JP2008169056A - 磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板 - Google Patents

Abstract

【課題】大掛かりな装置を必要とせず、得られるガラス材料の内部にひずみを有することもなく、リヒート成形時に底面に入り込んだガスが抜けずに残って底面の表面が粗くなるようなことはなく、表面が平坦な磁気記録媒体用ガラス基板成形用金型の中心に固定することが容易であるリヒート成形用ガラス材料の製造方法を提供する。
【解決手段】ガラス溶融液を冷却して磁気記録媒体用ガラス基板のリヒート成形用のガラス材料を作成する方法において、ノズル先端から前記ガラス材料のガラス軟化点以上の温度のガラス溶融液を滴下して、当該ガラス液滴を表面温度がガラス軟化点以上の温度である状態で液体中に投入し、ガラス軟化点近傍の温度である状態で平面に接触させることにより、当該平面上で冷却固化させることを特徴とするリヒート成形用ガラス材料の製造方法及びこの製造方法で製造された磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料を用いてなることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。
【選択図】図３

Description

本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板のリヒート成形用ガラス材料の製造方法及び磁気記録媒体用ガラス基板に関する。

近年、磁気記録媒体、特にハードディスクは急激な高密度化が進んでいる。磁気ディスク装置は、高速回転する磁気記録媒体（磁気ディスク）に対して磁気ヘッドをわずかに浮上させ走査させることによりランダムアクセスを実現している。高記録密度と高速アクセスを両立させるためには、磁気ディスクの回転数を上げることと、磁気ディスクと磁気ヘッドの間隔（ヘッド浮上量）を小さくすることが求められる。

磁気ディスクの基板材料は、従来、ＡｌにＮｉ−Ｐメッキを施したものが主流であった。しかし、近年の高密度化に伴って、ガラス基板が用いられるようになってきている。これは、ガラス基板の剛性が高く、高速回転させても変形しにくいことと、表面の平滑性が十分に高いという非常に好ましい性質を有することによる。

磁気記録媒体用ガラス基板は、板ガラスまたは成形された円盤状ガラスをドーナッツ状に切り取り、内外径端面の加工、研磨を経て形状を整え、さらにこのドーナッツ型ガラス基板の表面をラッピングテープによる粗研磨、酸化セリウム、次いでコロイダルシリカで精密研磨した後、精密洗浄することにより得られる。

磁気記録媒体用ガラス基板は極めて精度の高い平坦性と平滑性が求められるため、ラッピングテープによる粗研磨による平坦性の確保と精密研磨による平滑性確保に時間がかかるため、それらにかかるタクトタイム（機械の動作にかかる所要時間）が長く、生産性が低くなっていた。

そこで、光学素子の製造方法であるガラス成形の技術を用いた磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の提案がある（例えば、特許文献１、２参照。）。特許文献１では、加熱軟化したガラス材料を１対の平滑なプレス面を有する金型で加圧成形する工程を含むことを特徴にしており、そこで用いられる金型の表面粗さは１ｎｍ程度とされている。また、この加圧成形工程においては、筒状のリヒート成形用ガラス材料が用いられている。しかし、この円筒状のガラス材料を用いて成形を行った場合、例えば、初めから成形用金型と直接触れているガラス材料の円筒の底面は、成形した時に入り込んだガスが抜けることがなく、その底面部分についてはどんな表面の金型を用いても粗さがひどく、結局、研磨しなくては使用可能な磁気記録媒体用ガラス基板が得られない。

特許文献２では、凹状の窪みの付いたカーボン板上に溶融ガラスを流し込んでプレス用ガラスを得、このプレス用ガラスを用いて磁気記録媒体を作製している。このプレス用ガラス成形の際、ろ過によりパーティクルを除去して清浄化された循環用空気存在下で成形しているので、平滑性、平坦性に優れるとしているが、極めて精度の高い平坦性と平滑性が得られるとはいいがたいことが判明した。

一方、光学素子用のガラス材料の製造方法として表面張力を利用した熱加工によってガラス球を製造する方法が従来から知られている（例えば、非特許文献１参照。）。
そこで、同様な方法でガラス球を製造し、これを用いて磁気記録媒体用ガラス基板を製造する方法が考えられる。
このような製造方法のひとつとして、いわゆるダイレクト法（表面張力による加工法）と称せられる技術がある（例えば、特許文献３参照。）。この製造方法は、白金等でできたガラス溶融坩堝内に溶融ガラスを溜めておき、この溶融ガラスを流出ノズルの先端から徐々に吐出させることにより、ノズル先端に球状のガラス液滴を形成し、このガラス液滴を自然落下させる。このとき、ガラス液滴の表面温度がガラスの軟化温度よりも低くなるまで、即ちガラス表面が固化するまでの落下距離を確保しておき、固化したガラスを受器で回収することによって光学素子素材を得る方法を採用している。

