JP2005037904A - 光学補償シート、その製造方法、それを用いた偏光板及び液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】大画面サイズでも薄層・軽量、光学的な欠陥が少なく視認性良好、且つ視野角拡大特性に優れた光学補償シートを提供する。幅広の長尺ロール形態に製造した場合でも光学的な欠陥を生じない、カール特性及び寸度安定性に優れた生産性のよい光学補償シート並びにその生産性の良い製造方法を提供する。それを用いたコントラストや輝度の高い優れた偏光板及び液晶表示装置を提供する。
【解決手段】透明支持体上に、配向膜及び光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートであって、該透明支持体の膜厚が20μm乃至80μm未満並びにその膜厚変動幅が±3%以内であり、該光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)、Re(40°)の値がそれぞれ35±25nm、35±25nm、105±55nmの範囲にあり、視覚的な大きさが100μm以上の光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下の光学補償シートとする。
【選択図】 なし
【解決手段】透明支持体上に、配向膜及び光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートであって、該透明支持体の膜厚が20μm乃至80μm未満並びにその膜厚変動幅が±3%以内であり、該光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)、Re(40°)の値がそれぞれ35±25nm、35±25nm、105±55nmの範囲にあり、視覚的な大きさが100μm以上の光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下の光学補償シートとする。
【選択図】 なし
Description
本発明は、液晶表示装置の視野角を改良する薄膜支持体からなる光学補償シート及びその製造方法に関する。特に、薄膜透明支持体上に配向膜及び光学異方性層を有した光学的欠陥の少ない視認性良好な光学補償シート、その製造方法及びそれを用いた偏光板及び液晶表示装置に関する。
液晶表示装置は、通常、液晶セル、偏光板および光学補償シート(位相差板)からなりたっている。透過型液晶表示装置では、二枚の偏光板を液晶セルの両側に取り付け、一枚または二枚の光学補償シートを液晶セルと偏光板との間に配置されている。反射型液晶表示装置では、反射板、液晶セル、一枚の光学補償シート、そして一枚の偏光板の順に配置されている。
液晶セルは、一般的な例として、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基盤および棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなりたっている。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いにより、透過型については、TN(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Super Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)、反射型については、HAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。
偏光板は、一般に、偏光膜と透明保護膜とからなっており、この偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料の水溶液を含浸させ、さらにこのフィルムを一軸延伸することにより得られる。この偏光膜の両側に二枚の透明保護膜を貼りつけた構成となっている。
液晶セルは、一般的な例として、棒状液晶性分子、それを封入するための二枚の基盤および棒状液晶性分子に電圧を加えるための電極層からなりたっている。液晶セルは、棒状液晶性分子の配向状態の違いにより、透過型については、TN(Twisted Nematic)、IPS(In-Plane Switching)、FLC(Ferroelectric Liquid Crystal)、OCB(Optically Compensatory Bend)、STN(Super Twisted Nematic)、VA(Vertically Aligned)、反射型については、HAN(Hybrid Aligned Nematic)のような様々な表示モードが提案されている。
偏光板は、一般に、偏光膜と透明保護膜とからなっており、この偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料の水溶液を含浸させ、さらにこのフィルムを一軸延伸することにより得られる。この偏光膜の両側に二枚の透明保護膜を貼りつけた構成となっている。
光学補償シートは、画像着色を解消したり、視野角を拡大するために、様々な液晶表示装置で用いられている。この光学補償シートとして透明支持体上にディスコティック液晶の配向を固定した光学異方性層を有するフィルムが、特許文献1〜7に開示されている。
特許第2640083号明細書(欧州特許出願公開第646820号明細書)
特許第2587398号明細書(西独国特許出願公開19519928号明細書、米国特許第5583679号明細書)
特許第3118197号明細書(米国特許第5805253号明細書、欧州特許出願公開第774683号明細書)
国際公開第96/37804号パンフレット(特開平8−327822号公報、欧州特許出願公開第0783128号明細書、米国特許第6124913号明細書)
国際公開第96/31793号パンフレット
特開平11−316378号公報(米国特許第6064457号明細書)
特開平9−21914号公報
光学補償シートは、通常、透明支持体上に配向膜を設けるかあるいは直接、その上をラビング処理した後、液晶性化合物を含む塗布液を塗布して光学異方性層を設けて液晶性化合物のモノドメインを作らせた後、光重合等で配向を固定するなど複雑で長い製造工程を経て作製される。これらの製造工程で発生する支持体屑などの塵埃が表示品位を悪化させる点欠陥、あるいはそれら異物によって生ずる塗布スジなどの原因となり、視認性が悪化して液晶表示装置の商品価値を著しく低下させることが問題になっていた。
また、近年液晶表示装置は大型化・高精細化が望まれるようになってきた。大型化されると相対的に液晶表示装置までの距離が大きくなり、よりコントラストを高くする必要が出てきた。また、高精細化も同様で1画素あたりの輝度が低下するため、やはり輝度向上が望まれるようになっており、液晶表示装置のコントラストなど低いことが問題であった。
また、近年液晶表示装置は大型化・高精細化が望まれるようになってきた。大型化されると相対的に液晶表示装置までの距離が大きくなり、よりコントラストを高くする必要が出てきた。また、高精細化も同様で1画素あたりの輝度が低下するため、やはり輝度向上が望まれるようになっており、液晶表示装置のコントラストなど低いことが問題であった。
本発明の目的は、大画面サイズとしても薄層・軽量で、光学的な欠陥の少ない視認性良好で、且つ視野角拡大特性に優れた光学補償シートを提供することである。
又、本発明の他の目的は、幅広の長尺ロール形態に製造した場合においても光学的な欠陥を生じない、カール特性、寸度安定性に優れた生産性のよい光学補償シートを提供することである。
さらに、本発明の他の目的は、幅広の長尺ロール形態に製造した場合においても光学的な欠陥を生じない、カール特性、寸度安定性に優れた光学補償シートを生産性良く製造する方法を提供することである。
さらに又、本発明の他の目的は、それを用いたコントラストや輝度の高い優れた偏光板および液晶表示装置を提供することである。
又、本発明の他の目的は、幅広の長尺ロール形態に製造した場合においても光学的な欠陥を生じない、カール特性、寸度安定性に優れた生産性のよい光学補償シートを提供することである。
さらに、本発明の他の目的は、幅広の長尺ロール形態に製造した場合においても光学的な欠陥を生じない、カール特性、寸度安定性に優れた光学補償シートを生産性良く製造する方法を提供することである。
さらに又、本発明の他の目的は、それを用いたコントラストや輝度の高い優れた偏光板および液晶表示装置を提供することである。
