JP5420989B2 - 液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、高分子安定化ブルー相液晶を利用した液晶表示装置の表示特性の改善に関する。

液晶表示素子は光情報処理分野で広く用いられている。液晶表示方式には、ＴＮ、ＳＴＮ、ＩＰＳ、ＶＡ、ＯＣＢ方式など種々の方式があるが、いずれも予め制御された液晶分子の配向を、電界を印加させることにより異なる配向状態に変化させ、透過する光の偏光方向や偏光状態を変化させ、この変化を偏光板などで明暗のコントラストに変換させて表示を行うのが一般的である。
これら従来の液晶表示方式は、いずれも液晶分子の配向を制御するための表面配向処理を必要とし、特に、ＶＡを除く方式では、ラビング処理が必要である。ラビングは、液晶と接する基板表面に塗布された配向膜表面を布等でこする操作であり、歩留まりの低下及びそれに起因するコストの上昇、ならびに表示品質の低下の原因となっている。また、上記いずれの方式でも、ネマチック液晶を用いるため、応答時間が最短でも１０ミリ秒程度あり、テレビでの動画表示に限界があった。

近年、液晶表示素子用の液晶としてカイラルネマチック液晶が開発されている（特許文献１、２等）。また、上記の課題を解決するものとして、従来のネマチック液晶に代えて、高分子安定化ブルー相液晶の利用が提案されている（特許文献３、４）。この高分子安定化ブルー相液晶は、ブルー相の持つ高速応答性を失うことなく、その発現温度範囲を高分子によって著しく高めた新規材料である。高分子安定化ブルー相は、電界無印加状態で光学的に等方性であるため、配向を制御する必要がない。電界ゼロでレターデーションンが無く、電界印加でレターデーションンが誘起される現象を利用する新規な方式で表示を行う。その応答時間は１００μ秒程度であるため、従来の液晶表示素子よりも格段に応答が速い。また、黒状態においてレターデーションンによる光漏れの発生が無く、広い視野角コントラストが得られると報告されている。また、高分子安定化ブルー相液晶に位相差フィルムを組み合わせ、偏光板による光漏れを抑えて、さらに広い視野角コントラストを得る方法が提案されている（特許文献５）。

特開２００３−２９５２２５号公報 特開２００１−３１６３４６号公報 特開２００３−３２７９６６号公報 ＷＯ２００５／０９０５２０ 特許第４１４７２１７号公報(特開２００５−２０２３８３号公報)

しかしながら、本発明者らが検討したところ、高分子安定化ブルー相液晶はポリマーネットワークで安定化する構造であるため、液晶配向が不均一になりやすく、配向欠陥が生じやすい。そのため、配向欠陥部分での液晶の散乱現象により、コントラストが他の液晶表示方式より低くなってしまうという問題が生じている。
本発明者らが鋭意検討した結果、背面（リア）側偏光子と液晶セルとの間に存在する位相差層のレターデーションが、正面（表示面に対して法線方向）のコントラストを低下させる一因であることがわかった。
本発明は、正面の黒表示の光漏れが小さく、高コントラストであり、斜め方向での黒表示時の色付きが抑制された、応答速度が速い液晶表示装置を提供することを課題とする。

前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
［１］ 光源、第１の偏光板、第１の透明フィルム、一対の透明基板とその間に配置される高分子安定化ブルー相液晶とを有する液晶セル、第２の透明フィルム、及び第２の偏光板がこの順に配置され、第１の透明フィルムの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の絶対値｜Ｒｅ（５５０）｜が１０ｎｍ以下であり、且つ同波長の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値｜Ｒｔｈ（５５０）｜が３０ｎｍ以下である液晶表示装置。
［２］ 第１の透明フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が１０ｎｍ以下であり、及び｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が３５ｎｍ以下である［１］の液晶表示装置。
［３］ 第１の透明フィルムが、セルロースアシレート系フィルムである［２］の液晶表示装置。
［４］ 第１の透明フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が５ｎｍ以下であり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が１０ｎｍ以下である［１］の液晶表示装置。
［５］ 第１の透明フィルムが、アクリル系ポリマーフィルムである［４］の液晶表示装置。
［６］ 第１の透明フィルムが、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、及びグルタル酸無水物単位から選ばれる少なくとも１種の単位を含むアクリル系ポリマーを含有するアクリル系ポリマーフィルムである［５］の液晶表示装置。
［７］ 第１の透明フィルムが、環状オレフィン系ポリマーフィルムからなる又は有する透明フィルムである［４］の液晶表示装置。
［８］ 第２の透明フィルムが、二軸性フィルムからなる又は二軸性フィルムを含む透明フィルムである［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［９］ 第２の透明フィルムが、一軸性フィルムからなる又は一軸性フィルムを含む透明フィルムである［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［１０］ 第２の透明フィルムの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の絶対値｜Ｒｅ（５５０）｜が１０ｎｍ以下であり、且つ同波長の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値｜Ｒｔｈ（５５０）｜が３０ｎｍ以下である［１］〜［９］のいずれかの液晶表示装置。
［１１］ 第２の透明フィルムが、Ｒｅ（５５０）が２００〜３５０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が−８８〜８８ｎｍである二軸性フィルムからなる［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［１２］ 第２の透明フィルムが、Ｒｅ（５５０）が２０〜１２０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が１２５〜２２５ｎｍである二軸性フィルム、及びＲｅ（５５０）が−３０〜３０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が５０〜１５０ｎｍである二軸性フィルムを含む［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［１３］ 第２の透明フィルムが、Ｒｅ（５５０）が６０〜２１０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が３０〜１０５ｎｍの一軸性フィルム、及びＲｅ（５５０）が１１０〜１６０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が５５〜８０ｎｍの一軸性フィルムを含む［１］〜［７］のいずれかの液晶表示装置。
［１４］ 前記光源が、ＬＥＤ光源である［１］〜［１３］のいずれかの液晶表示装置。

本発明によれば、正面の黒表示の光漏れが小さく、高コントラストであり、斜め方向での黒表示時の色付きが抑制された、応答速度が速い液晶表示装置を提供することができる。

本発明の液晶表示装置の構造の一例を示す模式図である。 本発明に利用可能な液晶表示素子の一例を示す断面図である。 本発明に利用可能な液晶表示素子の一例を示す断面図である。 本発明に利用可能な液晶表示素子の一例を示す断面図である。 本発明に利用可能な液晶表示素子の電極の構成例を示す上面図である。 （ａ）は電界無印加状態における上記表示素子の要部の概略構成を模式的に示す断面図であり、（ｂ）は電界印加状態における上記表示素子の要部の概略構成を模式的に示す断面図である 本発明の表示装置の一例の要部の概略構成を示すブロック図である。 本発明に利用可能な液晶表示素子の電極の構成例を示す上面図である。

以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」はその前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
なお、本明細書において、本明細書において、Ｒｅ(λ)及びＲｔｈ(λ)は各々、波長λにおける面内のレターデーション（単位：ｎｍ）及び厚さ方向のレターデーション（単位：ｎｍ）を表す。Ｒｅ(λ)はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。

測定されるフィルムが１軸又は２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はWRが算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の数式（２１）及び数式（２２）よりＲｔｈを算出することもできる。

上記式中、Ｒｅ(θ)は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、上記式中、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は
算出される。
Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はWRが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ,ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：
セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。
これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ又はＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
なお、本明細書において、Ｒｅ、Ｒｔｈ及び屈折率について特に測定波長が付記されていない場合は、測定波長５５０ｎｍであるものとする。また、「面内遅相軸」とは、面内で屈折率が最大になる方向であり、「面内進相軸」とは面内遅相軸に面内で直交する方向である。また、可視光領域とは、波長３８０〜７８０ｎｍを意味する。

本発明者らは、透明フィルム（光源側の偏光子と液晶層との間に配置される透明フィルム）の光学特性を制御することにより、高分子安定化ブルー相液晶を用いた液晶表示素子について、黒表示時に正面方向に生じる光漏れを軽減できるとともに、斜め方向での色味付きを軽減できることを見出し、本発明を完成するに至った。
高分子安定化ブルー相液晶を利用した液晶表示素子の表示特性に寄与する透明フィルムの光学特性は、例えば、面内のレターデーションン（Ｒｅ）、厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）である。さらには、Ｒｅ及びＲｔｈの波長依存性も影響する場合がある。これらの値を制御することにより、黒表示時に斜め方向に生じる光漏れを軽減できるとともに、黒表色味付きを軽減できる。
より具体的には、上記光学特性を制御することにより、正面方向の白表示と黒表示との輝度比であるコントラスト値について、高値が達成でき、及び斜め方向の広い可視光波長範囲で黒表示の光漏れを抑えることで黒表示の色付きを抑制することができる。

従来の高分子安定化ブルー相液晶を利用した液晶表示装置では、通常の偏光板、例えば、偏光膜の保護フィルムが、富士フイルム（株）製 商品名「フジタック」等である偏光板が用いられているが、本発明者らは、市販されている従来の偏光板をそのまま用いるだけでは、高分子安定化ブルー相液晶を利用した液晶表示素子の黒表示における光漏れを十分に抑えることができず、高コントラストが得にくいことを見出した。本発明では、高分子安定化ブルー相液晶の両側に用いる透明フィルム（光源側の偏光子と液晶層との間に配置される透明フィルム）の面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚さ方向のレターデーション（Ｒｔｈ）、および好ましくはさらにＲｅ及びＲｔｈの波長依存性を最適な値に制御し、その材料・製法を鋭意検討することにより、正面方向でも黒表示時に光漏れが少なく、コントラストの高い液晶表示素子を実現している。

また、本発明の液晶表示装置は、同一面スイッチング方式に対応液晶画面の大型化や高品質化に適する。
また、本発明の液晶表示装置では、高分子安定化ブルー相液晶を利用しているので、以下の利点がある。
まず、液晶材料を配向制御するための表面配向処理が不要であり、従来の表示素子で不可欠だった基板表面への配向膜の塗布−乾燥−熱キュア−ラビングなどの配向処理−洗浄−乾燥といったプロセスを全て省略できる。このプロセスは、ほこりや微粒子などの異物の混入、静電気の発生、傷の発生などを招き、歩留まりの低下や表示機能の低下の原因となっていたので、このプロセスを省略できることにより、歩留まりの低下や表示機能の低下が回避できる。
次に、従来の液晶表示素子ではネマチック液晶の配向状態の変化を基本原理とするため本質的に応答時間に限界があり、競合技術であるプラズマパネルやＥＬなどに比べ動画表示機能に劣っていたが、高分子安定化ブルー相液晶を利用すると、１００μ秒程度の応答が可能であるため、この問題も解決できる。

本発明に使用可能な高分子安定化ブルー相液晶材料の例には、コレステリック相と等方相の間で青色相を発現し得る低分子液晶と、該低分子液晶中に形成された高分子ネットワークとを有する複合系液晶組成物が含まれる。該高分子ネットワークは、非液晶性又は液晶性のモノマーが架橋剤とともに重合することにより形成された高分子ネットワークである。前記高分子安定化ブルー相液晶材料は、カイラルドーパントを含んでいるのが好ましい。高分子安定化ブルー相液晶に対するカイラルドーパントの量は、高分子安定化ブルー相液晶の回折波長に影響する。高分子安定化ブルー相液晶の回折波長が可視領域（３８０〜７５０ｎｍ）外であるように、カイラルドーパントの添加量を調整してもよい。そのような添加量のカイラルドーパントを含有する高分子安定化ブルー相液晶材料を利用した液晶表示装置は、黒表示時の光漏れがさらに軽減される。

