JP5463429B2 - 荷電粒子描画システム及び荷電粒子描画装置のパラメータ監視方法 - Google Patents
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可変成形型電子線(EB:Electron beam)描画装置の動作を以下に説明する。第1のアパーチャ410には、電子線330を成形するための矩形例えば長方形の開口411が形成されている。また、第2のアパーチャ420には、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口421が形成されている。荷電粒子ソース430から照射され、第1のアパーチャ410の開口411を通過した電子線330は、偏向器により偏向され、第2のアパーチャ420の可変成形開口421の一部を通過して、所定の一方向(例えば、X方向とする)に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340に照射される。すなわち、第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過できる矩形形状が、X方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料340の描画領域に描画される。第1のアパーチャ410の開口411と第2のアパーチャ420の可変成形開口421との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式という(例えば、特許文献1参照)。
ここで、ユーザA,B等のパーソナルコンピュータ(PC)552,554から変更指示されたパラメータは、まず、データベース540等に格納された後にインターフェース(I/F)回路534,536を介して描画部510を制御する各機器522,524の設定が変更される。また、パラメータが設定される各機器522,524は、その通信仕様が異なる場合が多い。そのため、管理用のPC560から直接、パラメータが設定される各機器522,524へは、アクセスしにくい構成となっていた。従来、装置オーナーは、パラメータがリファレンス564と食い違っていないかどうかを確認するために、管理用のPC560を使ってデータベース540上に格納されたパラメータを確認していた。しかしながら、データベース540等にパラメータが格納されても実際に描画装置内の各機器522,524に設定されるまでには若干のタイムラグが生じる。その結果、データベース540の内容と実機の各機器522,524に設定されている内容とに食い違いが生じる場合がある。そのため、リファレンスとデータベース上のパラメータでは一致しても、リファレンス564と各機器522,524に設定されている内容とが不一致になる場合がある。このように、リファレンスとデータベース上のパラメータを比較しても、実機での設定が異なっていると想定しない描画が行なわれてしまうといった問題があった。
通信規格の異なる複数の制御ユニットと、
複数の制御ユニットにより制御され、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画部と、
外部の従計算機からパラメータ情報を受信して、記憶する記憶部と、
受信されたパラメータ情報を複数の制御ユニットの少なくとも1つに通信規格に合わせて出力する第1のインターフェース回路群と、
主計算機と、
第1のインターフェース回路群とは独立に設けられ、主計算機からの要求を受信して、記憶部を介さずに通信規格の異なる複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を主計算機が用いる通信規格に変換して、主計算機に複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を送信する第2のインターフェース回路群と、
を備えたことを特徴とする。
描画装置を制御する通信規格の異なる複数の制御ユニットに設定するための基準パラメータ情報を受信する工程と、
外部の計算機からアクセス可能な記憶装置と受信されたパラメータ情報を前記複数の制御ユニットの少なくとも1つに通信規格に合わせて出力する第1のインターフェース回路群とを介して前記外部の計算機から設定された前記複数の制御ユニットに設定されている設定パラメータ情報を、前記第1のインターフェース回路群とは独立に設けられ、複数の制御ユニットに設定されている設定パラメータ情報を主計算機が用いる通信規格に変換して、主計算機に前記複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を送信する第2のインターフェース回路群を介して記憶装置を介さずに主計算機が受信する工程と、
受信された基準パラメータ情報と受信された設定パラメータ情報とを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における描画システムの構成を示す概念図である。
図1において、描画システム100は、荷電粒子ビーム描画システムの一例である。描画システム100は、描画装置110、制御部120、制御計算ユニット130、主計算機160、モニタ162、記憶装置164、及びI/F回路群170を備えている。制御部120内には、通信規格の互いに異なる複数の制御ユニット122,124,126が配置されている。制御ユニット122として、例えば、デジタル回路基板等を用いることができる。また、制御ユニット124として、例えば、シーケンサ装置等を用いることができる。また、制御ユニット126として、例えば、パーソナルコンピュータ(PC)等を用いることができる。制御計算ユニット130内では、制御計算機132、I/F回路134,136,138,142、データベース140、及び磁気ディスク装置146がバス144を介して互いに接続されて配置される。ここでは、複数のI/F回路134,136,138によりI/F回路群139を構成する。データベース140には、複数の制御ユニット122,124,126に設定されるパラメータが格納される。また、I/F回路172,174,176によりI/F回路群170が構成される。そして、主計算機160には、モニタ162と記憶装置164が接続される。記憶装置164には、複数の制御ユニット122,124,126に設定されるパラメータの基準となるリファレンスが格納されている。図1では、本実施の形態1を説明する上で必要な構成部分以外については記載を省略している。描画システム100にとって、通常、必要なその他の構成が含まれても構わないことは言うまでもない。
