JP2006220971A - 光学補償シート、偏光板およびこれを用いた液晶表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示装置の黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改善できる理想的な波長分散特性を複数の位相差フィルムの積層により実現した光学補償シート、前記光学補償シートを保護膜として使用した偏光板、前記偏光板を使用した液晶表示装置の提供。
【解決手段】下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａ、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃをこの順に、または、光学異方性層Ｃ、光学異方性層Ａをこの順に有する光学補償シート。（１）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５（２）｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５（３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
【選択図】図１

Description

本発明は、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改良した光学補償シート、前記光学補償シートを用いた偏光板、および前記偏光板を用いた液晶表示装置に関する。

液晶表示装置は、低電圧・低消費電力で小型化・薄膜化が可能である点など様々な利点から、パーソナルコンピューターや携帯機器のモニター、テレビ用途に広く利用されている。このような液晶表示装置は、液晶セル内の液晶分子の配列状態により様々なモードが提案されているが、従来は液晶セルの下側基板から上側基板に向かって約９０°捩れた配列状態になるＴＮモードが主流であった。

一般に液晶表示装置は、液晶セル、光学補償シート、偏光子から構成される。光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大したりするために用いられており、延伸した複屈折フィルムや透明フィルムに液晶を塗布したフィルムが使用されている。

例えば、特許文献１では、ディスコティック液晶をトリアセチルセルロースフィルム上に塗布し配向させて、固定化した光学補償シートをＴＮモードの液晶セルに適用し、視野角を広げる技術が開示されている。しかしながら、大画面で様々な角度から見ることが想定されるテレビ用途の液晶表示装置は、視野角依存性に対する要求が厳しく、前述のような手法をもってしても要求を満足することはできていない。そのため、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）モード、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）モードなど、ＴＮモードとは異なる液晶表示装置が研究されている。特にＶＡモードはコントラストが高く、大型サイズでの製造の歩留まりが比較的高いことからＴＶ用の液晶表示装置として着目されている。

ＶＡモード用の光学補償シートとしては、光学的に正の一軸で光学軸がフィルム面内にあるフィルム（Ａプレート）と、光学的に負の一軸で光学軸がフィルム法線方向にあるフィルム（Ｃプレート）を組み合わせたもの、光学的二軸性フィルム等を使用することにより広視野角が実現できることが開示されている（特許文献２、特許文献３）。しかしながら、これらの公知文献には黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化の改良については示されていない。

このようなＶＡモード用の光学補償シートでは、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化は、Ｒｅλの波長分散を逆波長分散（短波長側のＲｅλが長波長側のＲｅλよりも小さい）かつＲｔｈλの波長分散を順波長分散（短波長側のＲｅλが長波長側のＲｅλよりも大きい）とすることで改良でき、このような波長分散特性を有する光学的二軸性フィルムが開示されている（特許文献４）。

ＶＡモード用の光学補償シートの具体的な実現手段として、特許文献５では、ノルボルネン系高分子（商品名ＡＲＴＯＮ）の縦一軸延伸フィルムと、トリアセチルセルロースフィルム（商品名：フジタックＳＨ−８０）上に疎水性樹脂（商品名：デンカブチラール＃３０００−Ｋ）中に有機粘度複合体（商品名：ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＰＮ）を含む層を形成したフィルムを積層した光学補償シートが開示されている。しかし、ＡＲＴＯＮの縦一軸延伸フィルムのＲｅλの波長分散はほぼ波長によらず一定であり、またトリアセチルセルロースフィルムのＲｔｈλの波長分散は逆波長分散であるため、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化の改善の点では性能が十分でない。また、疎水性樹脂中に有機粘度複合体を含む光学異方性層は耐久性が低く、脆いため加工適性が悪いという問題もある。

ＶＡモード用の光学補償シートの具体的な実現手段として、特許文献６では、トリアセチルセルロース（商品名：フジタックＴ−５０ＳＨ）上に棒状ネマティック液晶からなる光学異方性層を設け、さらにコレステリック液晶からなる光学異方性層を設けた光学補償シート、および前記トリアセチルセルロース上にポリイミド層からなる光学異方性層を設け、さらに棒状ネマティック液晶層を設けた光学補償シート、および前記の光学補償シートをトリアセチルセルロースを保護膜として用いた偏光板に積層した光学補償層付き偏光板が開示されている。これら２種の光学補償シート付き偏光板のいずれにおいても、棒状ネマティック液晶からなる光学異方性層のＲｅλの波長分散は順分散であり、またトリアセチルセルロースフィルムのＲｔｈλの波長分散は逆波長分散であるため、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化の改善の点では性能が十分でない。
特許第２５８７３９８号公報 特開平１１−２５８６０５号公報 特開平１１−１３３４１３号公報 WO２００４／０６８２２６A１号公報 特開平１１−９５２０８号公報 特開２００２−３１１２４３号公報

本発明の第１の課題は、液晶表示装置の黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改善できる理想的な波長分散特性を複数の位相差フィルムの積層により実現した光学補償シートを提供することである。
本発明の第２の課題は、前記光学補償シートを保護膜として使用した偏光板を提供することである。
本発明の第３の課題は、前記偏光板を使用した液晶表示装置を提供することである。

本発明の課題は、下記手段によって達成された。
[１]下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａ、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃをこの順に有する光学補償シート。
（１）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５
（２）｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５
（３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
[２]下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃ、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａをこの順に有する光学補償シート。
（１）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５
（２）｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₀₅−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５
（３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
[３]前記透明支持体がＲｔｈλを低下させる化合物を、下記式（５）、（６）を満たす範囲で少なくとも一種含有することを特徴とする[１]または[２]に記載の光学補償シート。
（５）（Ｒｔｈλ（Ａ）−Ｒｔｈλ（０））／Ａ≦−１．０
（６）０．０１≦Ａ≦３０
［式中、Ｒｔｈλ（Ａ）：Ｒｔｈλを低下させる化合物をＡ％含有した透明支持体のＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ（０）：Ｒｔｈλを低下させる化合物を含有しない透明支持体のＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａ：透明支持体原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
[４]前記透明支持体が｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜および｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物を少なくとも１種、支持体原料ポリマー固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする[１]〜[３]のいずれかに記載の光学補償シート。
[５]前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする[１]〜[４]のいずれかに記載の光学補償シート。
[６] 前記セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度が２.８５〜３．００のセルロースアシレートに、ＲｅλおよびＲｔｈλを低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする[５]に記載の光学補償シート。
[７]前記透明支持体の膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする[１]〜[６]のいずれかに記載の光学補償シート。
[８]前記光学異方性層Ａが延伸ポリマーフィルムであることを特徴とする[１]〜[７]のいずれかに記載の光学補償シート。
[９]前記光学異方性層Ａが液晶性化合物から形成されることを特徴とする[１]〜[７]のいずれかに記載の光学補償シート。
[１０]前記光学異方性層Ｃが延伸ポリマーフィルムであることを特徴とする[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シート。
[１１]前記光学異方性層Ｃが液晶性化合物から形成されることを特徴とする[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シート。
[１２]前記光学異方性層Ｃが非液晶性化合物から形成されることを特徴とする[１]〜[９]のいずれかに記載の光学補償シート。
[１３]前記光学異方性層ＡのＲｅλの波長依存性が下記式（７）、（８）を満たすことを特徴とする[１]〜[１２]のいずれかに記載の光学補償シート。
（７）Ｒｅ₄₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝０．６０〜０．９８
（８）Ｒｅ₆₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝１．００〜１．６０
[１４]前記光学異方性層ＣのＲｔｈλの波長依存性が下記式（９）、（１０）を満たすことを特徴とする[１]〜[１２]のいずれかに記載の光学補償シート。
（９）Ｒｔｈ₄₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝１．０２〜１．６０
（１０）Ｒｔｈ₆₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝０．６０〜１．００
[１５]前記光学異方性層ＡのＲｅλの波長依存性が下記式（７）、（８）を満たし、かつ前記光学異方性層ＣのＲｔｈλの波長依存性が下記式（９）、（１０）を満たすことを特徴とする[１]〜[１２]のいずれかに記載の光学補償シート。
（７）Ｒｅ₄₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝０．６０〜０．９８
（８）Ｒｅ₆₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝１．００〜１．６０
（９）Ｒｔｈ₄₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝１．０２〜１．６０
（１０）Ｒｔｈ₆₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝０．６０〜１．００
[１６]偏光子の両側に保護膜を有する偏光板であって、少なくとも一方の保護膜が[１]〜[１５]のいずれかに記載の光学補償シートであって、透明支持体面側が偏光子と貼り合わされることを特徴とする偏光板。
[１７]前記保護膜が、可塑剤、紫外線吸収剤、剥離促進剤、染料、マット剤、および導電性微粒子からなる群から選択される少なくとも１種を含有することを特徴とする[１６]に記載の偏光板。
[１８]少なくとも一方の保護膜の表面に、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層、および帯電防止層からなる群から選択される少なくとも一層が設けられた[１６]または[１７]に記載の偏光板。
[１９]液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板の少なくとも一方が[１６]〜[１８]のいずれかに記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
[２０]液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板は、偏光子と該偏光板を挟持する一対の保護膜とから構成され、前記保護膜の少なくとも一枚が[１]に記載の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置。
[２１]液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板は、偏光子と該偏光板を挟持する一対の保護膜とから構成され、前記保護膜の少なくとも一枚が[２]に記載の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置。
[２２]前記液晶セルがＶＡモードであることを特徴とする[１９]〜[２１]のいずれかに記載の液晶表示装置。

本発明により、液晶表示装置の黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改善できる理想的な波長分散特性を有する光学補償シートを提供することができる。
特に、本発明によれば、光学補償シートを形成する透明支持体の光学異方性（Ｒｅλ、Ｒｔｈλ）を小さくすることにより、透明支持体の光学特性によって光学異方性層の光学補償効果に悪影響を与えることなく、理想的な光学補償を実現することができ、特に黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改良することができる。
更に、本発明によれば、上記光学補償シートおよび現在一般的に用いられている、例えば延伸ポリビニルアルコールフィルムからなる偏光子から、従来のセルローストリアセテートを保護膜とする偏光板製造プロセスによって偏光板を作製することができ、更に、この偏光板を用いることにより、高い表示品質を有する液晶表示装置を提供することができる。

以下において、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。

本発明において、Ｒｅλ、Ｒｔｈλは各々、波長λにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）および膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）を表す。ＲｅλはKOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈλは前記Ｒｅλ、面内の遅相軸（KOBRA 21ADHにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にKOBRA 21ADHが算出する。ここで平均屈折率の仮定値は ポリマーハンドブック（JOHN WILEY＆SONS，INC）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する： セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。

本発明の第１の態様の光学補償シートは、下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａ、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃをこの順に有する光学補償シートである。
本発明の第２の態様の光学補償シートは、下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃ、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａをこの順に有する光学補償シートである。
（１）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５
（２）｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５
（３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００

本発明では、光学補償シートを形成する透明支持体が、上記式（１）および式（２）を満たすことにより、透明支持体の光学特性によって光学異方性層の光学補償効果に悪影響を与えることなく、理想的な光学補償を実現することができ、特に液晶表示装置の黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を改良することができる。上記式（１）は、好ましくは、０≦Ｒｅ₅₉₀≦５かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦１０ｎｍであり、０≦Ｒｅ₅₉₀≦３かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦５ｎｍであることが特に好ましい。上記式（２）は、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦５かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦２５であることが好ましく、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦３かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦１５であることが特に好ましい。
以下に、上記透明支持体について更に説明する。

［透明支持体］
本発明に用いられる透明支持体は高分子フィルムであることが好ましく、その材料としてはシクロオレフィン系ポリマー等の固有複屈折が小さなものを使用することが好ましい。シクロオレフィンポリマーの具体的な例としては、特開平１−１３２６２５号公報、特開平１−１３２６２６号公報、特開平１−２４０５１７号公報、特開昭６３−１４５３２４号公報、特開昭６３−２６４６２６号公報、特開昭６３−２１８７２６号公報、特開平２−１３３４１３号公報、特開昭６０−１６８７０８号公報、特開昭６１−１２０８１６号公報、特開昭６０−１１５９１２号公報、特開昭６２−２５２４０６号公報、特開昭６０−２５２４０７号公報、ＷＯ２００４／０４９０１１Ａ１号公報、ＷＯ２００４／０６８２２６Ａ１号公報、ＷＯ２００４／０７０４６３Ａ１号公報に記載のものを挙げることができる。また、上市されているシクロオレフィン系ポリマーとしては、ＡＲＴＯＮ（ＪＳＲ（株）製）、ＺＥＯＮＯＲ（日本ゼオン（株）製）、ＺＥＯＮＥＸ（日本ゼオン（株）製）、エスシーナ（積水化学工業（株）製）を使用することができる。

本発明に用いられる透明支持体としては、従来の偏光板の作製プロセスが使用可能であるという点で、セルロースアシレートフィルムを使用することがさらに好ましい。
以下にセルロースアシレートフィルムに関して説明する。

[セルロースアシレート原料綿]
本発明に用いられるセルロースアシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースとしては、例えばプラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂（丸澤、宇田著、日刊工業新聞社、１９７０年発行）や発明協会公開技報２００１−１７４５（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。但し、本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムは、特に限定されるものではない。

[セルロースアシレート置換度]
次に上述のセルロースを原料に製造される、本発明において使用されるセルロースアシレートについて記載する。本発明において使用されるセルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。本発明において使用されるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度については特に限定されないが、セルロースの水酸基に置換する酢酸および／または炭素原子数３〜２２の脂肪酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。

上述のように本発明において使用されるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基への置換度は特に限定されないが、セルロースの水酸基へのアシル置換度が２．５０〜３．００であることがのぞましい。さらには置換度が２．７５〜３．００であることがのぞましく、２．８５〜３．００であることがよりのぞましい。なお、アシル置換度とは、セルロースの水酸基に含まれる水素原子がアシル基に置換された割合を表し、セルロースの水酸基に含まれる水素原子がすべてアシル基に置換されたとき、アシル置換度が３となる。

