JP5114591B2 - 光学ポリマーフィルム、並びにそれを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は液晶表示装置に有用な光学ポリマーフィルム、さらにそれを用いた光学補償フィルム、偏光板などの光学材料および液晶表示装置に関するものである。

従来、セルロースアシレートフィルムはその強靭性と難燃性から写真用支持体や各種光学材料に用いられてきた。特に、近年は液晶表示装置用の光学透明フィルムとして多く用いられている。セルロースアシレートフィルムは、光学的に透明性が高いことと、光学的に等方性が高いことから、液晶表示装置のように偏光を取り扱う装置用の光学材料として優れており、これまで偏光子の保護フィルムや、斜め方向からの見た表示を良化（視野角補償）できる光学補償フィルムの支持体として用いられてきた。
液晶表示装置用の部材のひとつである偏光板には偏光子の少なくとも片側に偏光子の保護フィルムが貼合によって形成されている。一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素または二色性色素で染色することにより得られる。多くの場合、偏光子の保護フィルムとしてはＰＶＡに対して直接貼り合わせることができる、セルロースアシレートフィルム、なかでもトリアセチルセルロースフィルムが用いられている。偏光子の保護フィルムは、光学的等方性に優れることが重要であり、偏光子の保護フィルムの光学特性が偏光板の特性を大きく左右する。

最近の液晶表示装置においては、視野角特性の改善がより強く要求されるようになっており、偏光子の保護フィルムや光学補償フィルムの支持体などの光学的に透明なフィルムは、より光学的に等方性であることが求められている。光学的に等方性であるとは、光学フィルムの複屈折と厚みの積で表されるレターデーション値が小さいことが重要である。とりわけ、斜め方向からの表示良化のためには、正面方向のレターデーション（Ｒｅ）だけでなく、膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）を小さくする必要がある。具体的には光学透明フィルムの光学特性を評価した際に、フィルム正面から測定したＲｅが小さく、角度を変えて測定してもそのＲｅが変化しないことが要求される。

そこでセルロースアシレートフィルムの代わりにポリカーボネート系フィルムや熱可塑性シクロオレフィンフィルムを用いて、Ｒｅの角度変化の小さい光学透明フィルムの提案がされた（ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン社製）や、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ社製）など）。しかし、これらの光学透明フィルムは、偏光子の保護フィルムとして使用する場合、フィルムが疎水的なためにＰＶＡとの貼合性に問題がある。またフィルム面内全体の光学特性が不均一であることも問題である。

上記問題に対して、特許文献１ではＰＶＡへの貼合適正に優れるセルロースアシレートフィルムを、より光学的異方性を低下させて改良し、正面のＲｅをほぼゼロとし且つレターデーションの角度変化も小さい、すなわちＲｔｈもほぼゼロとした光学的に等方性である光学的に透明なフィルムが提案されている。

特開２００５−１５４７６４号公報

上記特許文献１に述べられているように、従来、偏光板保護フィルや光学補償フィルムの面内レターデーション（Ｒｅ）及び膜厚方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は共に０に近いほどよいと考えられている。しかしＩＰＳモード液晶表示装置においてはそのような偏光板保護フィルや光学補償フィルムを用いても、黒表示時の光漏れが完全には抑えられず、コントラストが十分に大きくならないという問題をかかえていた。また黒表示時の正面から見たときと斜め方向から見たときの色味変化も完全にはなくならないという問題があった。
すなわち、本発明の第一の課題は、ＩＰＳ液晶表示装置のコントラスト改良である。本発明の第二の課題は、ＩＰＳモード液晶表示装置における正面方向と斜め方向との色味変化の解消である。

本発明の発明者らは鋭意検討した結果、偏光板保護フィルムや光学補償フィルムのＲｔｈは０ｎｍ付近よりも、５ｎｍから３０ｎｍとすることにより、ＩＰＳ液晶表示装置のコントラストを大きくでき、さらに、正面方向と斜め方向との色味変化を小さくできることを見出した。具体的には以下の解決手段による。

〔１〕
ポリマーとしての環状ポリオレフィンを熱溶融製膜法により製膜してなり、
０≦Ｒｅ（６３０）≦１０であり、９≦Ｒｔｈ（６３０）≦１７であり、且つ
４８０から７５０ｎｍの全光波長領域において−１０≦Ｒｔｈ（λ）≦２０であることを特徴とする光学ポリマーフィルム［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］。
〔２〕
グロー放電表面処理後における純水との接触角が５０°未満であることを特徴とする請求項１に記載の光学ポリマーフィルム。
〔３〕
〔１〕又は〔２〕に記載の光学ポリマーフィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護膜として用いたことを特徴とする偏光板。
〔４〕
〔１〕又は〔２〕に記載の光学ポリマーフィルム、または〔３〕に記載の偏光板を少なくとも１枚用いたことを特徴とするＩＰＳモード液晶表示装置。
本発明は、上記〔１〕〜〔４〕に係る発明であるが、以下、それ以外の事項（例えば、下記（１）〜（８））についても記載している。
（１） ０≦Ｒｅ（６３０）≦１０且つ、５≦Ｒｔｈ（６３０）≦３０且つ、４８０から７５０ｎｍの全光波長領域において−１５≦Ｒｔｈ（λ）≦３３であることを特徴とする光学ポリマーフィルム［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］。

（２） ポリマーとして、全置換度が２．７８以上であり、且つアセチル基以外のアシル基置換度が０から１．０の範囲であるセルロースアシレートを使用することを特徴とする、（１）に記載の光学ポリマーフィルム。
（３） ポリマーとして、環状ポリオレフィンを使用することを特徴とする、（１）に記載の光学ポリマーフィルム。

（４） 膜厚さを８０μｍに換算したときのフィルムの透湿率が３５０から７００ｇ／ｍ^２／日であることを特徴とする、（１）から（３）のいずれかに記載の光学ポリマーフィルム。
（５） 弾性率が３から５ＭＰａであることを特徴とする、（１）から（４）のいずれかに記載の光学ポリマーフィルム。
（６） オクタノール・水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜１０である化合物の少なくとも１種を、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％の割合で含むことを特徴とする（１）から（５）のいずれかに記載の光学ポリマーフィルム。

（７） （１）から（６）のいずれかに記載の光学ポリマーフィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護膜として用いたことを特徴とする偏光板。
（８） （１）から（６）のいずれかに記載の光学ポリマーフィルム、または（７）の偏光板を少なくとも１枚用いたことを特徴とするＩＰＳモード液晶表示装置。

本発明の第一の効果は、ＩＰＳ液晶表示装置のコントラスト増大である。本発明の第二の効果は、ＩＰＳ液晶表示装置における正面方向と斜め方向との色味変化の減少である。

本発明の液晶表示装置の一例を示す概略図である。 本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。 本発明の液晶表示装置の一例を示す概略断面図である。

以下、本発明の具体的態様について詳細に説明する。以下の本発明の記述において、セルロースアシレート中の含有成分量、例えば残留硫酸量、微量金属成分量などは当業界の慣例に従ってセルロースアシレートに対する質量基準の「ｐｐｍ」によって記述するが、これはセルロースアシレートに対する「ｍｇ／ｋｇ」と同じである。

［レターデーション、Ｒｅ、Ｒｔｈ］
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。

測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。

上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（１）及び式（２）よりＲｔｈを算出することもできる。

式（１）におけるｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘ及びｎｙに直交する方向の屈折率を表す。

測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸
（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。

上記の測定において、平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート
（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本発明の光学ポリマーフィルムの光学的異方性、特に波長６３０ｎｍで測定した面内のレターデーションＲｅ（６３０）および厚さ方向のレターデーションＲｔｈ（６３０）は、下記式（Ｉ）または（ＩＩ）を満たす範囲である。

（Ｉ）０≦Ｒｅ（６３０）≦１０
（ＩＩ）５≦Ｒｔｈ（６３０）≦３０

上記式（Ｉ）、（ＩＩ）は
（Ｉ）０≦Ｒｅ（６３０）≦５
（ＩＩ）９≦Ｒｔｈ（６３０）≦１７であることが好ましい。

また本発明の光学ポリマーフィルムは、波長λが４８０から７５０ｎｍの全波長領域において、−１５≦Ｒｔｈ（λ）≦３３であり、−１０≦Ｒｔｈ（λ）≦２０であることが好ましい。
本発明の光学フィルムに好ましく使用できるポリマーは、非晶性で透明なポリマーである。特に好ましくはセルロースアシレート類及び環状ポリオレフィン類を用いることにより発生できる。
環状ポリオレフィンを使用する光学フィルムの場合は、一般的にＲｔｈ（４８０）の値、Ｒｔｈ（６３０）の値及びＲｔｈ（７５０）の値がほぼ同じになる。Ｒｔｈ（λ）はノルボルネン環の置換基の種類を変えることにより調整できる。

一方セルロースアシレートを使用する光学フィルムの場合は、一般的にＲｔｈ（４８０）＜Ｒｔｈ（６３０）＜Ｒｔｈ（７５０）である。従って可視域全体のＲｔｈ（λ）を調整すると同時にＲｔｈ（７５０）とＲｔｈ（４８０）との差を小さくする手段を同時にとる必要がある。全Ｒｔｈ（λ）の調整はセルロースアシレートのアシル置換度の調整により達成できる。またセルロースアシレートに添加する可塑剤、紫外線吸収剤やその他の添加剤の種類と量によって調整できる。Ｒｔｈ（７５０）とＲｔｈ（４８０）との差を小さくするには、ある種の紫外部に吸収をもつ化合物を添加することで達成できる。
以下に本発明の詳細な達成手段について述べる。

［ポリマー材料］
本発明の光学フィルムに好ましく使用できるポリマーは、非晶性で透明なポリマーである。特に好ましくはセルロースアシレート類及び環状ポリオレフィン類である。

＜環状ポリオレフィン＞
環状オレフィン構造を有する重合体樹脂の例には、（１）ノルボルネン系重合体、（２）単環の環状オレフィンの重合体、（３）環状共役ジエンの重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及び（１）〜（４）の水素化物などがある。

本発明に好ましい重合体は下記一般式（Ｉ）で表される繰り返し単位と一般式（ＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種類以上含む共重合体環状ポリオレフィン及び、一般式（ＩＩ）あるいは（ＩＩＩ）で表される環状繰り返し単位を少なくとも１種含む開環（共）重合体あるいは付加（共）重合体である。

式中、ｍは０〜４の整数を表す。Ｒ^１〜Ｒ^６は水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｘ^１〜Ｘ^３、Ｙ^１〜Ｙ^３は水素原子、炭素数１〜１０の炭化水素基、ハロゲン原子、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、−（ＣＨ_２）_ｎＣＯＯＲ^１１、−（ＣＨ_２）_ｎＯＯＣＲ^１２、−（ＣＨ_２）_ｎＮＣＯ、−（ＣＨ_２）_ｎＮＯ_２、−（ＣＨ_２）_ｎＣＮ、−（ＣＨ_２）_ｎＣＯＮＲ^１３Ｒ^１４、−（ＣＨ_２）_ｎＮＲ^１３Ｒ^１４、−（ＣＨ_２）_ｎＯＣＯＺ、−（ＣＨ_２）_ｎＯＺ、−（ＣＨ_２）_ｎＷ、または、Ｘ^１とＹ^１、Ｘ^２とＹ^２もしくはＸ^３とＹ^３から構成された、（−ＣＯ）_２Ｏもしくは（−ＣＯ）_２ＮＲ^１５を示す。なお、Ｒ^１１，Ｒ^１２，Ｒ^１３，Ｒ^１４，Ｒ^１５は炭素数１〜２０の炭化水素基、Ｚは炭化水素基またはハロゲンで置換された炭化水素基、ＷはＳｉＲ^１６ _ｐＤ_３−ｐ（Ｒ^１６は炭素数１〜１０の炭化水素基、Ｄはハロゲン原子−ＯＣＯＲ^１６または−ＯＲ^１６、ｐは０〜３の整数を示す）、ｎは０〜１０の整数を示す。

