JP5441854B2 - インジウムターゲットの製造方法及びインジウムターゲット - Google Patents
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Description
直径205mm、高さ7mmの円柱状の鋳型の内部に160℃で溶解させたインジウム原料(純度4N)を、鋳型の底部から流し込んだ後、室温まで冷却して、円盤状のインジウムインゴット(直径204mm×厚み6mm)を形成した。続いて、このインジウムインゴットを10回圧延することで、インジウムターゲットを作製した。
インジウム原料を上部から流し込んだ以外は、実施例1と同様の条件でインジウムターゲットを作製した。
溶解させたインジウム原料の供給を5回に分けて行った以外は、比較例1と同様の条件でインジウムターゲットを作製した。
実施例及び比較例で得られたインジウムターゲットについて、目視により、酸化物で形成されたと考えられる異物の存在の有無を確認した。また、目視で異物の存在が確認されなかったものについては、超音波深傷検査により酸化物の有無を確認した。
また、これら実施例及び比較例のインジウムターゲットについて、不活性ガス溶融赤外吸収法による分析により、ターゲット中の異物部分及び異物周辺部分について、それぞれ酸素濃度を測定した。
さらに、これら実施例及び比較例のインジウムターゲットを、ANELVA製SPF−313Hスパッタ装置で、スパッタ開始前のチャンバー内の到達真空度圧力を1×10-4Pa、スパッタ時の圧力を0.5Pa、アルゴンスパッタガス流量を5SCCM、スパッタパワーを650Wで30分間スパッタし、目視により観察されたスパッタ中の異常放電の回数を計測した。
また、これら実施例及び比較例のインジウムターゲットについて、平均粒径を表面研削と酸によるエッチングによって粒界を観察し易くした後に、ターゲットの中心部分の100mm×100mmの面積中の結晶粒を観察し、寸法測定によって粒径及び平均粒径を算出した。
各測定結果を表1に示す。
比較例1では、インジウム原料を鋳型の上部から供給したため、インジウム原料が雰囲気中の酸素と接触する機会が実施例1と比べて非常に多く、インジウムターゲット中の異物が目視により確認され、異物部分及びその周辺の酸素濃度が高かった。また、スパッタ時の異常放電の回数も非常に多く、構成粒子の平均粒径も10mmを超えた。
比較例2では、インジウム原料を5回に分けて鋳型の上部から供給したため、比較例1と比べると表中の全ての項目で改善が見られたが、実施例1と比べると、異物部分又はその周辺の酸素濃度が高く、スパッタ時の異常放電も観察され、構成粒子の平均粒径も高かった。
Claims (3)
- インジウム原料を、酸素を含む雰囲気中で溶解鋳造する工程を含み、該工程においてインジウム原料を鋳型の下部から供給し、冷却後、得られたインジウムインゴットを圧延することにより、インジウムターゲットの平均粒径を10mm以下とするインジウムターゲットの製造方法。
- インジウムターゲット中の酸素濃度が0.0005質量%以下である請求項1に記載のインジウムターゲットの製造方法。
- 酸素濃度が0.0005質量%以下であり、且つ、平均粒径が10mm以下であるインジウムターゲット。
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