また、特許文献４では、ガラス素材を溶融してガラス液滴を形成し、そのガラス液滴の温度がガラス転移点以上の状態でアルコールまたはアルコールと水の混合液中に投入してガラス液滴を冷却固化してレンズなどの光学素子用ガラス材料を得ている。

ガラス液滴の大きさは、流出ノズルの口径、ガラス液滴の重量、表面張力の関係を下記の式で表わすことができることから、流出ノズルの大きさを調整することで所望の重量の液滴を得ることができる。
ｍｇ＝２πｒγ
ｍ：ガラス液滴の重量、ｇ：重量加速度、２πｒ：流出ノズル径、γ：ガラスの表面張力

特開２００１−２４５１号公報 特開２００３−５４９５４号公報 特開昭６１−１４６７２１号公報 特開平１０−２９１８２４号公報 日本硝子製品工業会：「ガラス製造の現場技術」第４巻、２３７頁

しかし、特許文献３に記載の方法では、ガラス液滴の体積が大きくなると、ガラス表面を固化させるまでに長い落下距離が必要となるため、装置が大掛かりなものにならざるを得ない。

また、特許文献４に記載の方法で得られた真球に近いガラス材料をリヒート成形して磁気記録媒体用ガラス基板を作成する場合、特許文献４で用いているレンズ用金型と違い、磁気記録媒体用ガラス基板成形用金型の表面は平坦度が高いため、ガラス材料を金型の中心に固定することが困難になり、成形時にガラス材料が中心からずれると真円のガラス基板を得ることができなくなる。ガラス材料を金型の中心に固定するために、金型中心にガラス材料固定用のくぼみを設けた金型を用いて成形すると、くぼみにガラス材料が入り込み、金型と成形後のガラス基板が容易には離型しなくなるという問題を生じる。

また、特許文献４のようにガラス液滴をエタノールやその水溶液に滴下して液滴を固化させると、液体の沸点が低すぎるためか、得られたリヒート成形用ガラス材料は内部に歪みを有しており、金型による成形時にガラス転移点未満の温度で加圧すると簡単に割れてしまうという問題があった。

本発明は上述のような問題がないリヒート成形用ガラス材料の製造方法及び該製造方法により製造されたガラス材料を用いてなる磁気記録媒体用ガラス基板を提供することを目的とする。

上述の目的を達成するため、本発明のリヒート成形用ガラス材料の製造方法は、ガラス溶融液を冷却して磁気記録媒体用ガラス基板のリヒート成形用のガラス材料を作成する方法において、ノズル先端から前記ガラス材料のガラス軟化点以上の温度のガラス溶融液を滴下して、当該ガラス液滴を表面温度がガラス軟化点以上の温度である状態で液体中に投入し、ガラス軟化点近傍の温度である状態で平面に接触させることにより、当該平面上で冷却固化させることを特徴とする。

また、本発明の磁気記録媒体用ガラス基板は上記製造方法で製造された磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料を用いてなることを特徴とする。

本発明のリヒート成形用ガラス材料の製造方法によれば、大掛かりな装置を必要とせず、得られるガラス材料の内部にひずみを有することもなく、また得られるガラス材料は底面に円形の平坦部を有する球状であって、該平坦部の直径はリヒート成形する媒体用基板の内径よりも小さくなっており、リヒート成形時に底面に入り込んだガスが抜けずに残って底面の表面が粗くなるようなことはなく、表面が平坦な磁気記録媒体用ガラス基板成形用金型の中心に固定することが容易であるため、容易に真円のガラス基板を得ることができる。

以下、本発明を実施の形態に基づいて具体的に説明する。
図２は本発明にかかる磁気記録媒体用ガラス基板作成用のリヒート成形用ガラス材料の製造方法の１実施形態を示す図である。
本発明のリヒート成形用ガラス材料の製造方法において用いられるガラス溶融液２３は、例えば、白金製のガラス溶融坩堝２１に入れられる。このガラス溶融坩堝２１は上端が開口し、底面の中央部にはノズル２２が設けられている。この溶融液を形成するガラスとしては、例えば、アルミノシリケートガラス（ガラス軟化点Ｔｓ＝６００℃）を用いることができる。