Ｘ^１〜Ｘ^３、Ｙ^１〜Ｙ^３の置換基に分極性の大きい官能基を導入することにより、光学フィルムの厚さ方向レターデーション（Ｒｔｈ）を大きくしたり、面内レターデーション（Ｒｅ）の発現性を大きくすることが出来る。Ｒｅ発現性の大きなフィルムは、製膜過程で延伸することによりＲｅ値を大きくすることができる。

ノルボルネン系重合体水素化物は、特開平１−２４０５１７号、特開平７−１９６７３６号、特開昭６０−２６０２４号あるいは特開昭６２−１９８０１号、ＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号等に開示されているように、多環状不飽和化合物を付加重合したり、メタセシス開環重合したのち水素添加することにより作られる。本発明に用いるノルボルネン系重合体において、Ｒ^５〜Ｒ^６は水素原子又は−ＣＨ_３ が好ましく、Ｘ^３、及びＹ^３ は水素原子、Ｃｌ、−ＣＯＯＣＨ_３ が好ましく、その他の基は適宜選択される。このノルボルネン系樹脂は、ＪＳＲ（株）からアートン（Ａｒｔｏｎ）ＧあるいはアートンＦという商品名で発売されており、また日本ゼオン（株）からゼオノア（Ｚｅｏｎｏｒ）ＺＦ１４、ＺＦ１６、ゼオネックス（Ｚｅｏｎｅｘ）２５０あるいはゼオネックス２８０という商品名で市販されており、これらを使用することができる。

ノルボルネン系付加（共）重合体は、特開平１０−７７３２号、特表２００２−５０４１８４号あるいは、ＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号等に開示されている。ノルボルネン系多環状不飽和化合物同士を付加重合したり、ノルボルネン系多環状不飽和化合物と、エチレン、プロピレン、ブテン；ブタジエン、イソプレンのような共役ジエン；エチリデンノルボルネンのような非共役ジエン；アクリロニトリル、アクリル酸、メタアクリル酸、無水マレイン酸、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、マレイミド、酢酸ビニル、塩化ビニルなどの線状ジエン化合物とを付加重合してつくられる。このノルボルネン系付加（共）重合体は、三井化学（株）よりアペルの商品名で発売されており、ガラス転移温度（Ｔｇ）の異なる例えばＡＰＬ８００８Ｔ（Ｔｇ７０℃）、ＡＰＬ６０１３Ｔ（Ｔｇ１２５℃）あるいはＡＰＬ６０１５Ｔ（Ｔｇ１４５℃）などのグレードがある。またポリプラスチック（株）よりＴＯＰＡＳ８００７、同６０１３、同６０１５などのペレットが発売されている。

＜セルロースアシレート類＞
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に見られる。

（セルロースアシレート置換度、平均酢化度）
次に上述のセルロースを原料に製造される本発明のセルロースアシレートについて記載する。本発明のセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたものである。アシル基としては炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度あるいは平均酢化度を得ることができる。その測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。

セルロースアシレートの平均置換度の理論的な上限値は３．００であるが、平均置換度の値は３．００にできるだけ近く高い値をとることが望ましい。置換度の高い綿を用いることで、光学的異方性ＲｅをゼロかつＲｔｈを小さくなるようにすることができ、フィルム面内および膜厚方向に配向するのを抑制する化合物の添加量を低減できるようになる。セルロースアシレートがセルロースアセテートの場合は、セルロースの水酸基へのアセチル置換度が２．７８〜３．００であることが望ましい。置換度が小さいと好ましいＲｅレターデーション及びＲｔｈレターデーションを得ることが難しくなる。アセチル置換度は２．８３〜２．９７であることが更に望ましく、２．８７〜２．９３であることが特に望ましい。置換度が３．００に近づけば近づくほど、セルロースアセテートの溶剤に対する溶解性は悪くなる傾向がある。

セルロースの水酸基に置換する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族アシル基でもアリルアシル基でもよく特に限定されず、セルロースユニットへの置換形態では、単一アシル基でも２種類以上のアシル基の混合エステルでもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、へプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、ｉｓｏ−ブタノイル、ｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルの各基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどの各基が好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。

上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２．７０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．７８〜３．００であり、さらに望ましくは２．８３〜２．９７である。またその時、アセチル基以外のアシル基の好ましい置換度は０〜１．００であり、より好ましくは０．５０〜１．００であり、特に好ましくは０．６０〜０．９０である。

（セルロースアシレートの粘度特性）
セルロースアシレートの固有粘度特性は「６％粘度値」で表される。６％粘度は、メチレンクロライドとメタノールの質量比率９１対９の混合溶媒にセルロースアシレートを６質量％溶解し、オストワルド粘度計を用いて２５℃における流下時間を測定し、次式により６％粘度を算出する。

６％粘度（ｍＰａ・ｓ）＝流下時間（秒）×粘度計係数

「粘度計係数」は粘度計較正用標準液を用いて、上記溶液と同様の操作で流下秒数を測定して求める。
ここに、「粘度計係数＝標準液の絶対粘度（ｃｐｓ）×溶液の密度（１．２３５ｇ／ｃｍ^３）／標準液の密度（ｇ／ｃｍ^３）／標準液の流下時間（秒）」である。

本発明で好ましい６％粘度値は２６０から７００である。６％粘度値が２６０以上において、製膜時加圧ダイの内圧を十分に高く設定でき、幅方向に均一に押し出すことができ、好ましい。６％粘度値が７００以下において、セルロースアシレート溶液をろ過する際に適切な過圧力によってろ過することができ、好ましい。６％粘度値は３００から５００が更に好ましく、３５０から４７０が特に好ましい。

（重合度）
セルロースアシレートの粘度平均重合度（ＤＰ）は、２５０以上であることが好ましく、２９０以上であることがさらに好ましい。重合度が２５０未満のセルロースアシレートでは、得られるフィルムの強度が悪化する。粘度平均重合度は、オストワルド粘度計にて測定したセルロースアシレートの固有粘度［η］から、下記の式により求める。

（１） ＤＰ＝［η］／Ｋｍ
式中、［η］は、セルロースアシレートの固有粘度であり、Ｋｍは、定数６×１０^−４である。

粘度平均重合度（ＤＰ）が２９０以上である場合、粘度平均重合度と落球式粘度法による濃厚溶液粘度（η）とが下記式（２）の関係を満足することが好ましい。

（２）２．８１４×ｌｎ（ＤＰ）−１１．７５３≦ｌｎ（η）≦６．２９×ｌｎ（ＤＰ）−３１．４６９
式中、ＤＰは２９０以上の粘度平均重合度の値であり、ηは落球式粘度法における標線間の通過時間（秒）である。

上記式（２）は、本発明者が行なった実験のデータから、粘度平均重合度と濃厚溶液粘度をプロットし、その結果から算出したものである。粘度平均重合度が２９０以上のセルロースアシレートにおいては、一般に重合度が高くなると濃厚溶液の粘度が指数的に増加する。これに対して、上記式を満足するセルロースアシレートでは、粘度平均重合度に対する濃厚溶液粘度の増加が直線的である。言い換えると、高い粘度平均重合度を有するセルロースアシレートの場合は、上記式（１）を満足するように濃厚溶液粘度の増加を抑制することが好ましい。

（平均分子量）
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価される。数平均分子量Ｍｎの好ましい範囲は５万から１５万であり、より好ましくは７万から１２万である。重量平均分子量Ｍｗの好ましい範囲は１３万から３６万であり、より好ましくは２０万から３１万である。その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、２．０〜４．０であることが好ましく、２．３〜３．４であることがさらに好ましい。Ｍｗ／Ｍｎが小さすぎるとセルロースアシレート溶液の粘度が小さくなり、大きすぎると低分子成分が溶出しやすくなったり溶液粘度が大きくなったりして、いずれも好ましくない。Ｚ平均分子量Ｍｚの好ましい範囲は１９万から８０万であり、より好ましくは４０万から６５万である。

低分子成分を除去すると、平均分子量（重合度）が高くなる。しかし同じ平均分子量同士のセルロースアシレート同士で比較すると、低分子成分を除去したものの方が、溶液にしたときの粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。

（含水率）
本発明のセルロースアシレートの製造においては、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特には０．７質量％以下の含水率を有するセルロースアシレートである。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており２．５〜５質量％が知られている。本発明でこのセルロースアシレートの含水率にするためには、乾燥することが必要であり、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。本発明のこれらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

（形状）
本発明に用いるセルロースアシレートの粉黛特性は、通常のものであれば特に問題ない。好ましい安息角は２０度以上５０度以下であり、２５度以上４５度以下が更に好ましい。好ましい嵩密度は０．３ｇ／ｃｍ^３以上０．７５ｇ／ｃｍ^３以下であり、０．４ｇ／ｃｍ^３以上０．６５ｇ／ｃｍ^３以下が更に好ましい。粒子サイズは０．０１から１０ｍｍが好ましく、０．１から４ｍｍが更に好ましい。このような範囲の粉黛であれば、セルロースアシレートのハンドリングに問題を生ぜず、風送、自動計量など自動仕込みができる。

（含有元素）
通常、セルロースアシレート合成過程で使用する硫酸、酢酸、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウムなどがそのままあるいはセルロースアシレートと反応した形で残留している。また不純物として鉄イオンの混入も知られている。本発明においてセルロースアシレートに残留している上記諸物質の含有量の好ましい範囲は、硫酸量は３０から１５０ｐｐｍであり、カルシウムは１０から１２０ｐｐｍであり、マグネシウムは０．１から２０ｐｐｍであり、鉄は３ｐｐｍ以下である。また遊離酢酸は０．０１から０．２％である。

本発明に用いるセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

［添加剤］
本発明では、環状ポリオレフィンフィルムあるいはセルロースアシレートフィルムに、各製造工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができる。これらについて以下に説明する。

＜Ｒｔｈを低下させる化合物＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、フィルム膜厚方向のレターデーションＲｔｈを低下させる化合物（以下、Ｒｔｈ低下剤ともいう）の少なくとも１種を、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーに対して０．０１〜３０質量％含むことが望ましい。

より望ましくは、Ｒｔｈ低下剤を下記数式（３）及び（４）を満たす範囲で含有することが望ましい。
数式（３）：（Ｒｔｈ_Ａ−Ｒｔｈ_０）／Ａ≦−１．０
数式（４）：０．０１≦Ａ≦３０

上記数式（３）、（４）において、さらに望ましくは、
数式（３−１）：（Ｒｔｈ_Ａ−Ｒｔｈ_０）／Ａ≦−２．０
数式（４−１）：０．０５≦Ａ≦２５であり、特に望ましくは、
数式（３−２）：（Ｒｔｈ_Ａ−Ｒｔｈ_０）／Ａ≦−３．０
数式（４−２）：０．１≦Ａ≦２０である。

ここで、Ｒｔｈ_ＡはＲｔｈを低下させる化合物をＡ％含有したフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ_０はＲｔｈを低下させる化合物を含有しないフィルムのＲｔｈ（ｎｍ）、Ａはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。

（Ｒｔｈ低下剤の構造的特徴）
セルロースアシレートフィルムのＲｔｈ低下剤について説明する。
光学異方性を十分に低下させ、Ｒｅ、Ｒｔｈがともにゼロに近くなるようにするためには、フィルム中のセルロースアシレートが、正面方向及び膜厚方向に配向するのを抑制する化合物を用いることが好ましい。また、光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

（ＬｏｇＰ値）
本発明のセルロースアシレートフィルムを作製するに当たっては、上記のように、フィルム中のセルロースアシレートが面内及び膜厚方向に配向するのを抑制してＲｔｈ低下剤のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を選択することが好ましい。ｌｏｇＰ値が７以下の化合物であれば、セルロースアシレートとの相溶性に優れ、フィルムの白濁や粉吹きなどの不都合を生じない。またｌｏｇＰ値が０以上の化合物は、親水性が高くなりすぎることがなく、セルロースアシレートフィルムの耐水性を悪化させるなどの問題が生じないので好ましい。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。

オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ Ｚ−７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ震盪法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は、実測に代わって、計算化学的手法又は経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２７巻、ｐ．２１（１９８７年）｝、Ｖｉｓｗａｎａｄｈａｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｉｎｆ．ｃｏｍｐｕｔ．Ｓｃｉ．”，２９巻、ｐ．１６３（１９８９年）｝、Ｂｒｏｔｏ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法｛“Ｅｕｒ．Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．−Ｃｈｉｍ．Ｔｈｅｏｒ．”，１９巻、ｐ．７１（１９８４年）｝などが好ましく用いられるが、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が、測定方法又は計算方法により異なる場合に、該化合物が前記範囲内であるかどうかは、Ｃｒｉｐｐｅｎ’ｓ ｆｒａｇｍｅｎｔａｔｉｏｎ法により判断するものとする。

（Ｒｔｈ低下剤の物性）
Ｒｔｈ低下剤は、芳香族基を含有してもよいし、含有しなくてもよい。またＲｔｈ低下剤は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることが好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であってもよいし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でもよい。

Ｒｔｈ低下剤は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。またＲｔｈ低下剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

Ｒｔｈ低下剤の添加量は、セルロースアシレートの０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。
Ｒｔｈ低下剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。Ｒｔｈ低下剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

このようなＲｔｈ低下剤としては、下記の一般式（１）で表される化合物が好ましい。

上記一般式（１）において、Ｒ^１１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^１２及びＲ^１３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。また、Ｒ^１１、Ｒ^１２及びＲ^１３の炭素原子数の総和は１０以上であることが特に好ましく、またこれらのアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基及びスルホンアミド基が特に好ましい。

アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔ−ブチル、アミル、イソアミル、ｔ−アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、オクチル、ビシクロオクチル、ノニル、アダマンチル、デシル、ｔ−オクチル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、ノナデシル、ジデシルなど）が特に好ましい。

アリール基としては、炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル、ビフェニル、テルフェニル、ナフチル、ビナフチル、トリフェニルフェニルなど）が特に好ましい。一般式（１）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

Ｒｔｈ低下剤としては、また下記の一般式（２）で表される化合物を例示することができる。

上記一般式（２）において、Ｒ^２１はアルキル基又はアリール基を表し、Ｒ^２２及びＲ^２３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。ここで、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数が１〜２０のものが好ましく、１〜１５のものがさらに好ましく、１〜１２のものが最も好ましい。環状のアルキル基としては、シクロヘキシル基が特に好ましい。アリール基は炭素原子数が６〜３６のものが好ましく、６〜２４のものがより好ましい。さらに、Ｒ^２１及びＲ^２２の炭素原子数の総和は１０以上であることが好ましく、それぞれ、アルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよい。

上記のアルキル基及びアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としてはハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、フッ素及びヨウ素など）、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アシルオキシ基、スルホニルアミノ基、ヒドロキシ基、シアノ基、アミノ基及びアシルアミノ基が好ましく、より好ましくはハロゲン原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基であり、特に好ましくはアルキル基、アリール基、スルホニルアミノ基及びアシルアミノ基である。

以下に、一般式（２）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

＜波長分散調整剤＞
本発明のセルロースアシレートフィルムは、そのフィルムの｜Ｒｅ_４５０−Ｒｅ_７８０｜及び｜Ｒｔｈ_４８０−Ｒｔｈ_７５０｜を低下させる化合物、すなわちレターデーションの波長分散を低下させる化合物（以下、波長分散調整剤ともいう）を少なくとも１種、セルロースアシレートフィルム原料ポリマーの固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことが好ましい。以下、波長分散調整剤について説明する。

本発明のセルロースアシレートフィルムの、Ｒｔｈの波長分散を良化させるためには、下記数式（６）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈを低下させる化合物（波長分散調整剤）を、下記数式（７）及び（８）を満たす範囲で少なくとも１種含有することが望ましい。

数式（６）：ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ_４８０−Ｒｔｈ_７５０｜
数式（７）：（ΔＲｔｈ_Ｂ−ΔＲｔｈ_０）／Ｂ≦−２．０
数式（８）：０．０１≦Ｂ≦３０

上記数式（７）及び（８）において、より望ましくは、
数式（７−２）：（ΔＲｔｈ_Ｂ−ΔＲｔｈ_０）／Ｂ≦−３．０
数式（８−２）：０．０５≦Ｂ≦２５であり、さらに望ましくは、
数式（７−３）：（ΔＲｔｈ_Ｂ−ΔＲｔｈ_０）／Ｂ≦−４．０
数式（８−３）：０．１≦Ｂ≦２０である。

ここでΔＲｔｈ_Ｂは、波長分散調整剤をＢ質量％含有したフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｒｔｈ_０は波長分散調整剤を含有しないフィルムのΔＲｔｈ（ｎｍ）、Ｂはフィルム原料ポリマーの質量を１００としたときの波長分散調整剤の質量（％）である。

（波長分散調整剤の添加方法）
これら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

ベンゾトリアゾール系化合物としては、下記一般式（３）で示されるものが本発明における波長分散調整剤として好ましく用いられる。

一般式（３）：Ｑ^３１−Ｑ^３２−ＯＨ
（式中、Ｑ^３１は含窒素芳香族ヘテロ環、Ｑ^３２は芳香族環を表す。）

Ｑ^３１は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。

Ｑ^３１で表される含窒素芳香族ヘテロ環は、更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。

Ｑ^３２で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。最も好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として、好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^３２で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ^３２は更に置換基を有してもよく、下記の置換基Ｔが好ましい。

置換基Ｔとしては、例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉ−プロピル、ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる）、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げられる）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニルなどが挙げられる）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオキシなどが挙げられる）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノなどが挙げられる）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、トシルなどが挙げられる）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（３）として、好ましくは下記一般式（３−１）で表される化合物が挙げられる。

上記一般式（３−１）において、Ｒ^３１、Ｒ^３２、Ｒ^３３、Ｒ^３４、Ｒ^３５、Ｒ^３６、Ｒ^３７及びＲ^３８は、それぞれ独立に水素原子又は置換基を表し、置換基としては上記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ^３１及びＲ^３３として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又は炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ^３２、及びＲ^３４として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又は炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子又はメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^３５及びＲ^３８として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又は炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子又はメチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^３６及びＲ^３７として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換若しくは無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基又はハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又はハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子又はハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子又は塩素原子である。

一般式（３）として、より好ましくは下記一般式（３−２）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^３１、Ｒ^３３、Ｒ^３６及びＲ^３７は、各々上記一般式（３−１）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。

以下に一般式（３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以上のものが、本発明のセルロースアシレートフィルムを作製した場合に、保留性の点で有利であることが確認された。

また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（４）で示されるものが好ましく用いられる。

式中、Ｑ^４１及びＱ^４２は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ^４１はＮＲ^４１（Ｒ^４１は水素原子又は置換基を表す）、酸素原子又は硫黄原子を表す。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族環は、芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族ヘテロ環として、好ましくは酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のどれか１つを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^４１及びＱ^４２で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換又は無置換のベンゼン環である。

Ｑ^４１及びＱ^４２は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸、スルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

Ｘ^４１は、ＮＲ^４２（Ｒ^４２は水素原子又は置換基を表す。置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる）、酸素原子又は硫黄原子を表し、Ｘ^４１として好ましくは、ＮＲ^４２
（Ｒ^４２として好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい）、又は酸素であり、特に好ましくは酸素である。

一般式（４）として、好ましくは下記一般式（４−１）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^４１１、Ｒ^４１２、Ｒ^４１３、Ｒ^４１４、Ｒ^４１５、Ｒ^４１６、Ｒ^４１７、Ｒ^４１８及びＲ^４１９は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は、更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ^４１１、Ｒ^４１３、Ｒ^４１４、Ｒ^４１５、Ｒ^４１６、Ｒ^４１８及びＲ^４１９として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^４１２として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ^４１７として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（４）として、より好ましくは下記一般式（４−２）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^４２０は水素原子、置換又は無置換のアルキル基、置換又は無置換のアルケニル基、置換又は無置換のアルキニル基、置換又は無置換のアリール基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。Ｒ^４２０として、好ましくは置換又は無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換又は無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換又は無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換又は無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（４）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。

以下に一般式（４）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また本発明に用いられる波長分散調整剤の１つであるシアノ基を含む化合物としては一般式（５）で示されるものが好ましく用いられる。

式中、Ｑ^５１及びＱ^５２は、それぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ^５１及びＸ^５２は水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｑ^５１及びＱ^５２で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として、好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環など）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として、好ましくは窒素原子又は硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^５１及びＱ^５２で表される芳香族環として、好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。Ｑ^５１及びＱ^５２は更に置換基を有してもよく、前記の置換基Ｔが好ましい。

Ｘ^５１及びＸ^５２は、水素原子又は置換基を表し、少なくともどちらか１つは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ^５１及びＸ^５２で表される置換基は、前記の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ^５１及びＸ^５２はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ^５１及びＸ^５２は、それぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ^５１及びＸ^５２として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^５１（Ｒ^５１は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（５）として、好ましくは下記一般式（５−１）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１３、Ｒ^５１４、Ｒ^５１５、Ｒ^５１６、Ｒ^５１７、Ｒ^５１８、Ｒ^５１９及びＲ^５２０は、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表し、置換基としては前記の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。Ｘ^５１１及びＸ^５１２は、それぞれ前記一般式（５）におけるＸ^５１及びＸ^５２と同義である。

Ｒ^５１１、Ｒ^５１２、Ｒ^５１４、Ｒ^５１５、Ｒ^５１６、Ｒ^５１７、Ｒ^５１９及びＲ^５２０として好ましくは、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^５１３及びＲ^５１８として、好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換又は無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

一般式（５）として、より好ましくは下記一般式（５−２）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^５１３及びＲ^５１８は一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ^５１３は水素原子又は置換基を表し、置換基としては、前記の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。

Ｘ^５１３として、好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基｛−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ^５２
（Ｒ^５２は、炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基及びこれらを組み合せたもの）｝である。

一般式（５）として、更に好ましくは一般式（５−３）で表される化合物が挙げられる。

式中、Ｒ^５１３及びＲ^５１８は、一般式（５−１）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ^５２は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。Ｒ^５２として、好ましくは、Ｒ^５１３及びＲ^５１８が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ^５２として、Ｒ^５１３及びＲ^５１８が水素以外の場合には、好ましくは一般式（５−３）で表される化合物の分子量が３００以上になり、且つ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

本発明において、一般式（５）で表される化合物は、“Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．”，６３巻、３４５２頁（１９４１年）記載の方法によって合成できる。

以下に一般式（５）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

＜マット剤微粒子＞
本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有する光学フィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。熱溶融製膜の場合は、あらかじめ微粒子が分散されたポリマーペレットを作成しておき、製膜時に微粒子含有ペレットと通常のペレットを適宜混合する方法が行われる。

溶液製膜の場合は、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のポリマー溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのポリマードープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のポリマーを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なポリマードープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ^２あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、光学フィルムの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

＜可塑剤、劣化防止剤、剥離剤＞
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、セルロースアシレートを用いる本発明の光学フィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、本発明の光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。

［化合物添加の比率］
本発明の光学フィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、ポリマー重量に対して２〜４５％であることが望ましい。より好ましくは４〜３０％であり、さらに望ましくは８〜２０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤などであり、分子量としては３０００以下が望ましく、２０００以下がより望ましく、１０００以下がさらに望ましい。これら化合物の総量が４５％以上であると、光学フィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し）などの問題が生じやすくなる。

［溶液製膜用有機溶媒］
本発明では、ソルベントキャスト法により光学フィルムを好ましく製造できる。この場いいポリマーを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムは製造される。本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が５〜１２の線状炭化水素、環状炭化水素あるいは芳香族炭化水素及びそれらの誘導体、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

溶媒の選定においては主溶媒以外に使用する、いわゆる非溶媒あるいは貧溶媒とも称される、単独ではポリマーを溶解しない補助溶剤の選定が重要である。好ましい補助溶剤の一例はアルコール類である。特に炭素数が１から５のアルコール類が好ましい。補助溶剤の全溶剤中の割合は３から３０質量％が好ましく、８から２０質量％が更に好ましい。補助溶剤の添加により、金属支持体からの剥離性の改善やフィルム厚さの均一化及び平滑化などの効果が得られる。

