JP4832210B2 - 光学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置 - Google Patents

Description

本発明は、光学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能など様々な利点からパー
ソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このよ
うな液晶表示装置は液晶セル内の液晶分子の配列状態により様々なモードが提案されてい
るが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になる
ＴＮモードが主流であった。
一般に液晶表示装置は液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償シ
ートは画像着色を解消したり、視野角を拡大するために用いられており、延伸した複屈折
フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。例えば、特許文献
１ではディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて固
定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示さ
れている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液
晶表示装置は視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求
を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉ
ｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モ
ード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなど、ＴＮモードとは異な
る液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、比較的製造の
歩留まりが高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。

しかしながらＶＡモードではパネル法線方向においてはほぼ完全な黒色表示ができるも
のの、斜め方向からパネルを観察すると光漏れが発生し、視野角が狭くなるという問題が
あった。この問題を解決するためにｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚとなる正の屈折率異方性を有する第
一の位相差板とｎｘ＝ｎｙ＞ｎｚとなる負の屈折率異方性を有する第２の位相差板とを併
用することにより光漏れを低減する方法が提案されている（例えば特許文献１）。さらに
ｎｘ＞ｎｙ＞ｎｚの光学的に二軸の位相差板を用いることによりＶＡモードの液晶表示装
置の視野角特性を向上することが提案されている（例えば特許文献２）。ここでｎｘ，ｎ
ｙ，ｎｚはそれぞれ前記位相差板における、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向およびＺ軸方向の屈折率
を示す。前記Ｘ軸方向は前記位相差板の面内方向において最大の屈折率を示す軸方向であ
り、前記Ｙ軸方向は、前記面内における前記Ｘ軸方向に対して垂直な軸方向であり、前記
Ｚ軸方向は前記Ｘ軸方向および前記Ｙ軸方向に垂直な厚み方向を示す。
一方ＩＰＳ方式、ＯＣＢ方式も含めた各液晶方式も近年の液晶テレビの需要増に伴い、
表示方式を向上させてきている（特許文献３〜１７）。
しかしながらこれらの方法はある波長域（例えば５５０ｎｍ付近の緑光）に対して光漏
れを低減しているのみであり、それ以外の波長域（例えば４５０ｎｍ付近の青光、６５０
ｎｍ付近の赤光）に対する光漏れは考慮していない。このため例えば黒表示をして斜めか
ら観察すると、青色や赤色に着色するいわゆるカラーシフトの問題が解決されていなかっ
た。

また、液晶ディスプレイ用位相板は、鮮明な色彩と精細な画像を得るために、複屈折性
層の全面が光学的に均一であるとともに、温度や湿度の変化によっても光学的特性が変化
しないことが必要である。従来、このような位相板の合成樹脂材料として、特許文献１８
のような熱可塑性樹脂フィルムの使用が提案されている。
しかしながら、特許文献１８のようなフィルムでも、前述のカラーシフトの問題は解決
されなかった。

特許３０２７８０５号公報 特許３３３０５７４号公報 特開平９−２１１４４４号公報 特開平１１−３１６３７８号公報 特開平２−１７６６２５号公報 特開平１１−９５２０８号公報 特開２００３−１５１３４号公報 特開平１１−９５２０８号公報 特開平２００２−２２１６２２号公報 特開平９−８０４２４号公報 特開平１０−５４９８２号公報 特開平１１−２０２３２３号公報 特開平９−２９２５２２号公報 特開平１１−１３３４０８号公報 特開平１１−３０５２１７号公報 特開平１０−３０７２９１号公報 特開２０００−１３７１１６号公報 特許第３２７３０４６号公報

本発明はこのような事情に鑑みなされたもので、温度や湿度の変化によっても光学的特
性が変化せず、広範囲にわたり高いコントラスト比を有し、カラーシフトを抑制可能な光
学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置の提供を目的とする。

本発明は、以下のとおりである。
（１）下記式（Ａ）〜（Ｄ）のレターデーションを満たし、かつ熱可塑性ノルボルネン系樹脂を用いて形成されたことを特徴とする光学樹脂フィルム。
（Ａ）０．１＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９５
（Ｂ）１．０３＜Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．９３
（Ｃ）０．４＜（Ｒｅ（４５０）／Ｒｔｈ（４５０））／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））＜０．９５
（Ｄ）１．０５＜（Ｒｅ（６５０）／Ｒｔｈ（６５０）／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））＜１．９
（式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する該フィルムの面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する該フィルムの厚み方向のレターデーション値である（単位：ｎｍ）。）
（２）前記光学樹脂フィルムが延伸されて形成されたことを特徴とする前記（１）に記載の光学樹脂フィルム。
（３）前記延伸が、光学樹脂フィルムの長手方向に対して−１０〜１０°の角度で自由端一軸延伸することにより行われたものであることを特徴とする前記（２）に記載の光学樹脂フィルム。
（４）前記延伸が、光学樹脂フィルムの長手方向に対して８０〜１００°の角度で延伸し、搬送方向に緩和することにより行われたものであることを特徴とする前記（２）に記載の光学樹脂フィルム。
（５）光学樹脂フィルムの少なくとも一方の面に光学異方性層を積層したことを特徴とする前記（１）〜（４）のいずれかに記載の光学樹脂フィルム。
（６）Ｒｅ（５９０）およびＲｔｈ（５９０）が、下記数式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たすことを特徴とする前記（１）〜（５）のいずれかに記載の光学樹脂フィルム。
数式（Ｉ） ：２０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦２００ｎｍ
数式（ＩＩ） ：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦４００ｎｍ
（７）膜厚が１０〜１５０μｍである前記（１）〜（６）のいずれかに記載の光学樹脂フィルム。
（８）前記（１）〜（７）のいずれかに記載の光学樹脂フィルムの少なくとも１枚と、偏光子とを有する偏光板。
（９）表面にハードコート層、防眩層および反射防止層から選択された少なくとも一層を設けたことを特徴とする前記（８）に記載の偏光板。
（１０）前記（１）〜（７）のいずれかに記載の光学樹脂フィルム、または、前記（８）もしくは（９）に記載の偏光板、のいずれかを用いた液晶表示装置。
（１１）前記（１）〜（７）のいずれかに記載の光学樹脂フィルム、または、前記（８）もしくは（９）に記載の偏光板、のいずれかを用いたＶＡ液晶表示装置。
なお、本発明は上記（１）〜（１１）に関するものであるが、参考のためその他の事項についても記載した。

また、本明細書において、Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）
製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は前記Ｒｅ（λ）、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基にＫＯＢＲＡ・２１ＡＤＨが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ，ｎｙ，ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。

本発明は、本発明者らの鋭意検討の結果得られた知見に基づいて完成されたものであり
、素材や製造方法を適宜選択する等により、光学樹脂フィルムの面内のレターデーション
と厚み方向のレターデーションの波長分散を独立に制御し、その光学的な最適値を求め、
液晶セル、特にＶＡモードの液晶セルの黒状態の視角補償をほぼ全ての波長において可能
にするものである。その結果、本発明の液晶表示装置は、黒表示時の斜め方向の光抜けが
軽減され、視野角コントラストが著しく改善されている。また、本発明の液晶表示装置は
、黒表示時の斜め方向の光抜けをほぼ全ての可視光波長領域で抑えることができるため、
従来問題であった視野角に依存した黒表示時の色ずれが大きく改善されている。
したがって本発明によれば、温度や湿度の変化によっても光学的特性が変化せず、広範囲にわたり高いコントラスト比を有し、カラーシフトを抑制可能な光学樹脂フィルム、これを用いた偏光板および液晶表示装置を提供することができる。

以下、図面を用いて本発明の作用を説明する。図１は、一般的なＶＡモードの液晶表示
装置の構成を示す模式図である。ＶＡモードの液晶表示装置は、電圧無印加時、即ち黒表
示時に、液晶が基板面に対して垂直配向する液晶層を有する液晶セル３と、該液晶セル３
を挟持し、且つ互いの透過軸方向（図１では縞線で示した）を直交させて配置された偏光
板１及び偏光板２とを有する。図１中、光は、偏光板１側から入射するものとする。電圧
無印加時に、法線方向、即ち、ｚ軸方向に進む光が入射した場合、偏光板１を通過した光
は、直線偏光状態を維持したまま、液晶セル３を通過し、偏光板２において完全に遮光さ
れる。その結果、コントラストの高い画像を表示できる。

しかし、図２に示す様に、斜光入射の場合には状況が異なる。光が、ｚ軸方向でない斜
め方向、即ち、偏光板１および２の偏光方向に対して斜めの方位（いわゆるＯＦＦ ＡＸ
ＩＳ）から入射する場合、入射光は、液晶セル３の垂直配向した液晶層を通過する際に、
斜め方向のレターデーションの影響を受け、その偏光状態が変化する。さらに、偏光板１
と偏光板２の見かけの透過軸が直交配置からずれる。この２つの要因のため、ＯＦＦ Ａ
ＸＩＳにおける斜め方向からの入射光は、偏光板２で完全に遮光されず、黒表示時に光抜
けが生じ、コントラストを低下させることになる。

ここで、極角と方位角を定義する。極角はフィルム面の法線方向、即ち、図１及び図２
中のｚ軸からの傾き角であり、例えば、フィルム面の法線方向は、極角＝０度の方向であ
る。方位角は、ｘ軸の正の方向を基準に反時計回りに回転した方位を表しており、例えば
ｘ軸の正の方向は方位角＝０度の方向であり、ｙ軸の正の方向は方位角＝９０度の方向で
ある。前述したＯＦＦ ＡＸＩＳにおける斜め方向とは、極角が０度ではない場合で且つ
、方位角＝４５度、１３５度、２２５度、３１５度の場合を主に指す。

図３に、本発明の作用を説明するための構成例についての模式図を示す。図３の構成は
、図１の構成に、液晶セル３と偏光板１との間に光学樹脂フィルム（以下、光学補償フィ
ルムともいう）４を配置した構成である。光学補償フィルム４は、前記のように、
（Ａ）０．１＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９５
（Ｂ）１．０３＜Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．９３
（Ｃ）０．４＜（Ｒｅ／Ｒｔｈ（４５０））／（Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０））＜０．９５
（Ｄ）１．０５＜（Ｒｅ／Ｒｔｈ（６５０）／（Ｒｅ／Ｒｔｈ（５５０））＜１．９
の関係を満たしている。
本発明は、前記光学特性を有する光学補償フィルムを用いることによって、斜め方向に
入射したＲ、Ｇ、Ｂ各波長の光について、各波長ごとに異なった遅相軸及びレターデーシ
ョンで光学補償することを可能としている。その結果、従来の液晶表示装置と比較して、
黒表示の視角コントラストを格段に向上されるとともに、さらに黒表示の視角方向におけ
る色づきも格段に軽減される。ここで、本明細書においては、Ｒ、Ｇ、Ｂの波長として、
Ｒは波長６５０ｎｍ、Ｇは波長５５０ｎｍ、Ｂは波長４５０ｎｍを用いた。Ｒ、Ｇ、Ｂの
波長は必ずしもこの波長で代表されるものではないが、本発明の効果を奏する光学特性を
規定するのに適当な波長であると考えられる。

特に、本発明では、ＲｅとＲｔｈの比であるＲｅ／Ｒｔｈに着目している。これは、Ｒ
ｅ／Ｒｔｈの値は、２軸性複屈折媒体を斜め方向に進む光の伝播における２つの固有偏光
の軸を決定するものだからである。図４に本発明で用いられる光学補償フィルムに、斜め
方向に進む光が入射した場合における、２つある固有偏光の１つの軸の方向とＲｅ／Ｒｔ
ｈの関係を計算した結果の一例を示す。なお、光の伝播方向を、方位角＝４５度、極角＝
３４度と仮定した。図４に示す結果から、Ｒｅ／Ｒｔｈが決まれば、固有偏光の１つの軸
が決まることがわかる。光学補償フィルムを通過することによって入射光の偏光状態がど
のように変化するかは、該光学補償フィルムの面内遅相軸方位及び該光学補償フィルムの
レターデーションによって主に決定される。本発明では、Ｒ、Ｇ、Ｂ各波長について、Ｒ
ｅ／Ｒｔｈの関係を規定することで、偏光状態の変化を主に決定するファクターである、
面内遅相軸及びレターデーションの双方をＲ、Ｇ、Ｂ各波長において最適化している。そ
の結果、斜め方向から光が入射し、液晶層の斜め方向のレターデーションの影響を受け、
且つ偏光板１と偏光板２の見かけの透過軸がずれているという２つの要因がある場合であ
っても、一の光学補償フィルムによる完全な補償を可能とし、コントラストの低下を軽減
している。Ｒ、Ｇ、Ｂで可視光全領域を代表させてフィルムのパラメータを決めれば、可
視光全領域でほぼ完全な補償をすることができるということになる。

なお、ＶＡモードは、電圧無印加時、即ち黒表示時に液晶が垂直配向しているので、黒
表示時に、法線方向から入射した光の偏光状態が、光学補償フィルム４のレターデーショ
ンによって影響されないように、光学補償フィルム４の面内遅相軸を、偏光板１又は偏光
板２と垂直または平行にするのが好ましい。偏光板２と液晶セル３との間にも光学補償フ
ィルムを配置してもよく、かかる場合も、光学補償フィルムの面内遅相軸を、偏光板１又
は偏光板２と垂直または平行にするのが好ましい。

