JP5465363B1 - レーザ加工装置、加工制御装置およびパルス周波数制御方法 - Google Patents

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Abstract

レーザ加工装置(100A)が、供給電力に応じたパルスレーザ光を出力する共振器(11)及び電源(12)を有したパルスレーザ発振器(1A)と、ガルバノエリア内でパルスレーザ光の照射位置を位置決めしてワーク(7)上に照射するガルバノスキャンミラー(3)と、ガルバノスキャンミラー(3)の動作と同期してパルスレーザ光が出力されるように制御する加工制御装置(2A)と、電源(12)から共振器(11)に供給される電力の電力量を検出するとともに、電力量に基づいて電源(12)が容量限界に近付いたか否かを判定する電力判定部(13)とを備え、加工制御装置(2A)は、電力判定部(13)から電源(12)が容量限界に近付いたことを示す信号を受信すると、電力量の上昇が抑制されるようガルバノスキャンミラー(3)の位置決め速度を抑制したうえで、ワーク(7)へのレーザ加工を継続する。

Description

本発明は、被加工物にパルスレーザ光を照射して穴あけ加工を行うレーザ加工装置、加工制御装置およびパルス周波数制御方法に関する。
プリント基板などのワーク(加工対象物)を加工する装置の1つとして、ワークにパルスレーザ光を照射して穴あけ加工を行うレーザ加工装置(マイクロレーザ加工機)がある。このようなレーザ加工装置では、加工制御装置から送られてくるレーザ出力指令に基づいて、パルスレーザ発振器がパルスレーザ光を出力する。
パルスレーザ発振器は、出力するパルスレーザ光の繰返し周波数が高くなると、電源(発振器電源盤)の容量限界に近づく場合がある。従来のレーザ加工装置は、電源が容量限界に達すると、アラームを出力して停止させる、またはパルスレーザ発振器に保護機能を働かせて電力を絞らせる(パルスレーザ出力を低下させる)などの処理を行っていた。
また、特許文献1に記載のガスレーザ発振器は、電源が容量限界に近付くと、パルス指令値を停止させ、放電管に供給する電力の上限許容値に基づいて、パルス指令値を設定している。
特開2007−59690号公報
しかしながら、上記従来の技術のように、パルス指令値を停止させると、ワークへのレーザ加工が停止するので、ワークへのレーザ加工に長時間を要するという問題があった。
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、発振器の電源が容量限界に近付いた場合であっても、加工品質および加工効率を低下させることなく被加工物へのレーザ加工を行うことができるレーザ加工装置、加工制御装置およびパルス周波数制御方法を得ることを目的とする。
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明のレーザ加工装置は、供給された電力に応じたパルスレーザ光を出力する共振器と、前記共振器に前記電力を供給する電源とを有したパルスレーザ発振器と、ガルバノエリア内で前記パルスレーザ光の照射位置を位置決めして被加工物上に照射するガルバノスキャンミラーと、前記ガルバノスキャンミラーの動作と同期して前記パルスレーザ光が出力されるよう前記パルスレーザ発振器および前記ガルバノスキャンミラーを制御する加工制御装置と、前記電源から前記共振器に供給される電力の電力量を検出するとともに、前記電力量に基づいて前記電源が容量限界に近付いたか否かを判定する電力判定部と、を備え、前記加工制御装置は、前記電力判定部から前記電源が容量限界に近付いたことを示す信号を受信すると、前記電力量の上昇が抑制されるよう前記ガルバノスキャンミラーの位置決め速度を抑制したうえで、前記被加工物へのレーザ加工を継続することを特徴とする。
本発明によれば、発振器の電源が容量限界に近付いた場合であっても、加工品質および加工効率を低下させることなく被加工物へのレーザ加工を行うことが可能になるという効果を奏する。
図1は、実施の形態1に係るレーザ加工装置の構成を示す図である。 図2は、実施の形態に係るレーザ加工装置の動作処理手順を示すフローチャートである。 図3は、パルスレーザ光の繰り返し周波数とパルスレーザ発振器の電源電力量との関係を示す図である。 図4は、パルスレーザ光の繰り返し周波数を説明するための図である。 図5は、実施の形態2に係るレーザ加工装置の構成を示す図である。
以下に、本発明の実施の形態に係るレーザ加工装置、加工制御装置およびパルス周波数制御方法を図面に基づいて詳細に説明する。なお、これらの実施の形態により、この発明が限定されるものではない。
実施の形態1.