セルロースの水酸基に置換する酢酸および／または炭素原子数３〜２２の脂肪酸のうち、炭素数２〜２２のアシル基としては、脂肪族基でもアリル基でもよく特に限定されず、単一でも２種類以上の混合物でもよい。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、iso−ブタノイル基、ｔ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基がより好ましい。

本発明の発明者が鋭意検討した結果、上述のセルロースの水酸基に置換するアシル置換基のうちで、実質的にアセチル基／プロピオニル基／ブタノイル基の少なくとも２種類からなる場合においては、その全置換度が２.５０〜３．００の場合にセルロースアシレートフィルムの光学異方性が低下できることがわかった。より好ましいアシル置換度は２．６０〜３．００であり、さらにのぞましくは２．６５〜３．００である。

[セルロースアシレートの重合度]
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。重合度が高すぎるとセルロースアシレートのドープ溶液の粘度が高くなり、流延によりフィルム作製が困難になる。重合度が低すぎると作製したフィルムの強度が低下してしまう。平均重合度は、宇田らの極限粘度法（宇田和夫、斉藤秀夫、繊維学会誌、第１８巻第１号、１０５〜１２０頁、１９６２年）により測定できる。特開平９−９５５３８号公報に詳細に記載されている。
また、本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの分子量分布はゲルパーミエーションクロマトグラフィーによって評価され、その多分散性指数Ｍｗ／Ｍｎ（Ｍｗは質量平均分子量、Ｍｎは数平均分子量）が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なＭｗ／Ｍｎの値としては、１．０〜３．０であることが好ましく、１．０〜２．０であることがさらに好ましく、１．０〜１．６であることが最も好ましい。

低分子成分が除去されると、平均分子量（重合度）が高くなるが、粘度は通常のセルロースアシレートよりも低くなるため有用である。低分子成分の少ないセルロースアシレートは、通常の方法で合成したセルロースアシレートから低分子成分を除去することにより得ることができる。低分子成分の除去は、セルロースアシレートを適当な有機溶媒で洗浄することにより実施できる。なお、低分子成分の少ないセルロースアシレートを製造する場合、酢化反応における硫酸触媒量を、セルロース１００質量部に対して０．５〜２５質量部に調整することが好ましい。硫酸触媒の量を上記範囲にすると、分子量部分布の点でも好ましい（分子量分布の均一な）セルロースアシレートを合成することができる。本発明において使用されるセルロースアシレートの製造時に使用される際には、その含水率は２質量％以下であることが好ましく、さらに好ましくは１質量％以下であり、特に好ましくは０．７質量％以下である。一般に、セルロースアシレートは、水を含有しており、その含水率は２．５〜５質量％程度であることが知られている。本発明において、上記好ましい含水率のセルロースアシレートを得るためには、セルロースアシレートを乾燥させればよく、その方法は目的とする含水率になれば特に限定されない。これらのセルロースアシレートは、その原料綿や合成方法は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）７頁〜１２頁に詳細に記載されている。

本発明において使用されるセルロースアシレートは置換基、置換度、重合度、分子量分布など前述した範囲であれば、単一あるいは異なる２種類以上のセルロースアシレートを混合して用いることができる。

[セルロースアシレートへの添加剤]
本発明において、セルロースアシレートフィルムを製造するために用いられるセルロースアシレート溶液には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線防止剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子、光学特性調整剤など）を加えることができ、これらについて以下に説明する。またその添加する時期はドープ作製工程において何れでも添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。

本発明において使用される透明支持体、特に、セルロースアシレートフィルムからなる透明支持体は、光学異方性、具体的にはＲｅλおよびＲｔｈλ、特にＲｔｈλを低下させる化合物を、下記式（５）および（６）を満たす範囲で少なくとも一種含有することがのぞましい。
（５）（Ｒｔｈλ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−１．０
（６）０．０１≦Ａ≦３０
上記式（５）、（６）は
（５）（Ｒｔｈλ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−２．０
（６）０．０５≦Ａ≦２５
であることがよりのぞましく、
（５）（Ｒｔｈλ（Ａ）−Ｒｔｈ（０））／Ａ≦−３．０
（６）０．１≦Ａ≦２０
であることがさらにのぞましい。
ここで、Ｒｔｈλ（Ａ）：Ｒｔｈλを低下させる化合物をＡ％含有した透明支持体のＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ（０）：Ｒｔｈλを低下させる化合物を含有しない透明支持体のＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａ：透明支持体原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。

[透明支持体の光学異方性を低下させる化合物の構造的特徴]
透明支持体、特に、セルロースアシレートフィルムからなる透明支持体の光学異方性を低下させる化合物について説明する。本発明の発明者らは、鋭意検討した結果、透明支持体中のポリマー成分、特にセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向することを抑制する化合物を用いて光学異方性を十分に低下させ、ＲｅλおよびＲｔｈλがゼロに近くなるようにした。このためには光学異方性を低下させる化合物は、透明支持体中のポリマー成分、特にセルロースアシレートに十分に相溶し、化合物自身が棒状の構造や平面性の構造を持たないことが有利である。具体的には芳香族基のような平面性の官能基を複数持っている場合、それらの官能基を同一平面ではなく、非平面に持つような構造が有利である。

（ＬｏｇＰ値）
本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムを作製するにあたっては、上述のようにフィルム中のセルロースアシレートが面内および膜厚方向に配向することを抑制して光学異方性を低下させる化合物のうち、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）が０〜７である化合物を用いることが好ましい。ｌｏｇＰ値が７を超える化合物は、セルロースアシレートとの相溶性に乏しく、フィルムの白濁や粉吹きを生じやすい。また、ｌｏｇＰ値が０よりも小さな化合物は親水性が高いために、セルロースアセテートフィルムの耐水性を悪化させる場合がある。ｌｏｇＰ値としてさらに好ましい範囲は１〜６であり、特に好ましい範囲は１．５〜５である。
オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）の測定は、ＪＩＳ日本工業規格Ｚ７２６０−１０７（２０００）に記載のフラスコ浸とう法により実施することができる。また、オクタノール−水分配係数（ｌｏｇＰ値）は実測に代わって、計算化学的手法あるいは経験的方法により見積もることも可能である。計算方法としては、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）、Viswanadhan's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,29,163(1989).）、Broto's fragmentation法（Eur.J.Med.Chem.- Chim.Theor.,19,71(1984).）などが好ましく用いられるが、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）がより好ましい。ある化合物のｌｏｇＰの値が測定方法あるいは計算方法により異なる場合に、該化合物が本発明の範囲内であるかどうかは、Crippen's fragmentation法により判断することが好ましい。なお、本発明に記載のｌｏｇＰの値は、Crippen's fragmentation法（J.Chem.Inf.Comput.Sci.,27,21(1987).）により求めたものである。

[光学異方性を低下させる化合物の物性]
光学異方性を低下させる化合物は、芳香族基を含有しても良いし、含有しなくても良い。また光学異方性を低下させる化合物は、分子量が１５０以上３０００以下であることが好ましく、１７０以上２０００以下であることがより好ましく、２００以上１０００以下であることが特に好ましい。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。
光学異方性を低下させる化合物は、好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２５０℃の固体であり、さらに好ましくは、２５℃で液体であるか、融点が２５〜２００℃の固体である。また光学異方性を低下させる化合物は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物の添加量は、支持体原料ポリマー、特にセルロースアシレートの固形分に対し、０．０１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２５質量％であることがより好ましく、５〜２０質量％であることが特に好ましい。特に、本発明では、アシル置換度が２．８５〜３．００のセルロースアシレートに対し、前述の光学異方性を低下させる化合物を少なくとも一種、上記添加量で添加することが好ましい。
光学異方性を低下させる化合物は、単独で用いても、２種以上化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
光学異方性を低下させる化合物を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

光学異方性を低下させる化合物は、少なくとも一方の側の表面から全膜厚の１０％までの部分における該化合物の平均含有率が、該透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の中央部における該化合物の平均含有率の８０−９９％であることが好ましい。光学異方性を低下させる化合物の存在量は、例えば、特開平８−５７８７９号公報に記載の赤外吸収スペクトルを用いる方法などにより表面および中心部の化合物量を測定して求めることができる。

以下に本発明で好ましく用いられる、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の光学異方性を低下させる化合物の具体例を示すが、本発明はこれら化合物に限定されない。

本発明では、透明支持体の光学異方性を低下させる化合物として、下記一般式（１３）の化合物を使うことが好ましい。

上記一般式（１３）において、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。また、Ｒ¹、Ｒ²およびＲ³の炭素原子数の総和が１０以上であることが特に好ましい。置換基としてはフッ素原子、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が好ましく、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、スルホン基およびスルホンアミド基が特に好ましい。また、アルキル基は直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素原子数１〜２５のものが好ましく、６〜２５のものがより好ましく、６〜２０のもの（例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、t-ブチル基、アミル基、イソアミル基、t-アミル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ビシクロオクチル基、ノニル基、アダマンチル基、デシル基、t-オクチル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘプタデシル基、オクタデシル基、ノナデシル基、ジデシル基）が特に好ましい。アリール基としては炭素原子数が６〜３０のものが好ましく、６〜２４のもの（例えば、フェニル基、ビフェニル基、テルフェニル基、ナフチル基、ビナフチル基、トリフェニルフェニル基）が特に好ましい。一般式（１３）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

本発明において、透明支持体の光学異方性を低下させる化合物としては、下記一般式（１８）または一般式（１９）で表される化合物を用いることも好ましい。

[式中、Ｒ¹はアルキル基またはアリール基を表し、Ｒ²およびＲ³はそれぞれ独立に水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。]

上記一般式（１９）において、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立にアルキル基またはアリール基を表す。

一般式（１８）または（１９）で表される化合物の好ましい例を下記に示すが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。

[波長分散調整剤]
本発明では、前記透明支持体に対し、フィルムの波長分散を低下させる化合物（以下波長分散調整剤ともいう）を添加することが好ましい。
以下、波長分散調整剤について説明する。
本発明では、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）に対して、波長２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つことによりフィルムの着色を防止し、フィルムのＲｅλおよびＲｔｈλの波長分散を制御できる化合物を添加することにより、波長４５０ｎｍと６５０ｎｍでのＲｅλ、Ｒｔｈλの差、即ち、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜および｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜を低下させることができ、更に、波長４００ｎｍと７００ｎｍでのＲｅλ、Ｒｔｈλの差、即ち、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜および｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させることもできる。前述のように、本発明の光学補償シートにおいて、透明支持体は、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５であり、好ましくは、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦５かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦２５であり、特に好ましくは｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦３かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦１５である。

更に、本発明では、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）のＲｔｈの波長分散を良化させるために、下記式（iv）で表されるＲｔｈの波長分散ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜を低下させる化合物を、下記式（v）、（vi）をみたす範囲で少なくとも一種含有させることがのぞましい。
（iv）ΔＲｔｈ＝｜Ｒｔｈ₍₄₀₀₎−Ｒｔｈ₍₇₀₀₎｜
（v）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−２．０
（vi）０．０１≦Ｂ≦３０
上記式（v）、（vi）は
（v）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−３．０
（vi）０．０５≦Ｂ≦２５
であることがよりのぞましく、
（v）（ΔＲｔｈ（Ｂ）−ΔＲｔｈ（０））／Ｂ≦−４．０
（vi）０．１≦Ｂ≦２０
であることがさらにのぞましい。

セルロースアシレートフィルムのＲｅ、Ｒｔｈの値は一般に短波長側よりも長波長側が大きい波長分散特性となる。したがって相対的に小さい短波長側のＲｅ、Ｒｔｈを大きくすることによって波長分散を平滑にすることが要求される。一方２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持つ化合物は短波長側よりも長波長側の吸光度が大きい波長分散特性をもつ。この化合物自身がセルロースアシレートフィルム内部で等方的に存在していれば、化合物自身の複屈折性、ひいてはＲｅ、Ｒｔｈの波長分散は吸光度の波長分散と同様に短波長側が大きいと想定される。

したがって上述したような、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、化合物自身のＲｅλ、Ｒｔｈλの波長分散が短波長側が大きいと想定されるものを用いることによって、セルロースアシレートフィルムのＲｅλ、Ｒｔｈλの波長分散を調製することができる。このためには波長分散を調整する化合物はセルロースアシレートに十分均一に相溶することが好ましい。このような化合物の紫外領域の吸収帯範囲は２００〜４００ｎｍが好ましく、２２０〜３９５ｎｍがより好ましく、２４０〜３９０ｎｍがさらに好ましい。

また、近年テレビやノートパソコン、モバイル型携帯端末などの液晶表示装置ではより少ない電力で輝度を高めるために、液晶表示装置に用いられる光学部材には、優れた透過率が要求されている。その点においては、２００〜４００ｎｍの紫外領域に吸収を持ち、フィルムのＲｅλ、Ｒｔｈλの波長分散、具体的には、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜および｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜、｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜および｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物を含むセルロースアシレートフィルムは、高い分光透過率を有することが好ましい。本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムにおいては、波長３８０ｎｍにおける分光透過率が４５％以上９５％以下であり、かつ波長３５０ｎｍにおける分光透過率が１０％以下であることがのぞましい。

上述のような、本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤は揮散性の観点から分子量が２５０〜１０００であることが好ましい。より好ましくは２６０〜８００であり、更に好ましくは２７０〜８００であり、特に好ましくは３００〜８００である。これらの分子量の範囲であれば、特定のモノマー構造であっても良いし、そのモノマーユニットが複数結合したオリゴマー構造、ポリマー構造でも良い。

波長分散調整剤は、セルロースアシレートフィルム作製のドープ流延、乾燥の過程で揮散しないことが好ましい。

（化合物添加量）
上述した本発明で好ましく用いられる波長分散調整剤の添加量は、支持体原料ポリマー（好ましくはセルロースアシレート）固形分に対して０．０１〜３０質量％であることが好ましく、０．１〜２０質量％であることがより好ましく、０．２〜１０質量％であることが特に好ましい。

（化合物添加の方法）
またこれら波長分散調整剤は、単独で用いても、２種以上の化合物を任意の比で混合して用いてもよい。
またこれら波長分散調整剤を添加する時期はドープ作製工程中の何れであってもよく、ドープ調製工程の最後に行ってもよい。

本発明に好ましく用いられる波長分散調整剤の具体例としては、例えばベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノ基を含む化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、本発明はこれら化合物だけに限定されるものではない。