図５に、図３の構成における補償機構について、ポアンカレ球を用いて説明した図を示
す。ここで、光の伝播方向は方位角＝４５度、極角＝３４度である。図５中、Ｓ２軸は、
紙面上から下に垂直に貫く軸であり、図５は、ポアンカレ球を、Ｓ２軸の正の方向から見
た図である。また、図５は、平面的に示されているので、偏光状態の変化前と変化後の点
の変位は、図中直線の矢印で示されているが、実際は、液晶層や光学補償フィルムを通過
することによる偏光状態の変化は、ポアンカレ球上では、それぞれの光学特性に応じて決
定される特定の軸の回りに、特定の角度回転させることで表される。

図３中の偏光板１を通過した入射光の偏光状態は、図５では点（ｉ）に相当し、図３中
の偏光板２の吸収軸によって遮光される偏光状態は、図５では点（ii）に相当する。従来、ＶＡモードの液晶表示装置において、斜め方向におけるＯＦＦ ＡＸＩＳの光抜けは、この点（ｉ）と点（ii）がずれていることに起因する。光学補償フィルムは、一般的に、液晶層における偏光状態の変化も含めて、入射光の偏光状態を点（ｉ）から点（ii）に変化させるために用いられる。液晶セル３の液晶層は正の屈折率異方性を示し、垂直配向しているので、液晶層を通過することによる入射光の偏光状態の変化は、ポアンカレ球上では、図５中の上から下への矢印で示され、Ｓ１軸回りの回転として表される。従って、液晶層を通過後の可視光が、偏光板２で完全に遮光されるには、回転前の出発点は、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれについて、点（ii）をＳ１軸回りに回転した線上になくてはならない。また、その回転角度は、液晶層の斜め方向からの実効的なレターデーションΔｎ’ｄ’を波長で割った値Δｎ’ｄ’／λに比例するので、波長が異なるＲ、Ｇ、Ｂの各波長においては、回転角度は一致しない。従って、回転後に、Ｒ、Ｇ、Ｂそれぞれの偏光状態が全て点（ii）となるためには、図５に示す様に、回転前のＲ、Ｇ、Ｂそれぞれの偏光状態が、点（ii）をＳ１軸回りに回転した線上であって、且つそれぞれの回転角度に応じた点に位置する必要がある。本発明では、光学補償フィルム４を通過した後、液晶セル３を通過する前のＲ、Ｇ、Ｂそれぞれの偏光状態を、上記した偏光状態とするために、Ｒ、Ｇ、ＢそれぞれのＲｅ／Ｒｔｈが一定の関係を満たす光学補償フィルムを配置して、光学補償を行っている。

一方、従来技術の一例について、同様に図６に示す。図６に示す例は、波長に対しＲｅ
／Ｒｔｈが一定の光学補償フィルムを用いた場合の例である。この場合、例えば、光学補
償フィルムの光学特性を、Ｇ光について、液晶層による回転前の出発点が、点（ii）をＳ１軸回りに回転した線上に位置する様に調整しても、Ｒ光及びＢ光については、かかる線上に位置させることはできない。従って、液晶層を通過したＲ及びＢ光は、点（ii）の偏光状態には変化せず、偏光板の吸収軸によって完全に遮光することはできない。その結果、Ｒ光及びＢ光の光抜けが生じ、黒表示で色ずれが生じることになる。Ｒ光及びＢ光のみに対して最適化した光学補償フィルムを使用しても同様である。

本発明は、入射光が法線方向とそれに対して傾いた斜め方向、例えば極角６０度方向と
で、レターデーションの波長分散が異なる光学特性をフィルムに持たせ、それを光学補償
に積極的に用いることを特徴としている。本発明の範囲は、液晶層の表示モードによって
限定されず、ＶＡモード、ＩＰＳモード、ＥＣＢモード、ＴＮモードおよびＯＣＢモード
等、いずれの表示モードの液晶層を有する液晶表示装置にも用いることができる。

次に、本発明の光学樹脂フィルムについて、光学特性、原料、製造方法等について、よ
り詳細に説明する。
本発明の光学樹脂フィルムは、液晶表示装置、特にＶＡモードの液晶表示装置の視野角
コントラストの拡大、及び視野角に依存した色ずれの軽減に寄与する。本発明の光学樹脂
フィルムは、観察者側の偏光板と液晶セルとの間に配置しても、背面側の偏光板と液晶セ
ルとの間に配置してもよいし、双方に配置してもよい。例えば、独立の部材として液晶表
示装置内部に組み込むこともできるし、また、偏光子を保護する保護フィルムに、前記光
学特性を付与して光学補償フィルムとしても機能させて、偏光板の一部材として、液晶表
示装置内部に組み込むこともできる。

本発明の光学樹脂フィルムは、上記式（Ａ）〜（Ｄ）を用いると、 ０．１＜（Ａ）
＜０．９５、１．０３＜（Ｂ）＜１．９３、０．４＜（Ｃ）＜０．９５、１．０５＜（Ｄ
）＜１．９、であることが好ましく、更に好ましくは０．１５＜（Ａ）＜０．９５、１．
０８＜（Ｂ）＜１．９３、０．４５＜（Ｃ）＜０．９５、１．１０＜（Ｄ）＜１．９、で
あることが好ましく、特に好ましくは０．２＜（Ａ）＜０．９５、１．１５＜（Ｂ）＜１
．９３、０．５＜（Ｃ）＜０．９５、１．１５＜（Ｄ）＜１．９ である。

また、光学樹脂フィルム全体の厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ）は、液晶層のレ
ターデーションをキャンセルさせるのに相当しているのが好ましいので、各液晶層の態様
、光学補償フィルムの使用枚数によって好ましい範囲も異なる。例えば、ＶＡモードの液
晶セル（例えば、厚みｄ（μｍ）と屈折率異方性Δｎとの積Δｎ・ｄが０．２〜１．０μｍである液晶層を有するＶＡモードの液晶セル）の光学補償に用いられる場合は、７０〜４００ｎｍであるのが好ましく、１００ｎｍ〜４００ｎｍであるのがより好ましく、１００〜３００ｎｍであるのがさらに好ましい。また、Ｒｅレターデーション値については特に制限はないが、一般的には２０〜１１０ｎｍであり、好ましくは２０〜７０ｎｍであり、より好ましくは５０〜７０ｎｍである。また、光学樹脂フィルムの厚みに関しては、特に制限はないが、例えば１０〜１５０μｍであり、好ましくは４０〜１１０μｍであり、より好ましくは６０〜１１０μｍであり、８０〜１１０μｍであることが好ましい。

本発明において、光学樹脂フィルムは、例えば、延伸複屈折ポリマーフィルムであって
もよい。また、光学樹脂フィルムは単層構造に限定されるものではなく、複数の層を積層
した積層構造を有していてもよい。積層構造の態様では、各層の素材は同種でなくてもよ
く、例えば、ポリマーフィルムと液晶性化合物からなる光学異方性層との積層体であって
もよい。

前記光学樹脂フィルムの作製に液晶性化合物を用いた場合は、液晶性化合物には多様な
配向形態があるので、液晶性化合物を特定の配向状態に固定して作製した光学異方性層は
、単層でまたは複数層の積層体により、所望の光学的性質を発現する。即ち、前記光学樹
脂フィルムは、支持体と該支持体上に形成された１以上の光学異方性層とからなる態様で
あってもよい。かかる態様の光学樹脂フィルム全体のレターデーションは、光学異方性層
の光学異方性によって調整することができる。液晶性化合物は、その分子の形状から、棒
状液晶化合物と円盤状液晶化合物に分類できる。さらにそれぞれ低分子と高分子タイプが
あり、いずれも使用することができる。前記光学樹脂フィルムの作製に液晶性化合物を使
用する場合は、棒状液晶化合物または円盤状液晶性化合物を用いることが好ましく、重合
性基を有する棒状液晶化合物または重合性基を有する円盤状液晶性化合物を用いるのがよ
り好ましい。

本発明の光学樹脂フィルムを形成する材料としては、シクロオレフィン化合物の重合体
または共重合体を用いるものである。
[シクロオレフィン化合物]
シクロオレフィン化合物としては、ノルボルネン、ジシクロペンタジエン、テトラシク
ロドデセン、エチルテトラシクロドデセン、エチリデンテトラシクロドデセン、テトラシ
クロ〔７．４．０．１^{１０，１３}．０^２，７〕トリデカ−２，４，６，１１−テトラエンなどの多環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体；シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘキセン、３，４−ジメチルシクロペンテン、３−メチルシクロヘキセン、２−（２−メチルブチル）−１−シクロヘキセン、シクロオクテン、３ａ，５，６，７ａ−テトラヒドロ−４，７−メタノ−１Ｈ−インデン、シクロヘプテン、シクロペンタジエン、シクロヘキサジエンなどの単環構造の不飽和炭化水素及びその誘導体等が挙げられる。これらシクロオレフィン化合物には置換基として極性基を有していてもよい。極性基としては、ヒドロキシル基、カルボキシル基、アルコキシル基、エポキシ基、グリシジル基、オキシカルボニル基、カルボニル基、アミノ基、エステル基、カルボン酸無水物基など、並びにそれらの組み合わせから形成される基（例えば、アミド基、イミド基等）が挙げられ、特に、エステル基、カルボキシル基又はカルボン酸無水物基が好適である。

本発明に用いる重合体または共重合体は、シクロオレフィン化合物以外の単量体を付加
共重合したものであってもよい。付加共重合可能な単量体としては、エチレン、プロピレ
ン、１−ブテン、１−ペンテンなどのエチレンまたはα−オレフィン；１，４−ヘキサジ
エン、４−メチル−１，４−ヘキサジエン、５−メチル−１，４−ヘキサジエン、１，７
−オクタジエンなどのジエン等が挙げられる。

本発明に用いる重合体または共重合体は、付加重合反応あるいはメタセシス開環重合反
応によって得られる。重合は触媒の存在下で行われる。付加重合用触媒として、例えば、
バナジウム化合物と有機アルミニウム化合物とからなる重合触媒などが挙げられる。開環
重合用触媒として、ルテニウム、ロジウム、パラジウム、オスミウム、イリジウム、白金
などの金属のハロゲン化物、硝酸塩またはアセチルアセトン化合物と、還元剤とからなる
重合触媒；あるいは、チタン、バナジウム、ジルコニウム、タングステン、モリブデンな
どの金属のハロゲン化物またはアセチルアセトン化合物と、有機アルミニウム化合物とか
らなる重合触媒などが挙げられる。重合温度、圧力等は特に限定されないが、通常−５０
℃〜１００℃の重合温度、０〜５０ｋｇｆ／ｃｍ^２の重合圧力で重合させる。

本発明に用いる重合体または共重合体は、質量平均分子量が２００〜２００００である
のが好ましく、５００〜１８０００がさらに好ましい。

本発明に用いる重合体または共重合体は、熱可塑性ノルボルネン系樹脂を好ましく用い
ることが出来る。熱可塑性ノルボルネン系樹脂としては、日本ゼオン（株）社製のゼオネ
ックス、ゼオノアやＪＳＲ（株）製のアートン等があげられる。これらの他に下記一般式（１）の構造を少なくとも一種類含むポリマーがあげられる。

一般式（１）

式中、ｗ、ｘ、ｙ、及びｚは、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有してもよいアリール基、または極性基であり、ｗ、ｘ、ｙ、及びｚの少なくとも１つは芳香族化合物の水素離脱体を前記置換基または水素原子の置換基として含み、ｗ、ｘ、ｙ、ｚは互いに結合して環を形成してもよい。前記芳香族化合物は、２５０ｎｍ〜４００ｎｍに極大吸収波長を有し、そのモル吸光係数が１０〜１０００００である。ｍは０または１を表す。
また、該芳香族化合物は、芳香族複素化合物も包含される。該芳香族化合物としては、上記光学特性を有するものであれば、特に制限はない。
上記極性基としては、前記したものが挙げられる。

一般式（１）の構造を少なくとも一種類含むポリマーの具体例を以下にしめすが、これに限定されない。なお、括弧の数値は共重合における各ユニットのモル比を示す。括弧の数値のないものは、単一ユニットによるホモポリマーである。

本発明に用いる重合体または共重合体は、シクロオレフィン化合物単量体に光または熱
によって架橋反応をする架橋性基を設け、架橋によって該単量体を重合させて疑似的な所
望の分子量のポリマーとすることもできる。

上記の架橋性基としては、重合性不飽和二重結合基またはエポキシ基が挙げられ、例え
ば、ビニル基、アリル基等のアルケニル基、アクリル酸残基、メタクリル酸残基が挙げら
れる。

重合性不飽和二重結合基またはエポキシ基を有するシクロオレフィン化合物は、熱また
は紫外線等によって特に開始剤を用いずに重合してもよいが、必要に応じてアゾビスイソ
ブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、過酸化ベンゾイル（ＢＰＯ）のようなラジカル重合触媒、
アニオン重合触媒、カチオン重合触媒を用いてもよい。