図1は、実施の形態1に係るレーザ加工装置の構成を示す図である。レーザ加工装置100Aは、プリント配線基板などのワーク(被加工物)7にスルーホールなどの穴あけ加工を行う装置である。本実施の形態のレーザ加工装置100Aは、パルスレーザ発振器1Aの電源12が容量限界に近づいた場合に、ガルバノスキャンミラー3の動作速度を抑制することによって電力が容量限界以上に高くならないよう制御する。
レーザ加工装置100Aは、パルスレーザ発振器1Aと、ガルバノスキャンミラー3と、加工制御装置2Aと、を備えている。パルスレーザ発振器1Aは、パルスレーザ光を出力してワーク7側に送る装置である。パルスレーザ発振器1Aは、加工制御装置2Aからの指令に応じてパルスレーザ光を出力する。パルスレーザ発振器1Aは、共振器11と、電源12と、電力判定部13Aと、を有している。
共振器11は、電源12から送られてくる電力(電流および電圧)に基づいて、パルスレーザ光を出力する。電源12は、加工制御装置2Aからの指示に従って、共振器11に電力を供給する。
電力判定部13Aは、電源12が共振器11に供給する電流値に基づいて、パルスレーザ光の出力に伴う電源12の電力量(エネルギ量)を検出する。換言すると、電力判定部13Aは、電源12が共振器11に供給する電力の大きさ(電力量)を検出する。電力判定部13Aは、所定時間(例えば、0.1〜0.2秒)の間に電源12が共振器11に供給する電力量を検出する。
電力判定部13Aは、検出した電力量に基づいて、電源12が容量限界に近付いたか否かを判定する。電力判定部13Aは、電源12が所定の閾値(第1の閾値)を越えた場合に、電源12が容量限界に近付いたと判定する。電力判定部13Aは、電源12が容量限界に近付いたと判定すると、電源12が容量限界に近付いたことを示す信号(クランプ信号)を加工制御装置2Aに出力する。
加工制御装置2Aは、ガルバノスキャンミラー3の動作と同期してパルスレーザ光が出力されるよう、パルスレーザ発振器1Aおよびガルバノスキャンミラー3を制御する。加工制御装置2Aは、レーザ出力指令をパルスレーザ発振器1Aへ出力するとともに、位置決め指令(加工位置を指定する指令)をガルバノスキャンミラー3に出力する。本実施の形態の加工制御装置2Aは、電源12から出力される電力量に基づいて、パルスレーザ発振器1Aから出力されるパルスレーザ光の繰返しパルス周波数を制御する。
加工制御装置2Aは、ワーク7の穴位置(加工穴の位置)が高密度で、照射するパルスレーザ光の繰返し周波数が高くなる場合に、ガルバノスキャンミラー3の動作速度を抑制することによって、照射するパルスレーザ光の繰返し周波数を低減させる。これにより、加工制御装置2Aは、電源12が容量限界に到達することを防止する。この結果、パルスレーザ発振器1Aのもつ最大能力にて常に安定したパルスレーザ出力を得ることができる。したがって、生産性が向上するとともに、加工品質が向上する。
また、レーザ加工装置100Aは、出力されたパルスレーザ光に対して像転写光学系を構成しているマスク4およびfθレンズ6を備えている。パルスレーザ発振器1Aから出射されたパルスレーザ光は、マスク4を介してガルバノスキャンミラー3に送られ、ガルバノスキャンミラー3で反射される。
ガルバノスキャンミラー3は、ガルバノエリア内でパルスレーザ光の照射位置を位置決めするミラーである。ガルバノスキャンミラー3は、パルスレーザ光を走査することによって、fθレンズ6を介してワーク7上のレーザ加工位置にレーザ光を照射する。
パルスレーザ発振器1Aから出力されるパルスレーザ光の出射タイミングと、ガルバノスキャンミラー3の位置決め処理とは、所望の穴あけ位置にパルスレーザ光を照射できるよう、加工プログラムに基づいて、加工制御装置2Aによって制御される。
つぎに、レーザ加工装置100Aの動作処理手順について説明する。図2は、実施の形態に係るレーザ加工装置の動作処理手順を示すフローチャートである。レーザ加工装置100Aがワーク7へのレーザ加工を開始すると、加工制御装置2Aから電源12に、パルスレーザ出力値、パルスレーザ光の繰り返し周波数、パルスレーザオン時間などが送られる。