ベンゾトリアゾール系化合物としては一般式（１０１）で示されるものが波長分散調整剤として好ましく用いられる。

一般式（１０１） Ｑ¹−Ｑ²−ＯＨ

（式中、Ｑ¹は含窒素芳香族ヘテロ環Ｑ²は芳香族環を表す。）

Ｑ¹は含窒素方向芳香族へテロ環を表し、好ましくは5〜7員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは５〜６員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、例えば、イミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、セレナゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、ベンゾセレナゾール、チアジアゾール、オキサジアゾール、ナフトチアゾール、ナフトオキサゾール、アザベンズイミダゾール、プリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン、トリアザインデン、テトラザインデン等があげられ、更に好ましくは、５員の含窒素芳香族ヘテロ環であり、具体的にはイミダゾール、ピラゾール、トリアゾール、テトラゾール、チアゾール、オキサゾール、ベンゾトリアゾール、ベンゾチアゾール、ベンズオキサゾール、チアジアゾール、オキサジアゾールが好ましく、特に好ましくは、ベンゾトリアゾールである。
Ｑ¹で表される含窒素芳香族ヘテロ環は更に置換基を有してもよく、置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。また、置換基が複数ある場合にはそれぞれが縮環して更に環を形成してもよい。

Ｑ²で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ²であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはナフタレン環、ベンゼン環であり、特に好ましくはベンゼン環である。Ｑ²は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。
置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換または未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ、エチルチオなどが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１０１）として好ましくは下記一般式（１０１−Ａ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、およびＲ⁸はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。
Ｒ¹およびＲ³として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルキル基（好ましくは炭素数４〜１２）である。

Ｒ²、およびＲ⁴として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁵およびＲ⁸として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素１〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ⁶およびＲ⁷として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、ハロゲン原子であり、特に好ましくは水素原子、塩素原子である。

一般式（１０１）としてより好ましくは下記一般式（１０１−Ｂ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁶およびＲ⁷は一般式（１０１−Ａ）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）

以下に一般式（１０１）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

以上例にあげたベンゾトリアゾール系化合物の中でも、分子量が３２０以下のものを含まずにセルロースアシレートフィルムを作製することが、保留性の点で有利である。

また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるベンゾフェノン系化合物としては一般式（１０２）で示されるものが好ましく用いられる。

（式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。）、酸素原子または硫黄原子を表す。）

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族ヘテロ環として好ましくは酸素原子、窒素原子あるいは硫黄原子のどれかひとつを少なくとも１つ含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。
Ｑ¹およびＱ²であらわされる芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくは炭素数６〜１０の芳香族炭化水素環であり、更に好ましくは置換または無置換のベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましいが、置換基にカルボン酸やスルホン酸、4級アンモニウム塩を含むことはない。また、可能な場合には置換基同士が連結して環構造を形成してもよい。

ＸはＮＲ（Ｒは水素原子または置換基を表す。置換基としては後述の置換基Ｔが適用できる。）、酸素原子または硫黄原子を表し、Ｘとして好ましくは、ＮＲ（Ｒとして好ましくはアシル基、スルホニル基であり、これらの置換基は更に置換してもよい。）、またはOであり、特に好ましくはOである。

置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換または未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ、エトキシ、ブトキシなどが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル基、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

一般式（１０２）として好ましくは下記一般式（１０２−Ａ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、およびＲ⁹はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ¹、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁸およびＲ⁹として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ²として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、特に好ましくは炭素数１〜１２のアルコキシ基である。

Ｒ⁷として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基（好ましくは炭素数１〜１２、より好ましくは炭素数１〜８、更に好ましくはメチル基）であり、特に好ましくはメチル基、水素原子である。

一般式（１０２）としてより好ましくは下記一般式（１０２−Ｂ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ¹⁰は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表す。）

Ｒ¹⁰は水素原子、置換または無置換のアルキル基、置換または無置換のアルケニル基、置換または無置換のアルキニル基、置換または無置換のアリール基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。
Ｒ¹⁰として好ましくは置換または無置換のアルキル基であり、より好ましくは炭素数５〜２０の置換または無置換のアルキル基であり、更に好ましくは炭素数５〜１２の置換または無置換のアルキル基（ｎ−ヘキシル基、2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、ベンジル基、などが挙げられる。）であり、特に好ましくは、炭素数６〜１２の置換または無置換のアルキル基（2−エチルヘキシル基、n−オクチル基、n−デシル基、n−ドデシル基、ベンジル基）である。

一般式（１０２）で表される化合物は特開平１１−１２２１９号公報記載の公知の方法により合成できる。
以下に一般式（１０２）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

また本発明に用いられる波長分散調整剤のひとつであるシアノ基を含む化合物としては一般式（１０３）で示されるものが好ましく用いられる。

（式中、Ｑ¹およびＱ²はそれぞれ独立に芳香族環を表す。Ｘ¹およびＸ²は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。）Ｑ¹およびＱ²であらわされる芳香族環は芳香族炭化水素環でも芳香族ヘテロ環でもよい。また、これらは単環であってもよいし、更に他の環と縮合環を形成してもよい。

芳香族炭化水素環として好ましくは（好ましくは炭素数６〜３０の単環または二環の芳香族炭化水素環（例えばベンゼン環、ナフタレン環などが挙げられる。）であり、より好ましくは炭素数６〜２０の芳香族炭化水素環、更に好ましくは炭素数６〜１２の芳香族炭化水素環である。）更に好ましくはベンゼン環である。

芳香族ヘテロ環として好ましくは窒素原子あるいは硫黄原子を含む芳香族ヘテロ環である。ヘテロ環の具体例としては、例えば、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアゾール、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデンなどが挙げられる。芳香族ヘテロ環として好ましくは、ピリジン、トリアジン、キノリンである。

Ｑ¹およびＱ²で表される芳香族環として好ましくは芳香族炭化水素環であり、より好ましくはベンゼン環である。
Ｑ¹およびＱ²は更に置換基を有してもよく、後述の置換基Ｔが好ましい。置換基Ｔとしては例えばアルキル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメチル基、エチル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基などが挙げられる。）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばビニル基、アリル基、２−ブテニル基、３−ペンテニル基などが挙げられる。）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１２、特に好ましくは炭素数２〜８であり、例えばプロパルギル基、３−ペンチニル基などが挙げられる。）、アリール基（好ましくは炭素数６〜３０、より好ましくは炭素数６〜２０、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ナフチル基などが挙げられる。）、置換または未置換のアミノ基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１０、特に好ましくは炭素数０〜６であり、例えばアミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジベンジルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１２、特に好ましくは炭素数１〜８であり、例えばメトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などが挙げられる。）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルオキシ基、２−ナフチルオキシ基などが挙げられる。）、アシル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばアセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１０であり、例えばフェニルオキシカルボニル基などが挙げられる。）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセトキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１０であり、例えばアセチルアミノ基、ベンゾイルアミノ基などが挙げられる。）、アルコキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０、より好ましくは炭素数２〜１６、特に好ましくは炭素数２〜１２であり、例えばメトキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、アリールオキシカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０、より好ましくは炭素数７〜１６、特に好ましくは炭素数７〜１２であり、例えばフェニルオキシカルボニルアミノ基などが挙げられる。）、スルホニルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基などが挙げられる。）、スルファモイル基（好ましくは炭素数０〜２０、より好ましくは炭素数０〜１６、特に好ましくは炭素数０〜１２であり、例えばスルファモイル基、メチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基、フェニルスルファモイル基などが挙げられる。）、カルバモイル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばカルバモイル、メチルカルバモイル基、ジエチルカルバモイル基、フェニルカルバモイル基などが挙げられる。）、アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメチルチオ基、エチルチオ基などが挙げられる。）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２０、より好ましくは炭素数６〜１６、特に好ましくは炭素数６〜１２であり、例えばフェニルチオ基などが挙げられる。）、スルホニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメシル基、トシル基などが挙げられる。）、スルフィニル基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばメタンスルフィニル基、ベンゼンスルフィニル基などが挙げられる。）、ウレイド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばウレイド基、メチルウレイド基、フェニルウレイド基などが挙げられる。）、リン酸アミド基（好ましくは炭素数１〜２０、より好ましくは炭素数１〜１６、特に好ましくは炭素数１〜１２であり、例えばジエチルリン酸アミド基、フェニルリン酸アミド基などが挙げられる。）、ヒドロキシ基、メルカプト基、ハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子）、シアノ基、スルホ基、カルボキシル基、ニトロ基、ヒドロキサム酸基、スルフィノ基、ヒドラジノ基、イミノ基、ヘテロ環基（好ましくは炭素数１〜３０、より好ましくは１〜１２であり、ヘテロ原子としては、例えば窒素原子、酸素原子、硫黄原子、具体的には例えばイミダゾリル基、ピリジル基、キノリル基、フリル基、ピペリジル基、モルホリノ基、ベンゾオキサゾリル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基などが挙げられる。）、シリル基（好ましくは、炭素数３〜４０、より好ましくは炭素数３〜３０、特に好ましくは、炭素数３〜２４であり、例えば、トリメチルシリル基、トリフェニルシリル基などが挙げられる）などが挙げられる。これらの置換基は更に置換されてもよい。また、置換基が二つ以上ある場合は、同じでも異なってもよい。また、可能な場合には互いに連結して環を形成してもよい。

Ｘ¹およびＸ²は水素原子または置換基を表し、少なくともどちらか１つはシアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環を表す。Ｘ¹およびＸ²で表される置換基は前述の置換基Ｔを適用することができる。また、Ｘ¹およびＸ²はで表される置換基は更に他の置換基によって置換されてもよく、Ｘ¹およびＸ²はそれぞれが縮環して環構造を形成してもよい。

Ｘ¹およびＸ²として好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（-C(＝O)OR（Rは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。

一般式（１０３）として好ましくは下記一般式（１０３-Ａ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表す。Ｘ¹およびＸ²は一般式（１０３）におけるそれらと同義であり、また好ましい範囲も同様である。）

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁸、Ｒ⁹およびＲ¹⁰はそれぞれ独立に水素原子または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用できる。またこれらの置換基は更に別の置換基によって置換されてもよく、置換基同士が縮環して環構造を形成してもよい。

Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ⁴、Ｒ⁵、Ｒ⁶、Ｒ⁷、Ｒ⁹、およびＲ¹⁰として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子であり、より好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、ハロゲン原子であり、更に好ましくは水素原子、炭素1〜１２アルキル基であり、特に好ましくは水素原子、メチル基であり、最も好ましくは水素原子である。

Ｒ³、およびＲ⁸として好ましくは水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基、置換または無置換のアミノ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、より好ましくは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基、炭素数６〜１２アリールオキシ基、ヒドロキシ基であり、更に好ましくは水素原子、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数１〜１２アルコキシ基であり、特に好ましくは水素原子である。

一般式（１０３）としてより好ましくは下記一般式（１０３-Ｂ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ³およびＲ⁸は一般式（１０３-Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｘ³は水素原子、または置換基を表す。）

Ｘ³は水素原子、または置換基を表し、置換基としては前述の置換基Ｔが適用でき、また、可能な場合は更に他の置換基で置換されてもよい。Ｘ³として好ましくは水素原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、ニトロ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、より好ましくは、シアノ基、カルボニル基、スルホニル基、芳香族ヘテロ環であり、更に好ましくはシアノ基、カルボニル基であり、特に好ましくはシアノ基、アルコキシカルボニル基（-C(＝O)OR（Rは：炭素数１〜２０アルキル基、炭素数６〜１２のアリール基およびこれらを組み合せたもの）である。

一般式（１０３）として更に好ましくは一般式（１０３-Ｃ）で表される化合物である。

（式中、Ｒ³およびＲ⁸は一般式（１０３-Ａ）におけるそれらと同義であり、また、好ましい範囲も同様である。Ｒ²¹は炭素数１〜２０のアルキル基を表す。）

Ｒ²¹として好ましくはＲ³およびＲ⁸が両方水素の場合には、炭素数２〜１２のアルキル基であり、より好ましくは炭素数４〜１２のアルキル基であり、更に好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基であり、特に好ましくは、ｎ−オクチル基、tert-オクチル基、２−エチルへキシル基、n−デシル基、n−ドデシル基であり、最も好ましくは２−エチルへキシル基である。

Ｒ²¹として好ましくはＲ³およびＲ⁸が水素以外の場合には、一般式（１０３-Ｃ）で表される化合物の分子量が３００以上になり、かつ炭素数２０以下の炭素数のアルキル基が好ましい。

上記一般式（１０３）で表される化合物はJounal of American Chemical Society ６３巻 ３４５２頁（１９４１）記載の方法によって合成できる。

以下に一般式（１０３）で表される化合物の具体例を挙げるが、本発明は下記具体例に何ら限定されるものではない。

[マット剤微粒子]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）には、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムおよびリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。１次粒子の平均径が５〜１６ｎｍと小さいものがフィルムのヘイズを下げることができより好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットル以上が好ましく、１００〜２００ｇ／リットル以上がさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。

これらの微粒子は、通常平均粒子径が０．１〜３．０μｍの２次粒子を形成し、これらの微粒子はフィルム中では、１次粒子の凝集体として存在し、フィルム表面に０．１〜３．０μｍの凹凸を形成させる。２次平均粒子径は０．２μｍ以上１．５μｍ以下が好ましく、０．４μｍ以上１．２μｍ以下がさらに好ましく、０．６μｍ以上１．１μｍ以下が最も好ましい。１次、２次粒子径はフィルム中の粒子を走査型電子顕微鏡で観察し、粒子に外接する円の直径をもって粒子径とした。また、場所を変えて粒子２００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とした。

二酸化珪素の微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）などの市販品を使用することができる。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６およびＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、本発明において使用することができる。

これらの中でアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖが１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。

