JP5425138B2 - 固体撮像装置の製造方法 - Google Patents
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Description
本発明の第1の実施形態について説明する。
次に、本発明の第2の実施形態について説明する。
図13は、本発明における別の固体撮像装置の断面を示す図であって、受光領域と遮光領域を有する固体撮像装置の端部を示している。図13において、図1と同様の構成には同じ参照番号を付し、説明を省略する。図13では、上記第1及び第2の実施形態と異なり、第1メタル配線層104のみを有し、第2メタル配線層105を有しない構成を示している。
102 受光領域画素
103 光電変換素子
104 第1メタル配線層
105 第2メタル配線層
106、206 第3メタル配線層
107 パッシベーション層
107’ パッシベーション層兼層内レンズ形成膜
108 層内レンズ
109 平坦化膜
110 カラーフィルタ層
111 マイクロレンズ
112 平坦化膜
121 半導体部材
122 素子分離領域
123 第1の絶縁膜
124 第2の絶縁膜
125 第3の絶縁膜
126 エッチングマスク
127 レジストパターン
128 パッド部
Claims (7)
- 基板の一主面に配された、有効画素領域と、基準信号を作成するためのオプティカルブラック領域とを有する固体撮像装置の製造方法であって、
前記基板の一主面上に第1メタル層を形成する第1工程と、
前記第1メタル層上に第1絶縁膜を形成する第2工程と、
前記第2工程後に、前記オプティカルブラック領域を遮光するための第2メタル層を形成する第3工程と、
前記第3工程後に平坦化膜を形成することなく、前記第2メタル層の膜厚よりも厚いパッシベーション層兼層内レンズ形成膜を形成する第4工程と、
前記パッシベーション層兼層内レンズ形成膜を加工して、少なくとも前記有効画素領域に層内レンズを形成し、前記層内レンズ形成後の前記パッシベーション層兼層内レンズ形成膜の残膜により、前記第2メタル層よりも薄いパッシベーション膜を形成する第5工程と、
を含むことを特徴とする固体撮像装置の製造方法。 - 前記第5工程後に、平坦化膜を形成する第6工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記第6工程後に、カラーフィルタを形成する第7工程を含むことを特徴とする請求項2に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記第7工程後に、マイクロレンズを形成する第8工程を含むことを特徴とする請求項3に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記第7工程後、前記第8工程前に、第2平坦化膜を形成する第9工程を含むことを特徴とする請求項4に記載の固体撮像装置の製造方法。
- 前記第5工程後に、前記パッシベーション膜のパッド部に対応する部分を除去する第10工程と、
前記第9工程後に、前記第6工程で形成された前記平坦化膜、及び、前記第2平坦化膜の一部を除去することにより、前記パッド部を露出する第11工程を含むことを特徴とする請求項5に記載の固体撮像装置の製造方法。 - 前記第5工程において、前記オプティカルブラック領域には、前記層内レンズを形成せずに、前記有効画素領域に形成される層内レンズ形成後の前記パッシベーション層兼層内レンズ形成膜の残膜によりパッシベーション膜を形成することを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の固体撮像装置の製造方法。
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