本発明の目的は下記(1)〜(11)の光学補償シートとその製造方法、下記(12)の偏光板および下記(13)〜(14)の液晶表示装置により達成された。
(1)透明支持体上に、配向膜および光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートであって、該透明支持体の膜厚が20μm以上80μm未満及びその膜厚変動幅が±3%以内であり、該光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)の値がそれぞれ35±25nm、35±25nm及び105±55nmの範囲にあり、かつ視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下であることを特徴とする光学補償シート。
ここでRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)は、該光学異方性層のレターデーションが最小値を取る方向と法線を含む平面内で、法線方向、法線から最小値の方向に40°傾いた方向及び法線から逆に40°傾いた方向からそれぞれ測定した該光学補償シートのレターデーション値を表す。
(2)該透明支持体の表面が、JISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が0.5μm以下であることを特徴とする上記(1)に記載の光学補償シート。
(1)透明支持体上に、配向膜および光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートであって、該透明支持体の膜厚が20μm以上80μm未満及びその膜厚変動幅が±3%以内であり、該光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)の値がそれぞれ35±25nm、35±25nm及び105±55nmの範囲にあり、かつ視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下であることを特徴とする光学補償シート。
ここでRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)は、該光学異方性層のレターデーションが最小値を取る方向と法線を含む平面内で、法線方向、法線から最小値の方向に40°傾いた方向及び法線から逆に40°傾いた方向からそれぞれ測定した該光学補償シートのレターデーション値を表す。
(2)該透明支持体の表面が、JISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が0.5μm以下であることを特徴とする上記(1)に記載の光学補償シート。
(3)該透明支持体が、長さ100〜5000m及び幅0.7〜2mの長尺品であって、かつ幅方向のカールが−10/m〜+10/mであり、残留溶剤量が1.5%以下であることを特徴とする(1)または(2)に記載の光学補償シート。
(4)該透明支持体の動摩擦係数が0.4以下であり、かつ表面抵抗値が1.2×1012Ω/□以下であることことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の光学補償シート。
(5)該透明支持体の式(I)で定義されるReの値が4〜200nm、かつ式(II)で定義されるRthの値が50〜400nmの範囲にあることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の光学補償シート。
(I) Re=(nx−ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
[式中、nxは、透明支持体面内の遅相軸方向の屈折率であり;nyは、透明支持体面内の進相軸方向の屈折率であり;nzは、透明支持体の厚み方向の屈折率であり;そしてdは、透明支持体の厚さである]。
(4)該透明支持体の動摩擦係数が0.4以下であり、かつ表面抵抗値が1.2×1012Ω/□以下であることことを特徴とする(1)〜(3)のいずれかに記載の光学補償シート。
(5)該透明支持体の式(I)で定義されるReの値が4〜200nm、かつ式(II)で定義されるRthの値が50〜400nmの範囲にあることを特徴とする(1)〜(4)のいずれかに記載の光学補償シート。
(I) Re=(nx−ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
[式中、nxは、透明支持体面内の遅相軸方向の屈折率であり;nyは、透明支持体面内の進相軸方向の屈折率であり;nzは、透明支持体の厚み方向の屈折率であり;そしてdは、透明支持体の厚さである]。
(6)該透明支持体が、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物を含有するセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする上記1〜5のいずれかに記載の光学補償シート。
(7)該透明支持体に表面処理を施し、表面処理した後の透明支持体の表面エネルギーが55〜75mN/mであることを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の光学補償シート。
(8)該透明支持体が、沸点120℃以下の水溶性有機溶媒、並びに界面活性剤及び相溶化剤の少なくともいずれかを含有するアルカリ溶液により表面処理されたものである事を特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の光学補償シート。
(7)該透明支持体に表面処理を施し、表面処理した後の透明支持体の表面エネルギーが55〜75mN/mであることを特徴とする(1)〜(6)のいずれかに記載の光学補償シート。
(8)該透明支持体が、沸点120℃以下の水溶性有機溶媒、並びに界面活性剤及び相溶化剤の少なくともいずれかを含有するアルカリ溶液により表面処理されたものである事を特徴とする(1)〜(7)のいずれかに記載の光学補償シート。
(9)該表面処理が、透明支持体をアルカリ溶液に浸漬すること、または透明支持体にアルカリ溶液を塗布することにより処理されたものである事を特徴とする(8)に記載の光学補償シート。
(10)上記(1)〜(9)のいずれかに記載の光学補償シートであって、走行するウェブが液体で濡らした弾性体で連続的に擦られ、該弾性体で擦られた面に液体を噴射することによる除塵工程の後に、液晶層が塗設され、光学異方性層の配向が固定される工程によって製造されたものであることを特徴とする光学補償シート。
(11)透明支持体上に、配向膜および光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートの製造方法であって、配向膜のラビング工程においてラビング部材の表面電位を検知しつつ、その静帯電電位が|1|KVを越えない範囲でラビングすることを特徴とする、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートの製造方法。
(10)上記(1)〜(9)のいずれかに記載の光学補償シートであって、走行するウェブが液体で濡らした弾性体で連続的に擦られ、該弾性体で擦られた面に液体を噴射することによる除塵工程の後に、液晶層が塗設され、光学異方性層の配向が固定される工程によって製造されたものであることを特徴とする光学補償シート。
(11)透明支持体上に、配向膜および光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートの製造方法であって、配向膜のラビング工程においてラビング部材の表面電位を検知しつつ、その静帯電電位が|1|KVを越えない範囲でラビングすることを特徴とする、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートの製造方法。
(12)偏光膜、及びその両側に配置された2枚の透明保護膜からなる偏光板であって、該透明保護膜の一方が(1)〜(10)のいずれかに記載の光学補償シートを用いたものであることを特徴とする偏光板。
(13)上記(12)記載の偏光板であって、光学補償シートと反対側の保護膜上に反射防止膜を設けてなることを特徴とする偏光板
(14)液晶セル、及びその両側に配置された2枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜、及びその両側に配置された2枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される2枚の透明保護膜のうち少なくとも一方が(1)〜(10)のいずれかに記載の光学補償シートを用いたものであることを特徴とする液晶表示装置。
