JP5425976B2 - 磁気ディスク用ガラスブランク - Google Patents
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Description
SiO2を50〜75%、
Al2O3を0〜15%、
Li2O、Na2O及びK2Oを合計で5〜35%、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOを合計で0〜35%、及び
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5及びHfO2を合計で0〜15%、含むことができる。
a) 固定砥粒の代わりにスラリーに混濁した遊離砥粒を用いること
b) ダイアモンドシート410の代わりに樹脂ポリッシャを用いること
c) 遊離砥粒の種類及び粒子サイズが異なること
d) 樹脂ポリッシャの硬度が異なること
酸化物基準に換算し、モル%表示にて、
SiO2を50〜75%、
Al2O3を0〜15%、
Li2O、Na2O及びK2Oを合計で5〜35%、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOを合計で0〜35%、及び
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5及びHfO2を合計で0〜15%、
含む。
SiO2の含有量:60〜75%、
Al2O3の含有量:3〜12%、
Li2O、Na2O及びK2Oの合計含有量:23〜35%、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合計含有量:0〜5%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5及び
HfO2の合計含有量:0〜7%、
となっている。
SiO2の含有量:60〜75%、
Al2O3の含有量:1〜15%、
Li2O、Na2O及びK2Oの合計含有量:15〜25%、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合計含有量:1〜6%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5及び
HfO2の合計含有量:1〜9%、
となっている。
SiO2の含有量:50〜70%、
Al2O3の含有量:1〜8%、
Li2O、Na2O及びK2Oの合計含有量:12〜22%、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合計含有量:10〜20%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5及び
HfO2の合計含有量:3〜10%、
となっている。
SiO2の含有量:50〜70%、
Al2O3の含有量:1〜10%、
Li2O、Na2O及びK2Oの合計含有量:5〜17%
(うちLi2O:0〜1%)、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合計含有量:10〜25%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5及び
HfO2の合計含有量:1〜12%、
となっている。
SiO2の含有量:50〜75%、
Al2O3の含有量:0〜5%、
Li2O、Na2O及びK2Oの合計含有量:3〜15%
(うちLi2O:0〜1%)、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOの合計含有量:14〜35%、
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Yb2O3、Ta2O5、Nb2O5及び
HfO2の合計含有量:2〜9%、
となっている。
本発明の第1の実施形態のガラスブランク製造装置101(図1、図2)を用いて、下記の手順で、磁気ディスク用のガラス基板として使用される直径77mm、厚さ0.9mmのガラスブランクBを作成した。
図22に示される従来構成のガラスブランク製造装置901を用いて、直径77mm、厚さ0.9mmのガラスブランクBを形成した。具体的には、図22(a)に示されるように、溶融ガラス流出口911から吐出される溶融ガラス材料を一対の切断刃961、962からなる切断ユニット960にて切断してゴブGGを形成し、ゴブGGを溶融ガラス流出口911の下に配置された下型921の上に載せる。なお、溶融ガラス材料の温度及び粘度は、実施例のものと同じである。
上記の手順で製造されたガラスブランクBの形状を、三次元測定器及びマイクロメータを用いて計測した。計測結果を表2に示す。
また、本発明の実施の形態のガラスブランク製造装置は、第1の型及び第2の型の内周面には、プレス時にゴブと当接する平面であるプレス面及びスペーサのみが形成されている。これに対し、例えば特許第4380379号に示された構成のような、ブランクへの外周整形及び穴形成がより容易に行われるようにするための、第1及び第2の型の内周面に円環状の突起を形成する構成が考えられる。すなわち、第1の型及び第2の型の双方の内周面に、同心の2組の円環状の突起を形成する。このような型で形成されたブランクには、突起による円環状の溝が形成されることになり、この溝の位置でガラスブランクを容易に切断することができるようになる。
表3に示されるように、第2比較例の構成の装置によって成形されたガラスブランクBは、その厚さが、0.86mmを超えている。これは、型700のスペーサ712同士が当接する前にガラスブランクBが固化していることを意味する。さらに、第2比較例の構成の装置によって成形されたガラスブランクBは、厚さに0.05mm程度のバラツキが見られ、また、外径側よりも内径側の方が薄くなる傾向がみられた。従って、第2比較例の構成の装置によって成形されたガラスブランクBから磁気ディスクを作成するためには、ラップ工程などの表面研削を行う必要がなる。また、第2比較例の構成の装置によって成形されたガラスブランクBは、プレス時間が0.5秒以上になると、一部のサンプルでワレが生じた。