このガラス溶融坩堝２１のノズル２２の下方には溶液２６が入った液槽２５が設けられている。溶液２６としては、例えば、カルボン酸もしくはカルボン酸と水の混合液が用いられる。ここで用いられるカルボン酸としては、ヘプタン酸（融点−９℃、沸点２２２℃）、オクタン酸（融点１６℃、沸点２３７℃）、ノナン酸（融点１５℃、沸点２５５℃）、デカン酸（融点３２℃、沸点２７０℃）、ウンデカン酸（融点８０℃、沸点２８４℃）、ドデカン酸（融点４４℃、沸点２２５℃）等を挙げることができる。
この液槽２５の中には回転式の上面が平坦なターンテーブル２７など、液中で凝固したガラス液滴を移動させる装置を備えていることが好ましい。

溶融ガラス２３はガラス溶融坩堝２１の下部のノズル２２の先端部に、ガラス自身の表面張力によって、球状化されたガラス液滴２４が形成される。形成されたガラス液滴２４は、その質量と表面張力のバランスによって、ノズル口径に応じて決まった重量の液滴が溶液２６の入った液槽２５内に順次滴下し、液中で冷却されて球状のリヒート成形用ガラス材料となる。

ノズル２２先端から液槽２５内の溶液表面までの距離（ガラス液滴の落下距離）Ｌ１および液面とターンテーブル２７表面間の距離Ｌ２は溶液中のターンテーブル２７に接触するときのガラス液滴の表面温度がガラス軟化点（Ｔｓ）以上かつガラス軟化点近傍の温度である、例えば、Ｔｓ〜Ｔｓ＋５０℃になるような距離にすることが好ましい。Ｌ１区間ではほとんど冷却されないが、Ｌ２区間を設けることによって、液中に入って冷却されたガラス液滴が液中のターンテーブルの平面上に乗るとき、ターンテーブルにぶつかったときの衝撃で図１に示すように液滴の底面が少し潰れて平坦になり、成形時の金型中心部への固定が容易となる。

また、溶液としてカルボン酸またはカルボン酸と水の混合液を用いているので、ガラス液滴の冷却速度が適度となり、エタノールやエタノール水溶液を用いる場合のように急激に冷却されてガラス材料内に大きな歪みが蓄積されることがない。

液槽内の液面とターンテーブル表面の距離Ｌ２は５〜１００ｍｍであることが好ましい。
上記下限未満では、液滴底面の潰れが大きく球状を保ちがたくなる。一方、上記上限を超えると底部の平坦部がなくなり、成形時の金型中心部への固定が困難になる。

図２では、溶液内のターンテーブルが一周回ると冷却されたリヒート成形用ガラス材料の上にガラス液滴２４が滴下する場合もあるが、例えば、図３に示すように取り出し用ガイド３９を設けて、冷却されたリヒート成形用ガラス材料が１周して滴下位置に戻る前に順次ターンテーブル外に取り出すことも可能である。図３の構成においては、滴下されたガラス液滴３４は溶液３６中のターンテーブル３７で受け取られて底部に平坦部を有する球状のリヒート成形用ガラス材料３８となり、取り出し用ガイド３９によってターンテーブル３７より取り出され、液槽３５の底に溜まっていく。
こうして得られたリヒート成形用ガラスを例えば純水で洗浄し、再度ガラス歪温度以上かつガラス歪点近傍、好ましくはガラス歪温度〜ガラス歪温度＋１０℃まで加熱した後、徐冷することが好ましい。この徐冷速度は１０〜５０℃／ｍｉｎであることが好ましい。この徐冷を行うと、成形時のガラス材料割れを０にすることができる。

図１に示すように、こうして得られるリヒート成形用ガラス材料１１は底部に平坦部を有したほぼ球形の粒子であり、そのサイズはよくそろっており、内部にひずみが少ないため金型による成形時に割れが発生することの少ないものとなる。この底部の平坦部の直径はこれを用いて製造されるドーナッツ状ガラス基板（中央部に外周と同心円の穴を有する基板）１２の内径（穴の直径）より小さいことが好ましい。これは、底部の平坦部に不均一な残留応力が残り易いが、この平坦部の直径がドーナッツ状基板の内径より小さいと、平坦部に起因する部分がドーナッツ状基板１２にするための加工により取り除かれるため、この部分がガラス基板に残ることなく、高精度な磁気記録媒体用ガラス基板１２が得られることによる。

上記の製造方法により製造されたリヒ−ト成形用ガラス材料を用いて製造された磁気記録媒体用ガラス基板１２は歪が少なく、ひび割れ、欠けなどの発生率が低く、この基板１２を用いて製造された磁気記録媒体は再生信号の検出エラーが少ないという特徴を有する。

