JP5462453B2 - 半導体装置 - Google Patents

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Description

本発明は、一般に半導体装置に関し、詳しくはデータ内容の機密を保護するメモリを内蔵した半導体装置に関する。
テレビ及びSTB(セットトップボックス)等の高品質動画データ及び音声データを処理する装置においては、不正コピーやデータ改竄等を防止するために、一般にデータを暗号化して通信する。この暗号化/復号化のために、装置固有のIDや通信用キーを書換え可能な不揮発性メモリに搭載する場合がある。
このような不揮発性メモリに保存されるデータは、不正な方法での暗号解除を防止するために、本来の目的以外の用途のためには容易に読み出せない仕組みとなっている。このようにデータ内容の機密を保護する仕組みがあるメモリは、セキュアメモリと呼ばれている。
セキュアメモリをSoC(システム・オン・チップ)上に実装した構成等においては、格納データの読出しを禁止して機密性を確保したいという要求と、格納データを読出して書込みが正常に行なわれたことを確認したいという要求とが、互いに相反した要求となってしまう。高いセキュアレベルを維持しながらも格納データが正常であることを確認する手段としては、データそのものを直接読み出すのではなく、CRC(巡回冗長検査)方式、パリティ方式、チェックサム方式等を用いて、間接的に誤りが無いことを確認する手段がある。しかしこの手段ではデータ不良の状態によっては誤りを検出できないことがあり得る。また誤り検出だけでなく、誤り訂正も行なおうとすると、回路が複雑化したり、処理速度が低下したりするという問題が生じる。また訂正能力がそれ程高くないという問題もある。
セキュアメモリをSoC上に実装する場合等には、チップ出荷テスト時のデータ書込み、データ確認、及びエラー対策を確実且つ簡単に行なうことが好ましい。従って、上記説明したようなエラー検出・訂正方式は、SoC上のセキュアメモリに対するデータ確認手法としては好ましくない。
特開平10−314451号公報 特開平04−168700号公報 特開平01−118933号公報 特開平01−279344号公報
以上を鑑みて本発明は、メモリの格納データの読出しを禁止するという要求と格納データの内容を確認するという要求とを同時に満たすことが可能な半導体装置を提供することを目的とする。
半導体記憶装置は、書込み動作有効状態において書込みデータが書き込まれる不揮発性メモリと、該書込み動作有効状態を示す有効状態指示信号に応答して該書込みデータを比較対象データとして利用可能にし、該不揮発性メモリからの読出しデータと、該利用可能にされた比較対象データとの比較結果を出力するチェック回路と、該チェック回路の出力である該比較結果を外部に出力する経路とを含み、該チェック回路は、該有効状態指示信号に応答して該書込みデータが該比較対象データとして書き込まれる第2のメモリと、該不揮発性メモリからの読出しデータと該第2のメモリからの読出しデータとの比較結果を出力する比較回路とを含み、該有効状態指示信号により該第2のメモリの書き込み動作を制御することにより、該不揮発性メモリに該書込みデータが書き込まれる場合にのみ、該第2のメモリに該書込みデータが書き込まれ、該不揮発性メモリの該読出しデータを外部に出力する経路が存在しないことを特徴とする。
本発明の少なくとも1つの実施例によれば、チェック回路は、書込みデータが有効状態指示信号により比較対象データとして有効化されたときにのみ、不揮発性メモリの格納データと有効化された比較対象データとの比較結果を出力することができる。半導体装置には不揮発性メモリの読出しデータを外部に出力する経路がなく、また不揮発性メモリに書き込む動作により有効化されたデータに対してのみ比較結果を外部に出力することができる。従って、不揮発性メモリの格納データの機密を保護しながらも、不揮発性メモリにデータが正しく書き込まれているか否かを外部から確認することができる。
以下に本発明の実施例を添付の図面を用いて詳細に説明する。
図1は、本発明の実施例である半導体装置の概略構成を示す図である。図1に示す半導体装置10はSoC等の単一の半導体チップであり、書込み制御回路11、不揮発性メモリ12、チェック回路13、比較結果出力経路14、及び回路ブロック15を含む。半導体装置10は、外部の書込み/読出し試験装置18に接続される。この書込み/読出し試験装置18により半導体装置10を操作することにより、半導体装置10の試験を行なう。具体的には、半導体装置10内部の不揮発性メモリ12にデータを書き込むとともにデータが正しく書き込まれているか否かをチェックする。
半導体装置10において、不揮発性メモリ12はその格納データ内容の機密を保護するよう構成されたセキュアメモリである。即ち、半導体装置10には、不揮発性メモリ12から読出しデータを外部に出力する経路が存在しない。不揮発性メモリ12から読み出されるデータの経路としては、半導体装置10の本来の意図する動作のためにそのデータを使用する回路ブロック15への経路と、不揮発性メモリ12の格納データの誤りの有無をチェックするためのチェック回路13への経路のみが設けられる。回路ブロック15は、単一の半導体チップである半導体装置10の内部に設けられており、不揮発性メモリ12から回路ブロック15への経路においてデータの機密は保護される。例えば、半導体装置10は画像・音声データの復号器であり、不揮発性メモリ12に格納された復号化キー(解読キー)に基づいて、回路ブロック15によりデータの復号化処理を実行する。なお回路ブロック15が半導体装置10の外部に設けられる場合であっても、不揮発性メモリ12から回路ブロック15の経路に暗号化回路及び復号化回路を設ければよい。この構成では、不揮発性メモリ12からの読出しデータを直接に外部に供給せずに、暗号化して外部に出力することになる。