［溶液製膜法による光学フィルムの製造工程］
（溶解工程）
本発明のポリマーの溶解は、室温撹拌だけでなく、冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施することが好ましい。本発明におけるポリマー溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が使用可能である。

本発明で好ましい溶解方法の一例である加圧高温溶解について簡単に記す。ポリマーを溶剤中に投入し、常圧１０〜３５℃で２０〜１８０分間撹拌した後、この溶液をギアポンプで熱交換器に送り６０℃以上に加熱加圧し完全溶液化し、更に冷却熱交換機で室温まで冷却する方法である。加熱温度は６０〜１２０℃が好ましく、７０〜１００℃が更に好ましい。その際溶解温度における溶剤の蒸気圧分の圧力がかかる。加熱時間は１分以上が必要であり、３０分も加熱すれば十分である。好ましくは４分〜１５分間加熱する。溶液中のポリマーの濃度は１５〜３５質量％が好ましく、１６〜２７質量％が更に好ましい。濃度を高くすると溶解が難しくなり、濃度が低いと粘度が低くて流延が難しくなったり、濃縮に負担がかかったりして好ましくない。従って１７〜２３質量％が特に好ましい。

高濃度溶解が難しいポリマーは、最適濃度よりも低い濃度でポリマーを溶解し、その後１．１〜１．５倍に濃縮し、ポリマー濃度を所望の範囲にすることもできる。ポリマー濃度濃縮の方法は特に限定されない。具体的な濃縮方法の一例はフラッシュ濃縮法である。米国特許公報４，５０４，３５５に記されているように、加熱したポリマー溶液を減圧容器の中に細いノズルから噴出すことにより、瞬間的に溶剤を蒸発させて濃縮液を得る方法である。

流延に先立って金網やネルなどの適当なろ材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などを除去しておく。ポリマー溶液のろ過は絶対ろ過精度が１から１００μｍのフィルターが用いられる。ろ過はろ過精度の大きなフィルターから複数段に渡って順次細かなフィルターでろ過してもよい。好ましい最終段階のろ材のろ過精度は１から５０μｍである。３から２０μｍろ材が更に好ましい。ろ過圧力は１．６ＭＰａ以下が好ましく、より好ましくは１．２ＭＰａ以下であり、１ＭＰａ以下が特に好ましい。ろ過圧が低いのは問題ないが、高すぎるとろ材の破損の恐れが高くなったり、不純物や不溶解物が漏れる可能性が大きくなり、好ましくない。ろ過は濃縮前に行ってもよい。

（ろ過閉塞係数）
ポリマー溶液はろ過により目詰まりしにくいものが好ましい。ろ過による目詰まりは液の特性だけでなく、ろ材の特性、特に平均孔径によるところが大きい。適切な溶液の調製方法の選定と適切なろ材の選定により、ろ過閉塞係数を９００／ｍ^３以下にすることが好ましい。５００／ｍ^３以下にすることが更に好ましい。

（ドープ溶液の透明度）
本発明のポリマー溶液のドープ透明度としては８５％以上であることが好ましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。本発明においてはポリマードープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からポリマー溶液の透明度を算出した。

（添加剤の混合）
ポリマー溶液に添加剤を添加する一方法について述べる。溶解機（釜）から調製されたドープ（ポリマー溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギアポンプを通して送り、流延ダイの手前であらかじめ調製しておいたマット剤溶液、ＵＶ吸収剤溶液、レターデーション調整剤溶液、剥離剤溶液あるいは可塑剤溶液などをインラインで混合する。これら添加液の混合は逐次に混合してもよいし、あるいはそれらの一部あるいは全部をあらかじめ混合しておいた上でポリマー溶液と混合してもよい。
添加剤が混合されたポリマー溶液（ドープ）は加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延される。

（流延）
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶媒の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明の光学フィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたり、あるいは研磨によって表面粗さが０．０５μｍ以下に仕上げされたステンレス板やドラムが用いられる。金属支持体の表面温度は一般的には１０〜３５℃が使用される。冷却ゲル化流延法では−５０〜０℃であり、−３５〜−３℃が好ましく、−２５〜−５℃であることが更に好ましい。本発明の光学フィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に１基或いは２基以上の設置でもよい。好ましくは１基又は２基である。

２基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられるポリマー溶液の温度は−１０〜５５℃が好ましく、より好ましくは２５〜５０℃である。使用する溶剤の沸点よりも５ないし１５℃低い温度が好ましい。工程のすべての場所でポリマー溶液の温度が同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で前記範囲の温度であればよい。

エンドレス金属支持体の幅は０．８から２．５ｍ、長さは５から１２０ｍ、厚さは０．８から３．５ｍｍのものが好ましく使用できる。流延幅は４０ｃｍから２．３ｍ、金属支持体の移動速度（すなわち流延速度）はドープの固形分濃度や出来上がりのフィルム厚さ、エンドレス金属支持体の長さ、支持体温度などにもよるが、０．５から３００ｍ／分が使用できる。

さらに特開２００１−１２９８３８号、特開２０００−３１７９６０号、特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平１１−２２１８３３号、特開平０７−０３２３９１号、特開平０５−１８５４４５号、特開平０５−０８６２１２号、特開平０３−１９３３１６号、特開平０２−２７６６０７号、特開平０２−１１１５１１号、特開平０２−２０８６５０号特開昭６２−０３７１１３号、特開昭６２−１１５０３５号、特開昭５５−０１４２０１号および特開昭５２−１０３６２号の各公報に記載の技術を本発明では応用できる。

（重層流延）
ポリマー溶液を、金属支持体としての平滑なバンド上或いはドラム上に単層液として流延してもよいし、２層以上の複数のポリマー液を流延してもよい。複数のポリマー溶液を流延する場合、金属支持体の進行方向に間隔を置いて設けた複数の流延口からポリマーを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよく、例えば特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報などに記載の方法が適応できる。また、２つの流延口からポリマー溶液を流延することによってもフィルム化することでもよく、例えば特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法で実施できる。また、特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度ポリマー溶液の流れを低粘度のポリマー溶液で包み込み、その高，低粘度のポリマー溶液を同時に押出すポリマーフィルム流延方法でもよく、特にこの方法は高粘度溶液を用いる冷却ゲル化流延法においては好ましい流延方法である。更に又、特開昭６１−９４７２４号および特開昭６１−９４７２５号の各公報に記載の外側の溶液が内側の溶液よりも貧溶媒であるアルコール成分を多く含有させることも好ましい態様である。或いはまた２個の流延口を用いて、第一の流延口により金属支持体に成型したフィルムを剥離し、金属支持体面に接していた側に第二の流延を行なうことでより、フィルムを作製することでもよく、例えば特公昭４４−２０２３５号公報に記載されている方法である。流延するポリマー溶液は同一の溶液でもよいし、異なるポリマー溶液でもよく特に限定されない。複数のポリマー層に機能を持たせるために、その機能に応じたポリマー溶液を、それぞれの流延口から押出せばよい。さらにポリマー溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、ＵＶ吸収層、偏光層など）を同時に流延することも実施しうる。

従来の単層液では、必要なフィルム厚さにするためには高濃度で高粘度のポリマー溶液を押出すことが必要であり、その場合ポリマー溶液の安定性が悪くて固形物が発生し、ブツ故障となったり、平面性が不良であったりして問題となることが多かった。この解決として、複数のポリマー溶液を流延口から流延することにより、高粘度の溶液を同時に金属支持体上に押出すことができ、平面性も良化し優れた面状のフィルムが作製できるばかりでなく、濃厚なポリマー溶液を用いることで乾燥負荷の低減化が達成でき、フィルムの生産スピードを高めることができた。共流延の場合、内側と外側の厚さは特に限定されないが、好ましくは外側が全膜厚の１〜５０％であることが好ましく、より好ましくは２〜３０％の厚さである。ここで、３層以上の共流延の場合は金属支持体に接した層と空気側に接した層のトータル膜厚を外側の厚さと定義する。共流延の場合、前述の可塑剤、紫外線吸収剤、マット剤、剥離剤等の添加物濃度が異なるポリマー溶液を共流延して、積層構造のポリマーフィルムを作製することもできる。例えば、スキン層／コア層／スキン層といった構成のポリマーフィルムを作ることができる。例えば、マット剤は、スキン層に多く、又はスキン層のみに入れることができる。可塑剤、紫外線吸収剤はスキン層よりもコア層に多くいれることができ、コア層のみにいれてもよい。又、コア層とスキン層で可塑剤、紫外線吸収剤の種類を変更することもでき、例えばスキン層に低揮発性の可塑剤及び／又は紫外線吸収剤を含ませ、コア層に可塑性に優れた可塑剤、或いは紫外線吸収性に優れた紫外線吸収剤を添加することもできる。また、剥離剤を金属支持体側のスキン層のみ含有させることも好ましい態様である。また、冷却ゲル化流延法で金属支持体を冷却して溶液をゲル化させるために、スキン層に貧溶媒であるアルコールをコア層より多く添加することも好ましい。スキン層とコア層のＴｇが異なっていても良く、スキン層のＴｇよりコア層のＴｇが低いことが好ましい。

（冷却ゲル化流延）
冷却ゲル化流延は、特開昭６２−１１５０３５号公報に記されている如き、冷却ゲル化流延法の使用が、乾燥が速く生産性に優れるため好ましい。該方法では金属支持体は０℃以下に冷却され、支持体表面温度が上昇しない程度の温度と風量の乾燥風を、２秒以上あてて乾燥することが好ましい。この方法ではフィルムは主に冷却による粘度上昇あるいは冷却ゲル化により自己保持性が付与されるため、高残留溶剤分でも剥離可能になる。剥離時の好ましい残留溶剤分は８０から３００％であり、更に好ましくは１５０から２８０％である。剥離時の好ましいフィルム温度は０から−５０℃であり、更に好ましくは−５から−２５℃である。本方法では支持体上における片面乾燥の時間を短くできるので、トータルの乾燥時間を大幅に短縮でき、コスト及び環境負荷の削減効果が大きい。冷却ゲル化流延では金属支持体としてドラムを使用することが多い。ドラム中に冷却液を封入することにより、流延液膜を効果的に冷却ゲル化できる。ドラムの好ましい外周長さは２から２０ｍである。好ましい流延速度は毎分０．５から３００ｍである。ドラム外周長１ｍあたりの更に好ましい流延速度は毎分２から２０ｍであり、特に好ましくは５から１５ｍである。冷却ゲル化流延は特にセルロースアシレートフィルムの高速製造に対して効果がある。

（テンター乾燥）
フィルムを支持体から剥離する時、フィルムは支持体速度の１．０１倍から１．４倍の速度で引っ張られる。引張速度比が大きくなるほど、フィルムの流延方向弾性率を大きく出来る。剥離されたフィルムは例えば特開昭６２−１１５０３５号公報に記されている如き、幅規制装置（例えばテンター装置）によりフィルム両端を保持されて、フィルムの収縮を規制しながらあるいは幅方向に延伸しながら乾燥される。幅規制装置の入り口と出口におけるフィルム幅の比は、０．７５から１．４が好ましい。幅方向に延伸するとフィルムの幅方向弾性率を大きく出来るので好ましい。乾燥は４０〜１５０℃の熱風を吹き込むことによって行われる。幅規制装置の中を複数に区切り、順次乾燥風の温度を低い方から高いほうに変化させることが好ましい。

（巻取り）
フィルム中の残留溶剤分が２０％以下になった後、フィルムを幅規制装置からはずし、更に１００から１５０℃の温度で乾燥する。幅規制装置によって変形している両耳部を切り落とし、両端部にナーリングを付与して巻き取る。ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍであり、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。巻き取る長さは１ロールあたり１００〜１００００ｍが好ましく、より好ましくは５００〜６０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜４０００ｍである。