(15)上記(14)記載の液晶表示装置であって、液晶セルの上側の偏光板の保護膜上に反射防止膜を設けて成る偏光板を付設してなることを特徴とする液晶表示装置。
(16)該液晶セルがTNモード、VAモード、MVAモード、n−ASMモードまたはOCBモードの液晶セルであることを特徴とする(15)に記載の液晶表示装置。
(13)上記(12)記載の偏光板であって、光学補償シートと反対側の保護膜上に反射防止膜を設けてなることを特徴とする偏光板
(14)液晶セル、及びその両側に配置された2枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜、及びその両側に配置された2枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される2枚の透明保護膜のうち少なくとも一方が(1)〜(10)のいずれかに記載の光学補償シートを用いたものであることを特徴とする液晶表示装置。
(15)上記(14)記載の液晶表示装置であって、液晶セルの上側の偏光板の保護膜上に反射防止膜を設けて成る偏光板を付設してなることを特徴とする液晶表示装置。
(16)該液晶セルがTNモード、VAモード、MVAモード、n−ASMモードまたはOCBモードの液晶セルであることを特徴とする(15)に記載の液晶表示装置。
本発明の光学補償シートは、透明支持体上に、配向膜及び光学異方性層をこの順序で積層したものであり、
(A−1)透明支持体の膜厚を20μm以上80μm未満で、膜厚変動幅を±3%以内、かつ
(A−2)光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)の値をそれぞれ35±25nm、35±25nm及び105±55nmの範囲
にすることにより、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートが達成されることを見出した。
また、
(B)配向膜のラビング処理の工程(以下、ラビング工程とも称する)においてラビング部材の表面電位を検知しつつ、その静帯電電位が|1|KVを越えない範囲でラビングをすることにより、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートを製造できることを見出した。
(A−1)透明支持体の膜厚を20μm以上80μm未満で、膜厚変動幅を±3%以内、かつ
(A−2)光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)の値をそれぞれ35±25nm、35±25nm及び105±55nmの範囲
にすることにより、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートが達成されることを見出した。
また、
(B)配向膜のラビング処理の工程(以下、ラビング工程とも称する)においてラビング部材の表面電位を検知しつつ、その静帯電電位が|1|KVを越えない範囲でラビングをすることにより、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートを製造できることを見出した。
上記(A−1)の透明支持体の膜厚変動幅を±3%以内とするには、(a)透明支持体として用いるポリマーフィルムの分子量分布を狭くする、(b)該ポリマーフィルムを有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を流延する際の濃度及び粘度を調節する、(c)乾燥工程において膜表面の乾燥温度、乾燥風を用いる場合のその風量、風向等を調節することが有効である。分子量分布、粘度は後記<透明支持体>において詳述し、流延工程および乾燥工程は[透明支持体の製造方法]において記載する。
上記(A−2)の光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)の値をそれぞれ35±25nm、35±25nm及び105±55nmの範囲とするには、透明支持体の(a)レターデーション調整剤を用いること、(b)流延工程において流延方向を1軸延伸、または2軸延伸することが有効である。Re(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)はエリプソメーターで測定する。レターデーション調整剤は後記[レターデーション調整剤]および[少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物]において詳述し、流延工程は[透明支持体の製造方法]において記載する。
上記(B)のラビング工程については、後記[ラビング処理]において詳述する。
上記(B)のラビング工程については、後記[ラビング処理]において詳述する。
以上により得られた本発明の光学補償シートは、視覚的な大きさが100μm以上である光学的な欠陥(異物とも称する)が1m2当たり1個以下となる。この光学的な欠陥は、偏光顕微鏡を用い、クロスニコル下で本発明の光学補償シートの遅相軸を偏光子の吸収軸と平行にして観察することができる。輝点として見える欠点を円形に面積近似し、その直径が100μm以上のものを数える。100μm以上の輝点は、肉眼で容易に観測できる。
こうして得られた本発明の光学補償シートは、薄く軽く、かつ液晶表示装置の視認性を著しく改善され、かつ視野角依存性が軽減されることにより視野角拡大性が増すとともに、コントラストが大きくなることが見出された。
こうして得られた本発明の光学補償シートは、薄く軽く、かつ液晶表示装置の視認性を著しく改善され、かつ視野角依存性が軽減されることにより視野角拡大性が増すとともに、コントラストが大きくなることが見出された。
さらに、前記(A−1)、(A−2)に加えて、
(C)該透明支持体の表面を、JISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が 0.5μm以下にすることにより、光学補償シートのスジ状の欠陥が大幅に軽減されることが見出された。該スジ上の欠陥は肉眼で容易に観測され、本発明の光学補償シートは、これが1m×1m当たり1本以下となる。
JISB0601−1994に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)及び最大高さについては後記<透明支持体の特性>の[フィルム表面の性状]において詳述する。
上記(C)の透明支持体の表面をJISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が 0.5μm以下の範囲とするには、(a)フィルター濾過をフィルターの孔径を大きいものから小さいものへ順次換えていく、(b)脱泡を行う、(c)前記(A−1)にも記載したドープを流延する際の濃度の調節、(d)微粒子を添加する場合には微粒子そのものの選択と分散方法、場合によっては微粒子への表面処理によって相分離、凝集を避けること等が有効である。
(C)該透明支持体の表面を、JISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が 0.5μm以下にすることにより、光学補償シートのスジ状の欠陥が大幅に軽減されることが見出された。該スジ上の欠陥は肉眼で容易に観測され、本発明の光学補償シートは、これが1m×1m当たり1本以下となる。
JISB0601−1994に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)及び最大高さについては後記<透明支持体の特性>の[フィルム表面の性状]において詳述する。
上記(C)の透明支持体の表面をJISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が 0.5μm以下の範囲とするには、(a)フィルター濾過をフィルターの孔径を大きいものから小さいものへ順次換えていく、(b)脱泡を行う、(c)前記(A−1)にも記載したドープを流延する際の濃度の調節、(d)微粒子を添加する場合には微粒子そのものの選択と分散方法、場合によっては微粒子への表面処理によって相分離、凝集を避けること等が有効である。
以上により得られた本発明の本発明の光学補償シートは、スジ状の欠陥が著しく減り、これは、透明支持体の表面状態を上記の凹凸の大きさの範囲内とすることで、後で詳述する透明支持体表面への密着性付与の際、アルカリ鹸化による親水化処理が均一に行われること、及び透明支持体の上に設ける配向膜の塗設の際に硬化ムラが軽減されるためであり、透明支持体全面が安定して均一に処理され、処理ムラや塗布ムラ等による光学的な欠陥が解消されるためと思われる。