有効状態指示信号PRCは、不揮発性メモリ12の書込み動作有効状態を示す信号であり、チェック回路13に供給される。この有効状態指示信号PRCは、不揮発性メモリ12の書込み動作を有効状態に設定するよう機能する信号であっても、或いは不揮発性メモリ12の書込み動作が有効状態にあることを示すよう機能する信号であってもよい。有効状態指示信号PRCは、外部から不揮発性メモリ12に供給される信号であっても、不揮発性メモリ12が生成する信号であってもよい。
書込み制御回路11は、書込みデータDATAを出力する。書込み制御回路11が出力する書込みデータDATAは、不揮発性メモリ12及びチェック回路13に供給される。不揮発性メモリ12には、書込み動作有効状態において書込みデータDATAが書き込まれる。チェック回路13は、有効状態指示信号PRCに応答して書込みデータDATAを比較対象データとして有効化し、不揮発性メモリ12からの読出しデータと有効化された比較対象データとの比較結果を出力する。チェック回路13の出力である比較結果は、比較結果出力経路14を介して半導体装置10の外部に出力され、書込み/読出し試験装置18に供給される。このチェック回路13の比較結果は、各ビットに対して一致/不一致を示すデータであってよい。
チェック回路13は、例えば揮発性メモリ16と比較回路17とを含んでよい。揮発性メモリ16には、有効状態指示信号PRCに応答して書込みデータDATAが比較対象データとして書き込まれる。比較回路17は、不揮発性メモリ12からの読出しデータと揮発性メモリ16からの読出しデータとの比較結果を出力する。有効状態指示信号PRCに応答して書込みデータDATAを比較対象データとして揮発性メモリ16に書き込む動作が、書込みデータDATAを比較対象データとして有効化する動作、即ち比較対象データとして利用可能にする動作に相当する。
この構成では、有効状態指示信号PRCにより揮発性メモリ16の書込み動作を制御しているので、不揮発性メモリ12にデータを書き込むことなく、揮発性メモリ16にデータを書き込むことはできない。即ち、揮発性メモリ16にデータを書き込んだ場合には、そのデータと同じデータが常に不揮発性メモリ12に書き込まれることになる。仮に揮発性メモリ16にのみデータを書き込むという動作が可能であるとすると、例えば揮発性メモリ16に全ビット“1”のデータを書き込むことにより、比較回路17による比較結果から不揮発性メモリ12の格納データを容易に知ることができてしまう。これを防ぐために図1の半導体装置10は、揮発性メモリ16にのみデータを書き込むという動作が不可能なように構成されている。
また或いは、後述するように、チェック回路13にメモリが設けられていない構成も可能である。例えば、有効状態指示信号PRCによりデータの伝搬/遮断が制御される経路を設け、有効状態指示信号PRCのアサート状態(有効を示す状態)に応答して書込みデータDATAが比較回路に供給される構成としてもよい。有効状態指示信号PRCに応答して書込みデータDATAを比較回路に供給する動作が、書込みデータDATAを比較対象データとして有効化する動作、即ち比較対象データとして利用可能にする動作に対応する。不揮発性メモリ12がデータ書込みと同時に直ちにデータ読出しが可能なメモリである場合には、不揮発性メモリ12から読み出されたデータと、有効状態指示信号PRCに応答して供給された書込みデータDATAとを比較して、比較結果を出力すればよい。
このようにしてチェック回路13は、不揮発性メモリ12への書込みデータが有効状態指示信号PRCにより比較対象データとして有効化されたときにのみ、不揮発性メモリ12の格納データと有効化された比較対象データとの比較結果を出力することができる。半導体装置10には不揮発性メモリ12の読出しデータを外部に出力する経路がなく、また不揮発性メモリ12に書き込む動作により有効化されたデータに対してのみ比較結果を外部に出力することができる。従って、不揮発性メモリ12の格納データの機密を保護しながらも、不揮発性メモリ12にデータが正しく書き込まれているか否かを外部から確認することができる。また比較結果を各ビット毎の一致/不一致を示すデータとすることにより、不良ビットの位置を検出し、必要に応じて冗長処理を行なうことができる。
また半導体装置10において、比較結果出力経路14は、揮発性メモリ16からの読出しデータを外部に出力する経路としても機能してよい。即ち、揮発性メモリ16からの読出しデータを、比較結果出力経路14を介してそのまま外部に出力可能なように構成してよい。この場合、揮発性メモリ16の比較対象データが書込みデータに等しいこと、即ち、揮発性メモリ16へのデータ書込みが正常に行なわれたことを容易に確認することができる。なお揮発性メモリ16は電源がオフされれば、その記憶内容が消去される。従って、不揮発性メモリ12に必要なデータを書き込んでチェック回路13によりその書込みデータが正しいことを確認した後、半導体装置10の電源をオフにすればよい。これにより揮発性メモリ16のデータが消去されるので、揮発性メモリ16のデータを外部に読出し可能な経路が設けられていても、不揮発性メモリ12の機密は保護することができる。
また半導体装置10において、揮発性メモリ16の代りに、有効状態指示信号PRCに応答して書込みデータDATAが比較対象データとして書き込まれる不揮発性であるチェック用メモリを設けてもよい。この場合、このチェック用メモリからの読出しデータを外部に出力可能な構成となっているのであれば、不揮発性メモリ12の書込みデータが正しいことを確認した後に、自動的にチェック用メモリの内容を消去するように構成すればよい。またチェック用メモリからの読出しデータを外部に出力不可能な構成の場合であれば、チェック用メモリにデータが残っていても問題はない。