前記高分子ネットワークを形成するのに用いられるモノマーは、非液晶性モノマー及び液晶性モノマーのいずれでもよいが、非液晶性のモノマーの方が液晶性モノマーより効果的である。
非液晶性のモノマーは、光重合又は熱重合によって重合することができるモノマーであって、棒状の分子構造（例えば、ビフェニル基又はビフェニル・シクロヘキシル基等の末端にアルキル基、シアノ基、フッ素などが付いたような分子構造）を有しないモノマーを指称し、例えば、分子構造中にアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、エポキシ基、フマレート基、シンナモイル基等の重合性基を含むモノマーが挙げられるが、これらに限られるものではない。
非液晶性のモノマー以外のモノマーとして、フェニル基やシクロヘキシル基などを含む棒状や板状の骨格を有しそれ自身で液晶性を示すか、他の分子との混合により液晶相を示すような液晶性モノマーが挙げられる。
また重合基を複数有するようなモノマーを用いてもよい。

非液晶性モノマーの好ましい例には、分子構造中にアクリロイル基又はメタクリロイル基を含むアクリレート系モノマーが含まれ、特に好ましい例には、側鎖としてアルキル基を有する枝分かれ構造のアクリレート系モノマーが含まれる。アルキル基は、一般に、炭素数１〜４のアルキル基であり、このようなアルキル基から成る側鎖をモノマー単位当たり少なくとも１個有するモノマーを用いる。アクリレート系モノマーの好適な例としてはシクロヘキシルアクリレートなど、また、側鎖としてアルキル基を有するアクリレート系モノマーの好適な例としては、２−エチルヘキシルアクリレート、１，３，３−トリメチルヘキシルアクリレートなどを挙げることができる。

このモノマーが、架橋剤とともに重合に供されることにより、高分子ネットワークが形成される。この架橋剤は、液晶性又は非液晶性の化合物のいずれでもよく、用いたモノマーに対応してそのモノマー分子間を結合して網状構造を形成し得るような反応性部位を有するものを使用すればよい。例えば、本発明の好ましい態様に従いモノマーとしてアクリレート系モノマーを用いる場合には、架橋剤として液晶性のジアクリレートモノマーを使用することもできる。

一方、前記高分子安定化ブルー相液晶材料を構成している低分子液晶は、コレステリック相（カイラルネマチック相）と等方相の間で青色相を発現し得る低分子液晶であり、好ましくは、細長く棒状の幾何学形状の分子からなるサーモトロピック液晶であり、液晶表示素子用に開発されている種々の液晶材料から選択して使用することもできる。このような低分子液晶の例には、ビフェニル、ターフェニル、ビフェニル・シクロヘキシル等の分子構造を含み、不斉原子の存在によりそれ自身がカイラリティー（キラリティー）を有するか、又は、カイラルな物質（カイラルドーパント）が添加されることにより、コレステリック相（カイラルネマチック相）を発現し得る物質であって、そのコレステリック相（カイラルネマチック相）におけるらせんのピッチ長が約５００ｎｍ以下となるようなものから選ばれる。これらの低分子液晶は、一般に、複数の種類を混合して使用することが好ましい。

カイラルドーパントは、液晶にねじれ構造を生じさせるものであり、例えば後述する実施例で使用したＺＬＩ−４５７２や、下記に示すＣＢ１５、下記に（ａ）〜（ｈ）として示す、ｆｕｒｏ［３，２−ｂ］ｆｕｒａｎ構造を有する誘導体等が挙げられる。

通常、カイラルドーパントはＴＮモードのねじれ構造を安定化させたり、コレステリック相やキラルスメクチック相などのヘリカル相を誘起させるために添加剤として用いる。
本発明の場合、通常のものより短いピッチ長が好ましいので、Ｈｅｌｉｃａｌ Ｔｗｉｓｔｉｎｇ Ｐｏｗｅｒ（ＨＴＰ）が大きいものを高濃度で添加することが好ましい。従って、ＨＴＰが大きく、液晶に対して溶解性の高いカイラルドーパントが好ましい。

高分子安定化ブルー相液晶の青色相は、低分子液晶中にモノマーと架橋剤を分散させ、青色相が保持されている温度で重合反応を行うことによって得られる。
重合は、熱重合及び光重合のいずれでも行うことができるが、熱重合の場合は、青色相が保持される温度と重合温度（加熱温度）とが重なる範囲に限界があり、また、高分子ネットワークの形態が加熱により変化する可能性もあるので、紫外光を用いる光重合によるのが好ましい。また、重合に際しては、重合速度を速めるために、低分子液晶中に、モノマー、カイラルドーパント、架橋剤に加えて重合開始剤も分散させておくことが好ましい。光重合開始剤としては、アセトフェノン系、ベンゾフェノン系、ベンゾインエーテル系、チオキサントン系などの各種の開始剤が使用可能であり、具体的には、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノンなどが例示できる。

高分子安定化ブルー相液晶に対するカイラルドーパントの量を、高分子安定化ブルー相液晶の回折波長が可視領域（３８０〜７５０ｎｍ）外とする調整は、例えば、以下の手順で行うことができる。
（１）適当量のカイラルドーパントを加えた高分子安定化ブルー相液晶を用意する。
（２）この液晶表面を回折格子分光器（例えば、日本分光社製・顕微紫外可視光度計３５０）を用いて常法に従って回折波長を測定する。
（３）この回折波長が可視領域外となるカイラルドーパントの量を決定する。
このようにして測定したカイラルドーパントの量は、カイラルドーパントのＨＴＰ（Ｈｅｌｉｃａｌ Ｔｗｉｓｔｉｎｇ Ｐｏｗｅｒ）に依存し、カイラルドーパントと液晶の種類によって異なる。例えば、液晶がＪＣ１０４１−ＸＸでありカイラルドーパントがＺＬＩ−４５７２の場合にはＺＬＩ−４５７２の量は約６〜１０モル％、同じくカイラルドーパントがＣＢ１５の場合にはＣＢ１５の量は約８５〜９５モル％である。

本発明の液晶表示装置の一例の模式図を図１に示す。図１に示す液晶表示装置は、高分子安定型ブルー相液晶表示素子ＬＣを２つの偏光板ＰＬ１及びＰＬ２で挟んだ構造になっている。偏光板ＰＬ１は、偏光膜１０を２枚の透明フィルム１４、１８で挟んだ構成になっていて、及び偏光板ＰＬ２は、偏光膜１２を２枚の透明フィルム１６、２０で挟んだ構成になっている。２枚の透明フィルムのうち、高分子安定型ブルー相液晶表示素子ＬＣ側の透明フィルム１４及び１６は、表示性能に影響を与えるが、高分子安定型ブルー相液晶表示素子と反対側の透明フィルム１８及び２０は、偏光膜１０及び１２の保護フィルムとして機能し、表示性能に通常影響を与えないであろう。図１の液晶表示装置では、光源側（図面中下側に光源が配置されているものとする）の透明フィルム１６の面内のレターデーションン（Ｒｅ）、厚さ方向のレターデーションン（Ｒｔｈ）、および好ましくはＲｅ及びＲｔｈの波長依存性が制御され、従来の高分子安定型ブルー相液晶を利用した液晶表示装置と比較して、黒表示時に正面方向における光漏れが少なく、コントラストが改善され、及び色味付きが軽減されている。

より具体的には、透明フィルム１６のＲｅの絶対値｜Ｒｅ（５５０）｜が１０ｎｍ以下であり、Ｒｔｈの絶対値｜Ｒｔｈ（５５０）｜が３０ｎｍ以下である。好ましくは、透明フィルム１６の｜Ｒｅ（５５０）｜は５ｎｍ以下であり、｜Ｒｔｈ（５５０）｜は１０ｎｍ以下である。また、透明フィルム１６は、Ｒｅ及びＲｔｈの波長依存性が小さく、即ち、可視光領域にわたって、Ｒｅ及びＲｔｈの絶対値が上記条件を満足するのが好ましい。Ｒｅ及びＲｔｈの好ましい波長依存性は、具体的には、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が１０ｎｍ以下、且つ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が３５ｎｍ以下であり；より好ましくは、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が５ｎｍ以下、且つ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が１０ｎｍ以下である。
また、透明フィルム１６のＲｅ（４００）は、−５〜５ｎｍであるのが好ましく、Ｒｔｈ（４００）は−１０〜１０ｎｍであるのがより好ましい。
また、透明フィルム１６のＲｅ（７００）は、−１０〜１０ｎｍであるのが好ましく、Ｒｔｈ（７００）は、−１０〜１０ｎｍであるのがより好ましい。

表示面側に配置される透明フィルム１４の光学特性を制御することによって、さらに表示特性を改善することができる。
好ましい一例は、透明フィルム１４も、透明フィルム１６に要求される前記光学特性を満足する例である。
他の好ましい例は、透明フィルム１４が、光学的に二軸性を示す例である。具体的には透明フィルム１４のＲｅが２００〜３５０ｎｍ程度、且つＲｔｈが−８８〜８８ｎｍ程度であり、より好ましくはＲｅが２５０〜３００ｎｍ程度、且つＲｔｈが−４５〜４５ｎｍ程度である。
他の好ましい例は、透明フィルム１４が、光学的に二軸性を示す２枚構成の例である。具体的には２枚のうち、一方は透明フィルム１４のＲｅが２０〜１２０ｎｍ程度、且つＲｔｈが１２５〜２２５ｎｍ程度であり、より好ましくはＲｅが４０〜１００ｎｍ程度、且つＲｔｈが１４５〜２０５ｎｍ程度であり、他方は透明フィルム１４のＲｅが−３０〜３０ｎｍ程度、且つＲｔｈが５０〜１５０ｎｍ程度であり、より好ましくはＲｅが−１０〜１０ｎｍ程度、且つＲｔｈが８０〜１２０ｎｍ程度である。
他の好ましい例は、透明フィルム１４が、光学的に一軸性を示す２枚構成の例である。具体的には、２枚のうち、一方は透明フィルム１４のＲｅが６０〜２１０ｎｍ程度、且つＲｔｈが３０〜１０５ｎｍ程度であり、より好ましくはＲｅが１１０〜１６０ｎｍ程度、且つＲｔｈが５５〜８０ｎｍ程度であり、他方は透明フィルム１４のＲｅが−３０〜３０ｎｍ程度、且つＲｔｈが７０〜１７０ｎｍ程度であり、より好ましくはＲｅが−１０〜１０ｎｍ程度、且つＲｔｈが１００〜１４０ｎｍ程度である。

図１の液晶表示装置は、背面側偏光板（図１では偏光板ＰＬ２）のさらに外側に、バックライトユニット（不図示）を備える。本発明では、バックライトユニット中の光源がＬＥＤ光源であるのが好ましく、直下型ＬＥＤ光源であるのがより好ましい。ＬＥＤ光源を利用すると、黒透過率がさらに低くなり、正面コントラストがさらに改善される。

液晶表示素子ＬＣは、一対の基板と、該基板の間に高分子安定型ブルー相液晶材料が封入された液晶表示素子であって、電界が基板面に対して平行に印加される液晶表示素子である。電界は一方の基板面に相互に組み込まれた櫛歯型の２つの電極により印加されることが好ましい。実際には、前記２つの電極の一方を薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）のソース電極とし、他方を共通電極として、ＴＦＴ動作によって前記電界をＯＮ−ＯＦＦすることが実用的な方法となる。即ち、この電界を、一方の基板面内にＴＦＴと共通電極を組み込み、前記ＴＦＴのオン−オフによって、入力信号に応じた電界としてＴＦＴ電極と共通電極の間に印加することが好ましい。