本発明において２次平均粒子径の小さな粒子を有するセルロースアシレートフィルムを得るために、微粒子の分散液を調製する際にいくつかの手法が考えられる。例えば、溶剤と微粒子を撹拌混合した微粒子分散液をあらかじめ作製し、この微粒子分散液を別途用意した少量のセルロースアシレート溶液に加えて撹拌溶解し、さらにメインのセルロースアシレートドープ液と混合する方法がある。この方法は二酸化珪素微粒子の分散性がよく、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい点で好ましい調製方法である。ほかにも、溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解した後、これに微粒子を加えて分散機で分散を行いこれを微粒子添加液とし、この微粒子添加液をインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法もある。本発明はこれらの方法に限定されないが、二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散するときの二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％であること好ましく、１０〜２５質量％であることが更に好ましく、１５〜２０質量％であることが最も好ましい。分散濃度が高い方が添加量に対する液濁度は低くなり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。最終的なセルロースアシレートのドープ溶液中でのマット剤の添加量は１ｍ²あたり０．０１〜１．０ｇであることが好ましく、０．０３〜０．３ｇであることが更に好ましく、０．０８〜０．１６ｇであることが最も好ましい。

使用される溶剤は低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

[可塑剤、劣化防止剤、剥離剤]
上記の光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤の他に、本発明で使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）には、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離促進剤、赤外線吸収剤、など）を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。さらにまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されているものを使用することができる。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）が多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。中でも、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。

[化合物添加の比率]
前記透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）においては、分子量が３０００以下の化合物の総量は、支持体原料ポリマー（好ましくはセルロースアシレート）質量に対して５〜４５％であることがのぞましい。より好ましくは１０〜４０％であり、さらにのぞましくは１５〜３０％である。これらの化合物としては上述したように、光学異方性を低下させる化合物、波長分散調整剤、紫外線吸収剤、可塑剤、劣化防止剤、微粒子（好ましくは導電性部粒子）、剥離促進剤、赤外吸収剤、染料などであり、分子量としては３０００以下がのぞましく、２０００以下がよりのぞましく、１０００以下がさらにのぞましい。これら化合物の総量が５％以下であると、セルロースアシレート単体の性質が出やすくなり、例えば、温度や湿度の変化に対して光学性能や物理的強度が変動しやすくなるなどの問題がある。またこれら化合物の総量が４５％以上であると、セルロースアシレートフィルム中に化合物が相溶する限界を超え、フィルム表面に析出してフィルムが白濁する( フィルムからの泣き出し)などの問題が生じやすくなる。

[セルロースアシレート溶液の有機溶媒]
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造することができる。ドープの主溶媒として用いられる有機溶媒としては、炭素原子数が３〜１２のエステル、ケトン、エーテル、および炭素原子数が１〜７のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒が好ましい。エステル、ケトンおよび、エーテルは、環状構造を有していてもよい。エステル、ケトンおよびエーテルの官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを二つ以上有する化合物も、主溶媒として用いることができ、例えばアルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する主溶媒の場合、その炭素原子数はいずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。

本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムに対しては塩素系のハロゲン化炭化水素を主溶媒としても良いし、発明協会公開技報２００１−１７４５（１２頁〜１６頁）に記載されているように、非塩素系溶媒を主溶媒としても良く、本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムに対しては特に限定されるものではない。

その他、本発明において使用されるセルロースアシレート溶液およびフィルムについての溶媒は、その溶解方法も含め以下の特許に開示されており、好ましい態様である。それらは、例えば、特開２０００−９５８７６号公報、特開平１２−９５８７７号公報、特開平１０−３２４７７４号公報、特開平８−１５２５１４号公報、特開平１０−３３０５３８号公報、特開平９−９５５３８号公報、特開平９−９５５５７号公報、特開平１０−２３５６６４号公報、特開平１２−６３５３４号公報、特開平１１−２１３７９号公報、特開平１０−１８２８５３号公報、特開平１０−２７８０５６号公報、特開平１０−２７９７０２号公報、特開平１０−３２３８５３号公報、特開平１０−２３７１８６号公報、特開平１１−６０８０７号公報、特開平１１−１５２３４２号公報、特開平１１−２９２９８８号公報、特開平１１−６０７５２号公報、特開平１１−６０７５２号公報などに記載されている。これらの公報には、本発明において使用されるセルロースアシレートに好ましい溶媒だけでなく、その溶液物性や共存させる共存物質についても記載があり、本発明においても好ましい態様である。

＜セルロースアシレートフィルムの製造工程＞
[溶解工程]
本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムを得るためのセルロースアシレート溶液（ドープ）の調製は、その溶解方法は特に限定されず、室温でもよくさらには冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施することができる。本発明におけるセルロースアシレート溶液の調製、さらには溶解工程に伴う溶液濃縮、ろ過の各工程に関しては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて２２頁〜２５頁に詳細に記載されている製造工程が好ましく用いられる。

（ドープ溶液の透明度）
本発明では、セルロースアシレート溶液のドープ透明度は８５％以上であることがのぞましい。より好ましくは８８％以上であり、さらに好ましくは９０％以上である。本発明においてはセルロースアシレートドープ溶液に各種の添加剤が十分に溶解していることを確認した。具体的なドープ透明度の算出方法としては、ドープ溶液を１ｃｍ角のガラスセルに注入し、分光光度計（ＵＶ−３１５０、島津製作所）で５５０ｎｍの吸光度を測定した。溶媒のみをあらかじめブランクとして測定しておき、ブランクの吸光度との比からセルロースアシレート溶液の透明度を算出した。

［流延、乾燥、巻き取り工程］
次に、セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムを製造する方法および設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供する溶液流延製膜方法および溶液流延製膜装置を用いることができる。溶解機（釜）から調製されたドープ（セルロースアシレート溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて得られたフィルムを乾燥装置のロール群で機械的に搬送し乾燥を終了して巻き取り機でロール状に所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。更に、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることもできる。これらについては、発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会） ２５頁〜３０頁に詳細に記載されており、流延（共流延を含む）、金属支持体、乾燥、剥離などに分類され、本発明において好ましく用いることができる。
また、前記透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の厚さは１０〜１２０μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがより好ましく、３０〜９０μｍであることがさらに好ましい。

＜高湿度処理後のフィルムの光学性能変化＞
[セルロースアシレートフィルム物性評価］
本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムの環境変化による光学性能の変化については、６０℃９０％ＲＨに２４０時間処理したフィルムのＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることがのぞましい。よりのぞましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらにのぞましい。
[高温度処理後のフィルムの光学性能変化]
また、８０℃２４０時間処理したフィルムのＲｅおよびＲｔｈの変化量が１５ｎｍ以下であることがのぞましい。よりのぞましくは１２ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以下であることがさらにのぞましい。

[フィルム加熱処理後の化合物揮散量]
本発明において、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）にのぞましく用いることができる、Ｒｔｈλを低下させる化合物と、ΔＲｔｈを低下させる化合物は、８０℃２４０時間処理したフィルムからの化合物の揮散量が３０％以下であることがのぞましい。よりのぞましくは２５％以下であり、２０％以下であることがさらにのぞましい。
なお、フィルムからの揮散量は、８０℃２４０時間処理したフィルムおよび未処理のフィルムをそれぞれ溶媒に溶かし出し、液体高速クロマトグラフィーにて化合物を検出し、化合物のピーク面積をフィルム中に残存した化合物量として、下記式により算出した。
揮散量（％）＝ ｛（未処理品中の残存化合物量）−（処理品中の残存化合物量）｝/（未処理品中の残存化合物量）×１００

[フィルムのガラス転移温度Ｔｇ]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）のガラス転移温度Ｔｇは、８０〜１６５℃であることが好ましい。耐熱性の観点から、Ｔｇが１００〜１６０℃であることがより好ましく、１１０〜１５０℃であることが特に好ましい。ガラス転移温度Ｔｇの測定は、以下の方法で行うことができる。透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）試料１０ｍｇを、常温から２００度まで昇降温速度５℃／分で示差走査熱量計（ＤＳＣ２９１０、Ｔ．Ａ．インスツルメント）で熱量測定を行い、ガラス転移温度Ｔｇを算出する。

[フィルムのヘイズ]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）のヘイズは０．０１〜２．０％であることがのぞましい。よりのぞましくは０．０５〜１．５％であり、０．１〜１．０％であることがさらにのぞましい。光学フィルムとしてフィルムの透明性は重要である。ヘイズの測定は、フィルム試料４０ｍｍ×８０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨでヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）でＪＩＳ Ｋ−６７１４に従って行うことができる。

[フィルムのＲｅ、Ｒｔｈの湿度依存性]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）のＲｅλおよびＲｔｈλはともに湿度による変化が小さいことが好ましい。具体的には、２５℃１０％ＲＨにおけるＲｔｈ値と２５℃８０％ＲＨにおけるＲｔｈλの差ΔＲｔｈ（＝Ｒｔｈ１０％ＲＨ−Ｒｔｈ８０％ＲＨ）が０〜５０ｎｍであることが好ましい。より好ましくは０〜４０ｎｍであり、さらに好ましくは０〜３５ｎｍである。

[フィルムの平衡含水率]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の平衡含水率は、本発明の光学補償シートを偏光板の保護膜として用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃８０％ＲＨにおける平衡含水率が、０〜４％であることが好ましい。０.１〜３．５％であることがより好ましく、１〜３％であることが特に好ましい。４％以上の平衡含水率であると、光学補償シートの支持体として用いる際にレターデーションの湿度変化による依存性が大きくなりすぎてしまい好ましくない。
含水率は、フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置（ＣＡ−０３、ＶＡ−０５、共に三菱化学（株））にてカールフィッシャー法で測定し、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して算出した。

[フィルムの透湿度]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の透湿度は、ＪＩＳ規格ＪＩＳＺ０２０８をもとに、温度６０℃、湿度９５％ＲＨの条件において測定し、膜厚８０μｍに換算して４００〜２０００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがのぞましい。５００〜１８００ｇ／ｍ²・２４ｈであることがより好ましく、６００〜１６００ｇ／ｍ²・２４ｈであることが特に好ましい。２０００ｇ／ｍ²・２４ｈを越えると、フィルムのＲｅλ、Ｒｔｈλの湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまう。また、前記透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）に光学異方性層を積層して光学補償シートとした場合も、Ｒｅλ、Ｒｔｈλの湿度依存性の絶対値が０．５ｎｍ／％ＲＨを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こすおそれがある。また、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の透湿度が４００ｇ／ｍ²・２４ｈ未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じるおそれがある。
透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の膜厚が厚ければ透湿度は小さくなり、膜厚が薄ければ透湿度は大きくなる。そこでどのような膜厚のサンプルでも基準を８０μｍに設け換算する必要がある。膜厚の換算は、（８０μｍ換算の透湿度＝実測の透湿度×実測の膜厚μｍ／８０μｍ）として求めた。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」（高分子実験講座４ 共立出版）の２８５頁〜２９４頁：蒸気透過量の測定（質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法）に記載の方法を適用することができ、フィルム試料７０ｍｍφを２５℃、９０％ＲＨおよび６０℃、９５％ＲＨでそれぞれ２４時間調湿し、透湿試験装置（ＫＫ−７０９００７、東洋精機（株））にて、ＪＩＳ Ｚ−０２０８に従って、単位面積あたりの水分量を算出（ｇ／ｍ²）し、透湿度＝調湿後質量−調湿前質量で求めることができる。

[フィルムの寸度変化]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の寸度安定性は、６０℃、９０％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率および９０℃、５％ＲＨの条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率がいずれも０.５％以下であることがのぞましい。よりのぞましくは０.３％以下であり、さらにのぞましくは０.１５％以下である。
具体的な測定方法は、以下の通りである。フィルム試料３０ｍｍ×１２０ｍｍを２枚用意し、２５℃、６０％ＲＨで２４時間調湿し、自動ピンゲージ（新東科学（株））にて、両端に６ｍｍφの穴を１００ｍｍの間隔で開け、パンチ間隔の原寸（Ｌ０）とした。１枚の試料を６０℃、９０％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ１）を測定、もう１枚の試料を９０℃、５％ＲＨにて２４時間処理した後のパンチ間隔の寸法（Ｌ２）を測定した。すべての間隔の測定において最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定した。６０℃、９０％ＲＨ（高湿）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ１｜／Ｌ０｝×１００、９０℃、５％ＲＨ（高温）の寸度変化率＝｛｜Ｌ０−Ｌ２｜／Ｌ０｝×１００、として寸度変化率を求めた。

[フィルムの弾性率]
（弾性率）
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の弾性率は、２００〜５００ｋｇｆ/ｍｍ²であることが好ましい。より好ましくは２４０〜４７０ｋｇｆ/ｍｍ²であり、さらに好ましくは２７０〜４４０ｋｇｆ/ｍｍ²である。具体的な測定方法は、以下の通りである。東洋ボールドウィン製万能引っ張り試験機ＳＴＭ Ｔ５０ＢＰを用い、２３℃・７０％雰囲気中、引っ張り速度１０％／分で０．５％伸びにおける応力を測定し、弾性率を求めた。

[フィルムの光弾性係数]
（光弾性係数）
本発明において使用されるセルロースアシレートフィルムの光弾性係数は、５０×１０^-13ｃｍ²/ｄｙｎｅ以下であることが好ましい。３０×１０^-13ｃｍ²/ｄｙｎｅ以下であることがより好ましく、２０×１０^-13ｃｍ²/ｄｙｎｅ以下であることがさらに好ましい。具体的な測定方法は、以下の通りである。フィルム試料１２ｍｍ×１２０ｍｍの長軸方向に対して引っ張り応力をかけ、その際のレターデーションをエリプソメーター（Ｍ１５０、日本分光（株））で測定し、応力に対するレターデーションの変化量から光弾性係数を算出した。

[延伸前後における正面レターデーション変化、遅相軸の検出]
試料１００×１００ｍｍを用意し、固定一軸延伸機を用いて温度１４０℃の条件下で機械搬送方向（ＭＤ方向）または垂直方向（ＴＤ方向）に延伸を行う。延伸前後における各試料の正面レターデーションは自動複屈折計ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨを用いて測定する。遅相軸の検出は上記のレターデーション測定の際に得られる配向角から決定した。延伸によってＲｅの変化が小さいことが好ましく、具体的にはＲｅ(ｎ)をｎ(％)延伸したフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)、Ｒｅ(０)を延伸していないフィルムの面内正面レターデーション(ｎｍ)としたときに、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦１．０を有することが好ましく、｜Ｒｅ(ｎ)−Ｒｅ(０)｜／ｎ≦０．３以下がさらに好ましい。