図2は、本発明の実施例である半導体装置の具体的構成の一例を示す図である。図2において、図1に示す半導体装置10の回路ブロック15に相当する部分は省略されている。図2に示す半導体装置は、書込み制御信号生成回路20、読出し制御信号生成回路21、PROG電圧レベル監視回路22、AND回路23、不揮発性のセキュアメモリ24、揮発性の一次保存メモリ25、フリップフロップである読出しデータ保持バッファ26、フリップフロップである読出しデータ保持バッファ27、データ比較回路28、及び比較結果出力経路29を含む。
書込み制御信号生成回路20、PROG電圧レベル監視回路22、及びAND回路23が、図1の書込み制御回路11に相当する。またセキュアメモリ24が図1の不揮発性メモリ12に相当する。また一次保存メモリ25、読出しデータ保持バッファ26、読出しデータ保持バッファ27、及びデータ比較回路28が図1のチェック回路13に相当する。より具体的には、一次保存メモリ25が揮発性メモリ16に相当し、データ比較回路28が比較回路17に相当する。
書込み制御信号生成回路20は、書込み/読出し試験装置18から書込み指示、書込みデータ、及び書込みアドレスを受け取ると、書込みイネーブル信号WEをアサートするとともに、書込みデータWDATA及び書込みアドレスWADRSを出力する。また書込み制御信号生成回路20は、書込み同期信号として書込みクロック信号WCLKを出力する。書込み制御信号生成回路20が出力する書込みイネーブル信号WE、書込みデータWDATA、書込みアドレスWADRS、及び書込みクロック信号WCLKはそれぞれ、不揮発性のセキュアメモリ24に書込みイネーブル信号WE、入力データD−IN、書込みアドレスWADRS、及び書込みクロック信号WCLKとして供給される。また書込み制御信号生成回路20が出力する書込みデータWDATA、書込みアドレスWADRS、及び書込みクロック信号WCLKはそれぞれ、一次保存メモリ25に入力データD−IN、書込みアドレスWADRS、及び書込みクロック信号WCLKとして供給される。
書込み制御信号生成回路20が出力する書込みイネーブル信号WEは、AND回路23の一方の入力端子に入力される。AND回路23の他方の入力端子には、PROG電圧レベル監視回路22の出力が入力される。PROG電圧レベル監視回路22の入力には、書込み/読出し試験装置18から供給されるセキュアメモリ24の書込み動作(プログラム動作)を有効化する有効状態指示信号PROGが供給される。この有効状態指示信号PROGは図1の有効状態指示信号PRCに相当する。有効状態指示信号PROGはセキュアメモリ24にも供給されており、有効状態指示信号PROGが書込み電圧(プログラム電圧)に設定されたときのみ、セキュアメモリ24は書込み動作(プログラム動作)を実行することができる。PROG電圧レベル監視回路22は有効状態指示信号PROGの電圧を監視しており、有効状態指示信号PROGの電圧が書込み電圧になると、その出力をアサート状態(この例ではHIGH)にする。
AND回路23は、PROG電圧レベル監視回路22の出力がHIGHになり且つ書込み制御信号生成回路20からの書込みイネーブル信号WEがアサート状態(この例ではHIGH)になると、その出力をHIGHにする。即ち、一次保存メモリ25の書込みイネーブル信号WEがアサート状態となる。
従って一次保存メモリ25は、セキュアメモリ24に供給される書込みイネーブル信号WEがアサート状態であり且つ有効状態指示信号PROGがプログラム電圧に設定された場合に、書込みデータを記憶することになる。即ち、一次保存メモリ25は、セキュアメモリ24の書込み動作が有効であることを示す有効状態指示信号PROGと書込みイネーブル信号WEのアサート状態とに応答して、書込みデータを比較対象データとして有効化することになる。このように有効状態指示信号PROGに加え更に書込みイネーブル信号WEを一次保存メモリ25の書込み制御に用いることにより、セキュアメモリ24への書込み動作が実際に実行される場合にのみ一次保存メモリ25への書込み動作が実行されるという動作制限を確実に課すことができる。
なお、セキュアメモリ24が、書込みイネーブル信号WEを必要とせずに有効状態指示信号PROGの書込み電圧を印加するだけで書込みデータWDATAが書き込まれるような構成であれば、書込みイネーブル信号WEを一次保存メモリ25の書込み制御に用いる必要はない。また図2に示すように、書込みイネーブル信号WEのアサート状態と有効状態指示信号PROGの有効指示状態との両方が発生することによりセキュアメモリ24の書込み動作が有効となる構成であれば、両方の状態が発生したことを示す信号が図1の有効状態指示信号PRCに相当すると考えることもできる。即ち、PROG&WEの論理に相当する単一の信号の状態或いは複数の信号の組み合わせの状態が、有効状態指示信号PRCであると考えることもできる。
図3は、図2に示す半導体装置における書込み動作を示す動作波形図である。図3に示すように、書込みクロック信号WCLKに同期して、書込み制御信号生成回路20が書込みイネーブル信号WEをアサートするとともに、書込みアドレスWARDS及び書込みデータWDATAを供給する。書込み動作を実行する間、書込み/読出し試験装置18から供給される有効状態指示信号PROG(プログラム電圧)は、所定の書込み電圧に設定されている。図3最下部にある矢印が示すタイミングで、セキュアメモリ24及び一次保存メモリ25にデータが書き込まれる。なお不揮発性のセキュアメモリ24と揮発性の一次保存メモリ25とでは、一般に書込み動作に要する時間が異なる。その場合は必要に応じて、書込み制御信号生成回路20が、セキュアメモリ24及び一次保存メモリ25をそれぞれ独立に制御してよい。