光重合開始剤として好ましくは、ベンゾイン誘導体、イルガキュア６５１のようなベン
ジルケタール誘導体、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（イルガキュア１８
４）のようなα−ヒドロキシアセトフェノン誘導体、イルガキュア９０７のようなα−アミノアセトフェノン誘導体などが挙げられる。

本発明においては、このような架橋性基として重合性不飽和二重結合基またはエポキシ
基を有するシクロオレフィン化合物は、特に反応性の観点から、これら重合性不飽和二重
結合基またはエポキシ基を有する置換基を複数有しているシクロオレフィン化合物が好ま
しい。

これらの重合性不飽和二重結合基またはエポキシ基を有するシクロオレフィン化合物は
、単独あるいは２種以上混合して用いることができる。

本発明に係る不飽和二重結合性基またはエポキシ基を有するシクロオレフィン化合物を
光重合させる場合、エネルギー線として、例えば紫外線を照射する手法を用いることがで
きる。紫外線照射源は低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ラ
ンプ、キセノンランプ、カーボンアーク、メタルハライドランプ、太陽光線等を挙げるこ
とが出来る。紫外線を照射による光重合は、空気または不活性気体中で行うことが出来る
が、不飽和二重結合性基を有するシクロオレフィン化合物を使用する場合には、空気中で
もよいが、重合の誘導期を短くするために窒素置換などにより出来るだけ酸素濃度が少な
くした環境がのぞましい。照射する紫外線の照射強度は０．１〜２００ｍＷ／ｃｍ²程度
が良く、照射量は１００〜３００００ｍＪ／ｃｍ²程度が好ましい。

［添加剤］
本発明の光学樹脂フィルムは前記重合体または共重合体（ポリマー）を熱溶融して製膜
しても良いし、ポリマーを均一に溶解した溶液から溶液製膜（ソルベントキャスト法）に
よって製膜しても良い。熱溶融製膜の場合は種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下
する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調
整剤など）を熱溶融時に加えることができる。
一方、光学樹脂フィルムを溶液から調整する場合は、ポリマー溶液（以下、ドープとい
う）には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学的異方性を低下
する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調
整剤など）を加えることができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れ
でも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程
を加えて行ってもよい。
特に前記式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）記載の所望の波長分散性を得るためには、
波長分散調整剤をフィルム中に添加することが好ましく行われる。

［波長分散調整剤］
本発明の光学樹脂フィルムに好ましく用いられる波長分散調整剤について説明する。
上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量
が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に
好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子
量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数
結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。

波長分散調整剤は、本発明の光学樹脂フィルムの製膜のいずれの過程においても揮散し
ないことが好ましい。

（化合物添加量）
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、フィルム固形分（主
にポリマー）の０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％である
ことがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。

（化合物添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して
用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、
ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾ
ール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン
系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本
発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

ベンゾトリアゾール系化合物としては、一般式（１０１）で表される化合物が、本発明
の波長分散調整剤として好ましく用いられる。

一般式（１０１）
Ｑ^1e−Ｑ^2e−ＯＨ

式中、Ｑ^1eは含窒素芳香族ヘテロ環であり、Ｑ^2eは芳香族環である。

Ｑ^1eは含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは５〜７員の含窒素芳香族ヘテロ環
であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール
、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール
、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、
チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベン
ズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、
トリアザインデン、テトラザインデン等が挙げられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香
族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール
、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾ
ール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾ
ールである。

Ｑ^1eで表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後
述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環
を形成してもよい。

Ｑ^2eで表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これ
らは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環又は二環の芳香
族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ま
しくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化
水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環であ
る。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリ
ジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、
プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキ
サジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キ
ナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テト
ラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリア
ゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジ
ン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^2eであらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましく
はナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ^2eは更に置換
基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。

置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素
数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロ
ピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは
炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、
例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニ
ル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素
数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール
基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数
６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）
、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１
０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ
、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、
例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好まし
くは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２で
あり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１
２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、
アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、
特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より
好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキ
シカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より
好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、
ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、
より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチル
アミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ま
しくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２
であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好まし
くは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。
）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、
特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホ
ニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より
好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイ
ル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙
げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜
１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル
、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基
（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１
〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（
好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜
１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素
数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例
えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０
、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタン
スルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭
素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、
例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミ
ド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素
数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられ
る。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム
酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０
、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫
黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モ
ルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられ
る。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に
好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルな
どが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置
換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結
して環を形成してもよい。

一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である
。

（式中、Ｒ^1e、Ｒ^2e、Ｒ^3e、Ｒ^4e、Ｒ^5e、Ｒ^6e、Ｒ^7e、およびＲ^8eはそれぞれ独立に水素
原子または置換基を表す。）

Ｒ^1e、Ｒ^2e、Ｒ^3e、Ｒ^4e、Ｒ^5e、Ｒ^6e、Ｒ^7e、Ｒ^8e、およびＲ^9eはそれぞれ独立に水素
原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置
換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成し
てもよい。
Ｒ^1eおよびＲ^3eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アル
キルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素
１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭
素数４〜１２）である。

Ｒ^2eおよびＲ^4eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アル
キルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素
１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは
水素原子である。

Ｒ^5eおよびＲ^8eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アル
キルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素
１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは
水素原子である。

Ｒ^6eおよびＲ^7eとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アル
キルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロ
ゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。

一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物で
ある。

（式中、Ｒ^1e、Ｒ^3e、Ｒ^6eおよびＲ^7eは一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であ
り、また好ましい範囲も同様である。）

以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に
何ら限定されるものではない。

以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含
まずに光学樹脂フィルムを作製した場合、保留性の点で有利であることが確認された。

また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物として
は一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。

（式中、Ｑ^1fおよびＱ^2fはそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ^fはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）

Ｑ^1fおよびＱ^2fで表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。
また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ^1fおよびＱ^2fで表される芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜
３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げ
られる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは
炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。

Ｑ^1fおよびＱ^2fで表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるい
は硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体
例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリ
ジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、
プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキ
サジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キ
ナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テト
ラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリア
ゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジ
ン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^1fおよびＱ^2fであらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、よ
り好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置
換のベンゼン環である。
Ｑ^1fおよびＱ^2fは更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましいが、置換基に
カルボン酸やスルホン酸、４級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には
置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

Ｘ^fはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用
できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘ^fとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好
ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、ま
たはＯであり、特に好ましくはＯである。

置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素
数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロ
ピル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピ
ル、シクロペンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは
炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、
例えばビニル、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニ
ル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素
数２〜８であり、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール
基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数
６〜１２であり、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）
、置換又は未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１
０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ
、ジエチルアミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、
例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好まし
くは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２で
あり、例えばフェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好
ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１
２であり、例えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、
アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、
特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニル
などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より
好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキ
シカルボニルなどが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より
好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、
ベンゾイルオキシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、
より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチル
アミノ、ベンゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ま
しくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２
であり、例えばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボ
ニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好まし
くは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。
）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、
特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホ
ニルアミノなどが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より
好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイ
ル、メチルスルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙
げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜
１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル
、ジエチルカルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基
（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１
〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（
好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜
１２であり、例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素
数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例
えばメシル、トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０
、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタン
スルフィニル、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭
素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、
例えばウレイド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミ
ド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素
数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられ
る。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭
素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム
酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０
、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫
黄原子、具体的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モ
ルホリノ、ベンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられ
る。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に
好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルな
どが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置
換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結
して環を形成してもよい。

一般式（１０２）として好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である
。

（式中、Ｒ^１ｆ、Ｒ^２ｆ、Ｒ^３ｆ、Ｒ^４ｆ、Ｒ^５ｆ、Ｒ^６ｆ、Ｒ^７ｆ、Ｒ^８ｆおよびＲ^９ｆはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｒ^1f、Ｒ^2f、Ｒ^3f、Ｒ^4f、Ｒ^5f、Ｒ^6f、Ｒ^7f、Ｒ^8fおよびＲ^9fはそれぞれ独立に、水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ^1f、Ｒ^3f、Ｒ^4f、Ｒ^5f、Ｒ^6f、Ｒ^8fおよびＲ^9fとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^2fとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０の
アミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキ
シ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素
数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ^7fとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール
基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハ
ロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０の
アミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキ
シ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数
１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好まし
くはメチル基、水素原子である。

一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物で
ある。

（式中、Ｒ^10fは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケ
ニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）

Ｒ^10fは水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基
、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基とし
ては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ^10fとして好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数
５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換
または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、
ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好まし
くは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（２−エチルヘキシル基、ｎ−オ
クチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（１０２）であらわされる化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の
方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に
何ら限定されるものではない。

また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては
一般式（１０３）で示されるものが好ましく用いられる。

（式中、Ｑ^1gおよびＱ^2gはそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ^1gおよびＸ^2gは水素原子ま
たは置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、
芳香族ヘテロ環を表す。）

Ｑ^1gおよびＱ^2gであらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよ
い。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳
香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好
ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭
化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリ
ジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、
プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキ
サジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キ
ナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テト
ラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリア
ゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジ
ン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ^1gおよびＱ^2gであらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、よ
り好ましくはベンゼン環である。
Ｑ^1gおよびＱ^2gは更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。置換基Ｔと
しては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、
特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル、エチル、ｉｓｏ−プロピル、ｔｅｒ
ｔ−ブチル、ｎ−オクチル、ｎ−デシル、ｎ−ヘキサデシル、シクロプロピル、シクロペ
ンチル、シクロヘキシルなどが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２
０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル
、アリル、２−ブテニル、３−ペンテニルなどが挙げられる。）、アルキニル基（好まし
くは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であ
り、例えばプロパルギル、３−ペンチニルなどが挙げられる。）、アリール基（好ましく
は炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であ
り、例えばフェニル、ｐ−メチルフェニル、ナフチルなどが挙げられる。）、置換又は未
置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ま
しくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ、メチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルア
ミノ、ジベンジルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２
０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキ
シ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６
〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えば
フェニルオキシ、２−ナフチルオキシなどが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素
数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例
えばアセチル、ベンゾイル、ホルミル、ピバロイルなどが挙げられる。）、アルコキシカ
ルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましく
は炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル、エトキシカルボニルなどが挙げら
れる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭
素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル
などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭
素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ、ベンゾイルオ
キシなどが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましく
は炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ、ベン
ゾイルアミノなどが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数
２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例え
ばメトキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基
（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７
〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノなどが挙げられる。）、スルホニ
ルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましく
は炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ、ベンゼンスルホニルアミノな
どが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭
素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル、メチルス
ルファモイル、ジメチルスルファモイル、フェニルスルファモイルなどが挙げられる。）
、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好
ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル、ジエチルカ
ルバモイル、フェニルカルバモイルなどが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは
炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり
、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭
素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、
例えばフェニルチオなどが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、
より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル、
トシルなどが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好まし
くは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル
、ベンゼンスルフィニルなどが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０
、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイ
ド、メチルウレイド、フェニルウレイドなどが挙げられる。）、リン酸アミド基（好まし
くは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２で
あり、例えばジエチルリン酸アミド、フェニルリン酸アミドなどが挙げられる。）、ヒド
ロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ
素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフ
ィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好まし
くは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体
的には例えばイミダゾリル、ピリジル、キノリル、フリル、ピペリジル、モルホリノ、ベ
ンゾオキサゾリル、ベンズイミダゾリル、ベンズチアゾリルなどが挙げられる。）、シリ
ル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、
炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル、トリフェニルシリルなどが挙げられ
る）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以
上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成
してもよい。

Ｘ^1gおよびＸ^2gは水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、
カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ^1gおよびＸ^2gで表される置換基
は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ^1gおよびＸ^2gはで表される置換基は
更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ^1gおよびＸ^2gはそれぞれが縮環して環構造
を形成してもよい。

Ｘ^1gおよびＸ^2gとして好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニ
トロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ
基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カ
ルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ
Ｒ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み
合せたもの）である。

一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３−Ａ）で表される化合物である
。

（式中、Ｒ^1g、Ｒ^2g、Ｒ^3g、Ｒ^4g、Ｒ^5g、Ｒ^6g、Ｒ^7g、Ｒ^8g、Ｒ^9gおよびＲ^10gはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ^1gおよびＸ^2gは一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）

Ｒ^1g、Ｒ^2g、Ｒ^3g、Ｒ^4g、Ｒ^5g、Ｒ^6g、Ｒ^7g、Ｒ^8g、Ｒ^9gおよびＲ^10gはそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ^1g、Ｒ^2g、Ｒ^4g、Ｒ^5g、Ｒ^6g、Ｒ^7g、Ｒ^9g、およびＲ^10gとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ^3gおよびＲ^8gとして好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基
、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロ
キシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数
０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基
、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数
１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３−Ｂ）で表される化合物で
ある。

（式中、Ｒ^3gおよびＲ^8gは一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好
ましい範囲も同様である。Ｘ^3gは水素原子、または置換基を表す。）

Ｘ^3gは水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、ま
た、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ^3gとして好ましくは水素原子、
アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘ
テロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ
環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、ア
ルコキシカルボニル基（−Ｃ（＝Ｏ）ＯＲ（Ｒは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６
〜１２のアリール基およびこれらを組合せたもの）である。