[遅相軸を有する方向]
本発明において、前記透明支持体を含む本発明の光学補償シートを偏光子の保護膜に用いる場合、偏光子が機械搬送方向（ＭＤ方向）に吸収軸を持つため、透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は遅相軸がＭＤ方向近傍またはＴＤ近傍にあることがのぞましい。遅相軸が偏光子と平行または直交させることにより光漏れや色味変化を低減できる。近傍とは、遅相軸とＭＤまたはＴＤ方向が０〜１０°、好ましくは０〜５°の範囲にあることを表す。

[固有複屈折が正である透明支持体]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は、フィルム面内において、遅相軸を有する方向に延伸すると正面レターデーションＲeが大きくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると正面レターデーションＲeが小さくなる。このことは固有複屈折が正であることを示しており、フィルム中で発現したＲeを打ち消すには遅相軸と垂直方向に延伸することが有効である。この方法としては例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合にＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を用いて正面Ｒeを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合にはＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。

[固有複屈折が負である透明支持体]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は、遅相軸を有する方向に延伸すると正面レターデーションＲeが小さくなり、遅相軸を有する方向と垂直な方向に延伸すると正面レターデーションＲeが大きくなる場合もある。このことは固有複屈折が負であることを示しており、フィルム中で発現したＲeを打ち消すには遅相軸と同一の方向に延伸することが有効である。この方法としては例えば、フィルムが機械搬送方向（ＭＤ方向）に遅相軸を有している場合にＭＤ方向の機械搬送ロールの張力を強めて延伸することによって正面Ｒeを小さくすることが考えられる。逆の例として、ＴＤ方向に遅相軸を有している場合にはＭＤとは垂直な方向（ＴＤ方向）にテンター延伸を用いて正面Ｒｅを小さくすることが考えられる。

[透明支持体の評価方法]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の評価は、以下の方法によって実施した。

（正面レターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈ）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅλは自動複屈折計KOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈλは前記Ｒｅλと、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向を０°としてサンプルを１０°ごとに５０°まで傾斜させて波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力し算出した。

（Ｒｅ、Ｒｔｈの波長分散測定）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、エリプソメーターＭ−１５０(日本分光（株）製)において波長７８０ｎｍから３８０ｎｍの光をフィルム法線方向に入射させることにより各波長でのＲｅを求め、Ｒｅの波長分散を測定した。また、Ｒｔｈの波長分散については、前記Ｒｅ、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から７８０〜３８０ｎｍの波長の光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長７８０〜３８０ｎｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、平均屈折率の仮定値１．４８および膜厚を入力して算出した。

（分子配向軸）
試料７０ｍｍ×１００ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨで２時間調湿し、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ２１ＤＨ、王子計測（株））にて、垂直入射における入射角を変化させた時の位相差より分子配向軸を算出した。
（軸ズレ）
また、自動複屈折計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株））で軸ズレ角度を測定した。幅方向に全幅にわたって等間隔で２０点測定し、絶対値の平均値を求めた。また、遅相軸角度（軸ズレ）のレンジとは、幅方向全域にわたって等間隔に２０点測定し、軸ズレの絶対値の大きいほうから４点の平均と小さいほうから４点の平均の差をとったものである。

（透過率）
試料２０ｍｍ×７０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで透明度測定器（ＡＫＡ光電管比色計、ＫＯＴＡＫＩ製作所）で可視光（６１５ｎｍ）の透過率を測定した。
（分光特性）
試料１３ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで分光光度計（Ｕ−３２１０、（株）日立製作所）にて、波長３００〜４５０ｎｍにおける透過率を測定した。傾斜幅は７２％の波長−５％の波長で求めた。限界波長は、（傾斜幅／２）＋５％の波長で表した。吸収端は、透過率０．４％の波長で表す。これより３８０ｎｍおよび３５０ｎｍの透過率を評価した。

[フィルム表面の性状]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の表面は、ＪＩＳＢ０６０１−１９９４に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ（Ｒａ）が０．１μｍ以下、および最大高さ（Ｒｙ）が０．５μｍ以下であることが好ましい。好ましくは、算術平均粗さ（Ｒａ）が０．０５μｍ以下、および最大高さ（Ｒｙ）が０．２μｍ以下である。膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）により評価することが出来る。

[透明支持体のレターデーションの面内ばらつき]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は、次の式を満たすことがのぞましい。
｜Ｒｅ_(MAX)−Ｒｅ_(MIN)｜≦3かつ｜Ｒｔｈ_(MAX)−Ｒｔｈ_(MIN)｜≦5
［式中、Ｒｅ_(MAX)、Ｒｔｈ_(MAX)−は任意に切り出した1ｍ四方のフィルムの最大レターデーション値、Ｒｅ_(MIN)、Ｒｔｈ_(MIN)は最小値である。］

[フィルムの保留性]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は、フィルムに添加した各種化合物の保留性が高いことが好ましい。具体的には、フィルム試料（透明支持体）を８０℃／９０％ＲＨの条件下に４８時間静置した場合のフィルムの質量変化が、０〜５％であることが好ましい。より好ましくは０〜３％であり、さらに好ましくは０〜２％である。
〈保留性の評価方法〉
試料を１０ｃｍ×１０ｃｍのサイズに断裁し、２３℃、５５％ＲＨの雰囲気下で２４時間放置後の質量を測定して、８０±５℃、９０±１０％ＲＨの条件下で４８時間放置した。処理後の試料の表面を軽く拭き、２３℃、５５％ＲＨで１日放置後の質量を測定して、以下の方法で保留性を計算した。
保留性（質量％）＝｛（放置前の質量−放置後の質量）／放置前の質量｝×１００

[フィルムの力学特性]
（カール）
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の幅方向のカール値は、−１０／ｍ〜＋１０／ｍであることが好ましい。前記透明支持体に後述する表面処理、光学異方性層を塗設する際のラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の塗設や貼合などを長尺で行う際に、透明支持体の幅方向のカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし、フィルムの切断が起きることがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることがある。又、カールを上述の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法（ＡＮＳＩ／ＡＳＣＰＨ１．２９−１９８５）に従い測定することができる。

（引裂き強度）
ＪＩＳＫ７１２８−２：１９９８の引裂き試験方法に基づく引裂き強度（エルメンドルフ引裂き法）は、前記透明支持体の膜厚が２０〜８０μｍの範囲において、２ｇ以上であることが好ましい。より好ましくは、５〜２５ｇであり、更には６〜２５ｇである。また、６０μｍ換算で８ｇ以上であることが好ましく、より好ましくは８〜１５ｇである。具体的には、試料片５０ｍｍ×６４ｍｍを、２５℃、６５％ＲＨの条件下に２時間調湿した後に軽荷重引裂き強度試験機を用いて測定できる。

［フィルムの残留溶剤量］
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は、残留溶剤量が、０．０１〜１．５質量％の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは０．０１〜１．０質量％である。本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量を１．５％以下とすることでカールを抑制できる。１．０％以下であることがより好ましい。これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時の残留溶剤量が少なくすることで自由堆積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。

[フィルムの吸湿膨張係数]
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の吸湿膨張係数は３０×１０^-5／％ＲＨ以下であることが好ましい。吸湿膨張係数は、１５×１０^-5／％ＲＨ以下であることがより好ましく、１０×１０^-5／％ＲＨ以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、１．０×１０^-5／％ＲＨ以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。この吸湿膨張係数を調節することで、前記透明支持体を用いて光学補償シートを形成した場合、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。

［表面処理］
透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）は、場合により表面処理を行うことによって、支持体と各機能層（例えば、下塗層およびバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸またはアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０^-3〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類およびそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号 ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。

［アルカリ鹸化処理によるフィルム表面の接触角］
前記透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）を含む本発明の光学補償シートを偏光板の保護膜として用いる場合の該透明支持体の表面処理の有効な手段の１つとしてアルカリ鹸化処理が挙げられる。この場合、アルカリ鹸化処理後のフィルム表面の接触角が５５°以下であることがのぞましい。よりのぞましくは５０°以下であり、４５°以下であることがさらにのぞましい。接触角の評価法はアルカリ鹸化処理後のフィルム表面に直径３ｍｍの水滴を落とし、フィルム表面と水滴のなす角をもとめる通常の手法によって親疎水性の評価として用いることができる。

（耐光性）
本発明において使用される透明支持体（好ましくはセルロースアシレートフィルム）の光耐久性の指標として、スーパーキセノン光を２４０時間照射したフィルムの色差ΔＥ＊ａｂが２０以下であることがのぞましい。よりのぞましくは１８以下であり、１５以下であることがさらにのぞましい。色差の測定は、ＵＶ3100（島津製作所製）を用いて行った。測定の方法は、以下の通りである。フィルムを２５℃６０％ＲＨに２時間以上調湿した後にキセノン光照射前のフィルムのカラー測定を行い初期値（L0^*、a0^*、b0^*）を求めた。その後、フィルム単体で、スーパーキセノンウェザーメーターSX-75（スガ試験機（株）製）にて、１５０Ｗ/ｍ²、６０℃５０％ＲＨ条件にてキセノン光を２４０時間照射した。所定時間の経過後、フィルムを恒温槽から取り出し、２５℃６０％ＲＨに２時間調湿した後に、再びカラー測定を行い、照射経時後の値（L1^*、a1^*、b1^*）を求めた。これらから、色差ΔE^*ab＝（(L0^*-L1^*)^2＋(a0^*-a1^*)^2＋(b0^*-b1^*)^2）^0.5を求めた。

［光学補償シート］
本発明の第１の態様の光学補償シートは、前記透明支持体上に、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａ、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃをこの順に有する光学補償シートであり、第２の態様の光学補償シートは、前記透明支持体上に、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃ、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａをこの順に有する光学補償シートである。
（３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
なお、光学補償シートとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償フィルムなどと同義である。光学補償シートは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。前記透明支持体は、ＲｅおよびＲｔｈが、０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０ｎｍかつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５ｎｍと光学異方性が小さく、｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５と波長分散が小さいため、余計な異方性を生じず、複屈折を持つ光学異方性層を併用すると、光学異方性層の光学性能のみを発現することができる。
更に、本発明では、前記透明支持体に、下記に示す二層の光学異方性層を積層することで、広視野角化だけでなく、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を小さくすることができる。なお、偏光板の保護膜として用いられる場合であっても、結果的に光学補償シートとしての役割を果たしている場合には、本発明の光学補償シートに含まれる。

本発明の第１の態様の光学補償シートでは、前記透明支持体上に、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａ、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃがこの順で積層されており、第２の態様の光学補償シートでは、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃ、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａがこの順で積層されている。透明支持体、光学異方性層Ａ、光学異方性層Ｃの各々の間には配向膜層、接着層等の層が設けてあってもよい。
（３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
本発明の第1の様態の光学補償シートでは、上記式（３）、（４）は、
（３）１５≦Ｒｅ₅₉₀≦５０かつ８≦Ｒｔｈ₅₉₀≦５０
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ５０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦１７０
であることが好ましい。
本発明の第２の様態の光学補償シートでは、上記式（３）、（４）は、
（３）５０≦Ｒｅ₅₉₀≦１３０かつ２５≦Ｒｔｈ₅₉₀≦１３０
（４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦１００
であることが好ましい。

黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化を小さくするためには、光学異方性層AのＲｅλの波長依存性は下記式（７）、（８）を満たすことが好ましく、光学異方性層CのＲｔｈλの波長依存性が下記式（９）、（１０）を満たすことが好ましい。
（７）Ｒｅ₄₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝０．６０〜０．９８
（８）Ｒｅ₆₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝１．００〜１．６０
（９）Ｒｔｈ₄₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝１．０２〜１．６０
（１０）Ｒｔｈ₆₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝０．６０〜１．００
上記式（７）、（８）、（９）、（１０）は、
（７）Ｒｅ₄₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝０．７〜０．９５
（８）Ｒｅ₆₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝１．０５〜１．３
（９）Ｒｔｈ₄₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝１．０５〜１．３
（１０）Ｒｔｈ₆₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝０．７〜０．９５
であることが更に好ましい。

本発明の光学補償シートを構成する光学異方性層ＡおよびＣは、上記式（３）および（４）、好ましくは式（３）、（４）、（７）〜（１０）を満たすものであれば、材料の限定はなく、液晶性化合物を含有する組成物から形成しても良いし、複屈折を持つポリマーフィルムから形成しても良い。更に、前記光学異方性層Ｃは、非液晶性化合物から形成することもできる。非液晶性化合物は、特に限定されず、公知のものを用いることができる。
前記液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物または棒状液晶性化合物が好ましい。
なお、光学異方性層Ａの製造方法については、例えば、特開２００２−４８９１９号公報を参照することができ、光学異方性層Ｃの製造方法については、例えば、特開２００４−４４７４号公報を参照することができる。

（ディスコティック液晶性化合物）
本発明に使用可能なディスコティック液晶性化合物の例には、様々な文献（Ｃ．Ｄｅｓｔｒａｄｅ ｅｔ ａｌ．，Ｍｏｌ．Ｃｒｙｓｒ．Ｌｉｑ．Ｃｒｙｓｔ．，ｖｏｌ．７１，ｐａｇｅ １１１（１９８１）；日本化学会編、季刊化学総説、Ｎｏ．２２、液晶の化学、第５章、第１０章第２節（１９９４）；Ｂ．Ｋｏｈｎｅ ｅｔ ａｌ．，Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍ．，ｐａｇｅ １７９４（１９８５）；Ｊ．Ｚｈａｎｇ ｅｔ ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，ｖｏｌ．１１６，ｐａｇｅ ２６５５（１９９４））に記載の化合物が含まれる。

光学異方性層において、ディスコティック液晶性分子は配向状態で固定されていることが好ましく、重合反応により固定されていることが最も好ましい。ディスコティック液晶性分子の重合については、特開平８−２７２８４公報に記載がある。ディスコティック液晶性分子を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性分子の円盤状コアに、置換基として重合性基を結合させる必要がある。ただし、円盤状コアに重合性基を直結させると、重合反応において配向状態を保つことが困難になる。そこで、円盤状コアと重合性基との間に、連結基を導入する。重合性基を有するディスコティック液晶性分子については、特開２００１−４３８７号公報に開示されている。