一対の基板としては、透明基板が好ましく、ガラス、プラスチックフィルム、光学結晶等を用いることができる。
これら一対の基板間の距離は通常２〜１００μｍ程度である。
印加する電界は、通常１０００〜１０００００Ｖ／ｃｍ程度である。電界は、実質的に基板に対し平行（又は表示方向に垂直）であればよい。
電界の印加方法に特に制限はないが、一方の基板面に櫛歯型の電極２つを相互に組み込む構造が簡便である。この櫛歯型電極当り、櫛歯の数は約２〜１００個、長さ約１〜１００００μｍ、幅約１〜５０μｍ、櫛歯間距離約１〜１００μｍが好ましい。

図１中の液晶表示素子ＬＣの構造の一例を図２に示す。
この構造では、基板に櫛歯型の電極２つを同一面内に相互に組み込むように付け、それらに電圧を印加することで櫛歯に対して垂直に、基板面に平行に電界を印加する。もう一方の基板は電極のないガラス板であり、薄膜などのスペーサを介して、対向配置させる。その結果、スペーサ厚のギャップが一対の基板間にできるので、そのギャップに液晶材料を注入することにより、液晶表示素子ＬＣを作製できる。
向かい合った二つの櫛歯電極に電圧を印加すると、電界方向すなわち櫛歯線に垂直方向を光軸とする一軸の屈折率異方性が生じる。

二枚の偏光板ＰＬ１及びＰＬ２の間にこの液晶表示素子ＬＣを配置し、各偏光板ＰＬ１及びＰＬ２の吸収軸１０ａ及び１２ａを直交させ（いわゆるクロスニコル状態）、電界方向をそれぞれの吸収軸に対して４５度にすれば、電界ゼロで透過率ゼロ（レタデーションゼロなので）、電界印加で光透過（レターデーションンが生じたセルが波長板のように作用するため）となる。したがって、電圧ＯＮ−ＯＦＦで明−暗のコントラストをつけることができる。液晶表示素子のレターデーションンが透過光の波長の半分になれば、透過率最大になる。

上記した通り、液晶表示素子ＬＣの櫛歯電極の櫛の長辺の方向は、偏光板ＰＬ１及びＰＬ２の吸収軸１０ａ及び１２ａと４５度になっているとレターデーションンの効率が最大になり最も好ましい。また、＋４５度と−４５度の２つの領域を設けると、電圧印加時にドメインに分割させることができ、方位角方向により均一な表示特性が得られるため好ましい。例えば、図５では、電極の構成は、右半分と左半分で２つのドメインになっており、また後述する図８ではジグザグ形の櫛歯電極を用いて２つのドメインを得ることができる。

本発明に用いられる電極構造としては、同一面スイッチングが可能な電極構造である限り、特に制限はない。例えば、図３の断面図に示すように、コモン電極とピクセル電極がどちらも櫛歯電極になっている電極構造であっても、図４の断面図に示すように面電極のコモン電極と櫛歯電極のピクセル電極との間に絶縁層を挟んだ電極構造であってもよい。

図６（ａ）は、電界無印加状態（ＯＦＦ状態）における本実施の形態にかかる表示素子の要部の概略構成を模式的に示す断面図であり、図６（ｂ）は電界印加状態（ＯＮ状態）における本実施の形態にかかる表示素子の要部の概略構成を模式的に示す断面図である。また、図７は、本実施の形態にかかる表示素子を用いる表示装置の要部の概略構成の一例を示すブロック図である。本実施の形態にかかる表示素子は、駆動回路とともに表示装置に配されて用いられる。

図７は、画素がマトリクス状に配された表示素子と、駆動回路としてのソースドライ
バおよびゲートドライバと、電源回路等とを備えている。

また、上記表示素子には、複数のデータ信号線と、各データ信号線にそれぞれ交差する複数の走査信号線とが設けられ、これらデータ信号線および走査信号線の組み合わせ毎に、上記画素が設けられている。

上記電源回路は、上記ソースドライバおよびゲートドライバに、上記表示素子にて表示を行うための電圧を供給し、これにより、上記ソースドライバは、上記表示素子のデータ信号線を駆動し、ゲートドライバは、表示素子の走査信号線を駆動する。

上記各画には、図示しないスイッチング素子が設けられている。該スイッチング素子としては、例えばＦＥＴ（電界効果型トランジスタ）あるいはＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等が用いられ、上記スイッチング素子のゲート電極が走査信号線に、ソース電極がデータ信号線に、さらに、ドレイン電極が、図示しない画素電極に接続されている。これにより、上記各画素において、走査信号線が選択されると、スイッチング素子が導通し、図示しないコントローラから入力される表示データ信号に基づいて決定される信号電圧が、ソースドライバによりデータ信号線を介して表示素子に印加される。表示素子は上記走査信号線の選択期間が終了してスイッチング素子が遮断されている間、理想的には、遮断時の電圧を保持し続ける。

本実施の形態において、上記表示素子は、電界（電圧）印加時または電界（電圧）無印加時に光学的等方性（巨視的、具体的には、可視光波長領域、つまり、可視光の波長スケール、もしくは、それよりも大きなスケールで見て等方であればよい）を示す媒質（液晶性媒質（液晶材料）、誘電性物質）を用いて表示を行うようになっている。

図６（ａ）・（ｂ）に示す表示素子は、媒質保持手段（光学変調層保持手段）として、互いに対向して配置された一対の基板を備え、これら一対の基板間に、光学変調層として、電界の印加により光学変調する媒質（以下、媒質Ａと記す）からなる媒質層が挟持されていると共に、これら一対の基板の外側、つまり、これら両基板の対向面とは反対側の面に、偏光板がそれぞれ設けられている構成を有している。

上記一対の基板のうち、少なくとも一方の基板は透光性を有する、例えばガラス基板等の透明な基板からなり、これら一対の基板のうち、一方の基板における他方の基板との対向面には、図６（ｂ）に示すように上記基板１に略平行な電界（横向きの電界）を上記媒質層に印加するための電界印加手段（電界印加部材）である櫛歯状の櫛歯電極が、図５に示すようにこれら櫛歯電極の櫛歯部分（櫛歯電極）が互いに噛み合う方向に対向配置されている。また、図８に示す様に、ジグザグ形の櫛歯電極が、対向配置されている。

上記櫛歯電極は、例えばＩＴＯ（インジウム錫酸化物）等の透明電極材料等の電極材料からなり、例えば線幅５μｍ、電極間距離（電極間隔）５μｍ、厚み０．３μｍに設定されている。但し、上記電極材料並びに線幅および電極間距離、および厚みは単なる一例であり、これに限定されるものではない。

上記表示素子は、例えば、上記櫛歯電極が設けられた基板を、図示しないシール剤により、必要に応じて、例えば図示しないプラスチックビーズやガラスファイバースペーサ等のスペーサを介して貼り合わせ液晶層を形成する。

本実施の形態に用いられる液晶は、電界を印加することにより、光学的異方性の程度が変化する媒質である。物質中に外部から電界Ｅ_jを加えると、電気変位Ｄ_ij＝ε_ij・Ｅ_jを生じるが、そのとき、誘電率（ε_ij）にもわずかな変化が見られる。光の周波数では屈折率（ｎ）の自乗は誘電率と等価であるから、上記媒質Ａは、電界の印加により、屈折率が変化する物質と言うこともできる。

なお、従来の液晶表示素子は、このように、電界印加に伴う液晶分子の回転による配向方向の変化のみを利用して表示を行うものであり、液晶分子が一定方向に整列した状態で、揃って回転するため、液晶固有の粘度が応答速度に大きく影響していた。これに対して、本実施の液晶表示装置は、媒質における光学的異方性の程度の変化を用いて表示を行う。したがって、従来の液晶表示素子のように、液晶固有の粘度が応答速度に大きく影響するといった問題がないので、高速応答を実現することができる。また、高速応答性を備えているので、例えば、フィールドシーケンシャルカラー方式の表示装置に利用することもできる。

次に、本発明の液晶表示装置に用いる第１及び第２の透明フィルム（図１中では、透明フィルム１６及び透明フィルム１４）について説明する。
第１及び第２の透明フィルムは偏光板の保護フィルムとしての機能を兼ねることが、液晶表示装置の薄型化の点から好ましい。よって偏光板の保護フィルムとして利用されている種々の材料からなるポリマーフィルムを用いることができる。

［セルロースアシレート系フィルム］
セルロースアシレート系フィルムは、偏光板加工適性が良好であり、第１及び第２の透明フィルムとして使用するのに適する。また、後述するレターデーション低減剤を添加することによって、第１の透明フィルムに要求される特性、即ち低Ｒｅ及び低Ｒｔｈ、を満足するセルロースアシレート系フィルムを作製することができる。さらに波長分散調整剤を添加することによって、Ｒｅ及びＲｔｈが適切な波長分散特性、具体的には、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が１０ｎｍ以下、且つ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が３５ｎｍ以下、を示すセルロースアシレート系フィルムが得られる。
また、レターデーション上昇剤を添加することによって、及び／又は延伸処理を施すことによって、光学的に一軸性又は二軸性のセルロースアシレート系フィルムを作製することができ、当該セルロースアシレート系フィルムは、第２の透明フィルムとして使用することができる。

セルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあげられ、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができるが、これらに限定されるものではない。

セルロースアシレートは、セルロースの水酸基がアシル化されたものである。アシル基としては、炭素原子数２〜２２のアシル基のいずれであってもよい。セルロース中の水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度が得られる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することができる。

セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることが好ましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることがより好ましく、２．８５〜３．００であることがさらに好ましい。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく、単一でも２種類以上の混合物でもよい。例えば、セルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステル、芳香族カルボニルエステル及び芳香族アルキルカルボニルエステル等が挙げられる。これらは、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることができる。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔｅｒｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。

上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基、プロピオニル基及びブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性を低下できる。よって、第１の透明フィルムとして用いるセルロースアシレートフィルムの作製には、原料として、アシル置換度が２．６０〜３．００のセルロースアシレートを用いるのが好ましく、アシル置換度が２．６５〜３．００のセルロースアシレートを用いるのがより好ましい。第２の透明フィルムとして用いるセルロースアシレートフィルムの原料として用いるセルロースアシレートが有する置換基の種類、及びその置換度は、要求される光学特性に応じて決定されるであろう。例えば、フェニル基等の芳香族基を含むセルロースアシレートを用いることもできる。

セルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であるのが好ましく、セルロースアセテートについては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００がさらに好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度を一定以下とすることによりセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になるのをより効果的に防止することができる。重合度を一定以上とすることにより、作製したフィルムの強度が低下してしまうのをより効果的に防止できる。平均重合度は、例えば、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。この方法は、特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、セルロースアシレートの分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることがよりさらに好ましい。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明で用いることができるセルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。セルロースアシレートの含水率を前記範囲とするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。セルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