図2を再び参照し、読出し制御信号生成回路21は、書込み/読出し試験装置18から読出し指示及び読出しアドレスを受け取ると、読出しイネーブル信号REをアサートするとともに、読出しアドレスRADRSを出力する。また読出し制御信号生成回路21は、読出し同期信号として読出しクロック信号RCLKを出力する。読出し制御信号生成回路21が出力する読出しイネーブル信号RE、読出しアドレスRADRS、及び読出しクロック信号RCLKは、セキュアメモリ24及び一次保存メモリ25のそれぞれに供給される。これに応答して、セキュアメモリ24及び一次保存メモリ25から格納データが読み出され、読出しデータ保持バッファ26及び読出しデータ保持バッファ27にそれぞれ格納される。読出しデータ保持バッファ26及び読出しデータ保持バッファ27に格納されたデータは、データ比較回路28により互いに比較され、比較結果を示すデータが比較結果出力経路29を介して書込み/読出し試験装置18に供給される。
図4は、図2に示す半導体装置における読出し動作を示す動作波形図である。図3に示すように、読出しクロック信号RCLKに同期して、読出し制御信号生成回路21が読出しイネーブル信号REをアサートするとともに、読出しアドレスRARDSを供給する。このアサート状態のイネーブル信号REと読出しアドレスRARDSとに応答して、セキュアメモリ24及び一次保存メモリ25からデータが読み出される。読み出されたデータは、上述のようにしてデータ比較回路28により互いに比較される。
以下に、揮発性メモリの記憶容量が不揮発性メモリの記憶容量よりも小さい場合の構成について説明する。上記の図3及び図4に示す書込み及び読出し動作では、セキュアメモリ24のデータ容量と一次保存メモリ25のデータ容量とが基本的に同一である場合を想定していた。即ち、任意の数の複数のアドレスに対して図3に示すようにデータを書き込んで、その後、データを書き込んだアドレスから図4に示すようにデータを読み出して、各読出し動作毎にデータ比較を行なっていた。そのような構成に対して、揮発性メモリの記憶容量を不揮発性メモリの記憶容量よりも小さくして、例えば1回の書込み動作で書き込まれるデータ量に等しい容量とすることで、大幅に揮発性メモリの回路規模及びコストを削減することができる。
図5は、揮発性メモリの記憶容量が不揮発性メモリの記憶容量よりも小さい場合の書込み動作、読出し動作、及びデータ比較動作の流れを示すフローチャートである。ステップS1で、セキュアメモリ及び一次保存メモリのあるアドレスに対してデータ書込みを実行する。ステップS2で、セキュアメモリ及び一次保存メモリの当該アドレスからデータを読み出す。ステップS3で、読み出したデータ同士を比較する。ステップS4で、比較結果を比較結果出力経路(テスタインターフェース)を介してテスタ(書込み/読出し試験装置)に供給する。ステップS5で、レジスタ等に格納されているアドレス値をカウントアップして、次のアドレスを示す値に更新する。その後、ステップS1に戻り以降のステップを繰り返すことにより、次のアドレスに対する書込み、読出し、及びデータ比較動作を実行する。以上の動作を、書込みデータがなくなるまで実行する。
このように、不揮発性メモリへのデータ書込み動作毎に、不揮発性メモリからの読出しデータと揮発性メモリからの読出しデータとの比較結果を出力する構成とする。このような構成とすることにより、揮発性メモリの記憶容量を不揮発性メモリの記憶容量よりも小さくすることができる。
図6は、本発明の実施例である半導体装置の具体的構成の別の一例を示す図である。図6において、図2と同一の構成要素は同一の番号で参照し、その説明は省略する。
図6に示す構成は、図2に示す構成と比較して、PROG電圧レベル監視回路22が削除され、セキュアメモリ24の代りにセキュアメモリ24Aが設けられている点が異なる。その他の部分の構成及び動作は図2と図6とで同一である。セキュアメモリ24Aは、プログラム電圧PROGが適正な書込み電圧になっている場合に、有効状態指示信号PRCをHIGHにする。この有効状態指示信号PRCはAND回路23の一方の入力に供給される。AND回路23のもう一方の入力には、書込み制御信号生成回路20が出力する書込みイネーブル信号WEが供給される。
従って一次保存メモリ25は、セキュアメモリ24Aに供給される書込みイネーブル信号WEがアサート状態であり且つセキュアメモリ24Aの適正なプログラム電圧状態を有効状態指示信号PRCが示す場合に、書込みデータを記憶することになる。即ち、一次保存メモリ25は、セキュアメモリ24Aの書込み動作が有効であることを示す有効状態指示信号PRCと書込みイネーブル信号WEのアサート状態とに応答して、書込みデータを比較対象データとして有効化することになる。このように有効状態指示信号PRCに加え更に書込みイネーブル信号WEを一次保存メモリ25の書込み制御に用いることにより、セキュアメモリ24Aへの書込み動作が実際に実行される場合にのみ一次保存メモリ25への書込み動作が実行されるという動作制限を確実に課すことができる。
図7は、不揮発性メモリの冗長処理を行なう構成の一例を示す図である。図7において、図2と同一の構成要素は同一の番号で参照し、その説明は省略する。なお図示の簡便さの都合上、書込み制御信号生成回路20からセキュアメモリ24への信号接続は省略してある。