図2において、描画装置110は、荷電粒子ビーム描画装置の一例である。描画装置110は、描画室103と描画室103の上部に配置された電子鏡筒102を備えている。描画室103と電子鏡筒102とにより描画部を構成する。電子鏡筒102内には、電子銃201、照明レンズ202、第1のアパーチャ203、投影レンズ204、偏向器205、第2のアパーチャ206、対物レンズ207、及び偏向器208を有している。そして、描画室103内には、XYステージ105が配置される。XYステージ105上には、描画対象となる試料101が配置される。試料101として、例えば、半導体装置が形成されるウェハやウェハにパターンを転写する露光用のマスクが含まれる。また、このマスクは、例えば、まだ何もパターンが形成されていないマスクブランクスが含まれる。描画装置110は、図1に示した制御部120によって制御される。
図3において、主計算機160内には、入力部10、比較部12、リスト作成部14、出力部16、及びメモリ18が配置される。入力部10、比較部12、リスト作成部14、及び出力部16といった各機能の処理は、プログラムといったソフトウェアにより実行される。或いは、電気的回路等のハードウェアで構成されていても良い。或いは、ハードウェアとソフトウェアとの組合せにより実施させても構わない。或いは、ファームウェアとの組合せでも構わない。また、プログラムにより構成される場合、プログラムは、記憶装置164或いはメモリ18等の記録媒体に記録される。
図4において、パラメータ情報リスト20には、レファレンスの内容と実際に設定されているパラメータの内容とが対応するように定義される。ここでは、すべてを列記するのではなく、不一致となるパラメータだけを抽出して定義すると好適である。膨大な数のパラメータを順に列記しても不一致箇所を探すのに労力が必要となる。不一致となるパラメータだけを抽出して定義することで装置オーナーはその内容を素早く視認することができる。但し、不一致となるパラメータだけを定義する場合に限るものではない。上述したすべてを列記するようにしても構わない。
12 比較部
14 リスト作成部
16 出力部
18 メモリ
20 パラメータ情報リスト
100 描画システム
101,340 試料
102 電子鏡筒
103 描画室
105 XYステージ
110 描画装置
120 制御部
122,124,126制御ユニット
130 制御計算ユニット
132 制御計算機
134,136,138,142,172,174,176 I/F回路
534,536 I/F回路
139,170 I/F回路群
140 データベース
144 バス
146 磁気ディスク装置
160 主計算機
162 モニタ
164 記憶装置
150,510 描画部
200 電子ビーム
201 電子銃
202 照明レンズ
203,410 第1のアパーチャ
204 投影レンズ
205,208 偏向器
206,420 第2のアパーチャ
207 対物レンズ
330 電子線
411 開口
421 可変成形開口
430 荷電粒子ソース
522,524 機器
540 データベース
552,554,560 PC
564 リファレンス
Claims (5)
- 通信規格の異なる複数の制御ユニットと、
前記複数の制御ユニットにより制御され、荷電粒子ビームを用いて試料にパターンを描画する描画部と、
外部の従計算機からパラメータ情報を受信して、記憶する記憶部と、
受信されたパラメータ情報を前記複数の制御ユニットの少なくとも1つに通信規格に合わせて出力する第1のインターフェース回路群と、
主計算機と、
前記第1のインターフェース回路群とは独立に設けられ、前記主計算機からの要求を受信して、前記記憶部を介さずに前記通信規格の異なる複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を前記主計算機が用いる通信規格に変換して、前記主計算機に前記複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を送信する第2のインターフェース回路群と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子描画システム。 - 前記主計算機は、基準となる基準パラメータ情報を入力し、前記第2のインターフェース回路群から受信したパラメータ情報と比較し、結果を出力するモニタを有することを特徴とする請求項1記載の荷電粒子描画システム。
- 前記主計算機は、比較した結果、前記基準パラメータ情報と前記第2のインターフェース回路群から受信したパラメータ情報とで異なるパラメータ情報のリストを作成することを特徴とする請求項2記載の荷電粒子描画システム。
- 前記主計算機は、前記複数の制御ユニットに設定されているリアルタイムのパラメータ情報を前記第2のインターフェース回路群を介して受信することを特徴とする請求項1〜3いずれか記載の荷電粒子描画システム。
- 描画装置を制御する通信規格の異なる複数の制御ユニットに設定するための基準パラメータ情報を受信する工程と、
外部の計算機からアクセス可能な記憶装置と受信されたパラメータ情報を前記複数の制御ユニットの少なくとも1つに通信規格に合わせて出力する第1のインターフェース回路群とを介して前記外部の計算機から設定された前記複数の制御ユニットに設定されている設定パラメータ情報を、前記第1のインターフェース回路群とは独立に設けられ、前記複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を主計算機が用いる通信規格に変換して、前記主計算機に前記複数の制御ユニットに設定されているパラメータ情報を送信する第2のインターフェース回路群を介して前記記憶装置を介さずに前記主計算機が受信する工程と、
受信された前記基準パラメータ情報と受信された前記設定パラメータ情報とを比較し、結果を出力する工程と、
を備えたことを特徴とする荷電粒子描画装置のパラメータ監視方法。
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