上記の実施例のガラスブランクBを原材料として、ラップ工程を行わずにダイアモンドシートを用いた研削工程、研磨工程等を行って、磁気ディスク用ガラス基板を作製し、この磁気ディスク用ガラス基板に磁性層等の層を成膜して磁気ディスクを作製した。同様に、第1比較例のガラスブランクBを原材料として、ラップ工程、ダイアモンドシートを用いた研削工程、研磨工程等を行って、磁気ディスク用ガラス基板を作製し、この磁気ディスク用ガラス基板に磁性層等の層を成膜して磁気ディスクを作製した。そして、これらの磁気ディスクをハードディスクドライブに組み込み、データの書き込み、読み出しテストを行った。この結果、実施例のガラスブランクBを原材料とする磁気ディスクと第1比較例のガラスブランクBを原材料とする磁気ディスクとの間には性能差は確認されなかった。すなわち、実施例のガラスブランクBからは、ラップ工程を行うことなく十分な性能が得られる磁気ディスクが作製される。
111 溶融ガラス流出口
120、130、140、150 プレスユニット
121 第1の型
121a 内周面
122 第2の型
122a 内周面
122b スペーサ
123 第1駆動部
124 第2駆動部
160 切断ユニット
161、162 切断刃
163 カバー
163a 開口
171 第1コンベア
172 第2コンベア
173 第3コンベア
174 第4コンベア
180 ゴブ成形型
180C 凹部
181、182 ブロック
211 溶融ガラス流出口
220、230、240、250 プレスユニット
260 切断ユニット
320、330、340、350 プレスユニット
360 吸引機構
370 コンベア
380 切断ユニット
400 研削装置
402 下定盤
404 上定盤
406 インターナルギア
408 キャリア
408a 穴
410 ダイアモンドシート
412 太陽ギア
414 インターナルギア
416 容器
418 クーラント
422 フィルタ
500 プレスユニット
501 フレーム
511 第1の型
511a 内周面
520 第2の型
521 型本体
521a 内周面
522 ガイド枠
522a 先端部
522b 内周面
523 シリンダユニット
523a スリーブ
523b ロッド
530 第1駆動部
531 スリーブ
532 ロッド
533 コイルばね
540 第2駆動部
541 スリーブ
542 ロッド
543 コイルばね
600 型
601 貫通孔
700 型
711 プレス面
712 スペーサ
713a、713b 突出部
811 溶融ガラス流出口
820 第1プレスユニット
821、831、841、851 可動型
822、832、842、852 固定型
823、833、843、853 アクチュエータ
830 第2プレスユニット
840 第3プレスユニット
850 第4プレスユニット
860 切断ユニット
861、862 切断刃
871 コンベア
872 ガイド
872a、872b ガイドプレート
873 冷却ユニット
874 製品回収ボックス
881 プレスユニット移動手段
882 ガイド移動手段
883 ガイド開閉手段
901 ガラスブランク製造装置
911 溶融ガラス流出口
921 下型
922 上型
960 切断ユニット
961、962 切断刃
ax 中心軸
B ガラスブランク
B1、B2 外周
C1、C2 円周
CL、CL´、CL″ キャッチ位置
GG ゴブ
LG 溶融ガラス材料
RFL1 第1退避位置
RFL2 第2退避位置
RL、RL´ リリース位置
RL″1 第1リリース位置
RL″2 第2リリース位置
RL″3 第3リリース位置
RL″4 第4リリース位置
SL スロット
Claims (7)
- 一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板の製造に用いられる磁気ディスク用ガラスブランクであって、
前記主表面の平坦度が4μm以下であり、
厚さのばらつきが6μm以内であり、
前記一対の主表面が研削及び研磨のいずれも行われていない非研削・非研磨面であり、
前記主表面の表面粗さRaが0.01〜1μmである、
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランク。 - 一対の主表面と端面を有し、磁気ディスク用ガラス基板の製造に用いられる磁気ディスク用ガラスブランクであって、
前記主表面の平坦度が4μm以下であり、
厚さのばらつきが6μm以内であり、
前記一対の主表面が研削及び研磨のいずれも行われていない非研削・非研磨面であり、
直径と前記厚さの比が50:1〜150:1である、
ことを特徴とする磁気ディスク用ガラスブランク。 - 前記主表面の表面粗さRaが0.01〜1μmである、請求項2に記載の磁気ディスク用ガラスブランク。
- 真円度が1000μm以内である、請求項1から請求項3のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラスブランク。
- 前記端面が自由表面である、請求項1から請求項4のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラスブランク。
- 1250℃におけるガラスの粘度が650〜1050dPa・sのガラス材料からなる、請求項1から請求項5のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラスブランク。
- ガラス組成が、酸化物基準に換算し、モル%表示にて、
SiO2を50〜75%、
Al2O3を0〜15%、
Li2O、Na2O及びK2Oを合計で5〜35%、
MgO、CaO、SrO、BaO及びZnOを合計で0〜35%、及び
ZrO2、TiO2、La2O3、Y2O3、Ta2O5、Nb2O5及びHfO2を合計で0〜15%、含む、請求項1から請求項6のいずれか一項に記載の磁気ディスク用ガラスブランク。
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