図7に示されるように、書込み制御信号生成回路20が出力する書込みイネーブル信号WE、書込みデータWDATA、書込みアドレスWADRS、及び書込みクロック信号WCLKは、救済用不揮発性メモリ32に書込みイネーブル信号WE、入力データD−IN、書込みアドレスWADRS、及び書込みクロック信号WCLKとして供給される。また書込み制御信号生成回路20が出力する書込みアドレスWADRSは、アドレス比較&冗長処理回路31に供給される。
図2を参照して説明したようにデータ比較回路28から比較結果出力経路29を介して比較結果が書込み/読出し試験装置18に供給されると、書込み/読出し試験装置18はこの比較結果に基づいてセキュアメモリ24の欠陥アドレスを特定することができる。書込み/読出し試験装置18は、この特定された欠陥アドレスを、アドレス比較&冗長処理回路31に不良アドレスとして登録する(アドレス比較&冗長処理回路31の内部レジスタに格納する)。このとき書込み/読出し試験装置18は、不良アドレスを登録するとともに、セキュアメモリ24のこの不良アドレスに書き込む筈であった書込みデータを、救済用不揮発性メモリ32の適宜選択したアドレスに書き込む。このときの救済用不揮発性メモリ32の書込みアドレスWADRSが、救済領域アドレスとしてアドレス比較&冗長処理回路31に供給される。アドレス比較&冗長処理回路31は、これら不良アドレスと救済領域アドレスとを関連づけて登録する(内部レジスタに格納する)。
データ読出し動作を実行する場合、読出し制御信号生成回路21が、読出しイネーブル信号RE及び読出しクロック信号RCLKをセキュアメモリ24及び救済用不揮発性メモリ32に供給する。また読出し制御信号生成回路21は、読出しアドレスRADRSをアドレス比較&冗長処理回路31に供給する。アドレス比較&冗長処理回路31は、読出しアドレスRADRSを登録済みの不良アドレスと比較する。読出しアドレスRADRSと登録済みの不良アドレスとが一致しない場合、アドレス比較&冗長処理回路31は、読出しアドレスRADRSをセキュアメモリ24に供給するとともに、データセレクタ33にセキュアメモリ24の読出しデータを選択させる。読出しアドレスRADRSと登録済みの不良アドレスとが一致する場合、アドレス比較&冗長処理回路31は、当該登録済み不良アドレスに対応する救済領域アドレスを救済用不揮発性メモリ32に供給するとともに、データセレクタ33に救済用不揮発性メモリ32の読出しデータを選択させる。
このように、救済用不揮発性メモリ32と、読出しアドレスと不良アドレスとを比較するアドレス比較回路(アドレス比較&冗長処理回路31)と、アドレス比較回路による比較結果に応じてセキュアメモリ24からの読出しデータと救済用不揮発性メモリ32からの読出しデータとの何れか一方を選択するデータセレクタ33とを設けることで、冗長処理を実現することができる。なお上記構成は図2の構成に対する冗長処理として説明したが、図6の構成に対しても同様にして冗長処理を実現することができる。
図8は、図7に示す半導体装置の動作を示すフローチャートである。ステップS1において、セキュアメモリ24にデータを書き込む。ステップS2において、セキュアメモリ24及び一次保存メモリ25のデータを読み出して、データ比較を行なう。ステップS3において、比較結果を書込み/読出し試験装置18に供給し、比較結果が誤りを示す場合には不良アドレスを記録する。ステップS4において、セキュアメモリ24の不良アドレスを置き換える救済用不揮発性メモリ32の救済領域アドレスを決定する。ステップS5において、救済用不揮発性メモリ32の救済領域アドレスにデータを書き込むとともに、救済領域アドレスと不良アドレスとを対応付けてアドレス比較&冗長処理回路31に登録する。
図9は、揮発性メモリのテスト機能について説明する図である。図9において、図1と同一の構成要素は同一の番号で参照し、その説明は省略する。図1に示す半導体装置10では、揮発性メモリ16の格納データを比較対象データとして用いることにより、不揮発性メモリ12の格納データの誤りの有無を検出している。従って、揮発性メモリ16の書込み動作及び読出し動作を誤りなく実行できることが、予め確認されていなければならない。揮発性メモリ16の読出しデータを直接外部に供給する経路が設けられていれば、揮発性メモリ16の動作を確認することは容易である。しかしSoC等では、その通常動作時にメモリの読出しデータを外部に直接供給する必要がないにも関わらず、テスト目的のためにそのメモリからの外部出力用の専用データ端子を設けることは好ましくない。従って、SoC等では、通常、スキャンチェーンを用いたスキャンモードによるテスト動作が実行される。
図9において、揮発性メモリ16は、複数のスキャンフリップフロップから構成されるスキャンチェーンを内蔵する。このスキャンチェーンを介して、書込み/読出し試験装置18からのテスト用の入力データの書込み及び書込み/読出し試験装置18への出力データの読出しが行なわれる。スキャンチェーンを用いたテスト動作の際には、揮発性メモリ16に供給するスキャンモード信号をアサートすることにより、揮発性メモリ16をスキャンテストモードに設定する。テスト動作時には、揮発性メモリ16にスキャンチェーンを介して所望のテストデータを書き込むことができる。書き込んだデータを揮発性メモリ16からスキャンチェーンを介して読出し、読み出したデータを期待値と比較することにより、揮発性メモリ16が正常に動作しているか否かを判断することができる。