以下に、実施例を用いて本発明をさらに説明する。
＜実施例１＞
溶融ガラスとしてアルミノシリケートガラス（ガラス歪点：４０５℃、ガラス軟化点（Ｔｓ）：６００℃）を用い、図３に示す装置を用い、１２２０℃で溶融してガラス溶融坩堝の底部のノズルからガラス液滴を滴下させた。溶液としてデカン酸（融点３２℃、沸点２７０℃）を用いた。落下距離Ｌ１は１５０ｍｍ、溶液の液面からターンテーブル表面までの距離Ｌ２は４ｍｍとした。Ｌ１を１５０ｍｍとすることで、デカン酸中のターンテーブルに接触するときのガラス液滴温度はガラス軟化点〜ガラス軟化点＋５０℃の範囲にあることが確認した。

液滴の滴下数量は２００個とした。デカン酸中で冷却固化したガラス球を純水中で超音波洗浄（８０ｋＨｚ）した後、オーブン温度４１０℃の乾燥用オーブンに入れ、３０分加熱後、冷却速度１０℃／ｍｉｎで徐冷した。
乾燥用オーブンから取り出したリヒート成形用ガラス材料の重量と外観を調べた。重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．５ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。

このガラス材料を用いて磁気記録媒体用ガラス基板を成形するためのプレス成形金型として、タングステンカーバイト系の超硬合金からなる金型を１対用意した。この金型のプレス面は平坦であり、研磨により鏡面加工された面に保護膜として白金合金が１μｍとなるようにスパッタリングされ、中心線平均粗さが５０ｎｍである表面を有するものを用いた。

この金型のプレス面にガラス材料をはさみ、６００℃まで加熱した後、３５０ｋｇ／ｃｍ^２の圧力で加圧成形した。加圧時間は約１分であった。プレス成形後、冷却し、厚さ０．５４８ｍｍ、直径２１．６ｍｍの円盤状ガラス板を得た。得られた板の中央部にコアリングにより内径６ｍｍの穴を開け、ドーナツ状の円板にした後、内径面、外径面ともに加工、研磨を行った。次いで、表面を酸化セリウムとコロイダルシリカにより２０μｍ研磨した後、研磨面をスクラブ洗浄及び超音波洗浄して、磁気記録媒体用ガラス基板とした。

この磁気記録媒体用ガラス基板の表面にスパッタ法を用いてＣｒ下地層、Ｃｏ−Ｃｒ−Ｐｔ系磁性層、Ｃ保護層を順次形成し、ディップコート法によりフッ素系液体潤滑剤を塗布して磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は６個であった。

＜実施例２＞
溶液として５０％デカン酸水溶液を用い、落下距離Ｌ１を１５０ｍｍ、溶液の液面からターンテーブル表面までの距離Ｌ２を３ｍｍに設定した以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。

オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．３ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は５個であった。

＜実施例３＞
溶液としてヘプタン酸（融点−９℃、沸点２２２℃）を用いた以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。
オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．５ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は５個であった。

＜実施例４＞
溶液としてオクタン酸（融点１６℃、沸点２３７℃）を用いた以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。
オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．５ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は４個であった。

＜実施例５＞
溶液としてノナン酸（融点１５℃、沸点２５５℃）を用いた以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。
オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．５ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は５個であった。

＜実施例６＞
溶液としてウンデカン酸（融点８０℃、沸点２８４℃）を用いた。ウンデカン酸の融点が８０℃であるため、液槽内にヒータを設けて８０℃以上に加熱した以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。
オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．６ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は７個であった。

＜実施例７＞
溶液としてドデカン酸（融点４４℃、沸点２２５℃）を用いた。ドデカン酸の融点が４４℃であるため、液槽内にヒータを設けて４４℃以上に加熱した以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。
オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．６ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製した。この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は４個であった。

＜実施例８＞
乾燥用オーブンの温度を１００℃にした以外は、実施例１と同様な方法を用いて、リヒート成形用ガラス材料を作製した。
オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．６ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は０％であった。また、得られたリヒート成形用ガラス材料を用いて実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製しようとしたが、金型に挟み込んで加熱している最中にリヒート成形用ガラス材料が割れたことにより円盤状ガラス板ができないものも発生した。円盤状ガラス板ができなかったものについては、ガラス材料の割れにより金型の白金合金表面にも傷が発生しており、この金型を用いて再度成形を行っても円盤状ガラス板の表面に傷が転写されており、２０μｍの研磨では転写された傷を消すことができなかった。

＜比較例１＞
溶液として純水を用いた以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径３．３ｍｍ±０．１ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったが、発生率は３５％であった。