フィルター濾過については後記[透明支持体の製造方法]に詳述し、微粒子については後記[微粒子]に記載する。
フィルター濾過については後記[透明支持体の製造方法]に詳述し、微粒子については後記[微粒子]に記載する。
本発明によって、大画面サイズとしても薄く軽くかつ光学的欠陥が実用上問題のない視認性及び視野角拡大性に優れた光学補償シートを得ることができる。また本発明によって、幅広の長尺ロール形態に製造した場合においても光学的欠陥が実用上問題の無い、カール特性、寸度安定性に優れた光学補償シートを得ることができる。さらに、本発明によって、幅広の長尺ロール形態に製造した場合においても光学的欠陥が実用上問題の無い、カール特性、寸度安定性に優れた光学補償シートを生産性よく製造することができる。さらにまた本発明の光学補償シートを使用することにより、コントラスト及び視野角が良好で、輝度の高い偏光板および液晶表示装置が得られる。
以下に本発明の光学補償シートに関して説明する。
<透明支持体>
本発明の透明支持体は、透明なポリマーフィルムであることが好ましい。透明支持体は、光透過率が80%以上、ヘイズが3%以下であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例としては、セルロースエステル(例、セルロースのモノ、ジまたはトリアシレート体)、ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックス(いずれも商品名))が挙げられる。又、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第00/26705号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の透明支持体に用いることができる。これらのブレンドポリマー、グラフトポリマーなどであっても良く、2種類以上のものを用いることができる。
<透明支持体>
本発明の透明支持体は、透明なポリマーフィルムであることが好ましい。透明支持体は、光透過率が80%以上、ヘイズが3%以下であることが好ましい。ポリマーフィルムを構成するポリマーの例としては、セルロースエステル(例、セルロースのモノ、ジまたはトリアシレート体)、ノルボルネン系ポリマーでは、アートン及びゼオネックス(いずれも商品名))が挙げられる。又、従来知られているポリカーボネートやポリスルホンのような複屈折の発現しやすいポリマーであっても、国際公開第00/26705号パンフレットに記載のように、分子を修飾することで複屈折の発現性を制御すれば、本発明の透明支持体に用いることができる。これらのブレンドポリマー、グラフトポリマーなどであっても良く、2種類以上のものを用いることができる。
本発明の透明支持体の厚さは、20乃至200μmであることが好ましく、20乃至100μmであることがさらに好ましく、20以上80μm未満が最も好ましい。
又、膜厚の変動幅は、±3%以内であり、好ましくは±2%以内、更に好ましくは±1.5%以内である。この変動内において、支持体厚みの光学異方性に実質上の影響を及ぼさない良好なものとなる。
本発明に用いる透明支持体は、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を薄く軽量化するためや透過率を高めてコントラストや表示輝度を改善する等の良好な光学特性が安定して得られ、長尺で幅広な支持体をハンドリング性よく取り扱うことができる。
又、膜厚の変動幅は、±3%以内であり、好ましくは±2%以内、更に好ましくは±1.5%以内である。この変動内において、支持体厚みの光学異方性に実質上の影響を及ぼさない良好なものとなる。
本発明に用いる透明支持体は、光学補償シート、偏光板および液晶表示装置を薄く軽量化するためや透過率を高めてコントラストや表示輝度を改善する等の良好な光学特性が安定して得られ、長尺で幅広な支持体をハンドリング性よく取り扱うことができる。
本発明の透明支持体としては、セルロースエステルが好ましい。
本発明に用いられるセルロースエステル原料のセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ(広葉樹パルプ、針葉樹パルプ)などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。
本発明においてはセルロースからエステル化してセルロースアシレートを作製するが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
本発明に用いられるセルロースエステル原料のセルロースとしては、綿花リンター、ケナフ、木材パルプ(広葉樹パルプ、針葉樹パルプ)などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースエステルでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。
本発明においてはセルロースからエステル化してセルロースアシレートを作製するが、特に好ましい前述のセルロースがそのまま利用できる訳ではなく、リンター、ケナフ、パルプを精製して用いられる。
本発明において、セルロースアシレートとは、セルロースの脂肪酸エステルのことである。特にセルロースの低級脂肪酸エステルがさらに好ましい。
低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、2(セルロースアセテート)、3(セルロースプロピオネート)または4(セルロースブチレート)であることが好ましい。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
低級脂肪酸とは、炭素原子数が6以下の脂肪酸を意味する。炭素原子数は、2(セルロースアセテート)、3(セルロースプロピオネート)または4(セルロースブチレート)であることが好ましい。セルロースエステルとしてはセルロースアセテートが好ましく、その例としては、ジアセチルセルロースおよびトリアセチルセルロースなどが挙げられる。セルロースアセテートプロピオネートやセルロースアセテートブチレートのような混合脂肪酸エステルを用いることも好ましい。
本発明に用いられるセルロースアシレートは、セルロースの水酸基への置換度が下記数式(a)および(b)を満足するものが、溶解性の点で好ましい。
数式(a):2.3≦SA'+SB'≦3.0
数式(b):0≦SA'≦3.0
ここで、SA'はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またSB'はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数3〜22のアシル基の置換度を表す。なお、SAはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、SBはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数3〜22のアシル基を表す。SBは炭素原子数3〜6のアシル基が特に好ましい。
又、一般に、セルロースアシレートの2,3,6の水酸基は全体の置換度の1/3づつに均等に分配されるわけではなく、6位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの6位水酸基の置換度が、2,3位に比べて同程度若しくは多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して6位の水酸基が30%以上40%以下アシル基で置換されていることが好ましく、更には31%以上、特に32%以上であることが好ましい。
6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMR法などによって求める事ができる。
数式(a):2.3≦SA'+SB'≦3.0
数式(b):0≦SA'≦3.0
ここで、SA'はセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基の置換度、またSB'はセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数3〜22のアシル基の置換度を表す。なお、SAはセルロースの水酸基の水素原子を置換しているアセチル基を表し、SBはセルロースの水酸基の水素原子を置換している炭素原子数3〜22のアシル基を表す。SBは炭素原子数3〜6のアシル基が特に好ましい。