これにより、電源12は、パルスレーザ出力値、パルスレーザ光の繰り返し周波数、パルスレーザオン時間などに基づいて、共振器11に電流および電圧を供給する。電源12が共振器11に供給する電流および電圧は、パルスレーザ光を出力させるためのものである。
電力判定部13Aは、電源12が共振器11に供給する電流および電圧に基づいて、パルスレーザ光の出力に伴う電源12の電力量を検出する。そして、電力判定部13Aは、検出した電力量に基づいて、電源12が容量限界に近付いたか否かを判定する(ステップS1)。
電力判定部13Aは、電源12が所定の閾値を越えた場合に、電源12が容量限界に近付いたと判定し(ステップS1、Yes)、電源12が容量限界に近付いたことを示すクランプ信号を加工制御装置2Aに出力する。加工制御装置2Aは、電力判定部13Aからクランプ信号を受信すると、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を抑制したうえで、レーザ加工を継続する(ステップS2)。加工制御装置2Aは、例えば、ガルバノスキャンミラー3が、現在の位置決め速度よりも速くならないように制御しながらレーザ加工を継続する。これにより、レーザ加工装置100Aでは、加工制御装置2Aからパルスレーザ発振器1Aへ送られるパルス指令値を停止させることなく、ワーク7へのレーザ加工が継続される。
一方、電力判定部13Aは、電源12が所定の閾値を越えていなければ、電源12が容量限界に近付いていないと判定し(ステップS1、No)、加工制御装置2Aにクランプ信号を送らない。これにより、レーザ加工装置100Aでは、加工制御装置2Aからパルスレーザ発振器1Aへ送られるパルス指令値を停止させることなく、ワーク7へのレーザ加工が継続される。
一般に、レーザ加工装置では、被加工物であるプリント配線基板の配線パターンおよび穴位置データによってパルスレーザ光の照射位置が決定され、照射位置の分布の疎密によってパルスレーザ光の繰返し周波数が変化する。
本実施の形態のパルスレーザ発振器1Aは、電力判定部13Aを備えており、電源12の電力が容量限界に近づいた場合に、電力判定部13Aが、電源12の容量限界に近づいたことを知らせるクランプ信号を加工制御装置2Aへ出力している。
これにより、パルスレーザ光の照射位置の分布が高密度になることによって、パルスレーザ光の繰返し周波数が高くなった場合であっても、前記クランプ信号がパルスレーザ発振器1Aから加工制御装置2Aへ出力される。そして、加工制御装置2Aは、ガルバノスキャンミラー3の照射位置決め速度が、現在の速度よりも大きくならないよう、ガルバノスキャンミラー3へ出力する制御信号(パルスレーザ照射位置決め信号)を制御する。
この結果、ガルバノスキャンミラー3と同期して出力されるパルスレーザ光が抑制され、電源12が容量限界に達することを防止できる。これにより、全ての加工条件(基板材料、加工穴径、穴深さなど)に対して、レーザ加工装置100Aのもつ最大能力(最大加工速度)にて、常に安定したパルスレーザ光を出力することができる。したがって、生産性の低下を防止することができるとともに、加工品質の低下を防止することが可能となる。
図3は、パルスレーザ光の繰り返し周波数とパルスレーザ発振器の電源電力量との関係を示す図である。図3の横軸は、パルスレーザ光の繰り返し周波数であり、縦軸はパルスレーザ発振器1Aが備える電源12の電力量である。パルスレーザ光の繰り返し周波数が大きくなると、パルスレーザ発振器1Aが備える電源12の電力量も大きくなる。
このため、本実施の形態の電力判定部13Aは、電源12の電力が容量限界21に近づいたことを検出し、容量限界21に近づいたことを知らせるクランプ信号を加工制御装置2Aへ出力する。そして、加工制御装置2Aは、ガルバノスキャンミラー3の照射位置決め速度を抑制することによって、電源12の電力量が容量限界21に到達しないようガルバノスキャンミラー3およびパルスレーザ発振器1Aを制御する。
図4は、パルスレーザ光の繰り返し周波数を説明するための図である。例えば、第1の加工位置に対してパルスレーザ光31が照射され、第2の加工位置に対してパルスレーザ光33が照射される場合、加工制御装置2Aは、第1の加工位置から第2の加工位置まで加工位置を移動させる際の移動時間32を長時間に設定することによって、パルスレーザ光の繰り返し周波数を抑制する。
