, 2H), 5.6(s, 2H), 7.4(d, 2H), 7.7(d, 1), 7.8(d, 1H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):14.6, 22.7, 24.5, 27.1, 28.8, 29.0, 29.4, 29.6, 31.9, 50.1, 52.9, 119.2, 123.3, 128.3, 130.1, 130.4, 141.1, 148.2, 166.4
4−(1H−2−ウンデシルイミダゾール−1−イルメチル)−安息香酸(A−13)の合成
イミダゾール系化合物(A−12)8.0g(27mmol)のメタノール24mL溶液に20%水酸化ナトリウム水溶液10.9gを加え、室温で1.5時間反応させた。反応終了後、20%塩酸9.9gを加え中和し、冷却後、析出した結晶をろ過し、水16mLで洗浄後、乾燥し、イミダゾール系化合物(A−13)を6.9g(収率91.0%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):0.9(t, 3H), 1.1-1.3(m, 16H), 1.5(m, 2H), 3.0(t, 2H), 5.6(s, 2H), 7.4(d, 2H), 7.7(d, 2H), 7.8(d, 2H), 8.0(d, 2H)
13C-NMR (DMSO-d6):14.6, 22.8, 24.5, 27.1, 28.9, 29.1, 29.4, 29.6, 31.9, 50.2, 119.2, 123.3, 128.2, 130.5, 131.4, 140.6, 148.2, 167.5
4−(1H−2−ベンズイミダゾール−1−イルメチル)−安息香酸メチル(A−14)の合成
ベンズイミダゾール5.0g(42mmol)、及び4−ブロモメチル安息香酸メチル10.2g(45mmol)のアセトニトリル200mL溶液に、水酸化ナトリウム2.1g(53mmol)を加え、室温で2.5時間攪拌した。不溶物をろ過し、ろ液に濃塩酸を加え酸性とした後、減圧下濃縮した。残渣に水100mLを加えた後、炭酸水素ナトリウムを加えてアルカリ性とした後、析出した結晶をろ過、水で洗浄後乾燥し、イミダゾール系化合物(A−14)を11.2g(収率99.5%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):3.8(s, 3H), 5.6(s, 2H), 7.2(m, 2H), 7.4(d, 2H), 7.5(m, 1H), 7.7(m, 1H), 7.9(d, 2H), 8.5(s, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6):47.9, 52.8, 111.3, 120.2, 122.4, 123.3, 128.2, 129.7, 130.3, 134.3, 143.0, 144.1, 145.0, 166.6
4−(1H−ベンズイミダゾール−1−イルメチル)−安息香酸(A−15)の合成
イミダゾール系化合物(A−12)の代わりにイミダゾール系化合物(A−14)6.7g(25mmol)を用いた以外は製造例13と同様の操作を行い、イミダゾール系化合物(A−15)を5.5g(収率87.3%)で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):5.6(s, 2H), 7.2(d, 2H), 7.4(m 2H), 7.5(dd, 1H), 7.7(dd, 1H), 7.9(d, 2H), 8.5(s, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6):48.0, 111.3, 120.2, 122.4, 123.2, 128.1, 130.4, 130.6, 130.9, 134.3, 142.5, 144.2, 145.0, 167.7
4−(1H−2−ベンズトリアゾール−1−イルメチル)−安息香酸メチル(A−16)の合成
ベンズイミダゾールをベンズトリアゾール5.0g(42mmol)に変えた以外は製造例14と同様に反応を行い、トリアゾール系化合物(A−16)を11.1g(収率99.5%)で得た。HPLC分析より、アルキル基がベンズトリアゾール環の2位がアルキル化されたものを21%含むものであった。
1H-NMR (DMSO-d6):3.8(3H), 6.1(2H), 7.4-7.6(m, 4H), 7.9(d, 2H), 8.0(m, 2H), 8.1(d, 2HH)
13C-NMR (DMSO-d6):51.1, 52.8, 59.6, 111.3, 118.6, 120.0, 124.8, 127.3, 128.3, 128.6, 129.1, 130.0, 130.3, 130.4, 133.5, 141.2, 141.9, 144.7, 146.0, 166.5
4−(1H−ベンズトリアゾール−1−イルメチル)−安息香酸(A−17)の合成
イミダゾール系化合物(A−14)の代わりにトリアゾール系化合物(A−16)6.7g(25mmol)を用いた以外は製造例15と同様の操作を行い、トリアゾール系化合物(A−17)を収率99.9%で得た。これは、位置異性体を21%含むものであった。
1H-NMR (DMSO-d6):6.1(s, 2H), 7.4-7.6(m, 4H), 7.9(d, 1H), 8.0(m, 2H), 8.1(d, 1H), 13.1(s, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6):51.2, 59.7, 111.3, 118.6, 112.0, 124.8, 127.3, 128.3, 128.4, 129.0, 130.4, 130.5, 131.2, 133.4, 140.7, 141.3, 144.7, 146.0, 167.6
4−(1H−5−フェニルテトラゾール−1−イルメチル)−安息香酸メチル(A−18)の合成
ベンズイミダゾールを5−フェニルテトラゾール8.5g(58mmol)に変えた以外は製造例14と同様に反応を行い、テトラゾール系化合物(A−18)を収率51.8%得た。
1H-NMR (DMSO-d6):3.9(s, 3H), 6.1(s, 2H), 7.5-7.6(m, 5H), 8.0-8.1(m, 4H)
13C-NMR (DMSO-d6):52.9, 56.2, 127.1, 127.4, 129.2, 130.0, 130.4, 130.5, 131.4, 139.9, 165.2, 166.5
4−(1H−5−フェニルテトラゾール−1−イルメチル)−安息香酸(A−19)の合成
イミダゾール系化合物(A−14)の代わりにテトラゾール系化合物(A−18)8.5g(30mmol)を用いた以外は製造例15と同様の操作を行い、テトラゾール系化合物(A−19)を収率92.5%で得た。
1H-NMR (DMSO-d6):6.2(s, 2H), 7.5-7.6(m, 5H), 8.0-8.1(m, 4H), 13.1(brs, 1H)