一般式（１０３）として更に好ましくは一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物である
。

（式中、Ｒ^3gおよびＲ^8gは一般式（１０３−Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好
ましい範囲も同様である。Ｒ^21gは炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）

Ｒ^21gとして好ましくはＲ^3gおよびＲ^8gが両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、２−エチルへキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ^21gとして好ましくは、Ｒ^3gおよびＲ^8gが水素以外の場合には、一般式（１０３−Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

本発明一般式（１０３）で表される化合物はＪｏｕｎａｌ ｏｆ Ａｍｅｒｉｃａｎ
Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｓｏｃｉｅｔｙ ６３巻 ３４５２頁（１９４１）記載の方法によっ
て合成できる。

以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に
何ら限定されるものではない。

［マット剤微粒子］
光学樹脂フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用
される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウ
ム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシ
ウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カル
シウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく
、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下で
あり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径
が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見か
け比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上が
さらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイ
ズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これら
の微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３
．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好まし
く、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が
最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子
に外接する円の直径をもって粒径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、そ
の平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１
２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル
（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば
、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販され
ており、使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ
以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、
光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい
。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有する光学樹脂フィルムを得るために、
微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹
拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作成し、この微粒子分散液を別途用意した少量のポ
リマー溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのポリマードープ液と混合する方法がある
。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい
点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌
溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微
粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれら
の方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化
珪素の濃度は５〜３０質量％が好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０
質量％が最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、
凝集物が良化するため好ましい。最終的なポリマーのドープ溶液中でのマット剤の添加量
は１ｍ^２あたり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０
．０８〜０．１６ｇが最も好ましい。

本発明の光学樹脂フィルムを溶液製膜で作製する場合、ドープ流延、乾燥の過程で使用
される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコー
ル、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。
低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に
用いられる溶剤を用いることが好ましい。

［可塑剤、劣化防止剤、剥離剤］
上記の光学的に異方性を低下する化合物、波長分散調整剤の他に、本発明の光学樹脂フ
ィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線防
止剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でも
よく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。
例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであ
り、例えば特開２００１−１５１９０１号などに記載されている。さらにまた、赤外吸収
染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号に記載されている。またその添加する
時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工
程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機
能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学樹脂フィルムが多層から形成さ
れる場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１
９０２号などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの
詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、
発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

［化合物添加の比率］
本発明の光学樹脂フィルムにおいては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、フィ
ルムの固形分（主にポリマー）質量に対して５〜４５％であることがのぞましい。より好
ましくは１０〜４０％であり、さらにのぞましくは１５〜３０％である。これらの化合物
としては上述したように、光学異方性を低下する化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤
、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、剥離剤、赤外吸収剤などであり、分子量としては３００
０以下がのぞましく、２０００以下がよりのぞましく、１０００以下がさらにのぞましい
。これら化合物の総量が５％以下であると、ポリマー単体の性質が出やすくなり、例えば
、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある
。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、光学樹脂フィルム中に化合物が相溶す
る限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する（フィルムからの泣き出し）
などの問題が生じやすくなる。

本発明の光学樹脂フィルムにおいては所望の光学性能を得るためにＲｅ発現剤あるいは
Ｒｔｈ発現剤を好ましく含有することが出来る。特に前記式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（
Ｄ）記載の所望の波長分散性を得る上においてはＲｅ発現剤あるいはＲｔｈ発現剤を適当
含有させることが好ましく用いられる。

以下、Ｒｅ発現剤、Ｒｔｈ発現剤について詳細に説明する。
本発明におけるＲｅ発現剤は３５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長範囲のモル吸光係数が１０
００以下であることがフィルムに不要の着色を引き起こさない点から好ましく、３３０ｎ
ｍ〜８００ｎｍの波長範囲のモル吸光係数が１０００以下であることがさらに好ましい。
本発明の光学樹脂フィルムのＲｅの絶対値を制御するには、溶液の紫外線吸収スペクト
ルにおいて最大吸収波長（λmax）が２５０ｎｍより短波長である化合物をレターデーシ
ョン上昇剤として用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、可視域のＲ
ｅの波長依存性を実質変化することなく絶対値を制御することが出来る。
『レターデーション発現剤』とは、ある添加剤を含む光学樹脂フィルムの波長５５０ｎ
ｍで測定したＲｅレターデーション値が、その添加剤を含まない以外は全く同様に作製し
た光学樹脂フィルムの波長５５０ｎｍで測定したＲｅレターデーション値よりも、２０ｎ
ｍ以上高い値となる『添加剤』を意味する。レターデーション値の上昇は、２５ｎｍ以上
であることが好ましく、３０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、３５ｎｍ以上である
ことが最も好ましい。
レターデーション上昇剤の機能の観点では、棒状化合物が好ましく、少なくとも一つの
芳香族環を有することが好ましく、少なくとも二つの芳香族環を有することがさらに好ま
しい。

棒状化合物は、直線的な分子構造を有することが好ましい。直線的な分子構造とは、熱
力学的に最も安定な構造において棒状化合物の分子構造が直線的であることを意味する。
熱力学的に最も安定な構造は、結晶構造解析または分子軌道計算によって求めることがで
きる。例えば、分子軌道計算ソフト（例、ＷｉｎＭＯＰＡＣ２０００、富士通（株）製）
を用いて分子軌道計算を行い、化合物の生成熱が最も小さくなるような分子の構造を求め
ることができる。分子構造が直線的であるとは、上記のように計算して求められる熱力学
的に最も安定な構造において、分子構造の角度が１４０度以上であることを意味する。

本発明におけるＲｅ発現剤としては、特開２００４−５０５１６号公報の１１〜１４頁
に記載の棒状芳香族化合物を好ましく用いることができる。
また、特開２００５−１３４８６３号公報に記載の棒状化合物も、好ましく用いることができる。

棒状化合物は、液晶性を示すことも好ましい。棒状化合物は、加熱により液晶性を示す
（サーモトロピック液晶性を有する）ことがさらに好ましい。液晶相は、ネマチィク相ま
たはスメクティック相が好ましい。
好ましい化合物としては、特開２００４−４５５０号公報に記載されているが、これに
限定されるものではない。溶液の紫外線吸収スペクトルにおいて最大吸収波長（λmax）
が２５０ｎｍより短波長である棒状化合物を、二種類以上併用してもよい。

棒状化合物は、文献記載の方法を参照して合成できる。文献としては、Ｍｏｌ．Ｃｒｙ
ｓｔ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，５３巻、２２９ページ（１９７９年）、同８９巻、９３ペ
ージ（１９８２年）、同１４５巻、１１１ページ（１９８７年）、同１７０巻、４３ペー
ジ（１９８９年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１１３巻、１３４９ページ（１９９
１年）、同１１８巻、５３４６ページ（１９９６年）、同９２巻、１５８２ページ（１９
７０年）、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，４０巻、４２０ページ（１９７５年）、Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ、４８巻、１６号、３４３７ページ（１９９２年）を挙げることができる。

また、本発明におけるＲｅ発現剤は、単独あるいは２種類以上混合して用いることがで
きる。本発明におけるＲｅ発現剤の添加量はポリマー１００質量部に対して、０．１〜３
０質量％が好ましく、０．５〜２０質量％がさらに好ましい。
本発明におけるＲｅ発現剤の添加方法は、アルコールやメチレンクロライド、ジオキソ
ランの有機溶媒にＲｅ発現剤を溶解してから、ドープに添加してもよいし、または直接ド
ープ組成中に添加してもよい。

（Ｒｔｈ発現剤）
所望のＲｔｈレターデーション値を発現するため、Ｒｔｈ発現剤を用いることが好まし
い。
ここでの『レターデーション発現剤』とは、ある添加剤を含む光学樹脂フィルムの波長
５５０ｎｍで測定したＲｔｈレターデーション値が、その添加剤を含まない以外は全く同
様に作製した光学樹脂フィルムの波長５５０ｎｍで測定したＲｔｈレターデーション値よ
りも、２０ｎｍ以上高い値となる『添加剤』を意味する。レターデーション値の上昇は、
３０ｎｍ以上であることが好ましく、４０ｎｍ以上であることがさらに好ましく、６０ｎ
ｍ以上であることが最も好ましい。

Ｒｔｈ発現剤は、少なくとも二つの芳香族環を有する化合物が好ましい。Ｒｔｈ発現剤
は、ポリマー１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使用することが好
ましく、０．１乃至１５質量部の範囲で使用することがより好ましく、０．２乃至１０質
量部の範囲で使用することがさらに好ましく、０．５乃至８質量部の範囲で使用すること
が最も好ましい。二種類以上のレターデーション上昇剤を併用してもよい。
Rth発現剤は、２５０乃至４００ｎｍの波長領域に最大吸収を有することが好ましく、
可視領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
Rth発現剤は、延伸により発現するＲｅに影響しなうことが好ましく、円盤状の化合物
を用いることが好ましい。
円盤状の化合物としては、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含み、特に
、芳香族炭化水素環は、６員環（すなわち、ベンゼン環）であることが特に好ましい。
芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、５員環、６
員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることがさらに好まし
い。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原
子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。芳香族性ヘテロ環の
例には、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、
チアゾール環、イソチアゾール環、イミダゾール環、ピラゾール環、フラザン環、トリア
ゾール環、ピラン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環および１，
３，５−トリアジン環が含まれる。
芳香族環としては、ベンゼン環、フラン環、チオフェン環、ピロール環、オキサゾール
環、チアゾール環、イミダゾール環、トリアゾール環、ピリジン環、ピリミジン環、ピラ
ジン環および１，３，５−トリアジン環が好ましく、特に１，３，５−トリアジン環が好
ましく用いられる。具体的には、例えば特開２００１−１６６１４４号公報に開示の化合
物が好ましく用いられる。
芳香族化合物は、ポリマー１００質量部に対して、０．０１乃至２０質量部の範囲で使
用する。芳香族化合物は、ポリマー１００質量部に対して、０．０５乃至１５質量部の範
囲で使用することが好ましく、０．１乃至１０質量部の範囲で使用することがさらに好ま
しい。二種類以上の化合物を併用してもよい。

（Ｒｔｈの制御方法 光学異方性層による方法）
前記式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（Ｄ）の所望の光学性能を得るための他の方法として
液晶層等のよる光学異方性層を塗設する方法が好ましく用いられる。

光学異方性層の形成に用いる液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物及び円盤状液晶
性化合物（以下、円盤状液晶性化合物を「ディスコティック液晶性化合物」という場合も
ある）が挙げられる。棒状液晶性化合物及びディスコティック液晶性化合物は、高分子液
晶でも低分子液晶でもよい。また、最終的に光学異方性層に含まれる化合物は、もはや液
晶性を示す必要はなく、例えば、光学異方性層の作製に低分子液晶性化合物を用いた場合
、光学異方性層を形成される過程で、該化合物が架橋され液晶性を示さなくなった態様で
あってもよい。

（棒状液晶性化合物）
本発明に使用可能な棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビ
フェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン
酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジ
ン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類及びアル
ケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。なお、棒状液晶性化合物
には、金属錯体も含まれる。また、棒状液晶性化合物を繰り返し単位中に含む液晶ポリマ
ーも用いることができる。言い換えると、棒状液晶性化合物は、（液晶）ポリマーと結合
していてもよい。
棒状液晶性化合物については、季刊化学総説第２２巻液晶の化学（１９９４）日本化学
会編の第４章、第７章及び第１１章、及び液晶デバイスハンドブック日本学術振興会第１
４２委員会編の第３章に記載がある。

本発明に用いる棒状液晶性化合物の複屈折率は、０．００１〜０．７の範囲にあること
が好ましい。
棒状液晶性化合物は、その配向状態を固定するために、重合性基を有することが好まし
い。重合性基は、不飽和重合性基又はエポキシ基が好ましく、不飽和重合性基がさらに好
ましく、エチレン性不飽和重合性基が最も好ましい。

（ディスコティック液晶性化合物）
ディスコティック液晶性化合物には、Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃ
ｒｙｓｔ．７１巻、１１１頁（１９８１年）に記載されているベンゼン誘導体、Ｃ．Ｄｅ
ｓｔｒａｄｅらの研究報告、Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｔ．１２２巻、１４１頁（１９８５年）、
Ｐｈｙｓｉｃｓ ｌｅｔｔ，Ａ，７８巻、８２頁（１９９０）に記載されているトルキセ
ン誘導体、Ｂ．Ｋｏｈｎｅらの研究報告、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．９６巻、７０頁（１９
８４年）に記載されたシクロヘキサン誘導体及びＪ．Ｍ．Ｌｅｈｎらの研究報告、Ｊ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，１７９４頁（１９８５年）、Ｊ．Ｚｈａｎｇらの研究報告、Ｊ
．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．１１６巻、２６５５頁（１９９４年）に記載されているアザ
クラウン系やフェニルアセチレン系マクロサイクルが含まれる。

