JP5424597B2 - 基板処理装置 - Google Patents
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Description
この処理のための枚葉式の基板処理装置は、たとえば、基板をほぼ水平に保持して回転させるスピンチャックと、基板に処理液を供給するためのノズルと、ノズルに対して薬液を供給するための薬液供給管とを備えている。基板処理時には、スピンチャックにより基板が回転されつつ、その基板の表面にノズルから処理液が供給される。基板の表面に供給された処理液は、基板の回転による遠心力を受けて、その供給位置から基板の周縁に向けて流れる。これにより、基板の表面全域に処理液が広がり、その基板の表面に対する処理が達成される。
この構成によれば、タンクに貯留された薬液が、低濃度薬液流通管を介して混合部材に供給される。タンク内に薬液と多量の希釈液(たとえば、DIW)とを供給し、その多量の希釈液で薬液を希釈することにより、極めて低い濃度(たとえば、基板の処理に用いられる可能性がある最低濃度)の薬液を、濃度調整の精度良く作成することができる。そして、タンクには、その極めて低い濃度に精度良く調節された薬液を貯留しておくことが可能である。
また、請求項2に記載のように、前記混合部材は管状をなし、前記混合部材には、前記低濃度薬液流通管からの薬液が低濃度用流入口(21)を介して前記混合部材に沿う方向から前記混合部材内に流入するとともに、前記高濃度薬液流通管からの薬液が高濃度用流入口(26)を介して前記混合部材に沿う方向に直交する所定の方向から前記混合部材内に流入するように、前記低濃度用流入口および前記高濃度用流入口がそれぞれ設けられていてもよい。
この場合、タンクに貯留された低い濃度のふっ酸が、低濃度薬液流通管を介して混合部材に供給される。高濃度薬液流通管からの高濃度のふっ酸と低濃度薬液流通管からの低濃度のふっ酸とが混合部材内で混合されることにより、所定濃度に調節されたふっ酸を作成することができる。
前述の構成では、所望の濃度に精度良く調整されたふっ酸を基板に供給することができる。これにより、基板にダメージを与えることなく、ふっ酸を用いた処理を基板の表面に施すことができる。
図1は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置1の構成を模式的に示す図である。
この基板処理装置1は、基板の一例である半導体ウエハ(以下、単に「ウエハ」という。)Wにおけるデバイス形成領域側の表面に対して、薬液による洗浄処理を施すための枚葉型の装置である。
薬液ノズル3は、スピンチャック2の上方で、吐出口をウエハWの回転中心付近に向けて配置されている。この薬液ノズル3には、後述する薬液供給機構10によって、SC1、SC2およびふっ酸が選択的に付与されるようになっている。
なお、薬液ノズル3は、スピンチャック2に対して固定的に配置されている必要はなく、たとえば、スピンチャック2の上方において水平面内で揺動可能なアームに取り付けられて、このアームの揺動によりウエハWの表面における薬液の着液位置がスキャンされる、いわゆるスキャンノズルの形態が採用されてもよい。また、DIWノズル4についても、スピンチャック2に対して固定的に配置されている必要はなく、いわゆるスキャンノズルの形態が採用されてもよい。
ふっ酸供給管を流通する高い濃度(49wt%)のふっ酸の流量は、たとえば20(mL/sec)という比較的大きな流量であるので、このため、ふっ酸供給管を流通するふっ酸の流量が計測基準値(2.0mL/sec)を上回り、下回ることはない。このため、タンク38に供給される高い濃度(49wt%)のふっ酸の流量は正確である。したがって、その最低濃度に精度良く調節されたふっ酸をタンク38に貯留することができる。
オゾン水供給管35には、オゾン水供給源からのオゾン水(O3)が供給される。オゾン水供給管35の途中部には、オゾン水供給管35を開閉するためのオゾンバルブ46が介装されている。