セルロースアシレートフィルム中には、種々の添加剤（例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）から選択される少なくとも１種を添加することができる。
第１の透明フィルムとして利用するセルロースアシレートフィルムを作製するためには、低Ｒｅ及び低Ｒｔｈとするために、光学異方性を低下させる化合物を用いることが好ましい。光学異方性を低下させる化合物の例には、下記式を満足する化合物が含まれる。
（Ｒｔｈ_(A)−Ｒｔｈ₍₀₎）／Ａ≦−１．０
０．０１≦Ａ≦３０
式中、Ｒｔｈ_(A)は、光学異方性を低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ｒｔｈ₍₀₎は、該フィルムであって、光学異方性を低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）を表し、Ａは、フィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの、光学異方性を低下させる化合物の質量（％）を表す。
光学異方性を低下させる化合物は、下記式を満足するのがより好ましい。
（Ｒｔｈ_(A)−Ｒｔｈ₍₀₎）／Ａ≦−２．０
０．１≦Ａ≦２０

前記光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たない化合物から選択されるのが好ましい。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造を有する化合物が好ましい。
第１の透明フィルムとして利用するセルロースアシレートフィルムを作製する際には、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を用いることが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物を採用することにより、セルロースアシレートとの相溶性がより良くなり、フィルムの白濁や粉吹きをより効果的に防止することができる。また、ｌｏｇＰ値が０以上の化合物を採用することにより、親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性が悪化してしまうのをより効果的に防止できる。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
なお、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.− Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。

光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０〜３０００であることが好ましく、１７０〜２０００であることがより好ましく、２００〜１０００であることがさらに好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、温度２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、温度２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該セルロースアシレートフィルムの中央部における該化合物の平均含有率の８０〜９９％であるのが。光学異方性を低下させる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面及び中心部の化合物量を測定して求めることができる。

光学異方性を低下させる化合物の第一の例は、下記一般式（１３）で表される化合物である。

式（１３）中、Ｒ¹¹はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹²及びＲ¹³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。Ｒ¹¹、Ｒ¹²及びＲ¹³は置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ｔ−アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、ｔ−オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。
以下に、一般式（１３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されるものではない。尚、化合物中、Ｐｒⁱはイソプロピル基を意味する（以下、同じ）。

前記光学異方性を低下させる化合物の例には、下記一般式（１８）で表される化合物が含まれる。

一般式（１８）中、Ｒ¹⁴はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。
Ｒ¹⁴は、フェニル基又は、環状アルキル基が好ましい。Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、それぞれ、フェニル基又はアルキル基が好ましい。アルキル基としては、環状アルキル基及び直鎖のアルキル基のいずれも好ましい。
これらの基は、置換基を有していてもよく、置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。
一般式（１８）で表される化合物は、より好ましくは一般式（１９）で表される化合物である。

一般式（１９）中、Ｒ¹¹⁴、Ｒ¹¹⁵及びＲ¹¹⁶はそれぞれ独立にアルキル基又はアリール基を表す。アルキル基は、環状アルキル基及び直鎖のアルキル基のいずれも好ましいく、アリール基はフェニル基が好ましい。
以下に、一般式（１８）（及び一般式（１９））で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、これらの具体例に限定されるものではない。尚、化合物中、Ｂｕⁱはイソブチル基を意味する。

第１の透明フィルムとして利用するセルロースアシレートフィルムの作製には、レターデーションの波長分散を低下させる化合物（以下「波長分散調整剤」ともいう）を利用するのが好ましい。セルロースアシレートフィルムのＲｔｈの波長分散性を上記好ましい範囲とするためには、下記式（ＶＩＩ）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させる化合物を、下記２式を満たす範囲で少なくとも１種含有することが好ましい。
（ΔＲｔｈ_(B)−ΔＲｔｈ₍₀₎）／Ｂ≦−２．０
０．０１≦Ｂ≦３０
ここで、ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜であり、ΔＲｔｈ_(B)は、波長分散調整剤をＢ質量％含有するフィルムのΔＲｔｈを意味し、ΔＲｔｈ₍₀₎は波長分散調整剤を含まない同フィルムのΔＲｔｈを意味する。
波長分散調整剤は、下記式を満足するのがより好ましい。
（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
０．０５≦Ｂ≦２５
また、波長分散調整剤は、下記式を満足するのがさらに好ましい。
（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
０．１≦Ｂ≦２０

上記の波長分散調整剤は、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜及び｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜を低下させ得る化合物を少なくとも１種、セルロースアシレートの固形分に対して０．０１〜３０質量％添加させるのが好ましい。

セルロースアシレートフィルムのＲｅ及びＲｔｈの値は、一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。従って、相対的に小さい短波長側のＲｅ及びＲｔｈを大きくすることによって波長分散性を、平滑にすることが要求される。一方、波長２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は、短波長側よりも長波長側の吸光度が大きいという波長分散特性を持つ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ及びＲｔｈの波長分散は、吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。

従って上述したような、波長２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅ及びＲｔｈの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅ及びＲｔｈの波長分散を調製することができる。このためには、波長分散調整剤として用いる化合物は、セルロースアシレートに十分均一に相溶することが要求される。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましく、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。

また、前記波長分散調整剤として用いる化合物は、セルロースアシレートフィルムの分光透過率を上昇させないものであることが要求される。本発明に透明フィルムとして用いるセルロースアシレートフィルムは、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が、４５％〜９５％であるのが好ましく、且つ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることが好ましい。

前記波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルムの作製の工程、例えば溶液流延法で作製する場合には、ドープ流延、及び乾燥の工程で揮散しないことが好ましい。
前記波長分散調整剤は揮散性の観点から、分子量が２５０〜１０００であることが好ましく、より好ましくは２６０〜８００であり、さらに好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

前記波長分散調整剤の添加量は、セルロースアシレートに対して、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
また、セルロースアシレートフィルムを溶液流延工程で作製する場合には、これら波長分散調整剤を添加する時期は、ドープ作製工程中のいずれであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

前記波長分散調整剤の具体例には、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが含まれるが、これらに限定されるものではない。

前記波長分散調整剤として使用可能なベンゾトリアゾール系化合物の例には、下記一般式（１０１）で表される化合物が含まれる。

一般式（１０１）
Ｑ¹¹−Ｑ¹²−ＯＨ
式（１０１）中、Ｑ¹¹は含窒素芳香族ヘテロ環を表し、Ｑ¹²は芳香族環を表す。

Ｑ¹¹は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員環の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５又は６員環の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、セレナゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンゾセレナゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環、ナフトチアゾール環、ナフトオキサゾール環、アザベンズイミダゾール環、プリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、トリアジン環、トリアザインデン環、テトラザインデン環等があげられ、さらに好ましくは、５員環の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール環、ピラゾール環、トリアゾール環、テトラゾール環、チアゾール環、オキサゾール環、ベンゾトリアゾール環、ベンゾチアゾール環、ベンズオキサゾール環、チアジアゾール環、オキサジアゾール環が好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾール環である。

Ｑ¹²で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環は、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は２環の芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜２０の単環又は２環の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくは炭素数６〜１２の単環又は２環の芳香族炭化水素環であり、最も好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環は、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。
Ｑ¹²で表される芳香族環は、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。
Ｑ¹¹及びＱ¹²はそれぞれ置換基を有してもよく、置換基としては、後述の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基はさらに置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１０１）で表される化合物の中でも、下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物が好ましい。

式（１０１−Ａ）中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、及びＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、及びＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ¹及びＲ³は、それぞれ、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ²及びＲ⁴は、それぞれ、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁵及びＲ⁸は、それぞれ、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁶及びＲ⁷は、それぞれ、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。

一般式（１０１）で表される化合物の中でも、下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物が好ましい。

式（１０１−Ｂ）中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁶及びＲ⁷は、一般式（１０１−Ａ）中のそれらとそれぞれ同義であり、また好ましい範囲も同様である。

以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、これらに限定されるものではない。

以上例に挙げたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０を越えるものが、保留性の点で有利である。

また前記波長分散調整剤として使用可能なベンゾフェノン系化合物の例には、一般式（１０２）で表される化合物が含まれる。

一般式（１０２）中、Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ、芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子又は置換基を表す。）、酸素原子又は硫黄原子を表す。

Ｑ¹又はＱ²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ¹及びＱ²で表される芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、さらに好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）さらに好ましくはベンゼン環である。
Ｑ¹及びＱ²で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン環、ピロール環、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。
Ｑ¹又はＱ²で表される芳香族環は、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。
Ｑ¹又はＱ²は、さらに置換基を有してもよく、前述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

ＸはＮＲ（Ｒは水素原子又は置換基を表す。置換基としては上述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基はさらに置換してもよい。）、又は酸素原子であり、特に好ましくは酸素原子である。

一般式（１０２）で表される化合物の中でも、下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物が好ましい。

一般式（１０２−Ａ）中、Ｒ²¹、Ｒ²²、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁷、Ｒ²⁸、及びＲ²⁹はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。

Ｒ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁸、及びＲ²⁹はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ²¹、Ｒ²³、Ｒ²⁴、Ｒ²⁵、Ｒ²⁶、Ｒ²⁸、及びＲ²⁹は、好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ²²として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ²⁷として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、さらに好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。

一般式（１０２−Ｂ）中、Ｒ¹⁰は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表す。

Ｒ¹⁰は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基を表し、これらは置換基を有していてもよい。置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ¹⁰として好ましくは、アルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０のアルキル基であり、さらに好ましくは炭素数５〜１２のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（１０２）で表される化合物は、特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また、本発明に用いられる波長分散調整剤として使用可能なシアノ基を含む化合物の例には、一般式（１０３）で表される化合物が含まれる。

一般式（１０３）中、Ｑ³¹及びＱ³²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ³¹及びＸ³²はそれぞれ、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、又は芳香族ヘテロ環を表す。
Ｑ³¹及びＱ³²で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、さらに他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として好ましくは、炭素数６〜３０の単環又は２環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環であり、さらに好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環であり、最も好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン環、イミダゾール環、ピラゾール環、ピリジン環、ピラジン環、ピリダジン環、トリアゾール環、トリアジン環、インドール環、インダゾール環、プリン環、チアゾリン環、チアゾール環、チアジアゾール環、オキサゾリン環、オキサゾール環、オキサジアゾール環、キノリン環、イソキノリン環、フタラジン環、ナフチリジン環、キノキサリン環、キナゾリン環、シンノリン環、プテリジン環、アクリジン環、フェナントロリン環、フェナジン環、テトラゾール環、ベンズイミダゾール環、ベンズオキサゾール環、ベンズチアゾール環、ベンゾトリアゾール環、テトラザインデン環などが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環である。

Ｑ³¹及びＱ³²で表される芳香族環は、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ³¹及びＱ³²はさらに置換基を有してもよく、上述の置換基Ｔが好ましい。

Ｘ³¹及びＸ³²は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ³¹及びＸ³²で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ³¹及びＸ³²はで表される置換基はさらに他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ³¹及びＸ³²はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ³¹及びＸ³²として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）である。

一般式（１０３）で表される化合物の中でも、下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物が好ましい。

一般式（１０３−Ａ）中、Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³³、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷、Ｒ³⁸、Ｒ³⁹及びＲ³⁰はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表す。Ｘ³¹及びＸ³²は一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷、Ｒ³⁹及びＲ³⁰はそれぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基はさらに別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ³¹、Ｒ³²、Ｒ³⁴、Ｒ³⁵、Ｒ³⁶、Ｒ³⁷、Ｒ³⁹及びＲ³⁰は、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、さらに好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ³³及びＲ³⁸は、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、アミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、さらに好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

一般式（１０３）は、より好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物である。

一般式（１０３−Ｂ）中、Ｒ³³及びＲ³⁸はそれぞれ、一般式（１０３−Ａ）中のそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ³³は水素原子、又は置換基を表す。