前記ディスコティック液晶性化合物には、分子中心の母核に対して、直鎖のアルキル基
、アルコキシ基又は置換ベンゾイルオキシ基が母核の側鎖として放射線状に置換した構造
の、液晶性を示す化合物も含まれる。分子又は分子の集合体が、回転対称性を有し、一定
の配向を付与できる化合物であることが好ましい。

上記した様に、液晶性化合物から光学異方性層を形成した場合、最終的に光学異方性層
に含まれる化合物は、もはや液晶性を示す必要はない。例えば、低分子のディスコティッ
ク液晶性化合物が熱又は光で反応する基を有しており、熱又は光によって該基が反応して
、重合又は架橋し、高分子量化することによって光学異方性層が形成される場合などは、
光学異方性層中に含まれる化合物は、もはや液晶性を失っていてもよい。ディスコティッ
ク液晶性化合物の好ましい例は、特開平８−５０２０６号公報に記載されている。また、
ディスコティック液晶性化合物の重合については、特開平８−２７２８４号公報に記載が
ある。

ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶
性化合物の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤
状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。
そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入することが好ましい。

本発明において、前記光学異方性層中、前記棒状化合物又は前記円盤状化合物の分子は
、配向状態に固定されている。液晶性化合物の分子対称軸の、前記光学フィルム側の界面
における配向平均方向は、該光学フィルムの面内の遅相軸との交差角が略４５度である。
なお、本明細書において、「略４５°」とは、４５°±５°の範囲の角度をいい、好まし
くは４２〜４８°であり、より好ましくは４３〜４７°である。

液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般に液晶性化合物もしくは配向膜の材
料を選択することにより、又はラビング処理方法を選択することにより、調整することが
できる。
本発明では、例えば、ＯＣＢ方式用の光学補償フィルムを作製する場合、光学異方性層
形成用配向膜をラビング処理によって作製し、光学フィルムの遅相軸に対して４５°の方
向にラビング処理することで、液晶性化合物の分子対称軸の、少なくともフィルム界面に
おける配向平均方向が、フィルムの遅相軸に対して４５°である光学異方性層を形成する
ことができる。
例えば、本発明の光学補償フィルムは、遅相軸が長手方向と直交する長尺状の本発明の
光学フィルムを用いると連続的に作製できる。具体的には、長尺状の該光学フィルムの表
面に連続的に配向膜形成用塗布液を塗布して膜を作製し、次に該膜の表面を連続的に長手
方向に４５°の方向にラビング処理して配向膜を作製し、次に作製した配向膜上に連続的
に液晶性化合物を含有する光学異方性層形成用塗布液を塗布して、液晶性化合物の分子を
配向させて、その状態に固定することで光学異方性層を作製して、長尺状の光学補償フィ
ルムを連続的に作製することができる。長尺状に作製された光学補償フィルムは、液晶表示装置内に組み込まれる前に、所望の形状に裁断される。

また、液晶性化合物の表面側（空気側）の分子対称軸の配向平均方向について、空気界
面側の液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、光学樹脂フィルムの遅相軸に対して
略４５°であるのが好ましく、４２〜４８°であるのがより好ましく、４３〜４７°であ
るのがさらに好ましい。空気界面側の液晶性化合物の分子対称軸の配向平均方向は、一般
に、液晶性化合物又は液晶性化合物と共に使用する添加剤の種類を選択することにより調
整することができる。液晶性化合物と共に使用する添加剤の例としては、可塑剤、界面活
性剤、重合性モノマー及びポリマーなどを挙げることができる。分子対称軸の配向方向の
変化の程度も、上記と同様に、液晶性化合物と添加剤との選択により調整できる。特に界
面活性剤に関しては、上述の塗布液の表面張力制御と両立することが好ましい。

液晶性化合物と共に使用する可塑剤、界面活性剤及び重合性モノマーは、ディスコティ
ック液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性化合物の傾斜角の変化を与えられるか、あるい
は配向を阻害しないことが好ましい。重合性モノマー（例、ビニル基、ビニルオキシ基、
アクリロイル基及びメタクリロイル基を有する化合物）が好ましい。上記化合物の添加量
は、液晶性化合物に対して一般に１〜５０質量％の範囲にあり、５〜３０質量％の範囲に
あることが好ましい。なお、重合性の反応性官能基数が４以上のモノマーを混合して用い
ると、配向膜と光学異方性層間の密着性を高めることが出来る。

［配向膜］
本発明の光学樹脂フィルムは、光学異方性層を形成するために配向膜を有していてもよ
い。また、光学異方性層を作製する際にのみ配向膜を使用し、配向膜上に光学異方性層を
作製した後に、該光学異方性層のみを本発明の光学樹脂フィルム上に転写してもよい。
本発明において、前記配向膜は、架橋されたポリマーからなる層であるのが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーであっても、架橋剤により
架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。上記配向膜は、官能基を有するポ
リマーあるいはポリマーに官能基を導入したものを、光、熱又はＰＨ変化等により、ポリ
マー間で反応させて形成する；又は、反応活性の高い化合物である架橋剤を用いてポリマ
ー間に架橋剤に由来する結合基を導入して、ポリマー間を架橋することにより形成する；
ことができる。

架橋されたポリマーからなる配向膜は、通常、上記ポリマー又はポリマーと架橋剤との
混合物を含む塗布液を、支持体上に塗布した後、加熱等を行なうことにより形成すること
ができる。
後述のラビング工程において、配向膜の発塵を抑制するために、架橋度を上げておくこ
とが好ましい。前記塗布液中に添加する架橋剤の量（Ｍｂ）に対して、架橋後に残存して
いる架橋剤の量（Ｍａ）の比率（Ｍａ／Ｍｂ）を１から引いた値（１−（Ｍａ／Ｍｂ））
を架橋度と定義した場合、架橋度は５０％〜１００％が好ましく、６５％〜１００％が更
に好ましく、７５％〜１００％が最も好ましい。

本発明において、前記配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあ
るいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができる。勿論双方の機
能を有するポリマーを使用することもできる。上記ポリマーの例としては、ポリメチルメ
タクリレート、アクリル酸／メタクリル酸共重合体、スチレン／マレインイミド共重合体
、ポリビニルアルコール及び変性ポリビニルアルコール、ポリ（Ｎ−メチロールアクリル
アミド）、スチレン／ビニルトルエン共重合体、クロロスルホン化ポリエチレン、ニトロ
セルロース、ポリ塩化ビニル、塩素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル／塩化ビニル共重合体、エチレン／酢酸ビニル共重合体、カルボキシメチルセルロ
ース、ゼラチン、ポリエチレン、ポリプロピレン及びポリカーボネート等のポリマー及び
シランカップリング剤等の化合物を挙げることができる。好ましいポリマーの例としては
、ポリ（Ｎ−メチロールアクリルアミド）、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポ
リビルアルコール及び変性ポリビニルアルコール等の水溶性ポリマーであり、さらにゼラ
チン、ポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールが好ましく、特にポリビルアル
コール及び変性ポリビニルアルコールを挙げることができる。
本発明の光学樹脂フィルムへポリビルアルコール及び変性ポリビニルアルコールを直接
塗設する場合、親水性の下塗り層を設けるか、もしくは、鹸化処理を施す方法が好ましく
使用される。

上記ポリマーの中で、ポリビニルアルコール又は変性ポリビニルアルコールが好ましい
。
ポリビニルアルコールとしては、例えば鹸化度７０〜１００％のものがあり、一般には
鹸化度８０〜１００％のものが好ましく、鹸化度８２〜９８％のものがより好ましい。重
合度としては、１００〜３０００のも範囲が好ましい。
変性ポリビニルアルコールとしては、共重合変性したもの（変性基として、例えば、Ｃ
ＯＯＮａ、Ｓｉ(ＯＸ)₃、Ｎ(ＣＨ₃)₃・Ｃｌ、Ｃ₉Ｈ₁₉ＣＯＯ、ＳＯ₃Ｎａ、Ｃ₁₂Ｈ₂₅等が導入される）、連鎖移動により変性したもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＮａ、ＳＨ、ＳＣ₁₂Ｈ₂₅等が導入されている）、ブロック重合による変性をしたもの（変性基として、例えば、ＣＯＯＨ、ＣＯＮＨ₂、ＣＯＯＲ、Ｃ₆Ｈ₅等が導入される）等のポリビニルアルコールの変性物を挙げることができる。重合度としては、１００〜３０００の範囲が好ましい。これらの中で、鹸化度８０〜１００％の未変性もしくは変性ポリビニルアルコールが好ましく、より好ましくは鹸化度８５〜９５％の未変性ないしアルキルチオ変性ポリビニルアルコールである。
該ポリビニルアルコールには、光学フィルムと液晶からなる光学異方性層との密着性を
付与するために、架橋・重合活性基を導入することが好ましく、その好ましい例としては
、特開平８−３３８９１３号公報に詳しく記載されている。
配向膜にポリビニルアルコール等の親水性ポリマーを使用する場合、硬膜度の観点から
、含水率を制御することが好ましく、０．４％〜２．５％であることが好ましく、０．６
％〜１．６％であることが更に好ましい。含水率は、市販のカールフィッシャー法の水分
率測定器で測定することができる。
なお、配向膜は、１０ミクロン以下の膜厚であるのが好ましい。

[溶融製膜]
本発明の光学樹脂フィルムの製法は、溶融製膜であっても良い。各種原料を加熱溶融さ
せ、これを押出し射出成型によりフィルム化しても良いし、加熱した２枚のプレートに原
料を挟み込み、プレス加工してフィルム化しても良い。

加熱溶融の温度は、使用されるポリマーが共に均一に溶融する温度であれば特に制限さ
れない。具体的には融点又は軟化点以上の温度に加熱する。均一なフィルムを得るために
は、ポリマーの融点よりも高い温度、好ましくは融点よりも５〜４０℃高い温度、特に好
ましくは融点よりも８〜３０℃高い温度に加熱して溶融させることが好ましい。

［ポリマー溶液の有機溶媒］
前記のように本発明の光学樹脂フィルムの製法は溶液製膜（ソルベントキャスト法）法
を用いても良い。製膜された光学樹脂フィルムの面状をより良くするには溶液製膜（ソル
ベントキャスト法）による製造が好ましく、ポリマーを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ
）を用いてフィルムは製造される。
本発明の主溶媒として好ましく用いられる有機溶媒は、炭素原子数が３〜１２のエステ
ル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶
媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エ
ステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−
）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、たとえばアル
コール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主
溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよ
い。

以上本発明の光学樹脂フィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒として
も良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているよ
うに、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明の光学樹脂フィルムに対しては特に限
定されるものではない。

その他の溶媒は、溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。
それらは、例えば、特開２０００−９５８７６、特開平１２−９５８７７、特開平１０−
３２４７７４、特開平８−１５２５１４、特開平１０−３３０５３８、特開平９−９５５
３８、特開平９−９５５５７、特開平１０−２３５６６４、特開平１２−６３５３４、特
開平１１−２１３７９、特開平１０−１８２８５３、特開平１０−２７８０５６、特開平
１０−２７９７０２、特開平１０−３２３８５３、特開平１０−２３７１８６、特開平１
１−６０８０７、特開平１１−１５２３４２、特開平１１−２９２９８８、特開平１１−
６０７５２、特開平１１−６０７５２などに記載されている。これらの特許によるとポリ
マーに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があ
り、本発明においても好ましい態様である。

［溶液製膜による光学樹脂フィルムの製造工程］
以下に、溶液製膜による本発明の光学樹脂フィルムの製造工程の詳細を説明する。
［溶解工程］
ポリマー溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさら
には冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。本発
明におけるポリマー溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関し
ては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、
発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

（ドープ溶液の透明度）
ポリマー溶液のドープ透明度としては８５％以上であることがのぞましい。より好まし
くは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上であることがのぞましい。本発明に
おいてはポリマードープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体
的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分
光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみを
あらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からポリマー溶液の透
明度を算出した。

［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、ポリマー溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。光学樹脂フィルムを
製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフイルム製造に供する溶液流延
製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（ポリ
マー溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。
ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギ
ヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンド
レスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周し
た剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られる
ウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥
装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターと
ロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。本発明の光学樹脂フィルム
の主な用途である、電子ディスプレイ用の光学部材である機能性保護フィルムやハロゲン
化銀写真感光材料に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引
層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布
装置が付加されることが多い。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００
１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２５頁〜３０頁に詳細に記載
されており、流延（共流延を含む），金属支持体，乾燥，剥離などに分類され、本発明に
おいて好ましく用いることができる。

（延伸）
本発明の光学樹脂フィルムの所望の光学特性、特に前記式（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）、（
Ｄ）で表される特性は延伸処理方法によっても達成することが出来る。
例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、特開平４−２８４
２１１号、特開平４−２９８３１０号、および特開平１１−４８２７１号の各公報などに
記載されている方法を用いることが出来る。
フィルムの延伸は、常温または加熱条件下で実施する。フィルムの延伸は、縦あるいは
横だけの一軸延伸でもよく同時あるいは逐次２軸延伸でもよい。延伸は１〜２００％の延
伸が行われる。好ましくは１〜１００％の延伸が、特に好ましくは１から５０％延伸を行
う。光学樹脂フィルムの複屈折は、幅方向の屈折率が長さ方向の屈折率よりも大きくなる
ことが好ましい。従って幅方向により多く延伸することが好ましい。また、延伸処理は製
膜工程の途中で行ってもよいし、製膜して巻き取った原反を延伸処理しても良い。前者の
場合には残留溶剤量を含んだ状態で延伸を行っても良く、残留溶剤量が２乃至３０％で好
ましく延伸することができる。