（棒状液晶性化合物）
本発明において、使用可能な棒状液晶性化合物の例には、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が含まれる。本発明では、以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。

光学異方性層において、棒状液晶性分子は配向状態で固定されていることが好ましく、重合反応により固定されていることが最も好ましい。本発明に使用可能な重合性棒状液晶性化合物の例には、Ｍａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１９０巻、２２５５頁（１９８９年）、Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｍａｔｅｒｉａｌｓ ５巻、１０７頁（１９９３年）、米国特許４６８３３２７号、同５６２２６４８号、同５７７０１０７号、世界特許（ＷＯ）９５／２２５８６号、同９５／２４４５５号、同９７／００６００号、同９８／２３５８０号、同９８／５２９０５号、特開平１−２７２５５１号公報、同６−１６６１６号公報、同７−１１０４６９号公報、同１１−８００８１号公報、および特開２００１−３２８９７３号公報などに記載の化合物が含まれる。

（ポリマーフィルムからなる光学異方性層）
上記した様に、光学異方性層はポリマーフィルムから形成してもよい。ポリマーフィルムは、光学異方性を発現し得るポリマーから形成することができる。そのようなポリマーの例には、ポリオレフィン（例、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー）、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリビニルアルコール、ポリメタクリル酸エステル、ポリアクリル酸エステルおよびセルロースエステル（例、セルローストリアセーテート、セルロースジアセテート）が含まれる。また、これらのポリマーの共重合体またはポリマー混合物を用いてもよい。

ポリマーフィルムの光学異方性は、延伸により得ることが好ましい。延伸は一軸延伸または二軸延伸であることが好ましい。具体的には、２つ以上のロールの周速差を利用した縦一軸延伸、またはポリマーフィルムの両サイドを掴んで幅方向に延伸するテンター延伸、これらを組み合わせての二軸延伸が好ましい。なお、二枚以上のポリマーフィルムを用いて、二枚以上のフィルム全体の光学的性質が前記の条件を満足してもよい。ポリマーフィルムは、複屈折のムラを少なくするためにソルベントキャスト法により製造することが好ましい。ポリマーフィルムの厚さは、２０〜５００μｍであることが好ましく、４０〜１００μｍであることが最も好ましい。

また、光学異方性層を形成するポリマーフィルムとして、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル、ポリエーテルケトン、ポリアミドイミドポリエステルイミド、およびポリアリールエーテルケトン、からなる群から選ばれる少なくとも一種のポリマー材料を用い、これを溶媒に溶解した溶液を基材に塗布し、溶媒を乾燥させてフィルム化する方法も好ましく用いることができる。この際、上記ポリマーフィルムと基材とを延伸して光学異方性を発現させて光学異方性層として用いる手法も好ましく用いることができ、本発明において使用される透明支持体は上記基材として好ましく用いることができる。また、上記ポリマーフィルムを別の基材の上で作製しておき、ポリマーフィルムを基材から剥離させたのちに前記透明支持体と貼合して用いることも好ましい。この手法ではポリマーフィルムの厚さを薄くすることができ、その厚さは、５０μｍ以下であることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましい。

［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子の両側に保護膜を有する偏光板であって、少なくとも一方の保護膜が本発明の光学補償シートであって、透明支持体面側が偏光子と貼り合わされることを特徴とする偏光板である。本発明の光学補償シートを偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。例えば、得られたセルロースアシレートフィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
保護膜処理面と偏光子を貼り合わせるために使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。本発明の偏光板において、少なくとも一方の保護膜の表面には、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層、および帯電防止層からなる群から選択される少なくとも一層を設けることもできる。これらの各層としては、公知のものを用いることができる。また、前記保護膜には、可塑剤、紫外線吸収剤、剥離促進剤、染料、マット剤、および導電性微粒子等の各種添加剤を、必要に応じて添加することができる。その詳細は、先に記載した通りである。

偏光板は偏光子およびその両面を保護する保護膜で構成されており、更に該偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成することができる。プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶を含む基板が配置されているが、本発明の光学補償シートは、偏光板保護膜として液晶セル側に用いられる。液晶表示装置の表示側最表面の偏光板保護膜には通常透明ハードコート層、防眩層、反射防止層等が設けられる。

[液晶表示装置]
本発明の第１の態様の液晶表示装置は、液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板の少なくとも一方が本発明の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の第２の態様の液晶表示装置は、液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板は、偏光子と該偏光板を挟持する一対の保護膜とから構成され、前記保護膜の少なくとも一枚が本発明の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置である。
本発明の液晶表示装置は、偏光板の保護膜として、先に説明した本発明の光学補償シートを有することにより、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化が改善され、高い表示品質を実現することができる。

液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成することができる。液晶セルには、さらにガスバリアー層、ハードコート層または（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。

本発明の液晶表示装置における液晶セルは、様々な表示モードの液晶セルであることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ Ｌｉｑｕｉｄ Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ Ｔｗｉｓｔｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ Ａｌｉｇｎｅｄ）およびＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ Ａｌｉｇｎｅｄ Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードを挙げることができる。このうち、本発明の液晶表示装置における液晶セルは、ＶＡモードまたはＯＣＢモードであることが好ましく、ＶＡモードであることが特に好ましい。

ＶＡモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
ＶＡモードの液晶セルには、（１）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のＶＡモードの液晶セル（特開平２−１７６６２５号公報記載）に加えて、（２）視野角拡大のため、ＶＡモードを突起によりマルチドメイン化した（ＭＶＡモードの）液晶セル｛“ＳＩＤ９７、Ｄｉｇｅｓｔ ｏｆ ｔｅｃｈ．Ｐａｐｅｒｓ”（予稿集）２８集（１９９７）ｐ．８４５記載｝、（３）棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード（ｎ−ＡＳＭモード、ＣＰＡモード）の液晶セル｛日本液晶討論会の予稿集ｐ．５８〜５９（１９９８）、シャープ技報第８０号１１頁記載｝および、（４）斜め電界によりマルチドメイン配向させるＳＵＲＶＡＩＶＡＬモードの液晶セル｛月刊ディスプレイ５月号１４頁（１９９９年）｝、ＰＶＡモードの液晶セル｛“１８ｔｈ，ＩＤＲＣ Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ”，ｐ．３８３（１９９８年）｝が含まれる。

以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。

（正面レターデーションＲｅ、膜厚方向のレターデーションＲｔｈの測定方法）
試料３０ｍｍ×４０ｍｍを、２５℃、６０％ＲＨで２時間調湿し、Ｒｅ(λ)は自動複屈折計KOBRA 21ADH（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定した。また、Ｒｔｈ(λ)は前記Ｒｅ(λ)、面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して＋４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値、および面内の遅相軸を傾斜軸としてフィルム法線方向に対して−４０°傾斜した方向から波長λnｍの光を入射させて測定したレターデーション値の計３つの方向で測定したレターデーション値を基に、表１に記載の平均屈折率の仮定値および膜厚を入力し算出した。

製造例１：反射防止層を有する保護膜（ＬＲ１）の作製
［光散乱層用塗布液の調製］
ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物“ＰＥＴＡ”｛日本化薬（株）製｝５０ｇをトルエン３８．５ｇで希釈した。更に、重合開始剤「イルガキュア１８４」｛チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製｝を２ｇ添加し、混合攪拌した。この溶液を塗布、紫外線硬化して得られた塗膜の屈折率は１．５１であった。

さらにこの溶液にポリトロン分散機にて１００００ｒｐｍで２０分分散した平均粒径３．５μｍの架橋ポリスチレン粒子“ＳＸ−３５０”｛屈折率１．６０、綜研化学（株）製｝の３０質量％トルエン分散液を１．７ｇおよび平均粒径３．５μｍの架橋アクリル−スチレン粒子｛屈折率１．５５、綜研化学（株）製｝の３０質量％トルエン分散液を１３．３ｇ加え、最後に、フッ素系表面改質剤（ＦＰ−１）０．７５ｇ、シランカップリング剤“ＫＢＭ−５１０３”｛信越化学工業（株）製｝を１０ｇ加えて、得られた混合液を孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して光散乱層の塗布液を調製した。

［低屈折率層用塗布液の調製］
まず始めに、次のようにしてゾル液ａを調製した。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器に、メチルエチルケトン１２０質量部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン“ＫＢＭ５１０３”｛信越化学工業（株）製｝１００質量部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート３質量部を加え混合したのち、イオン交換水３０質量部を加え、６０℃で４時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液ａを得た。質量平均分子量は１６００であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が１０００〜２００００の成分は１００質量％であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。

屈折率１．４２の熱架橋性含フッ素ポリマー“ＪＮ−７２２８”｛固形分濃度６質量％、ＪＳＲ（株）製｝１３ｇ、シリカゾル｛シリカ、ＭＥＫ−ＳＴの粒子サイズ違い、平均粒径４５ｎｍ、固形分濃度３０質量％、日産化学（株）製｝１．３ｇ、上記のように調製したゾル液ａ ０．６ｇおよびメチルエチルケトン５ｇ、シクロヘキサノン０．６ｇを添加、攪拌の後、孔径１μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過して、低屈折率層用塗布液を調製した。

［反射防止層を有する保護膜の作製］
基体フィルムである８０μｍの厚さのトリアセチルセルロースフィルム「フジタックＴＤＹ８０ＵＬ」｛富士写真フイルム（株）製｝をロール形態で巻き出して、上記の機能層（光散乱層）用塗布液を、線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する、直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布し、６０℃で１５０秒乾燥の後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量２５０ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ６μｍの機能層を形成し、巻き取った。
ここで市販のセルロースアシレートフィルムとしては、上記のフジタックＴＤＹ８０ＵＬ以外にも、「フジタックＴＤ８０ＵＬ」、「フジタックＴＦ８０ＵＬ」、「フジタックＴＦＹ８０ＵＬ」、「フジタックＴ８０ＵＺ」、「フジタックＴ４０ＵＺ」、｛以上、富士写真フィルム（株）製｝、および“ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ”、“ＫＣ８０ＵＶＳＦＤ”｛以上、コニカオプト（株）製｝を用いることができる。

上記の機能層（光散乱層）を塗設したトリアセチルセルロースフィルムを再び巻き出して、その光散乱層側に、前記で調製した低屈折率層用塗布液を、線数１８０本／インチ、深度４０μｍのグラビアパターンを有する、直径５０ｍｍのマイクログラビアロールとドクターブレードを用いて、グラビアロール回転数３０ｒｐｍ、搬送速度１５ｍ／分の条件で塗布し、１２０℃で１５０秒乾燥の後、更に１４０℃で８分乾燥させてから窒素パージ下で２４０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ｛アイグラフィックス（株）製｝を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ²、照射量９００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射し、厚さ１００ｎｍの低屈折率層を形成し、巻き取り、反射防止層を有する保護膜（ＬＲ１）を作製した。

実施例１：セルロースアセートフィルム（ＣＴＡ１、ＣＴＡ２）の製膜
（セルロースアセテート溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液Ｄを調製した。

（セルロースアセテート溶液Ｄ組成）
酢化度２．８６のセルロースアセテート １００．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ４０２．０質量部
メタノール（第２溶媒） ６０．０質量部

（マット剤溶液の調製）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子（AEROSIL R972、日本アエロジル（株）製）を２０質量部、メタノール８０質量部を３０分間よく攪拌混合してシリカ粒子分散液とした。この分散液を下記の組成物とともに分散機に投入し、さらに３０分以上攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液を調製した。

（マット剤溶液組成）
平均粒径１６ｎｍのシリカ粒子分散液 ０．０質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ７６．３質量部
メタノール（第２溶媒） ３．４質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ １０．３質量部

（添加剤溶液の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。下記の光学異方性を低下させる化合物は先に示したＡ１９であり、波長分散調整剤は先に示したＵＶ１０２である。

（添加剤溶液組成）
光学異方性を低下させる化合物Ａ１９ ４９．３質量部
波長分散調整剤ＵＶ１０２ ７．６質量部
メチレンクロライド（第１溶媒） ５８．４質量部
メタノール（第２溶媒） ８．７質量部
セルロースアセテート溶液Ｄ １２．８質量部

（セルロースアセテートフィルムＣＴＡ１の作製）
上記セルロースアセテート溶液Ｄを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性を低下させる化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。残留溶剤量３０%でフィルムをバンドから剥離し、１3５℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムＣＴＡ１を製造した。出来あがったセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は８０μｍであった。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（セルロースアセテートフィルムＣＴＡ２の作製）
上記セルロースアセテート溶液Ｄを９４．６質量部、マット剤溶液を１．３質量部、添加剤溶液４．１質量部それぞれを濾過後に混合し、バンド流延機を用いて流延した。上記組成で光学異方性を低下させる化合物および波長分散調整剤のセルロースアセテートに対する質量比はそれぞれ１２％、１．８％であった。残留溶剤量３０%でフィルムをバンドから剥離し、１3０℃で４０分間乾燥させセルロースアセテートフィルムＣＴＡ２を製造した。出来あがったセルロースアセテートフィルムの残留溶剤量は０．２％であり、膜厚は４０μｍであった。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

透明支持体として用いるアートンＦＬＺＲ５０（ＪＳＲ（株）製）、ゼオノアＺＦ１４（（株）オプテス製）、フジタックＴＤＹ８０ＵＬ（富士写真フイルム（株）製）、フジタックＴＦＹ８０ＵＬ（富士写真フイルム（株）製）についてもＲｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