なお、本実施の形態では、パルスレーザ発振器1A内に電力判定部13Aを配置する場合について説明したが、電力判定部13Aは、必ずしもパルスレーザ発振器1A内に配置する必要はない。
また、加工制御装置2Aは、電源12の電力量を抑制する際には、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を現在の速度に維持させてもよいし、現在の速度よりも遅くさせてもよい。この場合、加工制御装置2Aは、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を現在値以下に設定することによって、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を抑制し、これにより電源12の電力量を抑制する。
また、加工制御装置2Aは、電力判定部13Aが検出した電力量の履歴に基づいて、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を現在の速度に維持させるか現在の速度よりも遅くさせるかを切替えてもよい。
また、加工制御装置2Aは、電源12の電力量を抑制する際には、所定時間だけガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を抑制した後に抑制を解除してもよいし、電力量が所定の閾値(第2の閾値)まで下がった後に抑制を解除してもよい。
また、電力判定部13Aは、電源12から共振器11に供給される電圧が一定値であることを前提とし、電源12から共振器11に供給される電流に基づいて、電源12の電力量を検出してもよい。
また、電力判定部13Aは、加工制御装置2Aから電源12に送られる繰り返し周波数に基づいて、電源12の電力量を検出してもよい。また、電力判定部13Aは、共振器11から出力されたパルスレーザ光に基づいて、電源12の電力量を検出してもよい。
このように実施の形態1によれば、電力判定部13Aが電源12の電力量を判定し、判定結果に基づいて、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を低下させるので、パルスレーザ発振器1Aの電源12が容量限界に近付いた場合であっても、パルス指令値を停止させることなくワーク7へのレーザ加工を行うことが可能になる。したがって、加工品質および加工効率を低下させることなくワーク7へのレーザ加工を行うことが可能になる。
実施の形態2.
つぎに、図5を用いてこの発明の実施の形態2について説明する。実施の形態2では、電力判定部を、加工制御装置内に配置しておく。図5は、実施の形態2に係るレーザ加工装置の構成を示す図である。レーザ加工装置100Bは、レーザ加工装置100Aと同様の機能を有している。
レーザ加工装置100Bは、レーザ加工装置100Aと比較して、加工制御装置2Aの代わりに加工制御装置2Bを備え、パルスレーザ発振器1Aの代わりにパルスレーザ発振器1Bを備えている。
加工制御装置2Bは、制御部20と、電力判定部13Bと、を備えている。制御部20は、パルスレーザ発振器1Bおよびガルバノスキャンミラー3に接続されており、加工制御装置2Aと同様の処理を行う。また、電力判定部13Bは、共振器11、電源12および制御部20に接続されており、電力判定部13Aと同様の処理を行う。また、パルスレーザ発振器1Bは、共振器11と、電源12と、を有している。
本実施の形態では、電源12が容量限界に近づいたか否かを、電力判定部13Bが判定するとともに、電源12が容量限界に近づいた場合に、制御部20がガルバノスキャンミラー3の動作速度を抑制する。
このように実施の形態2によれば、電力判定部13Bが電源12の電力量を判定し、判定結果に基づいて、ガルバノスキャンミラー3の位置決め速度を低下させるので、パルスレーザ発振器1Bの電源12が容量限界に近付いた場合であっても、パルス指令値を停止させることなくワーク7へのレーザ加工を行うことが可能になる。
以上のように、本発明に係るレーザ加工装置、加工制御装置およびパルス周波数制御方法は、パルスレーザ光を用いた被加工物への穴あけ加工に適している。