又、一般に、セルロースアシレートの2,3,6の水酸基は全体の置換度の1/3づつに均等に分配されるわけではなく、6位水酸基の置換度が小さくなる傾向がある。本発明ではセルロースアシレートの6位水酸基の置換度が、2,3位に比べて同程度若しくは多いほうが好ましい。
全体の置換度に対して6位の水酸基が30%以上40%以下アシル基で置換されていることが好ましく、更には31%以上、特に32%以上であることが好ましい。
6位水酸基は、アセチル基以外に炭素数3以上のアシル基であるプロピオニル基、ブチロイル基、バレロイル基、ベンゾイル基、アクリロイル基などで置換されていてもよい。各位置の置換度の測定は、NMR法などによって求める事ができる。
本発明の透明支持体に用いられるポリマーフィルムとしては、酢化度が54.0〜62.5%であるセルロースアシレートフィルムが好ましく、57.0〜61.5%であるセルロースアシレートフィルムがより好ましい。ここで酢化度とは、セルロース単位質量当たりの結合酢酸量を意味する。酢化度は、ASTM:D−817−91(セルロースアセテート等の試験法)におけるアシル化度の測定および計算に従う。
また、セルロースアシレートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがさらに好ましい。また、ポリマーフィルムは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される多分散性指数Mw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜5.0であることが好ましく、1.0〜3.0であることがさらに好ましく、1.0〜1.7であることが最も好ましい。
また、セルロースアシレートの粘度平均重合度(DP)は、250以上であることが好ましく、290以上であることがさらに好ましい。また、ポリマーフィルムは、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定される多分散性指数Mw/Mn(Mwは質量平均分子量、Mnは数平均分子量)が小さく、分子量分布が狭いことが好ましい。具体的なMw/Mnの値としては、1.0〜5.0であることが好ましく、1.0〜3.0であることがさらに好ましく、1.0〜1.7であることが最も好ましい。
[レターデーション調整剤]
本発明のポリマーフィルムは、溶液の紫外線吸収スペクトルの吸収極大を与える波長(λmax )が400nmより短波長にある紫外線を吸収する化合物をレターデーション調整剤として含有することが好ましい。このような化合物の例として、フェニルサリチル酸、2−ヒドロキシベンゾフェノン類、ベンゾトシアゾール類等の紫外線吸収剤を挙げることができる。又、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物、トリフェニレン化合物、円盤状化合物(1,3,5−トリアジン骨格、ポルフィリン骨格を分子に含有の化合物等)等が好ましい。これらの化合物類は、可視光領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
本発明のポリマーフィルムは、溶液の紫外線吸収スペクトルの吸収極大を与える波長(λmax )が400nmより短波長にある紫外線を吸収する化合物をレターデーション調整剤として含有することが好ましい。このような化合物の例として、フェニルサリチル酸、2−ヒドロキシベンゾフェノン類、ベンゾトシアゾール類等の紫外線吸収剤を挙げることができる。又、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物、トリフェニレン化合物、円盤状化合物(1,3,5−トリアジン骨格、ポルフィリン骨格を分子に含有の化合物等)等が好ましい。これらの化合物類は、可視光領域に実質的に吸収を有していないことが好ましい。
[少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物]
本発明のセルロースアシレートフィルムのレターデーション調整剤として、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物(以下、「本発明の芳香族化合物」とも言う)を少なくとも1種を含有することが好ましい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環でもかまわない。芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。
本発明のセルロースアシレートフィルムのレターデーション調整剤として、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物(以下、「本発明の芳香族化合物」とも言う)を少なくとも1種を含有することが好ましい。芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環でもかまわない。芳香族炭化水素環は、6員環(すなわち、ベンゼン環)であることが特に好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、不飽和ヘテロ環である。芳香族性ヘテロ環は、5員環、6員環または7員環であることが好ましく、5員環または6員環であることがさらに好ましい。芳香族性ヘテロ環は一般に、最多の二重結合を有する。ヘテロ原子としては、窒素原子、酸素原子および硫黄原子が好ましく、窒素原子が特に好ましい。
本発明の芳香族化合物が有する芳香族環の数は、2乃至20であることが好ましく、2乃至12であることがより好ましい。3以上の芳香族環を有する場合、少なくとも二つの芳香族環の立体配座を立体障害しなければよい。二つの芳香族環の結合関係は、(a)縮合環を形成する場合、(b)単結合で直結する場合および(c)連結基を介して結合する場合に分類できる(芳香族環のため、スピロ結合は形成できない)。レターデーション上昇機能の観点では、(a)〜(c)のいずれでもよい。具体的には、特開2002−131537号公報段落番号[0016]〜[0023]記載の内容のものが挙げられる。更に、上記(b)または(c)の場合は、二つの芳香族環の立体配座を立体障害しないことが好ましい。
本発明の芳香族化合物としては、特開2002−363343号公報段落番号[0011]〜[0031]記載されると同一内容の直線的な分子構造を有する棒状化合物、特開2000−111914号公報段落番号[0011]〜[0085]記載されると同一内容の立体障害しない立体配座となっている二つの芳香族環を含有する化合物、少なくとも1つの芳香族環を置換基として含有する1,3,5−トリアジン化合物或はポルフィリン骨格を有する化合物(特開2001−166144号公報記載の化合物)が挙げられる。
特に、少なくとも一つの芳香族環を置換基として含有する1,3,5−トリアジン化合物が好ましい(該トリアジン環がもう一つの芳香環となる)。具体的には、特開2001−166144号公報段落番号[0016]に記載の一般式(I)記載の1,3,5−トリアジン化合物が挙げられる。
本発明の芳香族化合物の含有量は、所望のレターデーションに調整するためにレターデション調整剤用化合物の種類及び使用量を選択して用いる。透明支持体を作製するときに透明支持体作成物中での溶解性、製膜時での不溶化や析出等の問題を生じさせないことから、セルロースアシレート100質量部に対して、0.01〜30質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1〜25質量部の範囲で使用することがより好ましい。
特に、少なくとも一つの芳香族環を置換基として含有する1,3,5−トリアジン化合物が好ましい(該トリアジン環がもう一つの芳香環となる)。具体的には、特開2001−166144号公報段落番号[0016]に記載の一般式(I)記載の1,3,5−トリアジン化合物が挙げられる。
本発明の芳香族化合物の含有量は、所望のレターデーションに調整するためにレターデション調整剤用化合物の種類及び使用量を選択して用いる。透明支持体を作製するときに透明支持体作成物中での溶解性、製膜時での不溶化や析出等の問題を生じさせないことから、セルロースアシレート100質量部に対して、0.01〜30質量部の範囲で使用することが好ましく、0.1〜25質量部の範囲で使用することがより好ましい。
[可塑剤]