高濃度ふっ酸導入管19には、ふっ酸供給源からの高い濃度(たとえば49wt%)のふっ酸(ふっ酸原液)が供給される。混合部材13側から順に、高濃度ふっ酸導入管19を開閉するための第2ふっ酸バルブ(高濃度開閉手段)60と、高濃度ふっ酸導入管19を流通するふっ酸の流量を調節するためのコントロールバルブ(高濃度薬液流量調節手段)61と、高濃度ふっ酸導入管19を流通するふっ酸の流量を計測する流量計62とが介装されている。
各コントロールバルブ31,49,52,55,58,61は、配管15〜19,47を流通する処理液の流量を計測するための流量計31A,49A,52A,55A,58A,61Aと、配管15〜19,47を流通する処理液の流量を調節するための流量調節バルブ31B,49B,52B,55B,58B,61Bとによって構成されている。
基板処理装置1は、たとえば、マイクロコンピュータで構成される制御装置(切替え制御手段、供給制御手段)65を備えている。
制御装置65には、各流量計53,56,59,62が接続されており、各流量計53,56,59,62から出力された計測値が入力されるようになっている。
また、制御装置65には、各コントロールバルブ31,49,52,55,58,61が制御対象として接続されている。制御装置65は、各コントロールバルブ31,49,52,55,58,61の流量計31A,49A,52A,55A,58A,61Aの計測流量に基づいて、各導入管15〜19を流通する処理液が設定流量になるように、コントロールバルブ31,49,52,55,58,61の各流量調節バルブ31B,49B,52B,55B,58B,61Bを制御する。
ウエハWの処理に際し、搬送ロボット(図示せず)によって、未処理のウエハWが基板処理装置1に搬入され、その表面を上方に向けた状態で、スピンチャック2に保持される。ウエハWがスピンチャック2に保持された後、モータ6が駆動されて、スピンチャック2(スピンベース7)が所定の液処理回転速度で回転される。
また、タンク38および循環配管39によって構成される循環路36を、ふっ酸が循環している。この循環路36において、ふっ酸は温度調節ユニット41により加熱または冷却されて、その温度が所望の温度に精度良く調節される。そして、循環配管39の途中部に、低濃度ふっ酸配管33を介して集合導入管15が分岐接続されている。したがって、循環配管39を流通する温度調節されたふっ酸を、集合導入管15に供給することができ、集合導入管15から混合部材13および供給管14を通してウエハWに供給することができる。また、所望の温度に調節されたふっ酸に(少量の)高い濃度のふっ酸が混合部材13内で混合されることにより、所望の濃度および所望の温度に調節されたふっ酸が作成される。これにより、所望の濃度および温度に調節されたふっ酸を、ウエハWに供給することができる。
図4は、本発明の他の実施形態に係る基板処理装置70の構成を図解的に示す断面図である。
この図4に示す基板処理装置70が、前述の実施形態の基板処理装置1と相違するのは、ふっ酸がベースラインである集合導入管15を通して混合部材13に導入されるのでなく、ケーシング20の周壁に接続された低濃度ふっ酸導入管(低濃度薬液流通管)71を介して混合部材13に導入される点である。
低濃度ふっ酸導入管71の途中部には、混合部材13側から順に、低濃度ふっ酸導入管71を開閉するための第3ふっ酸バルブ(低濃度開閉手段)73と、低濃度ふっ酸導入管71を流通する低濃度ふっ酸の流量を調節するためのコントロールバルブ74と、低濃度ふっ酸導入管71を流通する低濃度ふっ酸の流量を計測する流量計75とが介装されている。コントロールバルブ74は、低濃度ふっ酸導入管71を流通する低濃度ふっ酸の流量を計測するための流量計74Aと、低濃度ふっ酸導入管71を流通する低濃度ふっ酸の流量を調節するための流量調節バルブ74Bとによって構成されている。低濃度ふっ酸導入管71の上流端が循環配管39の途中部に分岐接続されている。