本発明のように前記式（Ａ）乃至（Ｄ）の光学特性をもつようなフィルムを作製するた
めには、自由端一軸延伸を行い、ネックインを生じさせることが好ましい。ネックインに
より延伸方向の配向度が高まるために好ましい。この場合、高温で延伸することも配向度
を高める上で好ましく、１５５〜２１０℃が好ましく、１６０〜２１０℃が更に好ましく
、１６５〜２１０℃が特に好ましい。
自由端一軸延伸は、光学樹脂フィルムの長手方向に対して−１０〜１０°の角度で行わ
れるのが好ましい。

また、横延伸した後に縦方向に緩和させることも好ましく、延伸が、光学樹脂フィルム
の長手方向に対して８０〜１００°の角度で延伸し、搬送方向に緩和することが好ましい
。これは前記自由端一軸延伸におけるネックイン効果と同様の効果をもたらすためと考え
られる。縦方向の緩和率は１０〜４０％が好ましく、１２％〜４０％がさらに好ましく、
１５％〜４０％が特に好ましい。

[乾燥、巻き取り]
得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、
続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。
テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。

以上のようにして得られた、光学樹脂フィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好
ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは、１ロー
ル当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７００
０ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片
端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍが好ましく
、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好まし
くは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。

〔フィルムの光学特性〕
光学樹脂フィルムのＲｅ（５９０）およびＲｔｈ（５９０）は、下記数式（Ｉ）および
（ＩＩ）)を満たすことが好ましい。
数式（Ｉ） ：２０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦２００ｎｍ
数式（ＩＩ） ：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦４００ｎｍ より好ましくは、３０ｎ
ｍ≦Ｒｅ（５９０）≦１６０ｎｍ、１００ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦３５０ｎｍである。
フィルムの幅方向のＲｅ（５９０）のばらつきは、±５ｎｍであることが好ましく、±
３ｎｍであることが更に好ましい。また幅方向のＲｔｈ（５９０）のバラツキは±１０ｎ
ｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔ
ｈ値のバラツキも、幅方向のバラツキの範囲内であることが好ましい。

［光学樹脂フィルム物性評価］
［フィルムのガラス転移温度Ｔｇ］
光学樹脂フィルムのガラス転移温度Ｔｇは、８０〜１６５℃である。耐熱性の観点から
、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特
に好ましい。ガラス転移温度Ｔｇの測定は、本発明の光学樹脂フィルム試料１０ｍｇを、
常温から２００度まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、Ｔ．Ａ．
インスツルメント）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出する。

［フィルムのヘイズ］
光学樹脂フィルムのヘイズは０．０１〜２．０％であることがのぞましい。よりのぞま
しくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらにのぞましい。光
学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、本発明の光学樹脂フ
ィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２Ｄ
Ｐ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って測定する。

［フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性］
本発明の光学樹脂フィルムの面内のレターデーションＲｅおよび膜厚方向のレターデー
ションＲｔｈはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０
％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈ値の差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。

［フィルムの平衡含水率］
本発明の光学樹脂フィルムの平衡含水率は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポ
リビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかん
に関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。
０．１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。４％
を超える平衡含水率であると、光学補償フィルムの支持体として用いる際にレターデーシ
ョンの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率の測定法は、本発明の光学樹脂フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試
料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法
で測定した。水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出する。

［フィルムの透湿度］
本発明の光学樹脂フィルムの透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６
０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して０〜4００ｇ／ｍ²
・２４ｈであることがのぞましい。０〜３５０ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好まし
く、０〜3００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。 光学樹脂フィルムの膜厚が
厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜
厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ
換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
透湿度の測定法は、「高分子の物性ＩＩ」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁
〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法
を適用することができ、光学樹脂フィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨ及び６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めた。

［フィルムの寸度変化］
本発明の光学樹脂フィルムの寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静
置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場
合（高温）の寸度変化率がいずれも０．５％以下であることがのぞましい。
よりのぞましくは０．３％以下であり、さらにのぞましくは０．１５％以下である。
具体的な測定方法としては、本発明の光学樹脂フィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２
枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））に
て、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。
１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を
測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（
Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定す
る。
６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０
℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変
化率を求める。

［フィルムの弾性率］
（弾性率）
本発明の光学樹脂フィルムの弾性率は、１５０〜５００ｋｇｆ／ｍｍ²であることが好
ましい、より好ましくは１８０〜４７０ｋｇｆ／ｍｍ²であり、さらに好ましくは２００
〜４４０ｋｇｆ／ｍｍ²である。具体的な測定方法としては、東洋ボールドウィン製万能
引っ張り試験機ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰを用い、２３℃・７０％雰囲気中、引っ張り速度１０
％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求める。

［フィルムの光弾性係数］
（光弾性係数）
本発明の光学樹脂フィルムの光弾性係数は、５０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下である
ことが好ましい。３０×１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×
１０^-13ｃｍ²／ｄｙｎｅ以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法としては、
本発明の光学樹脂フィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引っ張り応力を
かけ、その際のレターデーションをエリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））で測
定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出する。

［光学樹脂フィルムの評価方法］
本発明の光学樹脂フィルムの評価に当たって、以下の方法で測定して実施する。

（分子配向軸）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（Ｋ
ＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位
相差より分子配向軸を算出する。
（軸ズレ）
また、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株））で軸ズレ角度を
測定した。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求める。ま
た、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、
軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとる。

（透過率）
試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計
、ＫＯＴＡＫＩ製作所）で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定する。
（分光特性）
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃，６０％ＲＨで分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）
日立製作所）にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％
の波長−５％の波長で求める。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収
端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍおよび３５０ｎｍの透過率を評
価する。

［フィルム表面の性状］
本発明光学樹脂フィルムの表面は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹
凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、及び最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下で
あることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、及び最大
高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦ
Ｍ）により評価することが出来る。

［フィルムの保留性］
本発明の光学樹脂フィルムにおいては、フィルムに添加した各種化合物の保留性が要求
される。具体的には、光学樹脂フィルムを８０℃／９０％ＲＨの条件下に４８時間静置し
た場合のフィルムの質量変化が、０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３
％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
〈保留性の評価方法〉
試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時
間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した
。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、
以下の方法で保留性を計算する。
保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００

［フィルムの力学特性］
（カール）
本発明の光学樹脂フィルムの幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであること
が好ましい。光学樹脂フィルムには後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際のラビ
ング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、光学樹脂フ
ィルムの幅方向のカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし
、フィルムの切断が起きることがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィル
ムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多く
なり、光学補償フィルムの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがある。又、カ
ールを上述の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低
減できるほか、偏光子貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２
９−１９８５）に従い測定することができる。

（引裂き強度）
ＪＩＳ Ｋ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基ずく引裂き強度（エルメンド
ルフ引裂き法）が、光学樹脂フィルムの膜厚が２０〜８０μｍの範囲において、２ｇ以上
が好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。又、６０μ
ｍ換算で８ｇ以上が好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５
０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強
度試験機を用いて測定できる。

［フィルムの残留溶剤量］
本発明の光学樹脂フィルムに対する残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲とな
る条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発
明に用いる光学樹脂フィルムの残留溶剤量は１．５％以下とすることでカールを抑制でき
る。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法に
よる成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由堆積が小さくなることが主要な効果要因
になるためと思われる。

［フィルムの吸湿膨張係数］
本発明の光学樹脂フィルムの吸湿膨張係数は３０×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好
ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^-5／％ＲＨ以下とすることが好ましく、１０×１０
^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましい
が、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下にお
いて相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節する
ことで、光学樹脂フィルムを光学補償フィルム支持体として用いた際、光学補償フィルム
の光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止す
ることができる。

〔フィルムの表面処理〕
本発明の光学樹脂フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、該フィルムと
各機能層（例えば、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。表面
処理としては、例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又は
アルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏ
ｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も
好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体を
いい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラ
フルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては
、詳細が発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（２００１年３月１５日発行、
発明協会）ｐ．３０−３２に詳細に記載されている。なお、近年注目されている大気圧で
のプラズマ処理は、例えば１０〜１０００Ｋｅｖ下で２０〜５００Ｋｇｙの照射エネルギ
ーが用いられ、より好ましくは３０〜５００Ｋｅｖ下で２０〜３００Ｋｇｙの照射エネル
ギーが用いられる。これらの中でも特に好ましくは、アルカリ鹸化処理でありフィルムの
表面処理としては極めて有効である。

［アルカリ鹸化処理］
アルカリ鹸化処理は、光学樹脂フィルムを鹸化液の槽に直接浸漬する方法、又は鹸化液
をフィルムに塗布する方法により実施することが好ましい。塗布方法としては、ディップ
コーティング法、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、バーコ
ーティング法及びＥ型塗布法を挙げることができる。アルカリ鹸化処理塗布液の溶媒は、
鹸化液をフィルムに対して塗布するために、濡れ性がよく、また鹸化液溶媒によってフィ
ルム表面に凹凸を形成させずに、面状を良好なまま保つ溶媒を選択することが好ましい。
具体的には、アルコール系溶媒が好ましく、イソプロピルアルコールが特に好ましい。ま
た、界面活性剤の水溶液を溶媒として使用することもできる。アルカリ鹸化塗布液のアル
カリは、上記溶媒に溶解するアルカリが好ましく、ＫＯＨ、ＮａＯＨがさらに好ましい。
鹸化塗布液のｐＨは１０以上が好ましく、１２以上がさらに好ましい。アルカリ鹸化時の
反応条件は、室温で１秒以上５分以下が好ましく、５秒以上５分以下がさらに好ましく、
２０秒以上３分以下が特に好ましい。アルカリ鹸化反応後、鹸化液塗布面を水洗あるいは
酸で洗浄したあと水洗することが好ましい。

また、本発明の光学樹脂フィルムは、光学異方性層を設けていてもよい。
光学異方性層は、液晶性化合物、非液晶性化合物、無機化合物、有機／無機複合化合物
等、材料は限定されない。液晶性化合物としては、重合性基を有する低分子化合物を配向
させた後に光または熱による重合により配向を固定化するものや、液晶性高分子を加熱し
配向させた後に冷却しガラス状態で配向固定化するものを使うことができる。液晶性化合
物としては円盤状構造を有するもの、棒状構造を有するもの、光学的二軸性を示す構造を
有するものを使うことができる。非液晶性化合物としては、ポリイミド、ポリエステル等
の芳香族環を有する高分子を使うことができる。
光学異方性層の形成方法は、塗布、蒸着、スパッタリング等種々の手法を使用すること
ができる。

＜偏光板＞
次に、本発明に関する偏光板について説明する。

偏光板の偏光子には、ヨウ素系偏光子、二色性染料を用いる染料系偏光子やポリエン系
偏光子がある。ヨウ素系偏光子及び染料系偏光子は、一般にポリビニルアルコール系フィ
ルムを用いて製造する。

本発明の光学樹脂フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法
は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られた光学樹脂フ
ィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作
製した偏光子の両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わセル方
法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３
２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。保護フィルム処理面と偏光
子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブ
チラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテッ
クスに加えて、アクリル系ポリマー、エポキシ系ポリマー、変成オレフィン系ポリマー、
スチレンブタジエン系ポリマー、シリコーンポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、ポ
リエーテルや合成ゴム、特殊合成ゴム等の適当なポリマーをベースポリマーとする接着剤
または粘着剤などが用いられる。
接着性を高めるために表面処理を行っても良い。具体的方法としては、コロナ放電処理
、グロー放電処理、火炎処理、酸処理、アルカリ処理または紫外線照射処理が挙げられる
。また、特開平７−３３３４３３号明細書に記載のように、下塗り層を設けることも好ま
しい。フィルムの平面性を保持する観点から、これら処理においてポリマーフィルムの温度をＴｇ（ガラス転移温度）以下とすることが好ましい。

偏光板は、偏光子及びその両面を保護する保護フィルム、および少なくとも片面に粘着
層を有して構成されており、さらにまた、粘着層面にセパレートフィルムを、該偏光板の
セパレートフィルムとは反対面にプロテクトフィルムを貼合して構成してもよい。プロテ
クトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保
護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目
的で貼合され、偏光板を液晶セルへ貼合する面の反対面側に用いられる。またセパレート
フィルムは偏光板を液晶セルへ貼合するための粘着層をカバーする目的で用いられ、偏光
板を液晶セルへ貼合する面側に用いられる。
粘着層は（メタ）アクリル系共重合体（Ａ）｛又は高分子量（メタ）アクリル系共重合
体（Ａ₁）と低分子量（メタ）アクリル系（共）重合体（Ａ₂）｝及び多官能性化合物（Ｂ
）からなる（メタ）アクリル系共重合体を含む組成物の溶液をダイコーター等のコーター
でセパレートフィルム上に塗布し、乾燥させた後、偏光板保護フィルムにセパレートフィ
ルムごと転写することにより形成される。上記組成物の溶液を偏光板保護フィルム上に塗
布し、乾燥させた後、セパレートフィルムで粘着層を覆っても良い。