このように揮発性メモリ16がスキャンモードに設定された場合、外部からスキャンチェーンを介して所望のデータを書き込むことができてしまう。もしこのデータを揮発性メモリ16から読み出して、比較回路17により不揮発性メモリ12からの読出しデータと比較し、その比較結果を外部に出力可能であるとすると、不揮発性メモリ12の機密性が損なわれてしまう。従って、揮発性メモリ16にテストを実行するテスト機能(スキャンテスト機能)が設けられている場合には、例えばデータマスク機能回路41を揮発性メモリ16の出力と比較回路17の入力との間に設ける必要がある。このデータマスク機能回路41は例えばNOR回路等により構成され、スキャンモード信号がアサートされたときに揮発性メモリ16からの読出しデータを遮断(マスク)することにより、読出しデータが比較回路17に供給されないようにする。スキャンモード信号がアサートされないときには、データマスク機能回路41はデータを遮断(マスク)することなく、揮発性メモリ16からの読出しデータが比較回路17に供給される。
上記構成では、スキャンモード時のデータ比較動作を禁止するために、データマスク機能を用いた。代替的に、スキャンモード時のデータ比較動作を禁止するために、例えば、スキャンモード信号のアサート状態に応答して比較回路17を非活性化する等の構成としてもよい。このように、具体的な回路構成に関わらず、揮発性メモリ16のテスト機能を有効にした場合(スキャンモード信号がアサート状態の場合)において、比較回路17が比較結果を出力しないように構成されればよい。
図10は、本発明の実施例である半導体装置の具体的構成の更に別の一例を示す図である。図10において、図2と同一の構成要素は同一の番号で参照し、その説明は省略する。図10に示す構成は、図2に示す構成と比較して、セキュアメモリ24の代りにセキュアメモリ24Bが設けられ、AND回路23及び一次保存メモリ25が削除され、AND回路51が設けられている点が異なる。AND回路51は、書込み制御信号生成回路20からの書込みデータWDATAの各ビットに対してAND論理ゲートが設けられた構成であり、各ビット毎にAND論理演算を実行する。
前述のように、図1の半導体装置において、チェック回路13にメモリが設けられていない構成も可能である。有効状態指示信号によりデータの伝搬/遮断が制御される経路を設け、有効状態指示信号のアサート状態(有効を示す状態)に応答して書込みデータDATAが比較回路に供給される構成としてよい。図10において、AND回路51はそのようなデータの伝搬/遮断が制御される経路に相当する。AND回路51の一方の入力には、書込み制御信号生成回路20からの書込みデータWDATAが供給される。AND回路51の他方の入力には、PROG電圧レベル監視回路22の出力が入力される。PROG電圧レベル監視回路22の入力には、図2と同様に、書込み/読出し試験装置18から供給されるセキュアメモリ24の書込み動作(プログラム動作)を有効化する有効状態指示信号PROGが供給される。
AND回路51は、PROG電圧レベル監視回路22の出力がHIGHになると書込み制御信号生成回路20からの書込みデータWDATAを通過させ、バッファ27に供給する。バッファ27に格納された書込みデータWDATAはデータ比較回路28に供給される。有効状態指示信号PROGの書込み電圧状態(書込み有効を示す状態)に応答して書込みデータWDATAを比較回路に供給する動作が、書込みデータWDATAを比較対象データとして有効化する動作、即ち比較対象データとして利用可能にする動作に対応する。セキュアメモリ24Bは、データ書込みと同時に直ちにデータ読出しが可能なメモリである。データ比較回路28は、セキュアメモリ24Bから読み出されたデータと、AND回路51を介して供給された書込みデータWDATAとを比較して、比較結果を出力する。
図11は、図10に示す半導体装置における書込み動作及び読出し動作を示す動作波形図である。図11に示すように、書込みクロック信号WCLKに同期して、書込み制御信号生成回路20が書込みイネーブル信号WEをアサートするとともに、書込みアドレスWARDS及び書込みデータWDATAを供給する。書込み動作を実行する間、書込み/読出し試験装置18から供給される有効状態指示信号PROG(プログラム電圧)は、所定の書込み電圧に設定されている。図11中の矢印が示すタイミングで、セキュアメモリ24Bにデータが書き込まれる。書込みデータWDATAがセキュアメモリ24Bにあるクロックサイクルで書き込まれると、次のクロックサイクルでセキュアメモリ24Bのデータ出力端子D−OUTから書き込んだデータが出力される。読み出されたデータは、上述のようにしてデータ比較回路28により書込みデータWDATAと比較される。
なお図10に示す半導体装置では、有効状態指示信号PRCが有効状態を示す場合にAND回路51が書込みデータWDATAを通過させる構成としたが、この構成に限定されるものではない。AND回路51は、有効状態指示信号PRCが有効状態を示し且つ書込みイネーブル信号WEがアサート状態である場合において、書込みデータWDATAを通過させる構成としてもよい。
以上、本発明を実施例に基づいて説明したが、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、特許請求の範囲に記載の範囲内で様々な変形が可能である。
本願発明は以下の内容を含むものである。
(付記1)
書込み動作有効状態において書込みデータが書き込まれる不揮発性メモリと、
該書込み動作有効状態を示す有効状態指示信号に応答して該書込みデータを比較対象データとして有効化し、該不揮発性メモリからの読出しデータと、該有効化された比較対象データとの比較結果を出力するチェック回路と、
該チェック回路の出力である該比較結果を外部に出力する経路と
を含み、該不揮発性メモリの該読出しデータを外部に出力する経路が存在しないことを特徴とする半導体装置。
(付記2)
該チェック回路は、
該有効状態指示信号に応答して該書込みデータが該比較対象データとして書き込まれる揮発性メモリと、