［熱溶融製膜法による光学フィルムの製造工程］
次にセルロースアシレート類あるいは環状ポリオレフィン類の熱溶融製膜方法について記述する。溶融したポリマーを押出機のダイからシート状に押し出し、冷却ロール上で冷却してポリマーの基体フィルムを形成する工程を有する。
この製造方法において、ポリマーを溶融させる場合、ポリマーペレットを予熱しておくことができる。予熱温度は、Ｔｇ−９０℃〜Ｔｇ＋１５℃、好ましくはＴｇ−７５℃〜Ｔｇ−５℃、さらに好ましくはＴｇ−７０℃〜Ｔｇ−５℃である。Ｔｇ−９０℃〜Ｔｇ＋１５℃の範囲で予熱しておけば、この後の樹脂の溶融混練を均一に行うことができ、所望のＨ−Ｖ散乱光強度およびＶ−Ｖ散乱光強度を得ることができる。

前記製造方法は、前記予熱の後、押出機を用いて２００〜３００℃の温度まで昇温し、ポリマーを溶融させる。この際、押出機の出口側の温度を入口側の温度より５〜１００℃、好ましくは２０〜９０℃、さらに好ましくは３０〜８０℃高くしておくことが好ましい。押出機の出口側の温度を入口側の温度より高くしておくことにより、溶融した樹脂を均一に混練することができ、所望のＨ−Ｖ散乱強度およびＶ−Ｖ散乱強度の値を得ることができる。

前記製造方法は、次いで溶融したポリマーをギアポンプに通し、押出機の脈動を除去した後、金属メッシュフィルター等で濾過し、押出機に取り付けられたＴ型のダイから冷却ロール上にシート状に押し出し、前記冷却ロール上で押出されたポリマーフィルムのフィルム幅方向１〜５０％、好ましくは２〜４０％、さらに好ましくは３〜３０％を押圧する。好ましくは、フィルム幅方向の両端側から均等に押圧を行ってフィルム幅方向１〜５０％を押圧する。

従来の方法のように押し出されたフィルムを冷却ロールの全面で押圧すると、押し付けむらや冷却ロールの温度むらに起因する局部的な冷却むらが発生し、これらの不均一な収縮応力はフィルムが全面で押圧されているためフィルム外に逃がすことはできない。また、押し出されたフィルムの全面を冷却ロールに押し付けた場合には、フィルムの温度が急激に低下し、ＲｅむらおよびＲｔｈむら、特にＲｔｈむらが発生しやすい。これに対し、本発明における上記の押圧であれば、ポリマーの基体フィルムの不均一な収縮応力を回避することができ、ＲｅむらおよびＲｔｈむらの発生を良好に抑えることができる。

本発明の製造方法における押圧方法は特に制限されず、例えば、エアーチャンバー、バキュームノズル、静電ピニング、タッチロール等の方法を用いることができる。その際の圧力については特に制限はないが、０．００１〜２０ｋｇ／ｃｍ^２（９８Ｐａ〜１．９６ＭＰａ）が好ましく、０．０１〜１ｋｇ／ｃｍ^２（９８０Ｐａ〜９８ｋＰａ）がさらに好ましい。

前記製造方法において、前記押圧は冷却ロール上で冷却しながら行うことができる。この際、冷却はできるだけゆっくり行うことが好ましい。一般に行われている製膜法では５０℃／秒以上の冷却速度で冷却されるが、前記製造方法では、冷却速度は０．２〜２０℃／秒であることが適当であり、０．５〜１５℃／秒であることが好ましく、１〜１０℃／秒であることがさらに好ましい。この冷却速度で冷却することにより、局所的な冷却むらの発生を防ぎ、急激な収縮による収縮応力の発現を防止し、ＲｅむらおよびＲｔｈむらの発現を抑制することができる。
上記の冷却（徐冷）は、冷却ロールのケージング内における保温と、冷却ロールの温度調整により達成される。好ましい効果が得られるのは前者である。

冷却ロールのケージング内における保温は、冷却ロールの少なくとも１本をＴｇ−１００℃〜Ｔｇ＋３０℃、より好ましくはＴｇ−８０℃〜Ｔｇ＋１０℃、さらに好ましくはＴｇ−７０℃〜Ｔｇに温調されたケーシング内に配置することにより達成される。冷却ロール上では製膜したシートは摩擦力で拘束され自由に収縮できないため、これに起因した収縮応力によりＲｅむらおよびＲｔｈむらが発生しやすいが、この方法を用いれば、幅方向における均一な徐冷が可能となり、冷却ロール上での温度むらを小さくすることができ、その結果、ＲｅむらおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。

これに対し、特開２００３−１３１００６号公報に記載された方法では、Ｔ型ダイから冷却ドラム間（エアギャップ）を温調するが、この方法ではＲｅむらおよびＲｔｈむらを充分小さくすることはできない。これは、エアギャップではフィルムを拘束する手段が存在せず、ＲｅむらおよびＲｔｈむらの低減効果が少ないためである。

さらに、ＲｅむらおよびＲｔｈむらを小さくするために、以下の方法を併用することができる。
（１）押出機に取り付けられたダイからシート状に押し出されたポリマーを、一定の間隔で配置された少なくとも２〜１０本、好ましくは２〜６本、さらに好ましくは３〜４本の冷却ロール（密間ロール）上にキャストする。このように複数の冷却ロールを用いて冷却温度を制御することにより、容易に冷却速度を調整することができる。また、冷却ロールを一定間隔に配置することにより冷却ロール間における温度変化を小さくすることができる。
冷却ロールどうしの間隔（隣接するロール外周の最も近接した箇所の間隔）は０．１〜１５ｃｍであることが好ましく、０．３〜１０ｃｍであることがより好ましく、０．５〜５ｃｍであることがさらに好ましい。

（２）前記２〜１０本の冷却ロールのうち、少なくとも第１の冷却ロールの温度をポリマーのＴｇ−４０℃〜Ｔｇ（より好ましくはＴｇ−３５℃〜Ｔｇ−３℃、さらに好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇ、最も好ましくはＴｇ−３０℃〜Ｔｇ−５℃）にする。さらに第２の冷却ロールの温度を第１の冷却ロールより１〜３０℃高く（好ましくは１〜２０℃高く、さらに好ましくは１〜１０℃高く）することが好ましい。第１の冷却ロールよりも第２の冷却ロールの温度を高めることによりポリマーフィルムの粘性をより高め、第２の冷却ロールとの密着性を高めることができる。これにより冷却ロール上のスリップを抑制し、搬送張力むらを抑制することができるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。

（３）第２の冷却ロールの搬送速度を第１の冷却ロールの搬送速度より０．１〜５％（好ましくは０．２〜４％、さらに好ましくは０．３〜３％）速くする。これにより第１の冷却ロールおよび第２冷却ロール間のスリップを抑え、搬送張力むらを低減することができるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。

（４）第２の冷却ロール通過後、第２の冷却ロールより１〜３０℃（好ましくは１．５〜２０℃、さらに好ましくは２〜１０℃）低い温度の第３の冷却ロールを通過させる。これによりこの後、冷却ロールからポリマーフィルムを剥ぎ取る工程における冷却速度を小さくできるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくすることができる。さらに、第３の冷却ロールの搬送速度を第２の冷却ロールの搬送速度より０．１〜５％（好ましくは０．２〜４％、さらに好ましくは０．３〜３％）遅くすることが好ましい。これにより第２の冷却ロールと第３の冷却ロール間の搬送張力むらを緩衝できるため、ＲｅおよびＲｔｈむらを小さくできる。
前記製造方法は、上述の方法によりポリマーフィルムを冷却速度０．２〜２０℃／秒で冷却した後、さらに冷却ロールからポリマーフィルムを剥離する工程を有することができる。

剥離されたポリマーフィルムは、０．２〜１０ｍの間隔、好ましくは０．３〜８ｍの間隔、さらに好ましくは０．４〜６ｍの間隔で配置された複数の搬送ロールを用いて搬送することができる。このような長いスパン間を冷却しながら搬送することで、搬送ロールとの摩擦に起因する搬送張力むらを抑制できる。冷却時に収縮量の左右不均一に伴う搬送張力のアンバランスが発生するが、これを緩和させるために、フィルムが自由に動いて緩衝できるだけの広いロール間隔が必要である。搬送ロールの間隔が０．２〜１０ｍであれば、ポリマーフィルムと搬送ロールとの摩擦が生じることなく、ポリマーフィルムが自由に動け、張力むらによる光軸のズレを小さくすることができる。

冷却ロールから剥離したポリマーフィルムは、０．１〜３℃／秒、好ましくは０．２〜２．５℃／秒、さらに好ましくは０．３〜２℃／秒で５０℃まで冷却することが好ましい。０．１〜３℃／秒の範囲内で冷却すれば、急激な収縮応力による左右の張力不均一による光軸ズレの発生を防ぐことができる。このような冷却速度の制御は、ケーシング内にポリマーフィルムを通過させ、ケージング中に吹き込む温度を上流側より下流側の温度を下げることによっても達成でき、さらに上流側および下流側の搬送ロールの温度を調整することによっても達成できる。

前記製造方法では、製膜速度を４０〜１５０ｍ／分とすることが適当であり、５０〜１００ｍ／分とすることが好ましく、６０〜８０ｍ／分とすることがさらに好ましい。製膜速度４０〜１５０ｍ／分で製膜することにより、第１の冷却ロールとポリマーフィルムとの間に空気を巻き込み、全面に亘る押圧を抑制することができ、その結果、ＲｅおよびＲｔｈむらを抑制できる。

［光学フィルム特性］
（フィルム厚さ）
本発明の出来上がり（乾燥後）の光学ポリマーフィルムの厚さは、３０から１８０μｍの範囲が好ましい。更に３８〜１００μｍの範囲が好ましく、特に３８〜８２μｍの範囲が最も好ましい。
フィルム厚さの調整は、所望の厚さになるように、ドープ中に含まれる固形分濃度、ダイの口金のスリット間隙、ダイからの押し出し圧力、金属支持体速度等を調節すればよい。

（フィルムの輝点異物数）
吸収軸が互いに直交するように重ねた二枚の偏光板の間に光学フィルムを挟んで観察したとき、白い点状に光が漏れてくることがある。原料のポリマーの中に溶剤に溶解しがたい成分が多く含まれている場合や、溶解条件が適切でない場合に、このような光漏れを生じる異物（輝点異物）が多くなる。本発明においては、溶解性のよいポリマーの選定、適切な溶媒組成の選定、適切な溶解条件、特に溶解温度の設定によって輝点異物の量を減少できる。フィルムを観察して２．１６ｍｍ×１．７２ｍｍの範囲を５０倍に拡大し、１ｍｍ以上の大きさの輝点を数える。そのような測定を１試料に対して６０視野測定し、全ての輝点数を合計したとき、好ましい輝点数は８０以下である。４０以下であると更に好ましく、２０以下が最も好ましい。

（フィルムの透湿率）
透湿率はＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に則り面積１ｍ^２あたり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を測定し、各試料の透湿率を算出する。
４０℃９０％ＲＨ２４時間における透湿率はフィルム厚さが８０μｍのとき３５０から７００ｇ／ｍ^２が好ましい。４００から５５０ｇ／ｍ^２がさらに好ましい。光学フィルムの透湿率は小さすぎると、偏光板加工の作業効率を損なう。一方透湿率が大きすぎると、偏光板の耐久性が悪くなって好ましくない。

（フィルムの弾性率）
冷却ゲル化流延による本発明の光学フィルムの好ましい弾性率は３ＧＰａから５ＧＰａである。更に好ましい弾性率は３．５Ｇから４．５ＧＰａである。

（フィルムの寸法変化率）
ポリマーの寸法変化率は小さいことが好ましい。６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化および９０℃、３％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合の寸度変化が、いずれも±２％以内であることが望ましい。寸法変化率が大きいと液晶表示装置に装填したときにフィルムに応力を生じ、その結果応力によるレターデーションが発生し、液晶表示装置の光漏れの原因となる。また寸法変化が大きいと、液晶表示装置に反りを生じる可能性が高くなり、好ましくない。