セルロースアシレートフィルムにはフィルムの機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、従来公知の可塑剤を添加することが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル類、カルボン酸エステル類(カルボン酸としては、脂肪族カルボン酸、オキシカルボン酸(クエン酸、リンゴ酸等)、芳香族カルボン酸(フタル酸等))等が挙げられ、発明協会公開技法公技番号2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)p.16に記載の化合物等が挙げられる。又、アルカンポリオールとカルボン酸とのエステル化化合物(特開平11−124445号公報、特開2001−247717号公報等)等も好ましい。
可塑剤の添加量はセルロースアシレート100質量部に対して0.05乃至25質量%であることが好ましく、1乃至20質量%であることがさらに好ましい。
セルロースアシレートフィルムにはフィルムの機械的物性を改良するため、または乾燥速度を向上するために、従来公知の可塑剤を添加することが好ましい。可塑剤としては、例えば、リン酸エステル類、カルボン酸エステル類(カルボン酸としては、脂肪族カルボン酸、オキシカルボン酸(クエン酸、リンゴ酸等)、芳香族カルボン酸(フタル酸等))等が挙げられ、発明協会公開技法公技番号2001−1745号(2001年3月15日発行、発明協会)p.16に記載の化合物等が挙げられる。又、アルカンポリオールとカルボン酸とのエステル化化合物(特開平11−124445号公報、特開2001−247717号公報等)等も好ましい。
可塑剤の添加量はセルロースアシレート100質量部に対して0.05乃至25質量%であることが好ましく、1乃至20質量%であることがさらに好ましい。
[微粒子]
本発明では、フィルムのカール抑制、搬送性、或は耐傷性を良好に保持するためにセルロースアシレート組成物に微粒子を添加するのが好ましい。
添加する微粒子は、前述の機能を呈する素材であれば特に限定はなく、微粒子のモース硬度2〜10であるものが好ましい。
微粒子として無機化合物、有機化合物のいずれを用いてもよく、好ましい具体例は、無機化合物としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであり、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので二酸化ケイ素が特に好ましい。
本発明では、フィルムのカール抑制、搬送性、或は耐傷性を良好に保持するためにセルロースアシレート組成物に微粒子を添加するのが好ましい。
添加する微粒子は、前述の機能を呈する素材であれば特に限定はなく、微粒子のモース硬度2〜10であるものが好ましい。
微粒子として無機化合物、有機化合物のいずれを用いてもよく、好ましい具体例は、無機化合物としては、ケイ素を含む化合物、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロンチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであり、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので二酸化ケイ素が特に好ましい。
又、表面処理された無機微粒子もセルロースアシレート中への分散性が良好となり好ましい。処理法としては、例えば、特開昭54−57562号公報に記載の方法が挙げられる。粒子としては、例えば、特開2001−151936号公報に記載のものが挙げられる。
有機化合物としては、例えば、架橋ポリスチレン、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、なかでも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂のなかでも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましい。
有機化合物としては、例えば、架橋ポリスチレン、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂等のポリマーが好ましく、なかでも、シリコーン樹脂が好ましく用いられる。シリコーン樹脂のなかでも、特に三次元の網状構造を有するものが好ましい。
これらの微粒子の1次平均粒子径(以下、粒径とも称する)としては、好ましくは0.001〜1μmであり、より好ましくは0.005〜0.4μm、特に好ましくは0.005〜0.1μmである。
この範囲において、フィルムとしての機械的な物性を損なうことなく、ヘイズを低く抑え、且つ製膜後のフィルム表面の凹凸を小さくすることが出来る。
セルロースアシレートに対する微粒子の添加量は、セルロースアシレート100質量部に対して、微粒子は0.01〜0.3質量部が好ましく、0.05〜0.2質量部がさらに好ましい。
この範囲において、フィルムとしての機械的な物性を損なうことなく、ヘイズを低く抑え、且つ製膜後のフィルム表面の凹凸を小さくすることが出来る。
セルロースアシレートに対する微粒子の添加量は、セルロースアシレート100質量部に対して、微粒子は0.01〜0.3質量部が好ましく、0.05〜0.2質量部がさらに好ましい。
[他の添加剤]
本発明のセルロースアシレートフィルムには、更に、紫外線防止剤(例えば、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等)、劣化防止剤(例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、光安定化剤(ヒンダードアミン等)等)、剥離剤、帯電防止剤等を添加してもよい。
これらの詳細は、上記の公技番号2001−1745号、p.17−22に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
本発明のセルロースアシレートフィルムには、更に、紫外線防止剤(例えば、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、シアノアクリレート系化合物等)、劣化防止剤(例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、光安定化剤(ヒンダードアミン等)等)、剥離剤、帯電防止剤等を添加してもよい。
これらの詳細は、上記の公技番号2001−1745号、p.17−22に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
[透明支持体の製造方法]
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いてフィルムは製造される。
用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば溶解度パラメーターで17〜22の範囲ものが好ましい。溶解度パラメーターは、例えばJ.Brandrup、E.Hなどの「PolymerHandbook(4th.edition)」、VII/671〜VII/714に記載の内容のものを表す。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数3から12までのケトン、炭素原子数3〜12のエステル、炭素原子数3〜12のエーテル、炭素原子数5〜8の脂肪族炭化水素類、炭素数6〜12の芳香族炭化水素類等が挙げられる。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
具体的には、例えば前記の公技番号2001−1745号、p.12−16に詳細に記載されている化合物が挙げられる。
本発明では、ソルベントキャスト法によりセルロースアシレートフィルムを製造することが好ましく、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液(ドープ)を用いてフィルムは製造される。
用いる有機溶媒としては、従来公知の有機溶媒が挙げられ、例えば溶解度パラメーターで17〜22の範囲ものが好ましい。溶解度パラメーターは、例えばJ.Brandrup、E.Hなどの「PolymerHandbook(4th.edition)」、VII/671〜VII/714に記載の内容のものを表す。低級脂肪族炭化水素の塩化物、低級脂肪族アルコール、炭素原子数3から12までのケトン、炭素原子数3〜12のエステル、炭素原子数3〜12のエーテル、炭素原子数5〜8の脂肪族炭化水素類、炭素数6〜12の芳香族炭化水素類等が挙げられる。
エーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。エーテル、ケトンおよびエステルの官能基(すなわち、−O−、−CO−および−COO−)のいずれかを二つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。二種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、その炭素原子数は、いずれかの官能基を有する化合物の規定範囲内であればよい。
具体的には、例えば前記の公技番号2001−1745号、p.12−16に詳細に記載されている化合物が挙げられる。
特に、本発明では、溶媒は2種類以上の有機溶媒を混合して用いることが好ましく、特に好ましい有機溶媒は、互いに異なる3種類以上の混合溶媒であって、第1の溶媒が炭素原子数が3〜4のケトンおよび炭素原子数が3〜4のエステル或いはその混合液であり、第2の溶媒が炭素原子数が5〜7のケトン類またはアセト酢酸エステルから選ばれ、第3の溶媒として沸点が30〜170℃のアルコールまたは沸点が30〜170℃の炭化水素から選ばれることが好ましい。
とくに、酢酸エステルを20〜90質量%、ケトン類を5〜60質量%、アルコール類を5〜30質量%の混合比で用いることがセルロースアシレートの溶解性の点から好ましい。
また、ハロゲン化炭化水素を含まない非ハロゲン系有機溶媒系が特に好ましい。
技術的には、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境や作業環境の観点では、有機溶媒はハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶媒中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であることを意味する。また、製造したセルロースアシレートフィルムから、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素が全く検出されないことが好ましい。
とくに、酢酸エステルを20〜90質量%、ケトン類を5〜60質量%、アルコール類を5〜30質量%の混合比で用いることがセルロースアシレートの溶解性の点から好ましい。
また、ハロゲン化炭化水素を含まない非ハロゲン系有機溶媒系が特に好ましい。
技術的には、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素は問題なく使用できるが、地球環境や作業環境の観点では、有機溶媒はハロゲン化炭化水素を実質的に含まないことが好ましい。「実質的に含まない」とは、有機溶媒中のハロゲン化炭化水素の割合が5質量%未満(好ましくは2質量%未満)であることを意味する。また、製造したセルロースアシレートフィルムから、メチレンクロリドのようなハロゲン化炭化水素が全く検出されないことが好ましい。
本発明に使用する有機溶媒は具体的には、例えば特開2002−146043号公報段落番号〔0021〕〜〔0025〕、特開2002−146045号公報段落番号〔0016〕〜〔0021〕等に記載の溶媒系の例が挙げられる。
本発明に用いるドープには、上記本発明の有機溶媒以外に、フルオロアルコールやメチレンクロライドを本発明の全有機溶媒量の10質量%以下、より好ましくは5質量%以下含有させることもフィルムの透明性を向上させたり、溶解性を早めたりする上で好ましい。該フルオロアルコールとしては例えば、特開平8−143709号公報段落番号[0020]、同11−60807号公報段落番号[0037]等に記載の化合物が挙げられる。これらのフルオロアルコールは一種又は二種以上使用してもよい。
本発明のセルロースアシレート溶液を調製する際に、容器内に窒素ガスなどの不活性ガスを充満させてもよい。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際、流延可能な範囲であればよく、通常10ps・s〜2000ps・sの範囲に調製されることが好ましく、特に30ps・s〜400ps・sが好ましい。
本発明に用いるドープには、上記本発明の有機溶媒以外に、フルオロアルコールやメチレンクロライドを本発明の全有機溶媒量の10質量%以下、より好ましくは5質量%以下含有させることもフィルムの透明性を向上させたり、溶解性を早めたりする上で好ましい。該フルオロアルコールとしては例えば、特開平8−143709号公報段落番号[0020]、同11−60807号公報段落番号[0037]等に記載の化合物が挙げられる。これらのフルオロアルコールは一種又は二種以上使用してもよい。
本発明のセルロースアシレート溶液を調製する際に、容器内に窒素ガスなどの不活性ガスを充満させてもよい。セルロースアシレート溶液の製膜直前の粘度は、製膜の際、流延可能な範囲であればよく、通常10ps・s〜2000ps・sの範囲に調製されることが好ましく、特に30ps・s〜400ps・sが好ましい。
本発明に係るセルロースアシレート溶液(ドープ)の調製については、その溶解方法は特に限定されず、室温溶解法でもよく、冷却溶解法あるいは高温溶解方法、さらにはこれらの組み合わせで実施される。これらに関しては、例えば特開平5−163301、特開昭61−106628、特開昭58−127737、特開平9−95544、特開平10−95854、特開平10−45950、特開2000−53784、特開平11−322946、さらに特開平11−322947、特開平2−276830、特開2000−273239、特開平11−71463、特開平04−259511、特開2000−273184、特開平11−323017、特開平11−302388などに記載のセルロースアシレート溶液の調製法が挙げられる。以上記載したこれらのセルロースアシレートの有機溶媒への溶解方法は、本発明の範囲であれば本発明においても適宜これらの技術を適用できる。さらにセルロースアシレートのドープ溶液は、溶液の濃縮と濾過が通常実施され、同様に前記の公技番号2001−1745号、p.25に詳細に記載されている。なお、高温度で溶解する場合は、使用する有機溶媒の沸点以上の場合がほとんどであり、その場合は加圧状態で用いられる。
次に、本発明において、セルロースアシレート溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。セルロースアシレートフィルムを製造する方法及び設備は、セルロースアシレートフィルム製造に供するドラム方法若しくはバンド方法と称される、従来公知の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。
バンド法を例として製膜の工程を説明すると、溶解機(釜)から調製されたドープ(セルロースアシレート溶液)を貯蔵釜に一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。調製されたドープは精密濾過により異物を除去することが重要である。具体的には、濾過のフィルターは、ドープ液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が0.1〜100μmのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が0.1〜25μmであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、0.1〜10mmが好ましく、更には0.2〜2mmが好ましい。その場合、濾過圧力は1.47MPa 以下、より好ましくは0.98MPa以下、更には0.20MPa以下で濾過することが好ましい。
バンド法を例として製膜の工程を説明すると、溶解機(釜)から調製されたドープ(セルロースアシレート溶液)を貯蔵釜に一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。調製されたドープは精密濾過により異物を除去することが重要である。具体的には、濾過のフィルターは、ドープ液中の成分が除去されない範囲でできるだけ孔径の小さいものを使うことが好ましい。濾過には絶対濾過精度が0.1〜100μmのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が0.1〜25μmであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。フィルタの厚さは、0.1〜10mmが好ましく、更には0.2〜2mmが好ましい。その場合、濾過圧力は1.47MPa 以下、より好ましくは0.98MPa以下、更には0.20MPa以下で濾過することが好ましい。