該不揮発性メモリからの読出しデータと該揮発性メモリからの読出しデータとの比較結果を出力する比較回路と
を含むことを特徴とする付記1記載の半導体装置。
(付記3)
該揮発性メモリからの該読出しデータを外部に出力する経路を更に含むことを特徴とする付記2記載の半導体装置。
(付記4)
不揮発性の救済用メモリと、
読出しアドレスと不良アドレスとを比較するアドレス比較回路と、
該アドレス比較回路による比較結果に応じて該不揮発性メモリからの読出しデータと該救済用メモリからの読出しデータとの何れか一方を選択するセレクタ
を更に含むことを特徴とする付記2記載の半導体装置。
(付記5)
該揮発性メモリの記憶容量は該不揮発性メモリの記憶容量よりも小さいことを特徴とする付記2記載の半導体装置。
(付記6)
該比較回路は、該不揮発性メモリへのデータ書込み動作毎に、該不揮発性メモリからの読出しデータと該揮発性メモリからの読出しデータとの比較結果を出力することを特徴とする付記5記載の半導体装置。
(付記7)
該揮発性メモリはテストを実行するテスト機能を備え、該揮発性メモリの該テスト機能を有効にした場合において、該比較回路は該比較結果を出力しないように構成されることを特徴とする付記2記載の半導体装置。
(付記8)
該不揮発性メモリは該書込み動作有効状態において書込みイネーブル信号のアサート状態に応答して該書込みデータが書き込まれ、該チェック回路は、該有効状態指示信号と該書込みイネーブル信号のアサート状態とに応答して該書込みデータを該比較対象データとして有効化することを特徴とする付記1記載の半導体装置。
(付記9)
該有効状態指示信号は該不揮発性メモリが生成することを特徴とする付記1記載の半導体装置。
(付記10)
該チェック回路は、
該有効状態指示信号に応答して該書込みデータが該比較対象データとして書き込まれる不揮発性であるチェック用メモリと、
該不揮発性メモリからの読出しデータと該チェック用メモリからの読出しデータとの比較結果を出力する比較回路と
を含むことを特徴とする付記1記載の半導体装置。
(付記11)
前記不揮発性メモリの読出しデータを利用して動作する回路ブロックを更に半導体装置内に有し、前記不揮発性メモリの該読出しデータは、前記チェック部と、前記回路ブロックで終端されることを特徴とする付記1記載の半導体装置。
本発明の実施例である半導体装置の概略構成を示す図である。 本発明の実施例である半導体装置の具体的構成の一例を示す図である。 図2に示す半導体装置における書込み動作を示す動作波形図である。 図2に示す半導体装置における読出し動作を示す動作波形図である。 揮発性メモリの記憶容量が不揮発性メモリの記憶容量よりも小さい場合の書込み動作、読出し動作、及びデータ比較動作の流れを示すフローチャートである。 本発明の実施例である半導体装置の具体的構成の別の一例を示す図である。 不揮発性メモリの冗長処理を行なう構成の一例を示す図である。 図7に示す半導体装置の動作を示すフローチャートである。 揮発性メモリのテスト機能について説明する図である。 本発明の実施例である半導体装置の具体的構成の更に別の一例を示す図である。 図10に示す半導体装置における書込み動作及び読出し動作を示す動作波形図である。
符号の説明
10 半導体装置
11 書込み制御回路
12 不揮発性メモリ
13 チェック回路
14 比較結果出力経路
15 回路ブロック
16 揮発性メモリ
17 比較回路
18 書込み/読出し試験装置

Claims (9)

  1. 書込み動作有効状態において書込みデータが書き込まれる不揮発性メモリと、
    該書込み動作有効状態を示す有効状態指示信号に応答して該書込みデータを比較対象データとして利用可能にし、該不揮発性メモリからの読出しデータと、該利用可能にされた比較対象データとの比較結果を出力するチェック回路と、
    該チェック回路の出力である該比較結果を外部に出力する経路と
    を含み、
    該チェック回路は、
    該有効状態指示信号に応答して該書込みデータが該比較対象データとして書き込まれる第2のメモリと、
    該不揮発性メモリからの読出しデータと該第2のメモリからの読出しデータとの比較結果を出力する比較回路と
    を含み、
    該有効状態指示信号により該第2のメモリの書き込み動作を制御することにより、該不揮発性メモリに該書込みデータが書き込まれる場合にのみ、該第2のメモリに該書込みデータが書き込まれ、
    該不揮発性メモリの該読出しデータを外部に出力する経路が存在しないことを特徴とする半導体装置。
  2. 該第2のメモリは、揮発性メモリであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  3. 該揮発性メモリからの該読出しデータを外部に出力する経路を更に含むことを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  4. 不揮発性の救済用メモリと、
    読出しアドレスと不良アドレスとを比較するアドレス比較回路と、
    該アドレス比較回路による比較結果に応じて該不揮発性メモリからの読出しデータと該救済用メモリからの読出しデータとの何れか一方を選択するセレクタ
    を更に含むことを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  5. 該揮発性メモリの記憶容量は該不揮発性メモリの記憶容量よりも小さいことを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  6. 該比較回路は、該不揮発性メモリへのデータ書込み動作毎に、該不揮発性メモリからの読出しデータと該揮発性メモリからの読出しデータとの比較結果を出力することを特徴とする請求項5記載の半導体装置。