＜比較例２＞
溶液を用いずに、直接ターンテーブルにガラス液滴を滴下した以外は実施例１と同様にしてリヒート成形用ガラス材料を作製した。オーブンで乾燥後のリヒート成形用ガラス材料の重量は重量精度４９１．７ｍｇ±０．５ｍｇで均一性に優れていた。その外観は、底部の平坦部が直径７．１ｍｍ±０．２ｍｍの円形である以外はほぼ球状であり、目視によるひび割れ、欠けの確認を行ったところ、発生率は０％であったが、いずれのガラス材料にも球状部分に傷が発生していた（傷発生率１００％）。

このリヒート成形用ガラス材料を用いた以外は実施例１と同様にして磁気記録媒体を作製し、この磁気記録媒体における再生信号の検出エラー数の測定を行ったところ、エラー個数は１５６個であった。これは、磁気記録媒体作成後に内径部分に残った底面や球状部分にあった傷は２０μｍの研磨でも修正しきれずに残った結果、信号エラーとなったものと考えられる。

実施例１〜７、比較例１、２の結果をまとめて表１に示す。

以上から、以下のことがわかる。
本発明のリヒート成形用ガラス材料の製造方法によれば、ガラス液滴の表面がガラス軟化点以上かつガラス転移温度近傍の温度である状態で、したがって固化に近いがまだ固化しておらず、かつ真球度の高い状態で液体中の平面に接触させることによって、落下距離Ｌ１を短くできるだけでなく、落下衝撃により形状が損なわれることを防ぐことができ、液体中に投入された球状ガラス材料の底面に円状の平坦部を形成することができる。この平坦部が存在するため、リヒート成形時に安定して金型上に配置することができ、また、この底面の平坦部を磁気記録媒体の取り除かれる内径の部分に配置すると、磁気記録媒体成形時に平坦部にエアをかみこんだまま成形されてもそのエアかみこみ部分が切り抜かれて除去されるので得られた磁気記録媒体にエアかみこみによる欠陥が生じることはない。更に、徐冷工程を用いると、成形時に金型内で割れることがなく、金型も繰り返し再利用でき生産性も高くなる。

本発明のリヒート成形用のガラス材料の製造方法によれば、上述のように均一な寸法で底部に平坦部を有する球状で割れや欠け、表面傷のないリヒート成形用ガラス材料が得られ、これを用いて製作された磁気記録媒体はエラー発生数の少ない優れたものとなる。

リヒート成形用ガラス材料の概要図である。 本発明にかかる磁気記録媒体用ガラス基板作成用のリヒート成形用ガラス材料の製造方法の１実施形態を示す図である。 本発明にかかる磁気記録媒体用ガラス基板作成用のリヒート成形用ガラス材料の製造方法の他の実施形態を示す図である。

符号の説明

１１ 磁気記録媒体のガラス基板製造用リヒートガラス材料
２１、３１ ガラス溶融坩堝
２２、３２ ノズル
２３、３３ 溶融ガラス
２４、３４ ガラス液滴
２５、３５ 液槽
２６、３６ 溶液
２７、３７ ターンテーブル
２８、３８ リヒート成形用ガラス材料
３９ 取り出し用ガイド

Claims (5)

1. ガラス溶融液を冷却して磁気記録媒体用ガラス基板のリヒート成形用のガラス材料を作成する方法において、ノズル先端から前記ガラス材料のガラス軟化点以上の温度のガラス溶融液を滴下して、当該ガラス液滴を表面温度がガラス軟化点以上の温度である状態で液体中に投入し、ガラス軟化点近傍の温度である状態で平面に接触させることにより、当該平面上で冷却固化させることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料の製造方法。
2. 前記液体がカルボン酸またはカルボン酸と水の混合液であることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料の製造方法。
3. 前記磁気記録媒体用ガラス基板がドーナッツ型ガラス基板であり、前記液体中に投入されたガラス液滴が平板上で冷却固化することにより前記リヒート成形用のガラス材料の底面に平坦部が形成され、その平坦部の直径が前記ドーナッツ型磁気記録媒体用ガラス基板の内径よりも小さいことを特徴とする請求項１又は２記載の磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料の製造方法。
4. 冷却固化されたガラス材料を洗浄後、ガラス歪点以上かつガラス歪点近傍の温度に加熱後、徐冷することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料の製造方法。
5. 請求項１から４のいずれか１項に記載の製造方法で製造された磁気記録媒体用ガラス基板リヒート成形用ガラス材料を用いてなることを特徴とする磁気記録媒体用ガラス基板。

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