実施例２：偏光板ＰＡＣ１の作製
（延伸による光学異方性層Ａ１の作製）
攪拌機、温度計および還流冷却器を備えた反応槽に水酸化ナトリウム水溶液およびイオン交換水を仕込み、これに下記構造のモノマーＡを５５モル％、モノマーＢを４５モル％の比で溶解させ、少量のハイドロサルファイドを加えた。次にこれに塩化メチレンを加え、２０℃でホスゲンを約６０分かけて吹き込んだ。さらに、ｐ−tert−ブチルフェノールを加えて乳化させた後、トリエチルアミンを加えて３０℃で約３時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後有機相を分取し、塩化メチレンを蒸発させてポリカーボネート共重合体を得た。得られた共重合体の組成比はモノマー仕込み量比とほぼ同様であった。
この共重合体をメチレンクロライドに溶解させ、固形分濃度１５質量％のドープ溶液を作製した。このドープ溶液をバンド流延機を用いてフィルムを作製し、温度２１０℃においてテンターで２１％横延伸を行い光学異方性層Ａ１を作製した。延伸後の膜厚は８３μｍであった。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（非液晶性化合物による光学異方性層C１の作製）
２，２'−ビス（３，４−ジスカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミドをシクロヘキサノン中に溶解させ、１５質量％の溶液を調製した。ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡ（ピラー（株）製）によりコロナ放電処理を行った上記フィルムＡ１表面に、上記ポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で１．８μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学異方性層Ｃ１を形成し、光学補償シートＡＣ１を作製した。
別途準備したガラス基板上に、上記ポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で１．８μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学異方性層Ｃ１Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＡＣ１の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

実施例１で作製したＣＴＡ１および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行ったＣＴＡ１および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
この偏光板のＣＴＡ１側にアクリル系の粘着材を介して、光学補償シートＡＣ１を、光学異方性層Ａ１側が粘着材側となるようにして貼り合せ偏光板ＰＡＣ１Ｆを作製した。さらに、光学補償シートの光学異方性層C１側にもアクリル系粘着材を塗設した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ１の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。

また、上記の偏光板ＰＡＣ１Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＡＣ１Ｒとした。ここで市販のセルロースアシレートフィルムとしては、上記のフジタックＴＤＹ８０ＵＬ以外にも、「フジタックＴＤ８０ＵＬ」、「フジタックＴＦ８０ＵＬ」、「フジタックＴＦＹ８０ＵＬ」、「フジタックＴ８０ＵＺ」、「フジタックＴ４０ＵＺ」、｛以上、富士写真フイルム（株）製｝、および“ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ”、“ＫＣ８０ＵＶＳＦＤ”｛以上、コニカオプト（株）製｝を用いることができる。

実施例３：偏光板ＰＡＣ２の作製
（光学異方性層Ｃ２の作製）
実施例２で作製した光学異方性層Ａ１表面に、ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡ（ピラー（株）製）によりコロナ放電処理を行い、下記の組成の塗布液を＃１４のワイヤーバーコーターで２４ｍｌ／ｍ²塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに９０℃の温風で１５０秒乾燥した。

＜配向膜塗布液組成＞
下記の変性ポリビニルアルコール ４０質量部
水 ７２８質量部
メタノール ２２８質量部
グルタルアルデヒド（架橋剤） ２質量部
クエン酸エステル（ＡＳ３、三共化学（株）） ０．６９質量部

配向膜上に、下記のディスコティック液晶化合物４１．０１質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート（Ｖ＃３６０、大阪有 機化学（株）製）４．０６質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬 （株）製）０．４５質量部、下記のメラミン系ポリマー０．１２質量部を７５質量部のメチルエチルケトンに溶解した塗布液に、フルオロ脂肪族基含有共重合体（メガファックＦ７８０ 大日本インキ （株）製）０．１質量部を加え、＃２．８のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されている光学異方性層Ａ１の配向膜面に連続的に塗布した。室温から１００℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、１３５℃の乾燥ゾーンで、ディスコティック液晶化合物層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約９０秒間加熱し、ディスコティック液晶化合物を配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約１００℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長 １．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、ディスコティック液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態とし、光学異方性層Ａ１およびＣ２を含む、光学補償シートＡＣ２を作製した。
コロナ処理した光学異方性層Ａ１の代わりに別途準備したガラス基板上に、配向膜および光学異方性層Ｃ２を作製し、上記ディスコティック液晶化合物からなる光学異方性層Ｃ２Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＡＣ２の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

実施例１で作製したＣＴＡ１および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行ったＣＴＡ１および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
この偏光板のＣＴＡ１側にアクリル系の粘着材を介して、光学補償シートＡＣ２を、光学異方性層Ａ１側が粘着材側となるようにして貼り合せ偏光板ＰＡＣ２Ｆを作製した。さらに、光学補償シートの光学異方性層C２側にもアクリル系粘着材を塗設した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ１の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＡＣ２Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＡＣ２Ｒとした。

実施例４：偏光板ＰＡＣ３の作製
（光学異方性層Ｃ３の作製）
実施例２で作製した光学異方性層Ａ１表面に、ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡ（ピラー（株）製）によりコロナ放電処理を行い、実施例３と同様に配向膜層を形成した。

配向膜をラビング処理した後、下記の棒状液晶化合物４１．０１質量部、光重合開始剤（イルガキュアー９０７、チバガイギー社製）１．３５質量部、増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬 （株）製）０．４５質量部、下記のカイラル構造を有する反応性モノマーを選択反射波長が３００ｎｍとなるように添加し、＃２のワイヤーバーを３９１回転でフィルムの搬送方向と同じ方向に回転させて、２０ｍ／分で搬送されている光学異方性層Ａ１の配向膜面に連続的に塗布した。室温から７０℃に連続的に加温する工程で、溶媒を乾燥させ、その後、９０℃の乾燥ゾーンで、棒状液晶化合物層にあたる膜面風速がフィルム搬送方向に平行に１．５ｍ／ｓｅｃとなるようにし、約９０秒間加熱し、棒状液晶化合物をコレステリック配向させた。次に、８０℃の乾燥ゾーンに搬送させて、フィルムの表面温度が約８０℃の状態で、紫外線照射装置（紫外線ランプ：出力１６０Ｗ／ｃｍ、発光長１．６ｍ）により、照度６００ｍＷの紫外線を４秒間照射し、架橋反応を進行させ、棒状液晶化合物をその配向に固定した。その後、室温まで放冷し、円筒状に巻き取ってロール状の形態とし、光学異方性層Ａ１およびＣ３を含む、光学補償シートＡＣ３を作製した。
コロナ処理した光学異方性層Ａ１の代わりに別途準備したガラス基板上に、配向膜および光学異方性層Ｃ３を作製し、上記棒状液晶化合物からなる光学異方性層Ｃ３Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＡＣ３の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

実施例１で作製したＣＴＡ１および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行ったＣＴＡ１および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
この偏光板のＣＴＡ１側にアクリル系の粘着材を介して、光学補償シートＡＣ３を、光学異方性層Ａ１側が粘着材側となるようにして貼り合せ偏光板ＰＡＣ３Ｆを作製した。さらに、光学補償シートの光学異方性層C３側にもアクリル系粘着材を塗設した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ１の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＡＣ３Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＡＣ３Ｒとした。

実施例５：偏光板ＰＡＣ４の作製
（光学異方性層Ｃ４の作製）
市販のアートンＺＦ１４を逐次二軸延伸機にて、１４０℃の温度において、縦方向に６％延伸、横方向に７％延伸を行い、フィルム（光学異方性層）C４を作製した。延伸後の膜厚は８８μｍであった。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＡＣ４の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

実施例１で作製したＣＴＡ１および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行ったＣＴＡ１および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
この偏光板のＣＴＡ１側にアクリル系の粘着材を介して、実施例２で作製した光学異方性層Ａ１を貼り合わせた。さらに光学異方性層Ｃ４をアクリル系粘着材を介して光学異方性層Ａ１の上に貼り合せ偏光板ＰＡＣ４Ｆを作製した。さらに、光学補償シートの光学異方性層C４側にもアクリル系粘着材を塗設した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学補償層Ａ１の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＡＣ４Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＡＣ４Ｒとした。

実施例６：偏光板ＰＡＣ５の作製
（光学異方性層Ａ２の作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフィルムＣＴＡ１表面に、下記のポリイミドのＮ−メチルピロリドン／ブチルセロソルブ溶液を、＃５のバーコーターを用いて、ロール状透明支持体を搬送しながらその上に連続的に塗布した。１４０℃で３分間加熱して、厚さ０．５μｍの配向膜を形成した。

配向膜を設けたロール状透明支持体を搬送しながら、長手方向（搬送方向）に連続的にラビング処理を実施した。棒状液晶性分子（Ｎ２６）１００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）１質量部、光重合増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．３質量部を、メチレンクロライド９００質量部に溶解して塗布液を調製した。塗布液を、配向膜の上に、＃５のバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１１０℃で２分間加熱し、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して、棒状液晶性分子を重合させ、その配向状態を固定した。このようにして光学異方性層を形成し、光学異方性層Ａ２を作製した。棒状液晶性分子は、長軸方向が光学補償シートの長手方向と直交するように配向していた。
別途準備したガラス基板上に、上記配向膜層を乾燥後の膜厚で０．５μｍ、上記棒状液晶層を膜厚で０．９μｍ形成し、棒状液晶性分子からなる光学異方性層Ａ２Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

上記光学異方性Ａ２上に、実施例２記載のポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で１．８μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学補償層Ｃ１を形成し、光学補償シートＡＣ５を作製した。
別途準備したガラス基板上に、上記ポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で１．８μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学異方性層Ｃ１Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＡＣ５の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

上記で作製した光学補償シートＡＣ５および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行った光学補償シートＡＣ５および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板ＰＡＣ４Ｆを作製した。ここで光学補償シートＡＣ５のセルロースアシレートフィルムＣＴＡ１側、および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
さらに、光学補償シートの光学異方性層Ｃ１側にアクリル系粘着材を塗設し偏光板ＰＡＣ５Ｆを作製した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ２の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＡＣ５Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＡＣ５Ｒとした。

実施例７：偏光板ＰＡＣ６の作製
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

アートンＦＬＺＲ５０（ＪＳＲ（株）製）表面に、ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡ（ピラー（株）製）によりコロナ放電処理を行った。

上記のようにコロナ処理を行ったアートンＦＬＺＲ５０および鹸化処理を行った反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
さらに、アートンＦＬＺＲ５０側にアクリル系粘着材を塗設し、実施例２で作製した光学補償シートＡＣ１の光学異方性層Ａ１側を偏光子側として貼り合せ偏光板ＰＡＣ６Ｆを作製した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学補償層Ａ１の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＡＣ６Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＡＣ６Ｒとした。

比較例１：偏光板ＰＡＣ７の作製
実施例２の偏光板ＰＡＣ１のセルロースアセテートフィルムＣＴＡ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えた以外は実施例２と同様にし、偏光板ＰＡＣ７ＦおよびＰＡＣ７Ｒを作製した。

比較例２：偏光板ＰＡＣ８の作製
実施例５の偏光板ＰＡＣ４のセルロースアセテートフィルムＣＴＡ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えた以外は実施例５と同様にし、偏光板ＰＡＣ８ＦおよびＰＡＣ８Ｒを作製した。

比較例３：偏光板ＰＡＣ９の作製
実施例６の偏光板ＰＡＣ５のセルロースアセテートフィルムＣＴＡ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えた以外は実施例５と同様にし、偏光板ＰＡＣ９ＦおよびＰＡＣ９Ｒを作製した。

実施例８：偏光板ＰＣＡ１の作製
（延伸による光学異方性層Ａ３の作製）
実施例２のポリカーボネート共重合体のドープ溶液をバンド流延機を用いてフィルムを作製し、温度２１０℃においてテンターで７％横延伸を行い光学異方性層Ａ３を作製した。延伸後の膜厚は９３μｍであった。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（非液晶性化合物による光学異方性層C５の作製）
２，２'−ビス（３，４−ジスカルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンと、２，２'−ビス（トリフルオロメチル）−４，４'−ジアミノビフェニルから合成されたポリイミドをシクロヘキサノン中に溶解させ、１５質量％の溶液を調製した。セルロースアセテートフィルムＣＴＡ２上に、上記ポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で３．１μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学異方性層Ｃ５を形成し、セルロースアセテートフィルムＣＴＡ２上に光学異方性層Ｃ５を有する光学補償シートＣＡ１を得た。
別途準備したガラス基板上に、上記ポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で３．１μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学補償層Ｃ５Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＣＡ１の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

上記で作製した光学補償シートＣＡ１および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行った光学補償シートＣＡ１および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側および光学補償シートＣＡ１のセルロースアセテートフィルムＣＴＡ２側を偏光子側となるように貼り合せた。
この偏光板の光学異方性層Ｃ５側にアクリル系の粘着材を介して、光学異方性層Ａ３を貼り合せ偏光板ＰＣＡ１Ｆを作製した。さらに、光学補償シートの光学異方性層Ａ３上にもアクリル系粘着材を塗設した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ３の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。

また、上記の偏光板ＰＣＡ１Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＦＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＣＡ１Ｒとした。

実施例９：偏光板ＰＣＡ２の作製
（光学異方性層Ｃ６の作製）
実施例１で作製したセルロースアセテートフィルムＣＴＡ２表面に、実施例６において使用したポリイミドのＮ−メチルピロリドン／ブチルセロソルブ溶液を、＃３０のバーコーターを用いて、ロール状透明支持体を搬送しながらその上に連続的に塗布した。１４０℃で３分間加熱して、厚さ１５μｍの光学異方性層Ｃ６を形成した。
別途準備したガラス基板上に、上記ポリイミド溶液を、乾燥後の膜厚で１５μｍ分塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ、上記ポリイミドからなる光学補償層Ｃ６Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

光学異方性層Ｃ６を設けたロール状透明支持体を搬送しながら、長手方向（搬送方向）に連続的にラビング処理を実施した。先に示した棒状液晶性分子（Ｎ２６）１００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）１質量部、光重合増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．３質量部を、メチレンクロライド９００質量部に溶解して塗布液を調製した。塗布液を、配向膜の上に、＃２のバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１１０℃で２分間加熱し、５００ｍＪ／ｃｍ2 の紫外線を照射して、棒状液晶性分子を重合させ、その配向状態を固定した。このようにして光学異方性層Ａ４を形成し、光学補償シートＣＡ２を作製した。棒状液晶性分子は、長軸方向が光学補償シートの長手方向と直交するように配向していた。
別途準備したガラス基板上に、上記配向膜層を乾燥後の膜厚で０．５μｍ、上記棒状液晶層を膜厚で０．３μ形成し、棒状液晶性分子からなる光学異方性層Ａ４Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＣＡ２の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