  7. 該揮発性メモリはテストを実行するテスト機能を備え、該揮発性メモリの該テスト機能を有効にした場合において、該比較回路は該比較結果を出力しないように構成されることを特徴とする請求項2記載の半導体装置。
  8. 該有効状態指示信号は該不揮発性メモリが生成することを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
  9. 該第2のメモリは、不揮発性であるチェック用メモリであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置。
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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011048879A (ja) * 2009-08-27 2011-03-10 Renesas Electronics Corp 半導体装置
US9230683B2 (en) * 2012-04-25 2016-01-05 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor device and driving method thereof
KR20150029848A (ko) * 2013-09-10 2015-03-19 매그나칩 반도체 유한회사 메모리 프로그래밍 방법 및 이를 수행하는 장치
US9558846B1 (en) * 2015-11-04 2017-01-31 Texas Instruments Incorporated Feedback validation of arbitrary non-volatile memory data
JP6872982B2 (ja) * 2017-06-09 2021-05-19 三菱電機株式会社 エネルギー需給計画装置
US10976361B2 (en) 2018-12-20 2021-04-13 Advantest Corporation Automated test equipment (ATE) support framework for solid state device (SSD) odd sector sizes and protection modes
US11137910B2 (en) * 2019-03-04 2021-10-05 Advantest Corporation Fast address to sector number/offset translation to support odd sector size testing
KR20220149220A (ko) 2021-04-30 2022-11-08 삼성전자주식회사 메모리 장치

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01118933A (ja) 1987-10-31 1989-05-11 Nec Corp シングルチップマイクロコンピュータ
JPH01279344A (ja) 1988-05-02 1989-11-09 Hitachi Ltd 書き込み装置
JPH02177091A (ja) * 1988-12-27 1990-07-10 Nec Corp Prom内蔵集積回路
JP2613674B2 (ja) 1990-10-31 1997-05-28 シャープ株式会社 集積回路装置
JP2702277B2 (ja) * 1990-11-21 1998-01-21 三菱電機株式会社 Prom内蔵マイコン
JPH10314451A (ja) 1997-05-15 1998-12-02 Copcom Co Ltd ゲーム装置
JP4686805B2 (ja) 2000-01-25 2011-05-25 ソニー株式会社 データ記憶素子製造方法およびデータ記憶素子、並びにデータ処理装置
JP2001339383A (ja) 2000-05-29 2001-12-07 Hitachi Ltd 認証通信用半導体装置
US7441164B2 (en) * 2002-12-26 2008-10-21 Broadcom Corporation Memory bypass with support for path delay test
JP4094977B2 (ja) * 2003-03-20 2008-06-04 沖電気工業株式会社 半導体装置
US20060095975A1 (en) * 2004-09-03 2006-05-04 Takayoshi Yamada Semiconductor device
DE102006053902A1 (de) * 2006-11-15 2008-05-21 Austriamicrosystems Ag Schaltungsanordnung, umfassend ein Speicherzellenfeld, und Verfahren zu deren Betrieb
US7463519B1 (en) * 2007-08-22 2008-12-09 Nscore Inc. MIS-transistor-based nonvolatile memory device for authentication
KR100925371B1 (ko) * 2008-01-07 2009-11-09 주식회사 하이닉스반도체 반도체 집적 회로의 테스트 회로

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