［偏光板］
偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の透明保護膜からなっている。この透明保護膜として、本発明の光学フィルムを用いることができる。本発明の光学フィルムを偏光子の両側に使用してもよいし、片側だけに使用してもよい。透湿率が１５０ｇ／ｍ^２以下のポリマーフィルムの使用は偏光子の片側だけに制限される。その場合は反対側には透湿率が４００ｇ／ｍ^２以上の光学フィルムの使用が好ましい。
偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系偏光子がある。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造する。本発明のセルロースアシレートフィルムを偏光板保護膜として用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。

（環状ポリオレフィンフィルムの表面処理）
本発明において、環状ポリオレフィンフィルムを用いて偏光板を作成する際の、ポリオレフィンフィルムの表面処理について述べる。偏光子と環状ポリオレフィンとの接着性を改良するため接着剤（例えばポリビニルアルコール水溶液）を塗布する前に、環状ポリオレフィン保護フィルムを表面処理する。表面処理については、接着性を改善できる限りいなかる方法を利用してもよいが、好ましい表面処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理及び火炎処理が挙げられる。ここでいうグロー放電処理とは、低圧ガス下でおこる、いわゆる低温プラズマのことである。本発明では大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。その他、グロー放電処理の詳細については、米国特許第３４６２３３５号、米国特許第３７６１２９９号、米国特許第４０７２７６９号及び英国特許第８９１４６９号明細書に記載されている。放電雰囲気ガス組成を放電開始後にポリエステル支持体自身が放電処理を受けることにより容器内に発生する気体種のみにした特表昭５９−５５６４３０号公報に記載された方法も用いられる。また真空グロー放電処理する際に、フィルムの表面温度を８０℃以上１８０℃以下にして放電処理を行う特公昭６０−１６６１４号公報に記載された方法も適用できる。

グロー放電処理時の真空度は０．５〜３０００Ｐａが好ましく、より好ましくは２〜３００Ｐａである。また、電圧は５００〜５０００Ｖの間が好ましく、より好ましくは５００〜３０００Ｖである。使用する放電周波数は、直流から数千ＭＨｚ、より好ましくは５０Ｈｚ〜２０ＭＨｚ、さらに好ましくは１ＫＨｚ〜１ＭＨｚである。放電処理強度は、０．０１ＫＶ・Ａ・分／ｍ^２〜５ＫＶ・Ａ・分／ｍ^２が好ましく、より好ましくは０．１５ＫＶ・Ａ・分／ｍ^２〜１ＫＶ・Ａ・分／ｍ^２である。

本発明では、表面処理として紫外線照射法を行うことも好ましい。例えば、特公昭４３−２６０３号、特公昭４３−２６０４号、特公昭４５−３８２８号の各公報に記載の処理方法によって行うことができる。水銀灯は石英管からなる高圧水銀灯で、紫外線の波長が１８０〜３８０ｎｍの間であるものが好ましい。紫外線照射の方法については、光源は保護フィルムの表面温度が１５０℃前後にまで上昇することが支持体の性能上問題なければ、主波長が３６５ｎｍの高圧水銀灯ランプを使用することができる。低温処理が必要とされる場合には主波長が２５４ｎｍの低圧水銀灯が好ましい。またオゾンレスタイプの高圧水銀ランプ、及び低圧水銀ランプを使用する事も可能である。処理光量に関しては処理光量が多いほど熱可塑性飽和脂環式構造含有重合体樹脂フィルムと偏光子との接着力は向上するが、光量の増加に伴い該フィルムが着色し、また脆くなるという問題が発生する。従って、３６５ｎｍを主波長とする高圧水銀ランプで、照射光量２０〜１００００（ｍＪ／ｃｍ^２）がよく、より好ましくは５０〜２０００（ｍＪ／ｃｍ^２）である。２５４ｎｍを主波長とする低圧水銀ランプの場合には、照射光量１００〜１００００（ｍＪ／ｃｍ^２）がよく、より好ましくは３００〜１５００（ｍＪ／ｃｍ^２）である。

さらに、本発明では表面処理としてコロナ放電処理を行うことも好ましい。例えば、特公昭３９−１２８３８号、特開昭４７−１９８２４号、特開昭４８−２８０６７号、特開昭５２−４２１１４号の各公報に記載等の処理方法によって行うことができる。コロナ放電処理装置は、Ｐｉｌｌａｒ社製ソリッドステートコロナ処理機、ＬＥＰＥＬ型表面処理機、ＶＥＴＡＰＨＯＮ型処理機等を用いることができる。処理は空気中での常圧にて行うことができる。処理時の放電周波数は、５〜４０ＫＶ、より好ましくは１０〜３０ＫＶであり、波形は交流正弦波が好ましい。電極と誘電体ロールのギャップ透明ランスは０．１〜１０ｍｍ、より好ましくは１．０〜２．０ｍｍである。放電は、放電帯域に設けられた誘電サポートローラーの上方で処理し、処理量は、０．３〜０．４ＫＶ・Ａ・分／ｍ^２、より好ましくは０．３４〜０．３８ＫＶ・Ａ・分／ｍ^２である。

本発明では、表面処理として火炎処理を行うことも好ましい。用いるガスは天然ガス、液化プロパンガス、都市ガスのいずれでもかまわないが、空気との混合比が重要である。なぜなら、火炎処理による表面処理の効果は活性な酸素を含むプラズマによってもたらされると考えられるからであり、火炎の重要な性質であるプラズマの活性（温度）と酸素がどれだけ多くあるかがポイントである。このポイントの支配因子はガス／酸素比であり、過不足なく反応する場合にエネルギー密度が最も高くなりプラズマの活性が高くなる。具体的には、天然ガス／空気の好ましい混合比は容積比で１／６〜１／１０、好ましくは１／７〜１／９である。また、液化プロパンガス／空気の場合は１／１４〜１／２２、好ましくは１／１６〜１／１９、都市ガス／空気の場合は１／２〜１／８、好ましくは１／３〜１／７である。また、火炎処理量は１〜５０Ｋｃａｌ／ｍ^２、より好ましくは３〜２０Ｋｃａｌ／ｍ^２の範囲で行うとよい。またバーナーの内炎の先端とフィルムの距離は３〜７ｃｍ、より好ましくは４〜６ｃｍにするとよい。バーナーのノズル形状は、フリンバーナー社（米国）のリボン式、ワイズ社（米国）の多穴式、エアロジェン（英国）のリボン式、春日電機（日本）の千鳥型多穴式、小池酸素（日本）の千鳥型多穴式が好ましい。火炎処理にフィルムを支えるバックアップロールは中空型ロールであり、冷却水を通して水冷し、常に２０〜５０℃の一定温度で処理するのがよい。

表面処理の程度については、表面処理の種類、環状ポリオレフィンの種類によって好ましい範囲も異なるが、表面処理の結果、表面処理を施された保護フィルムの表面の純水との接触角が、５０°未満となるのが好ましい。前記接触角は、２５°以上４５°未満であるのがより好ましい。保護フィルム表面の純水との接触角が上記範囲にあると、保護フィルムと偏光膜との接着強度が良好となる。

本発明の光学フィルムの偏光子への貼り合せ方は、偏光子の光軸との貼りあわせ角度には特に制限はない。光学フィルムの遅相軸と偏光子の透過軸とを平行にしてもよいし、直交させてもよいし、あるいはその中間の適当な角度にしてもよい。

本発明の偏光板は、２５℃６０％ＲＨにおける単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴ、偏光度Ｐが下記式（ａ）〜（ｄ）の少なくとも１つを満たすことが好ましい。
（ａ）４０．０≦ＴＴ≦４５．０
（ｂ）３０．０≦ＰＴ≦４０．０
（ｃ）ＣＴ≦２．０
（ｄ）９５．０≦Ｐ

単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴはこの順でそれぞれ、より好ましくは、４０．５≦ＴＴ≦４５、３２≦ＰＴ≦３９．５、ＣＴ≦１．５であり、さらに好ましくは４１．０≦ＴＴ≦４４．５、３４≦ＰＴ≦３９．０、ＣＴ≦１．３である。偏光度Ｐは９５．０％以上であることが好ましく、より好ましくは９６．０％以上、さらに好ましくは９７．０％以上である。
本発明の偏光板は、波長λにおける直交透過率をＣＴ_（λ）としたときに、ＣＴ_{（３８０）}、ＣＴ_{（４１０）}、ＣＴ_{（７００）}が下記式（ｅ）〜（ｇ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。

（ｅ）ＣＴ_{（３８０）}≦２．０
（ｆ）ＣＴ_{（４１０）}≦１．０
（ｇ）ＣＴ_{（７００）}≦０．５

より好ましくはＣＴ_{（３８０）}≦１．９５、ＣＴ_{（４１０）}≦０．９、ＣＴ_{（７００）}≦０．４９であり、さらに好ましくはＣＴ_{（３８０）}≦１．９０、ＣＴ_{（４１０）}≦０．８、ＣＴ_{（７００）}≦０．４８である。

本発明の偏光板は、６０℃９５％ＲＨの条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｊ）、（ｋ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。

（ｊ）−６．０≦ΔＣＴ≦６．０
（ｋ）−１０．０≦ΔＰ≦０．０
（ただし、変化量とは試験後測定値から試験前測定値を差し引いた値を示す）
より好ましくは−５．８≦ΔＣＴ≦５．８、−９．５≦ΔＰ≦０．０、更に好ましくは、−５．６≦ΔＣＴ≦５．６、−９．０≦ΔＰ≦０．０である。

本発明の偏光板は、６０℃９０％ＲＨの条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｈ）、（ｉ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｈ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
（ｉ）−５．０≦ΔＰ≦０．０

本発明の偏光板は、８０℃の条件下に５００時間静置した場合の直交透過率の変化量ΔＣＴ、偏光度変化量ΔＰが下記式（ｌ）、（ｍ）の少なくとも１つ以上を満たすことが好ましい。
（ｌ）−３．０≦ΔＣＴ≦３．０
（ｍ）−２．０≦ΔＰ≦０．０

偏光板の単板透過率ＴＴ、平行透過率ＰＴ、直交透過率ＣＴは、ＵＶ３１００ＰＣ（島津製作所社製）を用い、３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲で測定し、ＴＴ、ＰＴ、ＣＴともに、１０回測定の平均値（４００ｎｍ〜７００ｎｍでの平均値）を用いる。偏光度Ｐは、偏光度（％）＝１００×｛（平行透過率−直交透過率）／（平行透過率＋直交透過率）｝^１／２で求めることができる。偏光板耐久性試験は（１）偏光板のみと（２）偏光板をガラスに粘着剤を介して貼り付けた、２種類の形態で次のように行う。偏光板のみの測定は、２つの偏光子の間に本発明の光学フィルムが挟まれるように組み合せて直交、同じものを２つ用意し測定する。ガラス貼り付け状態のものはガラスの上に偏光板を本発明の光学フィルムがガラス側にくるように貼り付けたサンプル（約５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。単板透過率測定ではこのサンプルのフィルムの側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を単板の透過率とする。

［用途（光学補償フィルム）］
本発明の光学フィルムは、様々な用途で用いることができ、液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いると特に効果がある。なお、光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。本発明の光学フィルムは光学的異方性が小さく、また波長分散が小さいため、余計な異方性を生じず、複屈折を持つ光学異方性層を併用すると光学異方性層の光学性能のみを発現することができる。

したがって本発明の光学フィルムを液晶表示装置の光学補償フィルムとして用いる場合、併用する光学異方性層のＲｅおよびＲｔｈはＲｅ＝０〜２００ｎｍかつ｜Ｒｔｈ｜＝０〜４００ｎｍであることが好ましく、この範囲であればどのような光学異方性層でも良い。本発明の光学フィルムが使用される液晶表示装置の液晶セルの光学性能や駆動方式に制限されず、光学補償フィルムとして要求される、どのような光学異方性層も併用することができる。併用される光学異方性層としては、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つ光学フィルムから形成しても良い。

前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐ．１１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐ．１７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐ．２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。

光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子について、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。

（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。

光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されているのが好ましく、重合反応により固定されているのが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号、同６−１６６１６号、同７−１１０４６９号、同１１−８００８１号、および特開２００１−３２８９７３号などに記載の化合物が含まれる。