なお、偏光板クロスニコル下で作製した偏光板は、本発明の光学樹脂フィルムの遅相軸
と偏光子の吸収軸（透過軸と直交する軸）との直交精度が１゜以内であれば、偏光板クロ
スニコル下での偏光度性能が低下して、光抜けが生じたり、液晶セルと組合せた場合に、
十分な黒レベルやコントラストが得られなかったりするなどの不具合が生じにくいので、
本発明の光学樹脂フィルムの遅相軸の方向と偏光板の透過軸の方向とは、そのずれが１゜
以内であることが好ましく、０．５゜以内であることがさらに好ましい。

液晶セルへの偏光板の貼り付けは、一般的には多数の穴の開いた吸引治具に偏光板を取
り付け、粘着剤が塗設されて形成された粘着層表面のセパレートフィルムを剥がし、粘着
層表面を液晶セルに接触させ、ローラーで加圧することにより貼り付けを行う。この際、
偏光板が液晶セル側に凹になるようにカールしていると、吸引治具への吸着が十分に行わ
れず、吸引治具への取り付け角度のズレが生じ、液晶セルへの貼り付け角度がずれ、設計
どおりの表示特性が得られない。また、液晶セルへの貼り付け途中に偏光板が吸引治具か
ら脱落し、貼り付け作業を続けることができず、作業中断となる場合もある。

このような偏光板貼り付け不良を生じさせないためには、偏光板のカール量を−３０ｍ
ｍ〜＋１５ｍｍの範囲とすることが好ましく、−２０ｍｍ〜＋５ｍｍの範囲とすることが
さらに好ましく、−１０ｍｍ〜０ｍｍの範囲とすることが最も好ましい。ここで、液晶セ
ルに貼り付ける面（粘着剤塗設面＝粘着層表面）側に凹となる場合を＋（プラス）カール
、凸となる場合を−（マイナス）カールと呼ぶ。カール量の制御は、液晶セル側の保護フ
ィルムと、液晶セルと反対側の保護フィルムの厚み、弾性率、吸湿膨張係数の関係を調整
によって行うことができる。

さらに本発明に関する偏光板は、偏光板の少なくとも一方の側の保護フィルムの表面に
、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けられたものであるのが
好ましい。すなわち、偏光板の液晶表示装置への使用時において、液晶セルと反対側に配
置される保護フィルムには、反射防止層などの機能性膜を設けることが好ましく、かかる
機能性膜としては、ハードコート層、防眩層又は反射防止層の少なくとも一層を設けるの
が好ましい。なお、各層はそれぞれ別個の層として設ける必要はなく、例えば、反射防止
層やハードコート層に防眩性の機能を持たセルことにより、反射防止層及び防眩層の二層
を設ける代わりに、防眩性反射防止層として機能させてもよい。このような防眩フィルム
、反射防止フィルムとしての望ましい実施態様は、発明協会公開技報（公技番号２００１
−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）の５４頁〜５７頁に詳細に記載され
ており、本発明の光学樹脂フィルムを好ましく用いることができる。

［液晶表示装置］
上記の光学樹脂フィルム、または光学樹脂フィルムと偏光子とを貼り合わせて得られた
偏光板は、液晶表示装置、特に透過型液晶表示装置に有利に用いられる。
透過型液晶表示装置は、液晶セルおよびその両側に配置された二枚の偏光板からなる。
偏光板は、偏光子およびその両側に配置された二枚の保護フィルムからなる。液晶セルは
、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
本発明の光学樹脂フィルムは、液晶セルと一方の偏光板との間に一枚配置するか、ある
いは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
本発明の偏光板は、液晶セルの両側に配置された二枚の偏光板のうちの少なくとも一方
として用いればよい。この際には、光学樹脂フィルムが液晶セル側となるように本発明の
偏光板を配置する。
液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであること
が好ましい。
ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向して
いる。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配
向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２
−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードをマルチド
メイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル（ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ
．Ｐａｐｅｒｓ（予稿集）２８（１９９７）８４５記載）、（３）棒状液晶性分子を電圧
無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード
（ｎ−ＡＳＭモード）の液晶セル（日本液晶討論会の予稿集５８〜５９（１９９８）記載
）および（４）ＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル（ＬＣＤインターナショナル９８で
発表）が含まれる。
ＯＣＢモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の
方向に（対称的に）配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの
液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許４５８３８２５号、同５４１０４２２号の各
明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向して
いるため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。
そのため、この液晶モードは、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒ
ｙ Ｂｅｎｄ）液晶モードとも呼ばれる。ベンド配向モードの液晶表示装置は、応答速度
が速いとの利点がある。
ＴＮモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に水平配向し、さ
らに６０乃至１２０゜にねじれ配向している。
ＴＮモードの液晶セルは、カラーＴＦＴ液晶表示装置として最も多く利用されており、
多数の文献に記載がある。

以下に参考例、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本
発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。なお、以下の例において、部お
よび％は、特に断りのない限り質量基準である。

以下の例において、物性の測定方法は次のとおりである。
（１）数平均分子量は、トルエンを溶媒とするＧＰＣ法により測定した。
（２）水素添加率は、¹Ｈ−ＮＭＲにより測定した。
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）は、延伸前シートの一部を試料として用いＤＳＣ法により
測定した。
（４）レターデーションは、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において
波長５９０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。
（５）シートおよびフィルムの厚みは、ダイヤル式厚みゲージにより測定した。
（６）光線透過率は、分光光度計により、波長４００〜７００ｎｍの範囲について波長を
連続的に変化させて測定し、最小の透過率をその延伸前シートまたは延伸配向フィルムの
光線透過率とした。

［実施例１］
（フィルム１の作製）
６−メチル−１，４，５，８−ジメタノ−１，４，４ａ，５，６，７，８，８ａ−オク
タヒドロナフタレン（以下、ＭＴＤと略記）６０部に、重合触媒としてトリエチルアルミ
ニウムの１５％シクロヘキサン溶液１０部、トリエチルアミン５部、および四塩化チタン
の２０％シクロヘキサン溶液１０部を添加して、シクロヘキサン中で開環重合し、得られ
た開環重合体をニッケル触媒で水素添加してポリマー溶液を得た。このポリマー溶液をイ
ソプロピルアルコール中で凝固させ、乾燥し、粉末状の樹脂を得た。この樹脂の数平均分
子量は４０，０００、水素添加率は９９．８％以上、Ｔｇは１４２℃であった。
この粉末状の樹脂を２５０℃で溶融し、ペレット化を行った。このペレットを、４０ｍ
ｍのフルフライト型スクリューを有する単軸押出機を用いて、幅３００ｍｍのＴダイから
、溶融押し出しし、直径３００ｍｍの３本構成の冷却ロールで巻き取ることにより、フィ
ルムを作製した。この際のダイ部での樹脂温度は２７５℃、冷却ロールの温度は、第１、
第２、第３ロールの順に１２０℃、１２０℃、１００℃であった。

この延伸前フィルムの両端は厚みが不均一となるため、幅２０ｍｍの部分は切り落とし
、表面を目視および光学顕微鏡で観察したが、発泡、スジ、キズなどは観察されなかった
。Ｔｇは１３９℃、平均厚みは１５０μｍで厚みムラは±４μｍ以下、光線透過率は９０
．５％、であった。また、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０
μｍに換算した場合の透湿度は１３ｇ／ｍ²・２４ｈであった。

（フィルム２の作製）
脂環式構造含有重合体樹脂（ＺＥＯＮＯＲ １４２０、日本ゼオン社製；Ｔｇ１３５℃
、飽和吸水率０．０１％以下）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０
℃で２時間乾燥した後、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ
式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２７０℃、Ｔダイの幅５００ｍｍの
成形条件で、厚み１００μｍ、長さ３００ｍのフィルムを押出成形した。また、温度６０
℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算した場合の透湿度は１２
ｇ／ｍ²・２４ｈであった。

（フィルム３の作製）
脂環式構造含有重合体樹脂（ＺＥＯＮＯＲ １４２０、日本ゼオン社製；Ｔｇ１３５℃
、飽和吸水率０．０１％以下）を塩化メチレンに溶解した溶液を得た。この溶液に、波長
分散調整剤１を固形分に対して２．５質量部添加し、当該溶液を用いてキャスティング法
により、厚み１２０μｍの光学樹脂フィルム３を得た。また、温度６０℃、湿度９５％Ｒ
Ｈの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算した場合の透湿度は１０ｇ／ｍ²・２４ｈ
であった。

（フィルム４の作製）
脂環式構造含有重合体樹脂（ＺＥＯＮＯＲ １４２０、日本ゼオン社製；Ｔｇ１３５℃
、飽和吸水率０．０１％以下）を塩化メチレンに溶解した溶液を得た。この溶液に、Ｒｅ
発現剤１を固形分に対して２部添加し、当該溶液を用いてキャスティング法により、厚み
１２０μｍの光学樹脂フィルム４を得た。また、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件にお
いて測定し、膜厚８０μｍに換算した場合の透湿度は８ｇ／ｍ²・２４ｈであった。

［実施例２］
実施例１で得られたフィルム１を１８５℃で、延伸倍率１５％で縦方向に自由端一軸延
伸し、延伸配向フィルムを得た。光学性能を表１に示す。
フィルム２乃至４についても、表１の条件で延伸した。得られた光学性能も表１に示す
。
なお表１〜表３中、Ａ〜Ｄ欄の値はそれぞれ下記式（Ａ）〜（Ｄ）の値を表す。
（Ａ）Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）
（Ｂ）Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）
（Ｃ）（Ｒｅ（４５０）／Ｒｔｈ（４５０））／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））
（Ｄ）（Ｒｅ（６５０）／Ｒｔｈ（６５０）／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））

［実施例３］
実施例１で得られたフィルム１〜４を１８５℃で、延伸倍率２５％で横一軸方向に延伸
し、さらにその後、搬送方向に２５％緩和させ、延伸配向フィルムを得た。延伸条件、光
学性能を表２に示す。

［実施例４］
（配向膜の作製）
実施例２で得られたフィルム（２−１〜２−４）に対し、コロナ放電処理装置を用いて
連続的にコロナ放電処理を行った。次いでコロナ放電処理した面に、ステロイド変性ポリ
アミック酸の希釈液を１μｍの厚みに塗布した。塗布層を６０℃の温風で連続的に乾燥（
平均処理時間が２分間になるように調整）し、垂直配向膜を形成した。

［実施例５］
（光学異方性層の形成１）
実施例４で配向膜を形成したフィルム（２−１〜２−４）に対して、 配向膜上に、下
記の組成のディスコティック液晶を含む塗布液をワイヤーバーを３９１回転でフィルムの
搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されているフィルムの配向膜面に連
続的に塗布し、積層フィルム２−１−Ｄ〜２−４−Ｄ、を得た。各フィルムで使用したワ
イヤーバーの番手、液晶層形成後の光学性能は表３に示す。

───────────────────────────────────────
ディスコティック液晶層の塗布液組成
───────────────────────────────────────
下記のディスコティック液晶性化合物 ３２．６質量部
下記化合物（円盤面を５度以内に配向させるための添加剤） ０．１質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製） ３．２質量部
増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製） ０．４質量部
光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製） １．１質量部
メチルエチルケトン ６２．０質量部
───────────────────────────────────────

室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３０℃の乾
燥ゾーンでディスコティック液晶化合物層の膜面風速が、２．５ｍ／ｓｅｃとなるように
、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、フィルムの表面
温度が約１３０℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１２０Ｗ／ｃｍ）によ
り、紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させて、ディスコティック液晶化合物をその
配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態にした。
このようにして、ロール状光学補償フィルムを作製した。
なお、ディスコティック液晶化合物の円盤面と透明ポリマーフィルム面との角度は、０
度であった。

［比較例１］
（フィルムＺ１の作製）
脂環式構造含有重合体樹脂（ＺＥＯＮＯＲ １４２０、日本ゼオン社製；Ｔｇ１３５℃
、飽和吸水率０．０１％以下）のペレットを、空気を流通させた熱風乾燥器を用いて７０
℃で２時間乾燥した後、６５ｍｍφのスクリューを備えた樹脂溶融混練機を有するＴダイ式フィルム溶融押出し成形機を使用し、溶融樹脂温度２７０℃、Ｔダイの幅５００ｍｍの成形条件で、厚み１００μｍ、長さ３００ｍのフィルムを押出成形した。得られたフィルムを１３０℃で、延伸倍率１５％で縦一軸方向に延伸し、延伸配向フィルムを得た。

延伸配向フィルムの平均厚みは１２０μｍ、波長５５０ｎｍでのレターデーションＲｅ
は４５ｎｍ、Ｒｔｈは１２５nmであった。
また、同様に波長４５０ｎｍ、および６５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）
を測定したところ、それぞれ、４６ｎｍ、および４４ｎｍであった。また、波長４５０ｎ
ｍ、および６５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、それぞ
れ、１２７ｎｍ、および１２２ｎｍであった。