Ｘ³³は、水素原子、又は置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合はさらに置換基で置換されてもよい。Ｘ³³は、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、さらに好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ³⁰¹（Ｒ³⁰¹は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの））である。

一般式（１０３）としてさらに好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である。

一般式（１０３−Ｃ）中、Ｒ³³及びＲ³⁸は、一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ³⁰²は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。

Ｒ³⁰²は、好ましくはＲ³³及びＲ³⁸の両方が水素原子の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、さらに好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ³⁰²は、好ましくはＲ³³及びＲ³⁸が水素以外の場合には、一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

前記一般式（１０３）で表される化合物は、Ｊｏｕｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ６３巻 ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。

以下に、一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、下記具体例に何ら限定されるものではない。

（レターデーションン上昇剤）
第２の透明フィルム用のセルロースアシレート系フィルムの例には、上記した通り、光学的に二軸性又は一軸性のフィルムが含まれる。この様な特性を満足するセルロースアシレート系フィルムを作製する場合は、フィルム中に、レターデーション上昇剤を添加するのが好ましい。
セルロースアシレート系フィルムのレターデーションを上昇させる作用のある添加剤（レタデーション発現剤）としては、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁に記載の棒状芳香族化合物を好ましく用いることができる。
また、セルロースアシレート系フィルムのレターデーション上昇剤として使用可能な化合物の例には、特開２００２−２７７６３２号公報の［００１６］〜［００２４］に記載の化合物が含まれる。
また、セルロースアシレート系フィルムのレターデーション上昇剤として使用可能な化合物の例には、特開２００２−１８２２１５号公報の［００３３］〜［００４１］に記載の化合物が含まれる。

また、前記レターデーションン上昇剤は、単独あるいは２種類以上混合して用いることができる。レターデーションン発現剤の添加量はセルロースアシレート１００重量％に対して、０．１〜２０質量％が好ましく、０．５〜１０質量％がさらに好ましい。

（マット剤微粒子）
前記透明フィルム用のセルロースアシレート系フィルム中には、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用可能な微粒子としては、二酸化珪素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。これらの微粒子の中ではケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、二酸化珪素がより好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子サイズが１ｎｍ〜２０ｎｍ、かつ、見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜２５ｎｍのものがフィルムのヘイズを下げることができて、より好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常、平均粒子サイズが０．０５〜２．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．０５〜２．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子サイズは０．０５μｍ〜１．０μｍが好ましく、０．１μｍ〜０．７μｍがより好ましく、０．１μｍ〜０．４μｍがさらに好ましい。なお、ここでいう、１次若しくは２次粒子サイズはフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子サイズとした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子サイズとする。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００ＶおよびアエロジルＲ９７２Ｖは、１次平均粒子サイズが２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムのヘイズを低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

マット剤の混合方法は特に限定されるものではないが、マット剤分散剤と添加剤溶液の混合、及びセルロースアシレート液等との混合にはインラインミキサーを使用することが好ましい。二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％がより好ましく、１５〜２０質量％がさらに好ましい。分散濃度が高い方が同量の添加量に対する濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は０．００１〜１．０質量％が好ましく、０．００５〜０．５質量％がより好ましく、０．０１〜０．１質量％がさらに好ましい。

（セルロースアシレート系フィルムの製造方法）
前記透明フィルム用セルロースアシレート系フィルムの製造方法について特に制限はない。種々のフィルム成形方法によって製造することができ、例えば、溶液製膜法及び溶融製膜法のいずれの方法でも製造することができる。溶液製膜法が好ましい。

［アクリル系ポリマーフィルム］
次に、第１及び第２の透明フィルムとして使用可能な、アクリル系ポリマーフィルムについて説明する。アクリル系ポリマーを主成分とするアクリル系ポリマーフィルムは、高光透過率性であり、及び低複屈折性であることが知られている。よって、第１の透明フィルムに要求される、低Ｒｅ及び低Ｒｔｈを達成可能である。さらにアクリル系ポリマーフィルムは、低波長分散性を示し、よって第１の透明フィルムとして適切な波長分散特性、具体的には、｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が１０ｎｍ以下であり、且つ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が３５ｎｍ以下、さらに好ましくは｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が５ｎｍ以下であり、且つ｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が１０ｎｍ以下、を示すフィルムが得られる。

アクリル系ポリマーフィルムは、(メタ)アクリル酸エステルの少なくとも１種から誘導される繰り返し単位を有するアクリル系ポリマーを主成分とするフィルムである。当該アクリル系ポリマーフィルムの好ましい例は、(メタ)アクリル酸エステルから誘導される繰り返し単位とともに、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、及びグルタル酸無水物単位から選ばれる少なくとも１種の単位を含むアクリル系ポリマーである。このアクリル系ポリマーについては、特開２００８−９３７８号公報に詳細な記載があり、参照することができる。

［その他のポリマーフィルム］
その他、前記透明フィルムとして、正の固有レターデーションンと負の固有レターデーションン成分とを併せ持つ材料を含有するポリマーフィルムを用いることができる。
（株）帝人製「ピュアエース」等の変性ポリカーボーネートフィルム、特開２００３−２９２６３９号公報および特開２００３−３２１５３５号公報に開示されるノルボルネン系ポリマーフィルム等も好ましい。ノルボルネン系ポリマーフィルム等の環状オレフィン系ポリマーフィルムは、低透湿性及び高透過性である。環状オレフィン系ポリマーフィルムは、製造条件（製膜条件、延伸条件）等を調整することで、低Ｒｅ及び低Ｒｔｈ、又は一軸性及び二軸性の光学特性を発現し得るので、第１及び第２の透明フィルムとして利用することが可能である。

前記第２の透明フィルムの一例は、Ｎｚ（但し、Ｎｚ＝Ｒｔｈ（５５０）／Ｒｅ（５５０）＋０．５）が０．５付近の透明フィルムである。この特性を示す透明フィルムのレターデーションンは逆分散性であることが望ましい。すなわち、波長が大きいほどレターデーションンが大きくなっていることが望ましい。更に望ましくは、レターデーションンが波長に比例することが望ましい。このようにすると、可視光における広い範囲において黒状態の光漏れが抑えられる。

また、Ｎｚが０．５付近の透明フィルムを２枚用いてもよい。２枚の透明フィルムの双方のレターデーションンが波長の４分の１程度であることが望ましい。または、２枚の透明フィルムは異なる光学特性であってもよいが、そのレターデーションンの和が波長の２分の１程度であることが望ましい。このようにすると、透明フィルムの１枚あたりのレターデーションンを小さくすることができるため透明フィルムの製造適正範囲が広がり、面状ムラ等の欠陥が生じ難くなるというメリットがある。またフィルムの厚さを小さくすることができるため低コストで、透明フィルムを製造することが可能になる。

また、２枚の透明フィルムのレターデーションンを波長の２分の１程度にして、且つ一方の透明フィルムのＮｚが０．２５程度、他方の透明フィルムのＮｚが０．７５程度にすることが好ましい。このようにすると、フィルムの波長分散が原因で発生する光漏れを補償することができ、可視光における広い範囲において黒状態の光漏れが抑えられる。

また、前記透明フィルム（特に第２の透明フィルム）は、液晶組成物からなる光学異方性膜であってもよく、また、該膜とポリマーフィルムとの積層体であってもよい。前記光学異方性膜の作製には、棒状液晶及び円盤状液晶等、種々の液晶材料から選択した１種又は２種以上を用いることができる。例えば、棒状液晶を含有する硬化性液晶を垂直配向状態に固定してなる光学異方性膜などを利用することができる。

［延伸処理］
本発明に用いる透明フィルム（特に第２の透明フィルム）は、延伸処理されたフィルムであってもよい。延伸処理によりフィルムに所望のレターデーションンを付与することが可能である。透明フィルムの延伸方向は幅方向（横延伸）が好ましい。幅方向に延伸することにより、ロール ツー ロールで偏光子の透過軸と透明フィルムの遅相軸が平行な偏光板を製造することが可能となる。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。

フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。幅方向の延伸は、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによって行うことができる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。

フィルムの延伸倍率（延伸前のフィルムに対する伸び率）は、１％〜２００％が好ましく、５％〜１５０％がさらに好ましい。

さらに、幅方向にフィルムを把持しながら収縮させる収縮工程を含む方法により製造されたフィルムを用いることもできる。
フィルムの幅方向に延伸する延伸工程と、フィルムの搬送方向に収縮させる収縮工程を含む製造方法においてはパンタグラフ式あるいはリニアモーター式のテンターによって保持し、フィルムの幅方向に延伸しながら搬送方向にはクリップの間隔を徐々に狭めることでフィルムを収縮させることができる。

なお、上記のようなフィルムの長手方向または幅方向のいずれか一方を延伸し、同時にもう一方を収縮させ、同時にフィルムの膜厚を増加させる延伸工程を具体的に行う延伸装置として、市金工業社製ＦＩＴＺ機などを望ましく用いることができる。この装置に関しては（特開２００１−３８８０２号公報）に記載されている。

延伸工程における延伸率および収縮工程における収縮率としては目的とする正面レターデーションンＲｅおよび膜厚方向のレターデーションンＲｔｈの値により、任意に適切な値を選択することができるが、延伸工程における延伸率が１０％以上であり、かつ収縮工程における収縮率が５％以上とすることが好ましい。
なお、本発明でいう収縮率とは、収縮方向における収縮前のフィルムの長さに対する収縮後のフィルムの収縮した長さの割合を意味する。
収縮率としては５〜４０％が好ましく、１０〜３０％が特に好ましい。

［透明フィルムの厚み］
本発明に用いる透明フィルムの厚みについては特に制限はない。一般的には、１０μｍ〜２００μｍが好ましく、２０μｍ〜１５０μｍがさらに好ましく、３０μｍ〜１００μｍがよりさらに好ましい。

［鹸化処理］
本発明に用いる透明フィルム(特に、透明セルロースアシレートフィルム)には、アルカリ鹸化処理を施してもよい。鹸化処理をすることにより、ポリビニルアルコールのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板の保護フィルムとして好ましく用いることができる。

アルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行うことが好ましい。前記アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられ、水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることが好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲にあることがさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲にあることが好ましく、４０〜７０℃の範囲にあることがさらに好ましい。

以下に実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下の具体例に制限されるものではない。
但し、実施例１〜４、７〜８、１１〜１３および実施例１’〜４’、７’〜８’、１１’〜１３’は参考例である。

１．高分子安定化ブルー相液晶表示素子の作製
液晶としてフッ素系混合液晶であるＪＣ１０４１−ＸＸ（チッソ）、４−ｃｙａｎｏ−４’−ｐｅｎｔｙｌｂｉｐｈｅｎｙｌ（５ＣＢ）（Ａｌｄｒｉｃｈ）及びカイラル剤としてＺＬＩ−４５７２（Ｍｅｒｃｋ）を加熱混合した。各比率は、３７．２／３７．２／５．６（ｍｏｌ％）とした。さらに、発現するＢＰの回折波長を３８０ｎｍ以下に制御するため、（ＪＣ１０４１−ＸＸ／５ＣＢ／ＺＬＩ−４５７２）混合液晶にカイラル剤ＣＢ１５（Ａｌｄｒｉｃｈ）を導入した。比率は、２０（ｍｏｌ％）とした。その混合液中に高分子ネットワークを形成させるための光重合性モノマーとして一官能性の２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ ａｃｒｙｌａｔｅ （ＥＨＡ） （Ａｌｄｒｉｃｈ）及び二官能性のＲＭ２５７ （Ｍｅｒｃｋ）を７対３の割合で混合し加えた。比率は６．５（ｍｏｌ％）とした。さらに、光重合開始剤として２，２−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｐｈｅｎｙｌａｃｅｔｏｐｈｅｎｏｎｅ（ＤＭＰＡＰ） （Ａｌｄｒｉｃｈ）を加えた。比率は０．３３（ｍｏｌ％）とした。以上のようにして混合液を調合した。