1A,1B パルスレーザ発振器、2A,2B 加工制御装置、3 ガルバノスキャンミラー、7 ワーク、11 共振器、12 電源、13A,13B 電力判定部、20 制御部、100A,100B レーザ加工装置。

Claims (7)

  1. 供給された電力に応じたパルスレーザ光を出力する共振器と、前記共振器に前記電力を供給する電源とを有したパルスレーザ発振器と、
    ガルバノエリア内で前記パルスレーザ光の照射位置を位置決めして被加工物上に照射するガルバノスキャンミラーと、
    前記ガルバノスキャンミラーの動作と同期して前記パルスレーザ光が出力されるよう前記パルスレーザ発振器および前記ガルバノスキャンミラーを制御する加工制御装置と、
    前記電源から前記共振器に供給される電力の電力量を検出するとともに、前記電力量に基づいて前記電源が容量限界に近付いたか否かを判定する電力判定部と、
    を備え、
    前記加工制御装置は、
    前記電力判定部から前記電源が容量限界に近付いたことを示す信号を受信すると、前記電力量の上昇が抑制されるよう前記ガルバノスキャンミラーの位置決め速度を抑制したうえで、前記被加工物へのレーザ加工を継続することを特徴とするレーザ加工装置。
  2. 前記電力判定部は、前記電源から前記共振器に供給される電流の電流値に基づいて、前記電源の電力量を検出することを特徴とする請求項1に記載のレーザ加工装置。
  3. 前記加工制御装置は、前記位置決め速度を現在値以下に設定することによって前記位置決め速度を抑制することを特徴とする請求項1または2に記載のレーザ加工装置。
  4. 前記加工制御装置は、前記電源の電力量を抑制する際には、所定時間だけ前記位置決め速度を抑制した後に、前記位置決め速度の抑制を解除することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のレーザ加工装置。
  5. 前記加工制御装置は、前記電源の電力量を抑制する際には、前記電力量が所定値まで下がった後に、前記位置決め速度の抑制を解除することを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載のレーザ加工装置。
  6. 供給された電力に応じたパルスレーザ光を出力する共振器と前記共振器に前記電力を供給する電源とを有したパルスレーザ発振器と、ガルバノエリア内で前記パルスレーザ光の照射位置を位置決めして被加工物上に照射するガルバノスキャンミラーと、を制御する制御部と、
    前記電源が前記共振器に供給する電力の電力量を検出するとともに、前記電力量に基づいて前記電源が容量限界に近付いたか否かを判定する電力判定部と、
    を備え、
    前記制御部は、前記ガルバノスキャンミラーの動作と同期して前記パルスレーザ光が出力されるよう前記パルスレーザ発振器および前記ガルバノスキャンミラーを制御するとともに、
    前記電力判定部から前記電源が容量限界に近付いたことを示す信号を受信すると、前記電力量の上昇が抑制されるよう前記ガルバノスキャンミラーの位置決め速度を抑制したうえで、前記被加工物へのレーザ加工を継続する加工制御装置。
  7. 供給された電力に応じたパルスレーザ光を出力する共振器と前記共振器に前記電力を供給する電源とを有したパルスレーザ発振器と、ガルバノエリア内で前記パルスレーザ光の照射位置を位置決めして被加工物上に照射するガルバノスキャンミラーと、を制御する制御ステップと、
    前記電源が前記共振器に供給する電力の電力量を検出するとともに、前記電力量に基づいて前記電源が容量限界に近付いたか否かを判定する電力判定ステップと、
    を含み、
    前記制御ステップでは、前記ガルバノスキャンミラーの動作と同期して前記パルスレーザ光が出力されるよう前記パルスレーザ発振器および前記ガルバノスキャンミラーを制御するとともに、
    前記電源が容量限界に近付いた場合には、前記電力量の上昇が抑制されるよう前記ガルバノスキャンミラーの位置決め速度を抑制したうえで前記被加工物へのレーザ加工を継続することによって、前記パルスレーザ光の出力周波数を制御することを特徴とするパルス周波数制御方法。
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