すなわち、Ａ値＝１．０２、Ｂ値＝０．９８であった。また、Ｃ値＝１．０１、Ｄ値＝
１．００であった。

（フィルムＺ２の作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、
セルローストリアセテート溶液を調製した。

────────────────────────────────────
セルロースアセテート溶液組成
────────────────────────────────────
酢化度６０．９％のセルロースアセテート １００質量部
トリフェニルホスフェート（可塑剤） ７．８質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート（可塑剤） ３．９質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ３００質量部
メタノール（第２溶媒） ４５質量部
染料（住化ファインケム（株）製 ３６０ＦＰ） ０．０００９質量部
────────────────────────────────────

別のミキシングタンクに、上記の波長分散調整剤１を１６質量部、メチレンクロライド
８０質量部およびメタノール２０質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーシ
ョン上昇剤溶液を調製した。
上記組成のセルロースアセテート溶液４６４質量部に上記レターデーション上昇剤溶液
３６質量部、およびシリカ微粒子（アイロジル製 Ｒ９７２）１．１質量部を混合し、充
分に攪拌してドープを調製した。レターデーション発現剤の添加量は、セルロースアセテ
ート１００質量部に対して、５．０質量部であった。また、シリカ微粒子の添加量は、セ
ルロースアセテート１００質量部に対して、０．１５質量部であった。

得られたドープを、幅２ｍで長さ６５ｍの長さのバンドを有する流延機を用いて流延し
た。バンド上での膜面温度が４０℃となってから、１分乾燥し、剥ぎ取った後、１４０℃
の乾燥風で、テンターを用いて幅方向に２８％延伸した。この後、１３５℃の乾燥風で２
０分間乾燥し、残留溶剤量が０．３質量％のセルロースアシレートフィルムＺ２を製造し
た。なお、使用したセルロースアシレートのＴｇは１４０℃である。
得られたセルロースアシレートフィルムＺ２の幅は１３４０ｍｍであり、厚みは９２μ
ｍであった。波長５５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）を測定したところ、５
０ｎｍであった。また、レターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、２００ｎｍで
あった。
また、同様に波長４５０ｎｍ、および６５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｅ）
を測定したところ、それぞれ、５２ｎｍ、および４９ｎｍであった。また、波長４５０ｎ
ｍ、および６５０ｎｍにおけるレターデーション値（Ｒｔｈ）を測定したところ、それぞ
れ、２０４ｎｍ、および１９８ｎｍであった。

すなわち、Ａ値＝１．０４、Ｂ値＝０．９８であった。また、Ｃ値＝１．０２、Ｄ値＝
０．９９であった。

［実施例６］
［偏光板の作製］
（偏光板１の作製）
厚み７５μｍ、重合度２４００のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを３０℃の
温水で４０秒間膨潤させた後、ヨウ素濃度０．０６質量％、ヨウ化カリウム６質量％の水
溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％、ヨウ化カリウム３
質量％の水溶液中に４０℃で６０秒浸漬している間に、縦方向が元の長さの５．０倍にな
るように延伸した。その後、５０℃で４分間乾燥させて、偏光子を得た。

既に作製済みのフィルム２−１−Ｄ、上記偏光子、日本ゼオン製ＺＦ１４を、２液ウレ
タン系接着剤を介して貼り合わせ、偏光板２−１−Ｄ−Ｐを得た。前記２液ウレタン系接
着剤として、以下に示す主剤と硬化剤とを、主剤/硬化剤＝１００/１０の質量比で混合したものを使用した。

主剤：ポリエステル系ポリウレタン樹脂の酢酸エチル溶液（商品名：ＷＷＡ-６００Ｓ、
日本ポリウレタン（株）製）
硬化剤：ポリイソシアネートの酢酸エチル溶液（商品名：ＨＡＲＤＮＥＲ１１０、日本ポ
リウレタン（株）製）

フィルム２−２−Ｄ〜２−４−Ｄ、３−１〜３−４についても同様にして偏光板を作製
した。液晶層を塗布したフィルムについては、液晶層と反対側の面に偏光子が配置される
ように貼合した。

偏光板を作製する際の保護フィルムの組合せは表４に示す。また、偏光板の吸収軸と、
液晶セル側に用いる保護フィルムの遅相軸の角度は全て９０°である。遅相軸の向きがフ
ィルム長手の場合と幅手の場合があるので、フィルムによっては、ロールトゥーロールで
は貼合できないものもある。

［比較例２］
フィルムＺ１については、実施例６のフィルム２−１−Ｄと同様にして、フィルムＺ１
とＺＦ１４（日本ゼオン製）で偏光子を挟むようにして、偏光板Ｚ１−Ｐを作製した。偏
光板の吸収軸と、液晶セル側に用いる保護フィルムの遅相軸の角度は９０°である。
フィルムＺ２について次のように行った。
フィルムＺ２と富士写真フイルム（株）製ＴＤ８０Ｕを、１．５モル／リットルで５５
℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した
。その後、０．００５モル／リットルで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に
浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。
前記のように鹸化処理を行ったフィルムＺ２と富士写真フイルム（株）製ＴＤ８０Ｕを
前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ、さらに７０
℃で３０分間加熱した。この後、幅方向から３ｃｍ、カッターにて耳きりをし、有効幅１
２００ｍｍ、長さ５０ｍのロール形態の偏光板Ｚ２-Ｐを作製した。偏光板の吸収軸と、
液晶セル側に用いる保護フィルムの遅相軸の角度は９０°である。

［実施例７］
［粘着剤層の塗工］
（アクリル系ポリマー溶液の作製）
ｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ＢＡ）７５質量部、メチルアクリレート（ＭＡ）２０質
量部、２−ヒドロキシアクリレート（２−ＨＥＡ）５質量部、酢酸エチル１００質量部お
よびアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を反応容器に入れ、この反応
容器内の空気を窒素ガスで置換した後、撹拌下に窒素雰囲気中で、この反応容器を６０℃
に昇温させ、４時間反応させた。４時間後、トルエン１００質量部、α−メチルスチレン
ダイマー５質量部およびＡＩＢＮ２質量部を加え、９０℃に昇温し、さらに４時間反応さ
せた。反応後、酢酸エチルで希釈し、固形分２０％のアクリルポリマー溶液を得た。ポリ
マー溶液の固形分１００質量部にイソシアネート系架橋剤（商品名：コロネートＬ、日本
ポリウレタン（株）製）１．０質量部を添加し、よく撹拌して粘着剤組成物を得た。

（粘着剤付偏光板の作製）
上記実施例６で作製した偏光板に粘着剤を塗工する。
上記アクリルポリマー溶液を含有する粘着剤組成物を剥離処理したポリエステルフィル
ム上に粘着剤層を形成し（厚み：２５μｍ）、それを偏光板（セル側保護フィルム上）に
転写し、温度２３℃，湿度６５％の条件で７日間熟成させて粘着剤付偏光板を作製した。
さらにその粘着剤層の上にセパレートフィルムを貼り付けた。セルと反対側の保護フィル
ム上にはプロテクトフィルムを貼り付けた。

［比較例３］
実施例７と同様にして、比較例２で作製した偏光板に粘着剤層を塗工し、粘着剤付偏光
板を作製した。また、実施例７同様にセパレートフィルム、プロテクトフィルムを貼り付
けた。

［実施例８］
（ＶＡパネルへの実装）
ＶＡモードの液晶ＴＶ（ＬＣ−３２ＡＤ５、シャープ（株）製）の表裏の偏光板および
位相差板を剥し、表と裏側に実施例７、比較例３で作製した粘着剤付き偏光板および、視
野角補償板のない市販の偏光板（ＨＬＣ２−５６１８、サンリッツ（株）製）を、３２イ
ンチの大きさで切り出して（辺に対して偏光板の吸収軸が平行になるように切り出した）
、ラミネーターロールを用いて、表５の組合せで貼り付けた。
この際、視認側の偏光板の吸収軸をパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収
軸をパネル鉛直方向となり、粘着材面が液晶セル側となるように配置した。

（視野角特性）
また、測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表
示（Ｌ１）から白表示（Ｌ８）までの８段階で視野角（コントラスト比が１０以上で黒側
の階調反転のない範囲）を測定した。ともに市販偏光板（粘着剤厚み２５μｍ）を用いた
もの及び比較例の偏光板を除き、表５の組合せで本発明のいずれの偏光板を使用した場合
も、良好な視野角特性が得られた。

（カラーシフト評価）
また、黒表示でのカラーシフト評価も行った。
黒表示の方位角０度極角６０度と方位角４５度極角６０度とのカラーシフトを評価した
。
比較例の偏光板を用いた場合は、色の変化が大きく、斜め方向から見ると正面に比べて
赤く色づいて見えたが、表５の組合せで、本発明のいずれの偏光板を使用した場合も、正
面と斜め方向の色味変化がほとんどなく、良好な色表示が得られた。

（環境試験）
また、視野角特性、カラーシフト評価について、２５℃１０％ＲＨという低湿条件下と
、２５℃８０％ＲＨという加湿条件下での比較を行った。
透湿度の高いフィルムを保護フィルムに用いている偏光板２−６-Ｄ-Ｐ、Ｚ２−Ｐを用いた場合には、湿度により表示性能が異なり、特に色味は、正面から見たときの色味が湿度によって異なったり、正面と斜めでの色味変化量が加湿下で大きくなるという結果であった。
しかし、透湿度の低い保護フィルムを用いた、それ以外の偏光板を使用した場合には湿
度を変えた場合でも表示性能、色味に変化がなく、優れていた。

表５に示した結果から、下記式（Ａ）〜（Ｄ）を満たす光学補償シートを用いると、黒
表示でのカラーシフトが改善されることがわかる。
（Ａ）０．１＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９５
（Ｂ）１．０３＜Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．９３
（Ｃ）０．４＜（Ｒｅ（４５０）／Ｒｔｈ（４５０））／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５
５０））＜０．９５
（Ｄ）１．０５＜（Ｒｅ（６５０）／Ｒｔｈ（６５０）／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５
５０））＜１．９

本発明により、優れた光学特性を有する光学樹脂フィルム、前記フィルムを有する偏光
板及び、黒表示でのカラーシフトの小さい液晶表示装置を提供することができた。

従来のＶＡモードの液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。 従来のＶＡモードの液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。 本発明の液晶表示装置の構成例を説明する概略模式図である。 本発明に用いられる光学補償フィルムの一例についての光学特性を示すグラフである。 本発明の液晶表示装置における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。 従来の液晶表示装置の一例における入射光の偏光状態の変化を説明するために用いたポアンカレ球の概略図である。

符号の説明

１，２ 偏光板
３ 液晶セル
４ 光学補償フィルム

Claims (11)

1. 下記式（Ａ）〜（Ｄ）のレターデーションを満たし、かつ熱可塑性ノルボルネン系樹脂を用いて形成されたことを特徴とする光学樹脂フィルム。
   （Ａ）０．１＜Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）＜０．９５
   （Ｂ）１．０３＜Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）＜１．９３
   （Ｃ）０．４＜（Ｒｅ（４５０）／Ｒｔｈ（４５０））／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））＜０．９５
   （Ｄ）１．０５＜（Ｒｅ（６５０）／Ｒｔｈ（６５０）／（Ｒｅ（５５０）／Ｒｔｈ（５５０））＜１．９
   （式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍの光に対する該フィルムの面内レターデーション値であり、Ｒｔｈ（λ）は、波長λｎｍの光に対する該フィルムの厚み方向のレターデーション値である（単位：ｎｍ）。）
2. 前記光学樹脂フィルムが延伸されて形成されたことを特徴とする請求項１に記載の光学樹脂フィルム。
3. 前記延伸が、光学樹脂フィルムの長手方向に対して−１０〜１０°の角度で自由端一軸延伸することにより行われたものであることを特徴とする請求項２に記載の光学樹脂フィルム。
4. 前記延伸が、光学樹脂フィルムの長手方向に対して８０〜１００°の角度で延伸し、搬送方向に緩和することにより行われたものであることを特徴とする請求項２に記載の光学樹脂フィルム。
5. 光学樹脂フィルムの少なくとも一方の面に光学異方性層を積層したことを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の光学樹脂フィルム。
6. Ｒｅ（５９０）およびＲｔｈ（５９０）が、下記数式（Ｉ）および（ＩＩ）を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の光学樹脂フィルム。
   数式（Ｉ） ：２０ｎｍ≦Ｒｅ（５９０）≦２００ｎｍ
   数式（ＩＩ） ：７０ｎｍ≦Ｒｔｈ（５９０）≦４００ｎｍ
7. 膜厚が１０〜１５０μｍである請求項１〜６のいずれかに記載の光学樹脂フィルム。
8. 請求項１〜７のいずれかに記載の光学樹脂フィルムの少なくとも１枚と、偏光子とを有する偏光板。
9. 表面にハードコート層、防眩層および反射防止層から選択された少なくとも一層を設けたことを特徴とする請求項８に記載の偏光板。
10. 請求項１〜７のいずれかに記載の光学樹脂フィルム、または、請求項８もしくは９に記載の偏光板、のいずれかを用いた液晶表示装置。
11. 請求項１〜７のいずれかに記載の光学樹脂フィルム、または、請求項８もしくは９に記載の偏光板、のいずれかを用いたＶＡ液晶表示装置。

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