図３に示す電極構造を用い、電極間５０μｍの櫛歯型ＩＴＯ電極（ＩＴＯ電極抵抗値：１００Ω）を形成した厚み１．１ｍｍのガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ． Ｃｏ．，Ｌｔｄ．）と、電極を形成していない厚み１．１ｍｍのガラス基板を用いサンドイッチ型ガラスセルを作製した。セル厚はスペーサを介し２５μｍとした。
上記混合液を等方相の状態で、このガラスセル中に毛管現象を利用して注入した。調製した混合液において発現した液晶相は、高温側からＢＰＩＩ、ＢＰＩ及びカイラルネマチック相であった。

次に、光重合により高分子安定化ＢＰを調製した。偏光顕微鏡観察で観測されたＢＰ／Ｎ＊相転移温度から２Ｋ高温側で紫外光を照射した。照射様式は、ガラスセルの温度を複合系がＢＰＩを発現する温度領域で一定に保持し、照射強度１．５ｍＷｃｍ^-2（３６５ｎｍ）の紫外光を照射することで高分子安定化ブルー相を調製した。
調製した高分子安定化ＢＰの電界印加前後における偏光顕微鏡観察像を観察した。観察は２９３Ｋで行った。白状態の印加電界として、周波数１００ｋＨｚ、４．９Ｖμｍ^-1の正弦波交流電界を用いた。黒状態の電界無印加時、入射光の偏光状態は光学的に等方性である高分子安定化ＢＰを通過後も変化しないため偏光顕微鏡像は暗視野となった。電界印加後（ｂ）、電極間の高分子安定化ＢＰにレターデーションンが誘起されたことを示す透過光量の著しい増大が観測され、液晶表示装置として光スイッチングされていることが確認できた。以上のようにして高分子安定化ブルー相液晶表示素子を作製した。

なお、下記の実施例に利用した電極構造は図３に示す電極構造であるが、図４に示す電極構造を利用しても同様に光スイッチングが確認できた。
さらに、図５に示す電極構造および図８に示す電極構造を利用した例でも、同様に光スイッチングが確認できた。

２． 透明フィルム１の準備
市販のセルロースアセテートフィルム（フジタックＴＤ８０ＵＦ、富士フイルム（株）製、以下、「ＴＡＣフィルム」という）を透明フィルム１として用いた。光学特性は、
Ｒｅ（５５０）＝１ｎｍ、
Ｒｔｈ（５５０）＝３８ｎｍ、
Ｒｅ（４００）＝０．６ｎｍ、
Ｒｔｈ（４００）＝２２ｎｍ
Ｒｅ（７００）＝１．４ｎｍ
Ｒｔｈ（７００）＝４２ｎｍ、
｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜＝０．８ｎｍ、及び
｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜＝２０ｎｍであった。

３． 透明フィルム２の作製
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｄを調製した。
セルロースアセテート溶液Ｄ 組成
酢化度２．８６のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部

（マット剤溶液の調製）
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬＲ９７２、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。
この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。
マット剤溶液組成
平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ １０．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。光学異方性を低下させる化合物（光学異方性低下剤）および波長分散調整剤については下記表１に示すものを用いた。

添加剤溶液組成
化合物Ａ−１９（レターデーション低減剤） ４９．３質量部
ＵＶ−１０２（波長分散調整剤） ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ １２．８質量部

（セルロースアセテートフィルム試料２の作製）
上記セルロースアセテート溶液Ｄを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部を、それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。なお、添加化合物（化合物Ａ−１９及びＵＶ−１０２）の総量は、セルロースアセテートの量に対して、１３．６質量％であった。
残留溶剤量３０％でフィルムをバンドから剥離し、１４０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルム試料２を製造した。得られたセルロースアセテートフィルム試料２の残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。

作製したセルロースアセテートフィルム試料２は、
Ｒｅ（５５０）＝０．３ｎｍ、
Ｒｔｈ（５５０）＝３．２ｎｍ、
Ｒｅ（４００）＝１．４ｎｍ、
Ｒｔｈ（４００）＝−３．５ｎｍ
Ｒｅ（７００）＝０．２ｎｍ
Ｒｔｈ（７００）＝４ｎｍ、
｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜＝１．２ｎｍ、及び
｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜＝７．５ｎｍ
であった。
このセルロースアシレートフィルムを透明フィルム２として使用した。透明フィルム２は第１の透明フィルとしての特性を満足するフィルムである。

４． 透明フィルム３の作製
無水マレイン酸単位を含むアクリル系ポリマーＭＡ−２の調製：
特開２００７−１１３１０９号公報の［００５０］記載の「（ｂ）耐熱アクリル樹脂」に従い無水マレイン酸１０モル％、スチレン１６モル％、メタクリル酸メチル７４モル％の樹脂を合成した。このＴｇは１１２℃であった。

調製した前記アクリル系ポリマーＭＡ−２を９０℃の真空乾燥機で乾燥して含水率を０．０３％以下とした後、安定剤（イルガノックス１０１０（チバガイギ（株）製）０．３重量％添加し２３０℃において窒素気流中下、ベント付２軸混練押出し機を用い、水中に押出しストランド状にした後、裁断し直径３ｍｍ長さ５ｍｍのペレットを得た。
これらのペレットを９０℃の真空乾燥機で乾燥し含水率を０．０３％以下とした後、１軸混練押出し機を用い下記条件の温度で混練押出しした。この後、押し出し機とギアポンプの間に３００メッシュのスクリーンフィルターを設置した。この後、下記条件でギアポンプを通過させた後、濾過精度７μｍのリーフディスクフィルターを通し、ダイからメルトを押出し、下記条件でキャストした。なお、下記条件中の「ギアポンプ前後の差圧」とは前側圧力から後側圧力を差し引いたものであり、また「メルト着地点−タッチロール・キャストロール中点間のズレ」において、正はタッチロール側に、負はキャストロール側に着地したことを示す。
この後、３連のキャストロール上にメルト（溶融樹脂）を押出した。この時、最上流側のキャストロール（チルロール）に、下記条件に記載の面圧でタッチロールを接触させた。タッチロールは特開平１１−２３５７４７号公報の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの、但し薄肉金属外筒厚みは２ｍｍとした）を用い、Ｔｇ−５℃において、下記条件に記載のタッチ圧で使用した。なお、チルロールを含む３連のキャストロールの温度は、タッチロールと接触する最上流側のキャストロール（第１ロール）を、下記条件に記載の温度差（キャストロール温度−タッチロール温度）となるようにした。さらに、その次のキャストロール（第２ロール）は第１ロール−５℃、その次のキャストロール（第３ロール）は第１ロール−１０℃とした。
この後、巻き取り直前に両端（全幅の各５ｃｍ）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ２０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。また製膜幅１．５ｍとし、製膜速度３０ｍ／分で３０００ｍ巻き取った。製膜後の未延伸フィルムの厚みは６０μｍとした。
最上流側のキャストロールに下記条件に記載の面圧でタッチロールを接触させた。下記に、スクリュー温度差、吐出量、ギアポンプ前後の差圧、キャストロール上のメルトの表裏温度差、キャストロールとタッチロールの温度差、メルト着地点−タッチロール・キャストロール中点間のズレ、タッチロールのタッチ圧、製膜幅変動、製膜幅の変動、製膜幅の平均を示す。
（条件）
スクリュー温度差（出口−入口）：３０℃
吐出量：２００ｋｇ／ｈｒ
ギアポンプ前後の差圧（前−後）：−３ＭＰａ
キャストロール温度−タッチロール温度：−５℃
メルト着地点−タッチロール・キャストロール中間点のズレ：−３ｍｍ
タッチロールのタッチ圧：０．１ＭＰａ
製膜幅変動：６％
製膜幅平均値：２５ｍ

作製したアクリル系ポリマーフィルムの光学特性は、
Ｒｅ（５５０）＝２ｎｍ、
Ｒｔｈ（５５０）＝−２ｎｍ、
Ｒｅ（４００）＝２．１ｎｍ、
Ｒｔｈ（４００）＝−２．６ｎｍ
Ｒｅ（７００）＝１．９９ｎｍ
Ｒｔｈ（７００）＝−１．５ｎｍ、
｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜＝０．１１ｎｍ、及び
｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜＝１．１ｎｍ
であった。
このフィルムを透明フィルム３として使用した。透明フィルム３は第１の透明フィルとしての特性を満足するフィルムである。

５． 透明フィルム４の作製
（ポリマー溶液の調製）
・セルロースアシレートＡ：
置換度が２．９４のセルロースアセテートの粉体を用いた。セルロースアシレートＡの粘度平均重合度は３００、６位のアセチル基置換度は０．９４であった。
２）溶媒
下記の溶媒Ａを使用した。溶媒Ａの含水率は０．２質量％以下であった。
・溶媒Ａ ジクロロメタン／メタノール／ブタノール＝８３／１５／２（質量比）
３）添加剤
・添加剤Ａ
二酸化ケイ素微粒子（粒子サイズ２０ｎｍ、モース硬度約７）（０．０８質量部）
４）溶解
攪拌羽根を有し外周を冷却水が循環する４００リットルのステンレス製溶解タンクに、前記溶媒および添加剤を投入して撹拌、分散させながら、前記セルロースアシレートを徐々に添加した。投入完了後、室温にて２時間撹拌し、３時間膨潤させた後に再度撹拌を実施し、セルロースアシレート溶液を得た。

なお、攪拌には、１５ｍ／ｓｅｃ（剪断応力５×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²［４．９×１０⁵Ｎ／ｍ／ｓｅｃ²］）の周速で攪拌するディゾルバータイプの偏芯攪拌軸および中心軸にアンカー翼を有して周速１ｍ／ｓｅｃ（剪断応力１×１０⁴ｋｇｆ／ｍ／ｓｅｃ²［９．８×１０⁴Ｎ／ｍ／ｓｅｃ²］）で攪拌する攪拌軸を用いた。膨潤は、高速攪拌軸を停止し、アンカー翼を有する攪拌軸の周速を０．５ｍ／ｓｅｃとして実施した。
膨潤した溶液をタンクから、ジャケット付配管で５０℃まで加熱し、さらに２ＭＰａの加圧化で９０℃まで加熱し、完全溶解した。加熱時間は１５分であった。この際、高温にさらされるフィルター、ハウジング、および配管はハステロイ合金製で耐食性の優れたものを利用し保温加熱用の熱媒を流通させるジャケットを有する物を使用した。
次に３６℃まで温度を下げ、セルロースアシレート溶液を得た。

５）ろ過
得られたセルロースアシレート溶液を、絶対濾過精度１０μｍの濾紙（＃６３、東洋濾紙（株）製）で濾過し、さらに絶対濾過精度２．５μｍの金属焼結フィルター（ＦＨ０２５、ポール社製）にて濾過してポリマー溶液を得た。