上記で作製した光学補償シートＣＡ２および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行った光学補償シートＣＡ２および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板ＰＣＡ２Ｆを作製した。ここで光学補償シートＡＣ２のセルロースアシレートフィルムＣＴＡ２側、および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
さらに、光学補償シートの光学異方性層ＣＡ２側にアクリル系粘着材を塗設し偏光板ＰＣＡ２Ｆを作製した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ４の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＣＡ２Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＤＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＣＡ２Ｒとした。

実施例１０：偏光板ＰＣＡ３の作製
（非液晶性化合物による光学異方性層C５の作製）
ゼオノアＺＦ１４（（株）オプテス製）表面にソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡ（ピラー（株）製）によりコロナ放電処理を行い、実施例８と同様にして光学異方性層Ｃ５を形成し、光学補償シートＣＡ３を作製した。

（偏光板ＰＣＡ３の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

上記で作製した光学補償シートＣＡ３および製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行った光学補償シートＣＡ３および反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せ偏光板を作製した。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側および光学補償シートＣＡ３の透明支持体側が偏光子側となるように貼り合せた。
この偏光板の光学異方性層Ｃ５側にアクリル系の粘着材を介して、光学異方性層Ａ３を貼り合せ偏光板ＰＣＡ３Ｆを作製した。さらに、光学補償シートの光学異方性層Ａ３上にもアクリル系粘着材を塗設した。このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学異方性層Ａ３の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。

また、上記の偏光板ＰＣＡ３Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＦＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＣＡ３Ｒとした。

比較例４：偏光板ＰＣＡ４の作製
実施例８の偏光板ＰＣＡ１のセルロースアセテートフィルムＣＴＡ２を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＦＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えた以外は実施例８と同様にし、偏光板ＰＣＡ４ＦおよびＰＣＡ４Ｒを作製した。

比較例５：偏光板ＰＣＡ５の作製
実施例９の偏光板ＰＣＡ２のセルロースアセテートフィルムＣＴＡ２を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＦＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えた以外は実施例９と同様にし、偏光板ＰＣＡ５ＦおよびＰＣＡ５Ｒを作製した。

比較例６：偏光板ＰＣＡ６の作製
（光学異方性層Ｃ７の作製）
市販のアートンＺＦ１４を逐次二軸延伸機にて、１４０℃の温度において、縦方向に１３％延伸、横方向に１４％延伸を行い、フィルム（光学異方性層）C７を作製した。延伸後の膜厚は７８μｍであった。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（光学異方性層Ａ４の作製）
上記で作製した光学異方性層Ｃ７表面に、ソリッドステートコロナ処理機６ＫＶＡ（ピラー（株）製）によりコロナ放電処理を行い、その表面に、先に示したポリイミドのＮ−メチルピロリドン／ブチルセロソルブ溶液を、＃５のバーコーターを用いて、ロール状透明支持体を搬送しながらその上に連続的に塗布した。１４０℃で３分間加熱して、厚さ０．５μｍの配向膜を形成した。

配向膜を設けたロール状透明支持体を搬送しながら、長手方向（搬送方向）に連続的にラビング処理を実施した。先に示した棒状液晶性分子（Ｎ２６）１００質量部、光重合開始剤（イルガキュア９０７、日本チバガイギー（株）製）１質量部、光重合増感剤（カヤキュアーＤＥＴＸ、日本化薬（株）製）０．３質量部を、メチレンクロライド９００質量部に溶解して塗布液を調製した。塗布液を、配向膜の上に、＃２のバーコーターを用いて連続的に塗布した。塗布層を１１０℃で２分間加熱し、５００ｍＪ／ｃｍ²の紫外線を照射して、棒状液晶性分子を重合させ、その配向状態を固定した。このようにして光学異方性層を形成し、光学異方性層Ａ４を作製した。棒状液晶性分子は、長軸方向が光学補償シートの長手方向と直交するように配向していた。このようにして光学補償シートＣＡ６を作製した。
別途準備したガラス基板上に、上記配向膜層を乾燥後の膜厚で０．５μｍ、上記棒状液晶層を膜厚で０．３μ形成し、棒状液晶性分子からなる光学補償層Ａ４Ｇを作製した。Ｒｅ₄₅₀、Ｒｅ₅₉₀、Ｒｅ₆₅₀、Ｒｔｈ₄₅₀、Ｒｔｈ₅₉₀、Ｒｔｈ₆₅₀を測定した。結果を表１に示す。

（偏光板ＰＣＡ６の作製）
厚さ８０μｍのポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルムを、ヨウ素濃度０．０５質量％のヨウ素水溶液中に３０℃で６０秒浸漬して染色し、次いでホウ酸濃度４質量％濃度のホウ酸水溶液中に６０秒浸漬している間に元の長さの５倍に縦延伸した後、５０℃で４分間乾燥させて、厚さ２０μｍの偏光子を得た。

市販のトリアセチルセルロースフィルム・フジタックＴＦＹ８０ＵＬおよび製造例１で作製した反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、濃度１．５モル／Ｌで５５℃の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬した後、水で十分に水酸化ナトリウムを洗い流した。その後、濃度０．００５モル／Ｌで３５℃の希硫酸水溶液に１分間浸漬した後、水に浸漬し希硫酸水溶液を十分に洗い流した。最後に試料を１２０℃で十分に乾燥させた。

上記のように鹸化処理を行った市販のトリアセチルセルロースフィルム・フジタックＴＦＹ８０ＵＬおよび反射防止層を有する保護膜ＬＲ１を、前記の偏光子を挟むようにポリビニルアルコール系接着剤を用いて貼り合せた。ここで反射防止層を有する保護膜ＬＲ１のトリアセチルセルロースフィルム側を偏光子側となるように貼り合せた。
上記の偏光板の市販のトリアセチルセルロースフィルム上にアクリル系粘着材を塗設し、光学補償シートＣＡ６の光学異方性層Ｃ７側を貼り合せ、偏光板ＰＣＡ６Ｆを作製した。さらに、光学補償シートＣＡ６の光学異方性層Ａ４上にアクリル系粘着材をした。
このとき、偏光子および偏光子両側の保護膜はロール形態で作製されているため、各ロールフィルムの長手方向が平行となっており、連続的に貼り合わされる。また図１に示すように、光学補償層Ａ４の遅相軸と偏光子の透過軸は平行になっている。
また、上記の偏光板ＰＣＡ６Ｆに対して、保護膜ＬＲ１を市販のトリアセチルセルロースフィルム（フジタックＴＦＹ８０ＵＬ、富士写真フイルム（株）製）に置き換えて作製した偏光板をＰＣＡ６Ｒとした。

実施例１１：ＶＡパネルへの実装
実施例２〜７、比較例１〜３、実施例８〜１０、比較例４〜６で作製した視認側（フロント側）偏光板ＰＡＣ１Ｆ〜９ＦおよびＰＣＡ１Ｆ〜６Ｆを、２６"ワイドのサイズで偏光子の吸収軸が長辺となるように打ち抜いた。またバックライト側（リア側）偏光板ＰＡＣ１Ｒ〜９ＲおよびＰＣＡ１Ｒ〜６Ｒを、２６"ワイドのサイズで偏光子の吸収軸が短辺となるように打ち抜いた。
ＶＡモードの液晶ＴＶ（ＫＤＬ-Ｌ２６ＨＶＸ、ソニー（株）製）の表裏の偏光板および位相差板を剥し、表と裏側に上記のように打ち抜いた偏光板を貼り付け、表２に示すように液晶表示装置１〜１５を作製した。偏光板貼り付け後、５０℃５ｋｇ／ｃｍ²で２０分間保持し、接着させた。この際、視認側の偏光板の吸収軸はパネル水平方向に、バックライト側の偏光板の吸収軸はパネル鉛直方向となり、粘着材面が液晶セル側となるように配置した。
上記のように作製した測定機（ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ １６０Ｄ、ＥＬＤＩＭ社製）を用いて、黒表示および白表示の輝度測定から視野角（コントラスト比が２０以上の範囲）を算出した。方位角４５度方向における視野角を表２に示した。
また、黒表示のu'v'色度図における色味測定を行い、パネル法線方向（極角０度）の色度（u'0,v'0）と画面水平方向から反時計方向に４５度回転した方位（方位角４５度）でパネル法線方向からパネル面へ６０度傾けた方向（極角６０度）の色度（u'60,v'60）の測定値から、下記式で定義される色味変化指数ΔCu'v'を算出した。結果を表２に示す。表２から、本発明により、視野角特性が改善され、かつ、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化が改良された液晶表示装置が得られることがわかる。
ΔCu'v'=((u'0−v'60)²−（v'0−v'60）²)^0.5

本発明により、黒表示時において正面から視角を倒した場合の色変化が改良された液晶表示装置、特にＶＡ型液晶表示装置を提供することができる。

実施例の偏光板における光学異方性層Ａの遅相軸と偏光子の透過軸との位置関係を示す。

Claims (22)

1. 下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａ、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃをこの順に有する光学補償シート。
   （１）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５
   （２）｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₆₅₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₅₀−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５
   （３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
   （４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
   ［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
2. 下記式（１）および（２）を満たす透明支持体上に、下記式（４）を満たす光学異方性層Ｃ、下記式（３）を満たす光学異方性層Ａをこの順に有する光学補償シート。
   （１）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ｜Ｒｔｈ₅₉₀｜≦２５
   （２）｜Ｒｅ₄₅₀−Ｒｅ₇₀₀｜≦１０かつ｜Ｒｔｈ₄₀₅−Ｒｔｈ₆₅₀｜≦３５
   （３）１０≦Ｒｅ₅₉₀≦１５０かつ０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦２００
   （４）０≦Ｒｅ₅₉₀≦１０かつ４０≦Ｒｔｈ₅₉₀≦４００
   ［式中、Ｒｅλは波長λｎｍにおける正面レターデーション値（単位：ｎｍ）、Ｒｔｈλは波長λｎｍにおける膜厚方向のレターデーション値（単位：ｎｍ）である。］
3. 前記透明支持体がＲｔｈλを低下させる化合物を、下記式（５）、（６）を満たす範囲で少なくとも一種含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学補償シート。
   （５）（Ｒｔｈλ（Ａ）−Ｒｔｈλ（０））／Ａ≦−１．０
   （６）０．０１≦Ａ≦３０
   ［式中、Ｒｔｈλ（Ａ）：Ｒｔｈλを低下させる化合物をＡ％含有した透明支持体のＲｔｈλ（ｎｍ）、Ｒｔｈλ（０）：Ｒｔｈλを低下させる化合物を含有しない透明支持体のＲｔｈλ（ｎｍ）、Ａ：透明支持体原料ポリマーの質量を１００としたときの化合物の質量（％）である。］
4. 前記透明支持体が｜Ｒｅ₄₀₀−Ｒｅ₇₀₀｜および｜Ｒｔｈ₄₀₀−Ｒｔｈ₇₀₀｜を低下させる化合物を少なくとも１種、支持体原料ポリマー固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学補償シート。
5. 前記透明支持体がセルロースアシレートフィルムからなることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学補償シート。
6. 前記セルロースアシレートフィルムが、アシル置換度が２.８５〜３．００のセルロースアシレートに、ＲｅλおよびＲｔｈλを低下させる化合物を少なくとも１種、セルロースアシレート固形分に対して０．０１〜３０質量％含むことを特徴とする請求項５に記載の光学補償シート。
7. 前記透明支持体の膜厚が１０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学補償シート。
8. 前記光学異方性層Ａが延伸ポリマーフィルムであることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シート。
9. 前記光学異方性層Ａが液晶性化合物から形成されることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学補償シート。
10. 前記光学異方性層Ｃが延伸ポリマーフィルムであることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
11. 前記光学異方性層Ｃが液晶性化合物から形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
12. 前記光学異方性層Ｃが非液晶性化合物から形成されることを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学補償シート。
13. 前記光学異方性層ＡのＲｅλの波長依存性が下記式（７）、（８）を満たすことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償シート。
    （７）Ｒｅ₄₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝０．６０〜０．９８
    （８）Ｒｅ₆₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝１．００〜１．６０
14. 前記光学異方性層ＣのＲｔｈλの波長依存性が下記式（９）、（１０）を満たすことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償シート。
    （９）Ｒｔｈ₄₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝１．０２〜１．６０
    （１０）Ｒｔｈ₆₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝０．６０〜１．００
15. 前記光学異方性層ＡのＲｅλの波長依存性が下記式（７）、（８）を満たし、かつ前記光学異方性層ＣのＲｔｈλの波長依存性が下記式（９）、（１０）を満たすことを特徴とする請求項１〜１２のいずれか１項に記載の光学補償シート。
    （７）Ｒｅ₄₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝０．６０〜０．９８
    （８）Ｒｅ₆₅₀／Ｒｅ₅₅₀＝１．００〜１．６０
    （９）Ｒｔｈ₄₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝１．０２〜１．６０
    （１０）Ｒｔｈ₆₅₀／Ｒｔｈ₅₅₀＝０．６０〜１．００
16. 偏光子の両側に保護膜を有する偏光板であって、少なくとも一方の保護膜が請求項１〜１５のいずれか１項に記載の光学補償シートであって、透明支持体面側が偏光子と貼り合わされることを特徴とする偏光板。
17. 前記保護膜が、可塑剤、紫外線吸収剤、剥離促進剤、染料、マット剤、および導電性微粒子からなる群から選択される少なくとも１種を含有することを特徴とする請求項１６に記載の偏光板。
18. 少なくとも一方の保護膜の表面に、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層、および帯電防止層からなる群から選択される少なくとも一層が設けられた請求項１６または１７に記載の偏光板。
19. 液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、該偏光板の少なくとも一方が請求項１６〜１８のいずれか１項に記載の偏光板であることを特徴とする液晶表示装置。
20. 液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板は、偏光子と該偏光板を挟持する一対の保護膜とから構成され、前記保護膜の少なくとも一枚が請求項１に記載の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置。
21. 液晶セルと液晶セルの両側に配置された一対の偏光板を有する液晶表示装置であって、前記偏光板は、偏光子と該偏光板を挟持する一対の保護膜とから構成され、前記保護膜の少なくとも一枚が請求項２に記載の光学補償シートであることを特徴とする液晶表示装置。
22. 前記液晶セルがＶＡモードであることを特徴とする請求項１９〜２１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。

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