（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層は本発明の光学フィルムから形成してもよい。光学異方性フィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成する。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル（例、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体あるいはポリマー混合物を用いてもよい。

ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸または二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合せての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。

（液晶表示装置の構成例）
本発明の光学フィルムを光学補償フィルムとして用いる場合は、偏光素子の透過軸と、本発明の光学フィルムからなる光学補償フィルムの遅相軸とをどのような角度で配置しても構わない。液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光素子、および該液晶セルと該偏光素子との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

（液晶表示装置の種類）
本発明のポリマーフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ
（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｐｅｒ
Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明のポリマーフィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効であるが、特にＩＰＳモードの液晶表示装置に使用する場合に有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。

（ＩＰＳ型液晶表示装置およびＥＣＢ型液晶表示装置）
図２はＩＰＳモード液晶セルを示す模式側断面図である。通常はマトリクス状の電極により複数の画素を有するが、その一画素の一部分を示している。透明な一対の基板５、８の内側に線状の電極１４が形成され、その上に配向制御膜（図示せず）が形成されている。基板５、８間に挟持されている棒状の液晶性分子７は電界無印加時には線状電極１４の長手方向に対して若干の角度を持つように配向されている。なお、この場合の液晶の誘電異方性は正を想定している。電界１７を印加すると電界方向に液晶性分子７はその向きを変える。偏光板１、１２を所定角度に配置することで光透過率を変えることが可能となる。なお、基板８の表面に対する電界方向１７のなす角は、好ましくは２０度以下で、より好ましくは１０度以下で、すなわち、実質的に平行であることが望ましい。以下、本発明では２０度以下のものを総称して平行電界と表現する。また、電極１４を上下基板に分けて形成しても、一方の基板にのみ形成してもその効果は変わらない。

このようにＩＰＳモードは電圧無印加，あるいは低電圧印加時に基板面に平行配向している。配向制御は配向膜塗布後にラビング処理を行うのが一般的であるが，この配向処理により配向ムラが発生しやすい。ＩＰＳは前述のように基板面に平行配向しているため，この配向ムラが大きなリターデーションムラとなり，特に黒表示時の光漏れの不均一な輝度ムラ発生につながる。一方，ＶＡ，ＴＮ，ＯＣＢの各モードでは黒表示時は液晶分子は基板面に垂直に配向しているため，配向ムラが大きくてもリターデーションムラは小さく，輝度ムラは小さい。

図３はＩＰＳモードをより高速応答，高透過率化する場合の液晶セル模式断面図である。図２と異なり電極が絶縁層１５を介した２層構造となっている。最下層の電極はパターニングされていない電極でも，線状などの電極でもよい。上層の電極は線状が好ましいが，下層電極１６からの電界が通過できる形状であれば，網目状，スパイラル状，点状などいずれでもよく，電位が中立なフローティング電極をさらに追加してもよい。また絶縁層１５はＳｉＯや窒化膜などの無機材料でも，アクリルやエポキシ系等の有機材料のいずれでもよい。
この方式では高透過率からコントラスト比が向上するため，黒表示時の面内配向ムラ起因の輝度ムラが観察されやすい。また電界強度が大きいため，低電圧印加時の輝度ムラも発生しやすい。

液晶材料ＬＣとしては、誘電率異方性△εが正のネマチック液晶を用いる。液晶層の厚み（ギャップ）は、２．８μｍ超４．５μｍ未満とした。このように、レターデーション
（Δｎ・ｄ）を０．２５μｍ超０．３２μｍ未満とすると、可視光の範囲内で波長依存性が殆どない透過率特性がより容易に得られる。後述の配向膜と偏光板の組み合わせにより、液晶性分子がラビング方向から電界方向に４５度回転したとき最大透過率を得ることができる。なお、液晶層の厚み（ギャップ）はポリマビーズで制御している。もちろんガラスビーズヤファイバー、樹脂製の柱状スペーサーでも同様のギャップを得ることができる。また液晶材料ＬＣは、ネマチック液晶であれば、特に限定したものではない。誘電率異方性△εは、その値が大きいほうが、駆動電圧が低減でき、屈折率異方性△ｎは小さいほうが液晶層の厚み（ギャップ）を厚くでき、液晶の封入時間が短縮され、かつギャップばらつきを少なくすることができる。

本発明で用いられる液晶表示装置の表示モードは特に限定されないが、ＥＣＢモード、ＩＰＳモードが好適に用いられる。本発明では、液晶層の厚さｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄは、０．２〜１．２μｍとする。Δｎ・ｄの最適値は０．２〜０．５μｍが最適値となる。こられの範囲では白表示輝度が高く、黒表示輝度が小さいことから、明るくコントラストの高い表示装置が得られる。なお、これらの最適値は透過モードの値であり、反射モードでは液晶セル内の光路が２倍になることから、最適Δｎｄの値は上記の１／２程度の値になる。本発明で用いられる液晶表示装置は、上記表示モードのだけでなく、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＴＮモード、ＨＡＮモード、ＳＴＮモードに適用した態様も有効である。

本発明の液晶表示装置は、図１に示す構成に限定されず、他の部材を含んでいてもよい。例えば、液晶セルと偏光フィルムとの間にカラーフィルターを配置してもよい。また、後述する様に、液晶セルと偏光板との間に、さらに、別の光学補償膜を配置することもできる。また、透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置することができる。また、本発明の液晶表示装置は、反射型であってもよく、かかる場合は、本発明の偏光板は観察側に１枚配置したのみでよく、液晶セル背面あるいは液晶セルの下側基板の内面に反射膜を設置する。もちろん前記光源を用いたフロントライトを液晶セル観察側に設けることも可能である。

本発明の液晶表示装置には、画像直視型、画像投影型や光変調型が含まれる。本発明は、ＴＦＴやＭＩＭのような３端子または２端子半導体素子を用いたアクティブマトリックス液晶表示装置に適用した態様が特に有効である。勿論、時分割駆動と呼ばれるＳＴＮ型に代表されるパッシブマトリックス液晶表示装置に適用した態様も有効である。

（反射型液晶表示装置）
本発明の光学フィルムは、ＴＮ型、ＳＴＮ型、ＨＡＮ型、ＧＨ（Ｇｕｅｓｔ−Ｈｏｓｔ）型の反射型液晶表示装置の光学補償シートの支持体または偏光板保護フィルムとしても有利に用いられる。これらの表示モードは古くから良く知られている。ＴＮ型反射型液晶表示装置については、特開平１０−１２３４７８号、ＷＯ９８４８３２０号、特許第３０２２４７７号の各公報に記載がある。反射型液晶表示装置に用いる光学補償シートについては、ＷＯ００−６５３８４号に記載がある。

（ハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルム）
本発明の光学フィルムは、またハードコートフィルム、防眩フィルム、反射防止フィルムへの適用が好ましく実施できる。ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴ、ＥＬ等のフラットパネルディスプレイの視認性を向上する目的で、本発明の光学フィルムの片面または両面にハードコート層、防眩層、反射防止層の何れかあるいは全てを付与することができる。このような防眩フィルム、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載されており、本発明の光学フィルムも好ましく用いることができる。

まず、本発明の実施例で用いている測定方法について記す。
＜透湿率＞
透湿率はＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法に則り、各試料の透湿率を測定し、面積１ｍ^２あたり２４時間でフィルムを透過する水分量（ｇ）として算出する。本実施例では温度は４０℃、相対湿度は９０％の条件で測定し、厚さ８０μｍのフィルムの透湿率に換算した。

＜重合度の測定方法＞
オストワルド粘度計にて測定したセルロースアシレートの固有粘度［η］から、次式により求める。
ＤＰ＝［η］／Ｋｍ
式中、［η］は、セルロースアシレートの固有粘度であり、Ｋｍは、定数６×１０^−４である。

＜セルロースアシレートの６％粘度の測定方法＞
メチレンクロライドとメタノールの質量比率９１対９の混合溶媒にセルロースアシレートを６質量％溶解し、オストワルド粘度計を用いて２５℃における流下時間を測定し、次式により６％粘度を算出する。
６％粘度（ｍＰａ・ｓ）＝流下時間（秒）×粘度計係数
粘度計係数は粘度計較正用標準液を用いて、上記溶液と同様の操作で流下秒数を測定して求める。
ここに、粘度計係数＝標準液の絶対粘度（ｃｐｓ）×溶液の密度（１．２３５ｇ／ｃｍ^３）／標準液の密度（ｇ／ｃｍ^３）／標準液の流下時間（秒）である。

以降、実施例１、２、４は、それぞれ、参考例１、２、４に読み替えるものとする。
［実施例１：冷却ゲル化法によるセルロースアシレートフィルムの製膜］
＜セルロースアシレート溶液の調製＞
メチレンクロライドを４３３質量部、メタノールを７５質量部、１−ブタノールを５質量部、表１に示したセルロースアシレートを１０６質量部及び、表１に示したレターデーション低下剤をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。この溶液をギアポンプで熱交換器に送り、９０ないし９５℃の温度に１０分間保った後、冷却熱交換器にて３０℃に冷却した。この溶液を平均孔径４７μｍのろ紙でろ過し、更に孔径１０μｍの金属メッシュフィルターでろ過して、セルロースアシレート溶液を調製した。この液を再びギアポンプで熱交換器に送り出し、溶液の温度を８２から８６℃に加温した後フラッシュ濃縮装置に導入して濃縮した。できたセルロースアシレート溶液の固形分濃度は２３．０から２４．０質量％の間であった。

＜マット剤溶液の調製＞
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）２０質量部及びメタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、平均孔径２０μｍの不織布フィルターでろ過し、マット剤溶液を調製した。

（マット剤溶液組成）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １２．０質量部
メチレンクロライド ６８．５質量部
メタノール １１．８質量部
１−ブタノール ０．７質量部
セルロースアシレート溶液 １１．３質量部

＜波長分散調整剤溶液の調製＞
表１に示した量の波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）を使用して下記組成の液を作成し、平均孔径４７μｍのろ紙でろ過した。
（波長分散調整剤溶液組成）
波長分散調整剤 ＵＶ−１０２ ７．３質量部
メチレンクロライド ５５．３質量部
メタノール ９．５質量部
１−ブタノール ０．６質量部
セルロースアシレート溶液 １２．８質量部

＜希釈用混合溶剤液の調製＞
下記組成の液を作成し、平均孔径１４μｍのろ紙でろ過し、希釈用混合溶剤液を調製した。
（希釈用混合溶剤液組成）
メチレンクロライド ８２質量部
メタノール １５質量部
１−ブタノール ３質量部

＜参考例のセルロースアシレートフィルムの作製＞
上記セルロースアシレート溶液７６．２質量部及び波長分散調整剤溶液（表１記載の量）をそれぞれスタチックミキサーで混合した。この混合液を乾燥後のフィルム厚さが目標厚さより６μｍ薄くなるように、３層重層流延用加圧ダイの中央部のスリットに送液した。一方同時に、セルロースアシレート溶液７６．２質量部、マット剤溶液（ＬＣ４）１．８質量部、波長分散調整剤溶液（表１記載の量）及び稀釈用混合溶剤液５質量部の割合で送液し、スタチックミキサーで混合した。この混合液を乾燥後のフィルム厚さが３μｍになるように、３層重層流延用加圧ダイの両端部のスリットにそれぞれ送液した。−１０℃に冷却したステンレスドラム上に均一に流延した。ゲル化したフィルムをドラムから剥離しテンター装置に固定した。この際、ドラム速度に比べてテンターの搬送速度を１．０６倍にした。テンター装置における乾燥温度は７０℃から段階的に１２５℃まで変化させた。テンター装置入口のフィルム幅に対して一旦１．０６倍にした後、乾燥進行に従って徐々に収縮させ、テンター出口のフィルム幅が入口幅よりも２％狭くなるようにした。テンター出口のフィルム揮発分は３から８％であった。テンター装置を出た後更に表１に示した乾燥温度で乾燥し巻き取った。このようにして参考例のフィルムＦ１及びＦ４を製膜した。巻き取り時の残留溶媒量は０．４％以下であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。できたフィルムの厚さ、レターデーション、透湿率及び弾性率を表２に示した。