（フィルムの作製）
前記セルロースアシレート溶液を３０℃に加温し、流延ギーサー（特開平１１−３１４２３３号公報に記載）を通して１５℃に設定したバンド長６０ｍの鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延スピードは５０ｍ／分、塗布幅は２００ｃｍとした。流延部全体の空間温度は、１５℃に設定した。そして、流延部の終点部から５０ｃｍ手前で、流延して回転してきたセルロースアシレートフィルムをバンドから剥ぎ取り、４５℃の乾燥風を送風した。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥して、セルロースアシレートの膜厚６５μｍの透明のフィルムを得た。

（予備延伸）
上記製膜したセルロースアシレートフィルムを、ロール延伸機を用いて縦一軸延伸処理を実施した。ロール延伸機のロールは表面を鏡面処理した誘導発熱ジャケットロールを用い、各ロールの温度は個別に調整できるようにした。延伸ゾーンはケーシングで覆い表１に記載の温度とした。延伸部の前のロールは徐々に１６０℃の延伸温度に加熱できるように設定した。延伸倍率は４０％とし、ニップロールの周速を調整することで制御した。縦横比（ニップロール間の距離／ベース入口幅）は０．５となるように調整し、延伸速度は延伸間距離に対して１０％／分とした。
フィルムの予備延伸倍率は、フィルムの搬送方向と直交する方向に一定間隔の標線を入れ、その間隔を熱処理前後で計測し、下記式から求めた。
フィルムの予備延伸倍率（％）＝１００×（熱処理後の標線の間隔−熱処理前の標線の間隔）／熱処理前の標線の間隔

（熱処理）
得られたフィルムの両端をテンタークリップで把持した後、２６０℃の加熱ゾーン内を通過させた。幅方向の寸法変化率は、テンターの拡縮率を変更することにより調整した。加熱ゾーンの温度、および前述の方法にしたがって求めた幅方向の寸法変化率は、−１２％であった。

（再延伸）
得られたフィルムの両端をテンタークリップで把持した後、加熱ゾーン内で搬送方向と直交する方向に延伸した。２６０℃の加熱ゾーン、およびテンターの延伸倍率は２％とした。なお、熱処理工程を用いた場合は、熱処理ゾーン入口にてテンタークリップで把持した後、テンタークリップを外すことなく、そのまま再延伸ゾーンに搬送した。

作製した透明フィルム４の光学特性は、Ｒｅ（５５０）＝１４０ｎｍ、及びＲｔｈ（５５０）＝−２ｎｍであった。

６． 透明フィルム４’の作製
透明フィルム４の作製において、流延ギーサーを調整することによりセルロースアシレートの膜厚を１２５μｍにした以外は同様の工程で透明フィルム４’を作製した。
作製した透明フィルム４’の光学特性はＲｅ（５５０）＝２８７ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝−８ｎｍであった。

７． 透明フィルム５の作製
環状オレフィン系樹脂（樹脂Ａ１）の合成：
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１^2,5．１^7,10］−
３−ドデセン（特定単量体）２５０部と、１−ヘキセン（分子量調節剤）１８部と、トルエン（開環重合反応用溶媒）７５０部とを窒素置換した反応容器に仕込み、この溶液を６０℃に加熱した。次いで、反応容器内の溶液に、重合触媒としてトリエチルアルミニウム（１．５モル／ｌ）のトルエン溶液０．６２部と、ｔ−ブタノールおよびメタノールで変性した六塩化タングステン（ｔ−ブタノール：メタノール：タングステン＝０．３５モル：０．３モル：１モル）のトルエン溶液（濃度０．０５モル／ｌ）３．７部とを添加し、この系を８０℃で３時間加熱攪拌することにより開環重合反応させて開環重合体溶液を得た。この重合反応における重合転化率は９７％であり、得られた開環重合体について、３０℃のクロロホルム中で測定した固有粘度（ηｉｎｈ）は０．７５ｄｌ／ｇであった。

このようにして得られた開環重合体溶液４，０００部をオートクレーブに仕込み、この開環重合体溶液に、ＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ₆Ｈ₅）₃］₃ ０．４８部を添加し、水素ガス圧１００ｋｇ／ｃｍ²、反応温度１６５℃の条件下で、３時間加熱攪拌して水素添加反応を行った。

得られた反応溶液（水素添加重合体溶液）を冷却した後、水素ガスを放圧した。この反応溶液を大量のメタノール中に注いで凝固物を分離回収し、これを乾燥して、水素添加重合体（以下、「樹脂Ａ１」という。）を得た。

樹脂フィルム（ａ１−１）の製造：
上記樹脂Ａ１をトルエンに３０％濃度（室温での溶液粘度は３０，０００ｍＰａ・ｓ）になるように溶解し、酸化防止剤としてペンタエリスリチルテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］を重合体１００重量部に対して０．１重量部を添加し、日本ポール製の孔径５μｍの金属繊維焼結フィルターを用い、差圧が０．４ＭＰａ以内に収まるように溶液の流速をコントロールしながら濾過した。
得られたポリマー溶液を、クラス１０００のクリーンルーム内に設置した井上金属工業製ＩＮＶＥＸラボコーターを用い、アクリル酸系で親水化（易接着性化）表面処理した厚さ１００μｍの基材のＰＥＴフィルム（東レ（株）製、ルミラーＵ９４）上に、乾燥後のフィルム厚みが２００μｍになるように塗布し、これを５０℃で一次乾燥の後、９０℃で二次乾燥を行った。ＰＥＴフィルムより剥がした樹脂フィルムを（ａ１−１）とした。得られたフィルムの残留溶媒量は０．５％であり、全光線透過率は９３％であった。

上記樹脂フィルム（ａ１−１）の表面に、延伸温度の１８０℃（Ｔｇ＋１０℃）で収縮率が３０％であるポリエステル製フィルムを、その収縮方向が延伸方向と垂直になるように粘着剤で貼付し、延伸速度３００％／分で２．０倍に延伸した。次いで、１５０℃（Ｔｇ−２０℃）の雰囲気下で１分間この状態を保持しながら冷却し、さらに室温まで冷却して取り出し、上記ポリエステル製フィルムを剥離して透明フィルム５を得た。

作製した透明フィルム５の光学特性はＲｅ（５５０）＝１２５ｎｍ、Ｒｔｈ（５５０）＝６０ｎｍであった。

８ 透明フィルム５’の作製
ＴＯＰＡＳ ＃６０１３のペレット（Ｔｇ＝１３６℃）を用いて、１１０℃において２時間以上乾燥し、１軸混練押出し機を用いて押出した。このとき押出し機とダイの間にスクリーンフィルター、ギアポンプ、リーフディスクフィルターをこの順に配置し、これらをメルト配管で連結した。これを押出し温度（吐出温度）２６０℃で幅１９００ｍｍ、リップギャップ１ｍｍのダイから押出した。
この後、チルロールとタッチロールの中央部に溶融樹脂を押出した。この時、チルロールは、幅２０００ｍｍ、直径４００ｍｍのＨＣｒメッキされた金属製ロールを用い、タッチロールは、幅１７００ｍｍ、直径３５０ｍｍの特開平１１−２３５７４７号公報の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの、但し薄肉金属外筒厚みは２ｍｍとした）を用いた。

これらのロールを用い、タッチロール及びチルロールの温度はともに、Ｔｇ−５℃とした。また、製膜の雰囲気は２５℃、６０％であった。
この後、巻き取り直前に両端（全幅の各５ｃｍ）をトリミングした後、両端に幅１０ｍｍ、高さ２０μｍの厚みだし加工（ナーリング）をつけた。また製膜幅は１５４０ｍｍとし、４５０ｍ巻き取った。
作製した環状オレフィン系ポリマーフィルムの光学特性は、
Ｒｅ（５５０）＝２ｎｍ、
Ｒｔｈ（５５０）＝４ｎｍ、
Ｒｅ（４００）＝２．３ｎｍ、
Ｒｔｈ（４００）＝４．５ｎｍ
Ｒｅ（７００）＝１．８ｎｍ
Ｒｔｈ（７００）＝３．５ｎｍ、
｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜＝０．５ｎｍ、及び
｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜＝１ｎｍ
であった。
このフィルムは第１の透明フィルとしての特性を満足するフィルムであった。このフィルムを透明フィルム５’として使用した。

９． 透明フィルム６の作製
透明フィルム５の表面をケン化後、下記の組成の配向膜塗布液を＃１４のワイヤーバーで連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、配向膜を形成した。
配向膜塗布液の組成
――――――――――――――――――――――――――
下記の変性ポリビニルアルコール １０質量部
水 ３７１質量部
メタノール １１９質量部
グルタルアルデヒド ０．５質量部
――――――――――――――――――――――――――

下記の組成の棒状液晶化合物を含む塗布液を、上記作製した配向膜上に＃４６のワイヤーバーで連続的に塗布した。フィルムの搬送速度は２０ｍ／ｍｉｎとした。室温から９０℃に連続的に加温する工程で溶媒を乾燥させ、その後、９０℃の乾燥ゾーンで９０秒間加熱し、棒状液晶性化合物を配向させた。続いて、フィルムの温度を６０℃に保持して、ＵＶ照射により液晶化合物の配向を固定化し光学異方性層を形成した。続いて、光学異方性層Ｂ１が形成された面の反対側のセルロースアセテートフィルム表面を連続的にケン化処理し、透明フィルム６を作製した。

棒状液晶化合物を含む塗布液（Ｓ１）の組成
――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記の棒状液晶性化合物（Ｉ） １００質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） ３質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） １質量部
下記のフッ素系ポリマー ０．４質量部
下記のピリジニム塩 １質量部
メチルエチルケトン １７２質量部
――――――――――――――――――――――――――――――――――――

作製した透明フィルム６から棒状液晶性化合物を含む光学異方性層のみを剥離し、光学特性を測定した。波長５５０ｎｍで測定した光学異方性層Ｂ１のみのＲｅ（０）は０ｎｍであった。一方、Ｒｔｈは−１３０ｎｍであった。棒状液晶分子がフィルム面に対して実質的に垂直に配向している光学異方性層が形成され、透明フィルム６を得た。

１０． 透明フィルム７の作製
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。該溶液を保留粒子径４μｍ、濾水時間３５秒の濾紙（Ｎｏ．６３、アドバンテック製）を５ｋｇ／ｃｍ²以下で用いてろ過した。

セルロースアセテート溶液組成
酢化度６０．９％のセルロースアセテート
（重合度３００、Ｍｎ／Ｍｗ＝１．５） １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ５４質量部
１−ブタノール（第３溶媒） １１質量部

別のミキシングタンクに、下記のレターデーションン上昇剤Ａを８質量部、レターデーションン上昇剤Ｂを１０質量部、二酸化珪素微粒子（平均粒径：０．１μｍ）０．２８質量部、メチレンクロライド８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーションン上昇剤溶液（かつ微粒子分散液）を調製した。セルロースアセテート溶液４７４質量部に該レターデーションン上昇剤溶液４０質量部を混合し、充分に攪拌してドープを調製した。

得られたドープを、バンド流延機を用いて流延した。残留溶剤量が１５質量％のフィルムを、１３０℃の条件で、テンターを用いて２０％の延伸倍率で横延伸し、延伸後の幅のまま５０℃で３０秒間保持した後クリップを外してセルロースアセテートフィルムを作製した。延伸終了時の残留溶媒量は５質量％であり、さらに乾燥して残留溶媒量を０．１質量％未満として透明フィルム７を作製した。