13C-NMR (DMSO-d6):56.3, 127.1, 127.4, 129.0, 129.9, 130.6, 131.3, 131.6, 139.5, 165.2, 167.6
上記で得られたアゾール系化合物(A−1)〜(A−19)、更に1,2,3−ベンゾトリアゾールについて、金属表面処理試験(耐熱試験)を行った。
銅板(山本鍍金試験器製:ハルセル用陰極板;B-60-P05)を酸性クリーナー:LAC−41(ロームアンドハース製)の20%水溶液に40℃で5分浸漬した後、純水に1分間浸漬し、次いで5%硫酸水溶液に30℃、1分浸漬した。得られた銅板を濃度100ppmのイミダゾール系化合物(A−1)のイソプロピルアルコール溶液に30℃、1分間浸漬し、次いで純水に1分浸漬洗浄した後、ドライヤーで乾燥させた。得られた銅板について、表面処理試験(耐熱試験)を行った。評価結果は下記表1に示す。
実施例1において、イミダゾール系化合物(A−1)のイソプロピルアルコール溶液の代わりに、1,2,3−ベンゾトリアゾールの水溶液を用いた以外は同様にして、銅板を得た。次いで、表面処理試験(耐熱試験)を実施した。
オーブン(SAKURA社製:HOT−AIR STERILIZER HE−11)を用いて、150℃で1時間加熱した。
・評価(目視判定)
1:変色なし、
2:僅かに変色、
3:少し変色、
4:明らかに変色、
5:ひどく変色
Claims (7)
- 下記一般式(1)または(2)で示されるアゾール系化合物の少なくとも1種を有効成分として含有することを特徴とする金属表面処理剤。
- アゾール系化合物が、下記一般式(3)で示されるイミダゾール系化合物であることを特徴とする請求項1記載の金属表面処理剤。
- 銅、ニッケル、銀、亜鉛、鉄、アルミニウムまたはこれらの合金から選ばれる金属に用いることを特徴とする請求項1または2記載の金属表面処理剤。
- 金属表面防錆剤として用いることを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の金属表面処理剤。
- 下記一般式(4)で示されるイミダゾール系化合物。
- 下記一般式(5)で示されるイミダゾール系化合物。
- 下記一般式(6)で示されるイミダゾール系化合物。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2009269893A JP5489674B2 (ja) | 2008-12-01 | 2009-11-27 | 金属表面処理剤ならびにイミダゾール系化合物 |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2008306544 | 2008-12-01 | ||
JP2008306544 | 2008-12-01 | ||
JP2009269893A JP5489674B2 (ja) | 2008-12-01 | 2009-11-27 | 金属表面処理剤ならびにイミダゾール系化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2010156043A JP2010156043A (ja) | 2010-07-15 |
JP5489674B2 true JP5489674B2 (ja) | 2014-05-14 |
Family
ID=42574165
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2009269893A Expired - Fee Related JP5489674B2 (ja) | 2008-12-01 | 2009-11-27 | 金属表面処理剤ならびにイミダゾール系化合物 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5489674B2 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP5594779B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-09-24 | Jx日鉱日石金属株式会社 | 銅変色防止液 |
RU2692774C2 (ru) * | 2014-08-29 | 2019-06-27 | Дайсел Корпорэйшн | Имидазольное соединение, жидкость для обработки металлической поверхности, способ обработки металлической поверхности и способ изготовления ламината |
JP6415374B2 (ja) * | 2015-03-31 | 2018-10-31 | 東京応化工業株式会社 | フォトリソグラフィ用現像液及びレジストパターン形成方法 |
JP6514578B2 (ja) * | 2015-06-17 | 2019-05-15 | 東京応化工業株式会社 | エッチング組成物及び伝導膜の製造方法 |
US20170181292A1 (en) | 2015-12-16 | 2017-06-22 | Rohm And Haas Electronic Materials Llc | Method for forming organic coating on nickel surface |
CN111978257A (zh) * | 2020-08-26 | 2020-11-24 | 武汉药明康德新药开发有限公司 | 含有醛基和羧基的1-甲基芳烃-1h-咪唑系列化合物的合成方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS59219480A (ja) * | 1983-05-24 | 1984-12-10 | Otsuka Kagu Kogyo Kk | 防錆剤組成物 |
JP2008045215A (ja) * | 1999-01-25 | 2008-02-28 | Chemical Denshi:Kk | 金属表面処理剤及び金属層の表面処理方法 |
JP2000219876A (ja) * | 1999-01-29 | 2000-08-08 | Nippon Chem Kogyo Kk | 不凍液組成物 |
JP3952410B2 (ja) * | 2004-02-10 | 2007-08-01 | タムラ化研株式会社 | 金属の表面処理剤、プリント回路基板およびプリント回路基板の金属の表面処理方法 |
-
2009
- 2009-11-27 JP JP2009269893A patent/JP5489674B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2010156043A (ja) | 2010-07-15 |
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Date | Code | Title | Description |
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