［実施例２：バンド流延法によるセルロースアシレートフィルムの製膜］
＜セルロースアシレート溶液の調製＞
メチレンクロライドを４４５質量部、メタノールを７０質量部、表１に示したセルロースアシレートを１０６質量部及び、表１に示したレターデーション低下剤をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解した。この溶液をギアポンプで熱交換器に送り、９０ないし９５℃の温度に１０分間保った後、冷却熱交換器にて３０℃に冷却した。この溶液を平均孔径４７μｍのろ紙でろ過し、更に孔径１０μｍの金属メッシュフィルターでろ過して、セルロースアシレート溶液を調製した。

＜マット剤溶液の調製＞
分散液組成を下記に変更したほかは実施例１と同様にして、マット剤溶液を調製した。
（マット剤溶液組成）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 １２．０質量部
メチレンクロライド ７６．６質量部
メタノール １１．４質量部
セルロースアシレート溶液 １１．３質量部

＜波長分散調整剤溶液の調製＞
波長分散調整剤（ＵＶ−１０２）を使用して下記組成の液を作成し、平均孔径４７μｍのろ紙でろ過した。
（波長分散調整剤溶液組成）
波長分散調整剤 ＵＶ−１０２ ７．３質量部
メチレンクロライド ５５．３質量部
メタノール ８．３質量部
セルロースアシレート溶液 １２．８質量部

＜参考例のセルロースアシレートフィルムの作製＞
セルロースアシレート溶液７６．２質量部、マット剤溶液１．８及び波長分散調整剤溶液（表１記載の量）をそれぞれギアポンプでスタチックミキサーに送り、インライン混合した。この混合溶液を無端ステンレスバンド上に流延した。１００℃から１４０℃の風をあてて乾燥し、揮発分が４５から６５％の範囲で剥離してテンターでフィルム幅を固定した。テンターでは１４０℃の風邪を吹き込んで乾燥し、フィルム揮発分を１５から２０％にした。テンター装置を出た後更に１２０℃で、次いで表１に示した乾燥温度で乾燥し巻き取った。このようにして参考例のフィルムＦ２、Ｆ３、Ｆ５、Ｆ６及び比較例のフィルムＦ７を製膜した。巻き取り時の残留溶媒量は０．２％以下であった。フィルムの外観は鏡面のように滑らかで、異物はほとんど認められなかった。できたフィルムの厚さ、レターデーション、透湿率及び弾性率を表２に示した。

［実施例３：（熱溶融押し出し法による環状ポリオレフィンフィルムの製膜）］
ジェイエスアール製アートンＤ４５３２を９０℃で予熱したまま、内径５０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２８の単軸押出機を用いて溶融した。なお、入口側温度は２００℃、出口側温度は１４０℃であった。押出機の出口に焼結フィルター、ギアポンプを経てＴダイから押し出した。
冷却工程では３本の冷却ロールを用いた。これらの冷却ロールは、いずれも間隔が３ｃｍとなるように配置した。最もダイに近い第１冷却ロールの温度（１３０℃）、および第２冷却ロールの温度から第１冷却ロールの温度を引いた値は３℃、第２冷却ロールの温度から第３冷却ロールの温度を引いた値は１３℃であった。

また、これらのロールの搬送速度（第１冷却ロールの搬送速度（Ｓｒ_１＝５０ｍ／分）に対する、第２冷却ロールの搬送速度（Ｓｒ_２）と第１冷却ロールの搬送速度（Ｓｒ_１）との差の比（ΔＳｒ_２１（％）＝１００×（Ｓｒ_２−Ｓｒ_１）／Ｓｒ_１）は１％、第２冷却ロールの搬送速度
（Ｓｒ_２）に対する、第３冷却ロール（Ｓｒ_３）と第２冷却ロールの搬送速度（Ｓｒ_２）との差の比（ΔＳｒ_２３（％）＝１００×（Ｓｒ_２−Ｓｒ_３）／Ｓｒ_２）は１％であった。これらの冷却ロールは、すべて１２０℃のケーシング内に配置した。また、第１冷却ロールには、静電印加法を用い、第１冷却ロール上のシート幅１．７ｍに対し、０．１７ｍ幅だけ押圧した。
上記のようにして密に配置した冷却ロール間の冷却速度は２℃／秒であった。なお、冷却速度は、第１冷却ロールに設置したフィルム温度と、最終冷却ロールから剥ぎ取られる直前のシート温度との差を、この間を通過するのに要した時間で除した値で示した。

最終冷却ロールの後、ロール間隔０．５ｍで配置した間を冷却速度２℃／秒で搬送した。得られたフィルムの厚みは７９μｍであった。この後、片面にラミフィルムを付けた後、両端を１０％ずつトリミング（スリット）し巻き取った。このようにして実施例のフィルムＦ８を製膜した。

［実施例４：（セルロースアシレートフィルムを用いた偏光板の作製）］
実施例１及び２で得た参考例及び比較例のセルロースアシレートフィルム（Ｆ１〜Ｆ７）を、１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で２分間浸漬した。室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。このようにして、表面をケン化したセルロースアシレートフィルム（Ｆ１１〜Ｆ１７）を得た。市販のセルロースアセテートフィルムＴＤ８０ＵＦ（富士写真フィルム（株）製）にも同様の表面ケン化処理を行い、フィルム（Ｆ１０）を作成した。

続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光膜の片面にフィルム（Ｆ１１〜Ｆ１７）を、反対面にフィルム（Ｆ１０）を貼り合わせ、偏光板（Ｐ１〜Ｐ７）を得た。この際フィルム（Ｆ１０）及び比較例のフィルム（Ｆ１７）の遅相軸が偏光膜の透過軸と平行になるように貼り付けた。一方参考例のフィルム（Ｆ１１〜Ｆ１６）についてはＲｅが非常に小さいので、それらの遅相軸は明確にならなかった。

［実施例５：（環状ポリオレフィンフィルムを用いた偏光板の作製）］
＜環状ポリオレフィンフィルムの表面処理＞
実施例３で製膜した環状ポリオレフィンフィルム（Ｆ８）を、真鍮製の上下電極間（アルゴンガス雰囲気）で、グロー放電処理（周波数３０００Ｈｚ、４２００Ｖの高周波数電圧を上下電極間に引加、２０秒処理）した。グロー放電処理した環状ポリオレフィンフィルム（Ｆ１８）表面の純水の接触角は３６°から４１°の間であった。接触角は協和界面科学株式会社製の接触角計ＣＡ−Ｘ型により測定した。

続いて、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して偏光膜を得た。ポリビニルアルコール（クラレ製ＰＶＡ−１１７Ｈ）３％水溶液を接着剤として、偏光膜の片面にグロー処理したフィルム（Ｆ１８）を、反対面にフィルム（Ｆ１０）を貼り合わせ、偏光板（Ｐ８）を得た。この際フィルム（Ｆ１０）及び（Ｆ８）の遅相軸が偏光膜の吸収軸と平行になるように貼り付けた。

［実施例６：（液晶表示装置への組込み）］
＜対向偏光板の作製＞
偏光膜の両面に貼りあわせるフィルムを両方共に（Ｆ１０）（市販のセルロースアセテートフィルムをケン化したもの）にしたほかは、実施例５と同じようにして偏光板（Ｐ０）を作製した。

＜光学異方性フィルムフィルムの作製 Ｒ１＞
ポリカーボネートフィルムを延伸することにより、厚さ６０μｍ、面内位相差Ｒｅが２１０ｎｍ、Ｎｚ＝０．４８の光学異方性フィルムを得た。

＜ＩＰＳモード液晶セルの作製＞
一枚のガラス基板上に、隣接する電極間の距離が２０μｍとなるように電極を配設し、その上にポリイミド膜を配向膜として設け、ラビング処理を行なった。別に用意した一枚のガラス基板の一方の表面にポリイミド膜を設け、ラビング処理を行なって配向膜とした。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップ；ｄ）を３．９μｍとし、二枚のガラス基板のラビング方向が平行となるようにして重ねて貼り合わせ、次いで屈折率異方性（Δｎ）が０．０７６９及び誘電率異方性（Δε）が正の４．５であるネマチック液晶組成物を封入した。液晶層のｄ・Δｎの値は３００ｎｍであった。

＜ＩＰＳモード液晶表示装置１の組み立て＞
作製したＩＰＳモード液晶セルのバックライト側に、実施例４及び５で作成した参考例及び本発明の偏光板を、参考例、本発明あるいは比較例のフィルム（Ｆ１１〜Ｆ１８）が液晶セル側になるようにアクリル接着剤を用いて貼り付けた。ＩＰＳモード液晶セルの視認側には光学異方性フィルムＲ１をその上に偏光板Ｐ０を同様に貼り付けた。この際、電圧無印加時に液晶セル内の液晶組成物の異常光屈折率方向と偏光板の吸収軸が直交するように偏光板Ｐ０を積層した。また偏光板Ｐ０の吸収軸と光学異方性フィルムＲ１の吸収軸は直交するように配置した。
このようにして作成した液晶表示装置の黒の色味を極角６０度における全方位角方向で観察したところ、実施例のフィルムを使用した液晶表示装置は色味変化が殆ど感じられなかった。一方比較例のフィルムを使用した液晶表示装置は実施例のものよりも色味変化が大きかった。また極角６０度における全方位角方向で測定した黒表示時の輝度が、比較例のフィルムを使用した液晶表示装置ほうが実施例のフィルムを使用した液晶表示装置よりも大きかった。

＜ＩＰＳモード液晶表示装置２の組み立て＞
作製したＩＰＳモード液晶セルのバックライト側及び視認側に、実施例４及び５で作成した参考例及び本発明の偏光板を、参考例、本発明あるいは比較例のフィルム（Ｆ１１〜Ｆ１８）が液晶セル側になるように、アクリル系接着剤を用いて貼り付けた。
このようにして作成した液晶表示装置の黒の色味を極角６０度における全方位角方向で観察したところ、実施例のフィルムを使用した液晶表示装置は色味変化が殆ど感じられなかった。一方比較例のフィルムを使用した液晶表示装置は実施例のものよりも色味変化が大きかった。また極角６０度における全方位角方向で測定した黒表示時の輝度が、比較例のフィルムを使用した液晶表示装置ほうが実施例のフィルムを使用した液晶表示装置よりも大きかった。

１ 上側偏光板偏光フィルム
２ 上側偏光板偏光フィルム吸収軸
３ 上側偏光板液晶セル側保護フィルム
４ 上側偏光板液晶セル側保護フィルム遅相軸
５ 液晶セル上側基板
６ 上側基板液晶配向用ラビング方向
７ 液晶分子（液晶層）
８ 下側基板液晶配向用ラビング方向
９ 液晶セル下側基板
１０ 下側偏光板液晶セル側保護フィルム
１１ 下側偏光板液晶セル側保護フィルム遅相軸
１２ 下側偏光板偏光フィルム
１３ 下側偏光板偏光フィルムの吸収軸
１４ 線状電極
１５ 絶縁層
１６ 電極
１７ 電界方向

Claims (4)

1. ポリマーとしての環状ポリオレフィンを熱溶融製膜法により製膜してなり、
   ０≦Ｒｅ（６３０）≦１０であり、９≦Ｒｔｈ（６３０）≦１７であり、且つ
   ４８０から７５０ｎｍの全光波長領域において−１０≦Ｒｔｈ（λ）≦２０であることを特徴とする光学ポリマーフィルム［式中、Ｒｅ（λ）は波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈ（λ）は波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］。
2. グロー放電表面処理後における純水との接触角が５０°未満であることを特徴とする請求項１に記載の光学ポリマーフィルム。
3. 請求項１又は２に記載の光学ポリマーフィルムを少なくとも１枚、偏光子の保護膜として用いたことを特徴とする偏光板。
4. 請求項１又は２に記載の光学ポリマーフィルム、または請求項３に記載の偏光板を少なくとも１枚用いたことを特徴とするＩＰＳモード液晶表示装置。

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