このようにして得られたフィルム７の厚さは８０μｍであった。作製したフィルムについて、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性を測定することによって、Ｒｅが７０ｎｍ、Ｒｔｈが１７５ｎｍであり、これからＮｚが３．０であることが分かった。

上記製作した透明フィルムの表面のケン化処理を行い、このフィルム上に市販の垂直配向膜（ＪＡＬＳ−２０４Ｒ、日本合成ゴム（株）製）をメチルエチルケトンで１：１に希釈したのち、ワイヤーバーコーターで２．４ｍＬ／ｍ²塗布した。直ちに、１２０℃の温風で１２０秒乾燥した。

次に、下記の棒状液晶化合物３．８ｇ、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）０．０６ｇ、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．０２ｇ、下記の空気界面側垂直配向剤０．００２ｇを９．２ｇのメチルエチルケトンに溶解した溶液を調製した。この溶液を前記配向膜を形成したフィルムの配向膜側に、＃３．６番手のワイヤーバーでそれぞれ塗布した。これを金属の枠に貼り付けて、１００℃の恒温槽中で２分間加熱し、棒状液晶化合物を配向させた。次に、８０℃で１２０Ｗ／ｃｍ高圧水銀灯により、２０秒間ＵＶ照射し棒状液晶化合物を架橋して、その後、室温まで放冷して位相差層を作製した。

自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、製作したフィルムのＲｅの光入射角度依存性を測定し、予め測定した支持体の寄与分を差し引くことによって、透明領域のみの光学特性を算出したところ、透明領域はＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−１８０ｎｍであり、いずれも棒状液晶が略垂直に配向していることを確認し、透明フィルム７を得た。

１１． 偏光板Ａ〜Ｌの作製
＜偏光板Ａの作製＞
延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨウ素を吸着させて偏光膜を製作し、市販の透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の両面に貼り付け偏光板Ａを形成した。
＜偏光板Ｂの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の透明フィルム２を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｂを形成した。
＜偏光板Ｃの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の透明フィルム３を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｃを形成した。
＜偏光板Ｄの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の透明フィルム４を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｄを形成した。
＜偏光板Ｅの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の透明フィルム４’を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｅを形成した。
＜偏光板Ｆの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の透明フィルム５を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｆを形成した。
＜偏光板Ｇの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記作製の透明フィルム６を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｇを形成した。
＜偏光板Ｈの作製＞
同様にして偏光膜を製作し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして前記製作の透明フィルム７を偏光膜のもう片面に貼り付け偏光板Ｈを形成した。
＜偏光板Ｉの作製＞
偏光板Ｇの作製において、透明フィルム６と偏光膜の間に透明フィルム１を貼り付けた以外は同様の構成で偏光板Ｉを形成した。
＜偏光板Ｊの作製＞
同様にして偏光膜を作製し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして透明フィルム８を偏光膜の他方の面に貼り付け偏光板Ｊを形成した。
＜偏光板Ｋの作製＞
同様にして偏光膜を作製し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして透明フィルム９を偏光膜の他方の面に貼り付け偏光板Ｋを形成した。
＜偏光板Ｌの作製＞
同様にして偏光膜を作製し、透明フィルム１にケン化処理を行い、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、偏光膜の片面に貼り付けた。さらに同様にして透明フィルム５’を偏光膜の他方の面に貼り付け偏光板Ｌを形成した。

［比較例１］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側にもう１枚の偏光板Ａを、透明フィルムが液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
［実施例１］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｂを、透明フィルムが液晶表示素子側になるように、且つ偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｂを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例２］
偏光板Ｂを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム２が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側にもう一枚の偏光板Ｂを、透明フィルム２が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
［実施例３］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｃを、透明フィルム３が液晶表示素子側になるように、且つ偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｃを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例４］
偏光板Ｃを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム３が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側にもう一枚の偏光板Ｃを、透明フィルム３が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｃとはクロスニ
コルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。

［比較例２］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側にもう一枚の偏光板Ｅを、透明フィルム４’が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ａを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例５］
偏光板Ｂを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム２が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｅを、透明フィルム４’が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｂを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例６］
偏光板Ｃを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム３が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｅを、透明フィルム４’が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｃとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｃを背面側、即ち光源側にして配置した。

［比較例３］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｇを、透明フィルム６が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ａを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例７］
偏光板Ｂを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム２が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｇを、透明フィルム６が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｂを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例８］
偏光板Ｃを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム３が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｇを、透明フィルム６が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｃとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｃを背面側、即ち光源側にして配置した。

［比較例４］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｈを、透明フィルムの塗布層が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作
製した。
なお、偏光板Ａを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例９］
偏光板Ｂを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム２が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｈを、透明フィルムの塗布層が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｂを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例１０］
偏光板Ｃを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、透明フィルム３が液晶表示素子側になるように、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｈを、透明フィルムの塗布層が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｃとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｃを背面側、即ち光源側にして配置した。

［比較例５］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｉを、透明フィルム６が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ａを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例１１］
偏光板Ｂを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｉを、透明フィルム６が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｂとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｂを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例１２］
偏光板Ｃを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｉを、透明フィルム６が液晶表示素子側になるように、且つ前記偏光板Ｃとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｃを背面側、即ち光源側にして配置した。
［実施例１３］
偏光板Ａを高分子安定化ブルー相液晶表示素子の一方に、かつ偏光膜の吸収軸と液晶表示素子内のくし歯電極の長辺方向が４５度となるように貼り付けた。続いて、この液晶表示素子のもう一方の側に偏光板Ｌを、透明フィルムが液晶表示素子側になるように、且つ偏光板Ａとはクロスニコルの配置になるように貼り付け、液晶表示装置を作製した。
なお、偏光板Ｌを背面側、即ち光源側にして配置した。

（評価）
実施例及び比較例の液晶表示装置のそれぞれを、白表示及び黒表示させ、正面方向（表示面に対して法線方向）の透過率を測定し、正面コントラストを計算した。
また、黒表示させ、一対の偏光板の互いに直交する吸収軸に対して方位方向４５°において法線方向からの傾き６０°方向における色味を、色彩輝度計（（株）トプコン製ＢＭ−５）を用いて測定し、黒色味変化量について評価した。ここで、黒色味変化量は法線方向からの傾き６０°方向で方位方向を０〜３６０°変化させたときに、色度ｕ'ｖ'のそれぞれの最小値、最大値から計算される距離と定義した。結果を下記表に示す。

上記結果から、実施例１〜４の液晶表示装置は、比較例１の液晶表示装置と比較して、黒表示の透過率が低く、正面コントラストが高く、黒色味変化量が小さいことが理解できる。この結果は、高分子安定化ブルー相液晶表示素子の下側に用いる透明フィルムの面内のレターデーションン（Ｒｅ）、厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）を小さくすることで、正面コントラストが高くなることを示している。さらにレターデーションンの波長依存性を最適な値に制御することにより、斜め方向の黒色味変化量が小さい液晶表示装置が得られることが理解できる。

さらに、実施例５〜１３の液晶表示装置は、比較例２〜５の液晶表示装置と比較して、正面コントラストが格段に高く、黒色味変化量が小さいことが理解できる。この結果も同様に、高分子安定化ブルー相液晶表示素子の下側に用いる透明フィルムの面内のレターデーション（Ｒｅ）、厚さ方向のレタデーション（Ｒｔｈ）を小さくすることで、正面コントラストが高くなることを示している。さらにレターデーションの波長依存性を最適な値に制御することにより、斜め方向の黒色味変化量が小さい液晶表示装置が得られることが理解できる。

上記実施例及び比較例では、光源としてＣＣＦＬを利用していたが、光源を白色ＬＥＤ直下型にかえて液晶表示装置をそれぞれ準備し、同様に評価した。

光源をＬＥＤにすると、黒透過率が低く、さらに正面コントラストが高くなることが確認できた。

同様に図４、図５及び図８に示す電極構造を利用して、同様に実施を行った結果、黒透過率が低く、正面コントラストが高く、黒色味変化量が小さいことが確認された。

１０、１２ 偏光膜
１０ａ、１２ａ 偏光膜の吸収軸
１４ 第２の透明フィルム
１６ 第１の透明フィルム
１８、２０ 透明フィルム
ＬＣ 液晶表示素子
ＰＬ１、ＰＬ２ 偏光板

Claims (11)

1. 光源、第１の偏光膜、第１の透明フィルム、一対の透明基板とその間に配置される高分子安定化ブルー相液晶とを有する液晶セル、第２の透明フィルム、及び第２の偏光膜がこの順に配置され、第１の透明フィルムの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の絶対値｜Ｒｅ（５５０）｜が１０ｎｍ以下であり、且つ同波長の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値｜Ｒｔｈ（５５０）｜が３０ｎｍ以下であり、第２の透明フィルムが、第２の偏光膜の保護フィルムであり、Ｒｅ（５５０）が２００〜３５０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が−８８〜８８ｎｍである二軸性フィルムからなる液晶表示装置。
2. 光源、第１の偏光膜、第１の透明フィルム、一対の透明基板とその間に配置される高分子安定化ブルー相液晶とを有する液晶セル、第２の透明フィルム、及び第２の偏光膜がこの順に配置され、第１の透明フィルムの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の絶対値｜Ｒｅ（５５０）｜が１０ｎｍ以下であり、且つ同波長の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値｜Ｒｔｈ（５５０）｜が３０ｎｍ以下であり、第２の透明フィルムが、Ｒｅ（５５０）が２０〜１２０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が１２５〜２２５ｎｍである二軸性フィルム、または、前記二軸性フィルムを含む、液晶表示装置。
3. 光源、第１の偏光膜、第１の透明フィルム、一対の透明基板とその間に配置される高分子安定化ブルー相液晶とを有する液晶セル、第２の透明フィルム、及び第２の偏光膜がこの順に配置され、第１の透明フィルムの波長５５０ｎｍの面内レターデーションＲｅ（５５０）の絶対値｜Ｒｅ（５５０）｜が１０ｎｍ以下であり、且つ同波長の厚み方向のレターデーションＲｔｈ（５５０）の絶対値｜Ｒｔｈ（５５０）｜が３０ｎｍ以下であり、第２の透明フィルムが、Ｒｅ（５５０）が６０〜２１０ｎｍ、且つＲｔｈ（５５０）が３０〜１０５ｎｍの一軸性フィルム、または、前記一軸性フィルムを含む、液晶表示装置。
4. 第１の透明フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が１０ｎｍ以下であり、及び｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が３５ｎｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
5. 第１の透明フィルムの｜Ｒｅ（４００）−Ｒｅ（７００）｜が５ｎｍ以下であり、｜Ｒｔｈ（４００）−Ｒｔｈ（７００）｜が１０ｎｍ以下である請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
6. 第１の透明フィルムが、セルロースアシレート系フィルムである請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
7. 第１の透明フィルムが、アクリル系ポリマーフィルムである請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
8. 第１の透明フィルムが、ラクトン環単位、無水マレイン酸単位、及びグルタル酸無水物単位から選ばれる少なくとも１種の単位を含むアクリル系ポリマーを含有するアクリル系ポリマーフィルムである請求項７に記載の液晶表示装置。
9. 第１の透明フィルムが、環状オレフィン系ポリマーフィルムからなる又は有する透明フィルムである請求項１〜５のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
10. 前記光源が、ＬＥＤ光源である請求項１〜９のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
11. 前記第１の透明フィルムが前記第１の偏光膜の保護フィルムである、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の液晶表示装置。

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