たとえば、薬液ノズル3からふっ酸を吐出させる場合に、集合導入管15に、低濃度ふっ酸配管33からの低濃度ふっ酸だけでなく、DIW供給管14のDIWを同時に供給する構成にすることもできる。
なお、図3における処理例において、ステップS3のふっ酸処理と、ステップS1のSC1処理とを入れ替えてもよい。
また、ステップS3のふっ酸処理において、ウエハWの表面に形成された酸化膜を除去するだけでなく、ウエハWの表面に付着したポリマが除去されてもよい。
前述の2つの実施形態では、タンク38に貯留された低濃度のふっ酸を混合部材13に供給する構成について説明したが、タンク38に貯留された低濃度の薬液がアンモニア水、過酸化水素水または塩酸であってもよい。また、前述した以外の低濃度の薬液をタンク38に貯留しておく構成であってもよい。
13 混合部材
14 供給管
15 集合導入管(低濃度薬液流通管)
19 高濃度ふっ酸導入管(高濃度薬液流通管)
21 集合接続口(第2接続口)
26 高濃度ふっ酸接続口(第1接続口)
38 タンク
39 循環配管
41 温度調節ユニット
71 低濃度ふっ酸導入管(低濃度薬液流通管)
W ウエハ(基板)
Claims (3)
- 0.05wt%以下の濃度の薬液を貯留するタンクと、
前記薬液と同じ成分からなり、前記薬液よりも高い濃度の薬液が流通する高濃度薬液流通管と、
前記タンクから送出される薬液が流通する低濃度薬液流通管と、
前記高濃度薬液流通管および前記低濃度薬液流通管が接続され、前記高濃度薬液流通管からの薬液と前記低濃度薬液流通管からの薬液とを混合させて、薬液の濃度を所定濃度に調整するための混合部材と、
前記混合部材から流出する薬液を基板に供給するための供給管と、
上流端および下流端が前記タンクに接続され、前記タンクとともに前記薬液の循環路を構成する循環配管と、
前記循環配管の途中部に介装されて、前記循環配管を流通する前記薬液を加熱または冷却して、当該薬液の温度を調節するための温度調節ユニットと、
前記高濃度薬液流通管を開閉するための高濃度開閉手段と、
前記低濃度薬液流通管を開閉するための低濃度開閉手段と、
前記高濃度開閉手段および前記低濃度開閉手段を制御して、前記低濃度薬液流通管からの薬液のみを前記混合部材に供給する第1の供給状態と、前記混合部材から流出される薬液を、所定の濃度に調整するために、前記高濃度薬液流通管からの薬液および前記低濃度薬液流通管からの薬液の双方を前記混合部材内に供給する第2の供給状態とを切り替える切替え制御手段と、
前記高濃度薬液流通管を流通する薬液の流量を調節するための高濃度薬液流量調節手段と、
前記低濃度薬液流通管を流通する薬液の流量を調節するための低濃度薬液流量調節手段と、
前記第2の供給状態を実行するために、前記高濃度薬液流量調節手段および前記低濃度薬液流量調節手段を制御して、前記混合部材内に、前記低濃度薬液流通管から相対的に大流量の薬液を供給させるとともに前記高濃度薬液流通管から相対的に小流量の薬液を供給させる供給制御手段とをさらに含み、
前記低濃度薬液流通管は、前記循環配管の途中部に分岐接続されており、
前記第2の供給状態において、前記低濃度薬液流通管から前記混合部材内に供給される薬液の流量は、混合後の薬液の温度と前記低濃度薬液流通管からの薬液の温度とが同視できる程度の大流量である、基板処理装置。 - 前記混合部材は管状をなし、
前記混合部材には、前記低濃度薬液流通管からの薬液が低濃度用流入口を介して前記混合部材に沿う方向から前記混合部材内に流入するとともに、前記高濃度薬液流通管からの薬液が高濃度用流入口を介して前記混合部材に沿う方向に直交する所定の方向から前記混合部材内に流入するように、前記低濃度用流入口および前記高濃度用流入口がそれぞれ設けられている、請求項1に記載の基板処理装置。 - 前記薬液は、ふっ酸である、請求項1または2に記載の基板処理装置。
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