又、精密濾過のために、順次フィルターの孔径を小さくして濾過を数回行うことも好ましい。
精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、且つ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
精密濾過するための濾材のタイプは上記性能を有していれば特に限定されないが例えばフィラメント型、フェルト型、メッシュ型が挙げられる。分散物を精密濾過するための濾材の材質は上記性能を有しており、且つ塗布液に悪影響を及ばさなければ特に限定はされないが、例えばステンレス、ポリエチレン、ポリプロピレン、ナイロン等が挙げられる。
調製したドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金(スリット)からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延し、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜(ウェブとも称する)を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、幅保持しながらテンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。
これらの各製造工程(流延(共流延を含む)、金属支持体、乾燥、剥離、延伸などに分類される)については、前記の公技番号2001−1745号、p.25−30に詳細に記載された内容が挙げられる。流延工程では1種類のセルロースアシレート溶液を単層流延してもよいし、2種類以上のセルロースアシレート溶液を同時及び又は逐次共流延しても良い。
流延工程では流延方向(縦方向)等の一方向のみの1軸延伸、或いは流延方向及び他の方向(横方向)の2軸延伸等が行われることが好ましい。
流延工程でもちいる金属支持体は、その表面が算術平均粗さ(Ra)が0.015μm以下で、十点平均粗さ(Rz)が0.05μm以下であることが好ましい。より好ましくは、算術平均粗さ(Ra)が0.001〜0.01μmで、十点平均粗さ(Rz)が0.001〜0.02μmである。更に好ましくは、(Ra)/(Rz)比が0.15以上である。このように、金属支持体の表面粗さを所定の範囲とすることで、製膜後のフィルムの表面形状を後述する好ましい範囲内に制御できる。
これらの各製造工程(流延(共流延を含む)、金属支持体、乾燥、剥離、延伸などに分類される)については、前記の公技番号2001−1745号、p.25−30に詳細に記載された内容が挙げられる。流延工程では1種類のセルロースアシレート溶液を単層流延してもよいし、2種類以上のセルロースアシレート溶液を同時及び又は逐次共流延しても良い。
流延工程では流延方向(縦方向)等の一方向のみの1軸延伸、或いは流延方向及び他の方向(横方向)の2軸延伸等が行われることが好ましい。
流延工程でもちいる金属支持体は、その表面が算術平均粗さ(Ra)が0.015μm以下で、十点平均粗さ(Rz)が0.05μm以下であることが好ましい。より好ましくは、算術平均粗さ(Ra)が0.001〜0.01μmで、十点平均粗さ(Rz)が0.001〜0.02μmである。更に好ましくは、(Ra)/(Rz)比が0.15以上である。このように、金属支持体の表面粗さを所定の範囲とすることで、製膜後のフィルムの表面形状を後述する好ましい範囲内に制御できる。
さらに本発明のセルロースアシレート溶液は、他の機能層(例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、UV吸収層、偏光層など)を同時に流延してもよい。
<透明支持体の特性>
[フィルム表面の性状]
前記したとおり、本発明に用いる透明支持体の表面は、JISB0601−1994に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が 0.5μm以下であることを特徴とする。好ましくは、算術平均粗さ(Ra)が0.0001〜0.05μm、及び最大高さ(Ry)が0.0002〜0.2μmである。
膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡(AFM)により評価することが出来る。
本発明のポリマーフィルムの表面状態を上記の凹凸の大きさ内とすることで、後述するフィルム表面への密着性付与、配向膜の塗設において、ポリマーフィルム全面が安定して均一に処理され、処理ムラや塗布ムラ等による光学的な欠陥が解消される。
[フィルム表面の性状]
前記したとおり、本発明に用いる透明支持体の表面は、JISB0601−1994に基づく該膜の表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が 0.5μm以下であることを特徴とする。好ましくは、算術平均粗さ(Ra)が0.0001〜0.05μm、及び最大高さ(Ry)が0.0002〜0.2μmである。
膜表面の凹と凸の形状は、原子間力顕微鏡(AFM)により評価することが出来る。
本発明のポリマーフィルムの表面状態を上記の凹凸の大きさ内とすることで、後述するフィルム表面への密着性付与、配向膜の塗設において、ポリマーフィルム全面が安定して均一に処理され、処理ムラや塗布ムラ等による光学的な欠陥が解消される。
又、本発明に用いる透明支持体の動摩擦係数は0.4以下であることが好ましく、0.3以下であることが特に好ましい。動摩擦係数が大きいと搬送ロールとの間で強く擦られる結果支持体から発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えてしまう。
動摩擦係数は5mmφの鋼球を用いる鋼球法により測定することができる。
動摩擦係数は5mmφの鋼球を用いる鋼球法により測定することができる。
又、本発明に用いる透明支持体の表面抵抗率は、1.2x1012Ω/□以下であることが好ましく、1.0x1012Ω/□以下であることがより好ましく、0.8x1012Ω/□以下であることが特に好ましい。表面抵抗率を本発明の範囲内とすることにより透明支持体や光学補償シートへの異物の付着が抑えられ、光学補償シートの点欠陥や塗布スジを少なくすることができる。
[透明支持体の機械的特性]
本発明に用いる透明支持体の幅方向のカール値は−10/m〜+10/mであることが好ましい。本発明の透明支持体には後述する表面処理、ラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の設置などを長尺で広幅の透明支持体に対し行う際に、透明支持体の幅方向のカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし、フィルムの切断が起きることがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることが明らかとなった。又、カールを本発明の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法(ANSI/ASCPH1.29−1985)に従い測定することができる。
本発明に用いる透明支持体の幅方向のカール値は−10/m〜+10/mであることが好ましい。本発明の透明支持体には後述する表面処理、ラビング処理の実施や配向膜、光学異方性層の設置などを長尺で広幅の透明支持体に対し行う際に、透明支持体の幅方向のカール値が前述の範囲外では、フィルムのハンドリングに支障をきたし、フィルムの切断が起きることがある。また、フィルムのエッジや中央部などで、フィルムが搬送ロールと強く接触するために発塵しやすくなり、フィルム上への異物付着が多くなり、光学補償シートの点欠陥や塗布スジの頻度が許容値を超えることが明らかとなった。又、カールを本発明の範囲とすることで光学異方性層を設置するときに発生しやすい色斑故障を低減できるほか、偏光膜貼り合せ時に気泡が入ることを防ぐことができ、好ましい。
カール値は、アメリカ国家規格協会の規定する測定方法(ANSI/ASCPH1.29−1985)に従い測定することができる。
セルロースアシレートフィルムの引き裂き強度は、30℃85%RHにおいて3〜50gであることが好ましい
又、引掻き強度は1g以上であることが好ましく、5g以上であることがより好ましく、10g以上であることが特に好ましい。
これらの範囲において、フィルム表面の耐傷性、ハンドリング性が問題なく保持される。
引掻き強度は円錐頂角が90度で先端の半径が0.25mのサファイヤ針を用いて支持体表面を引掻き、引掻き跡が目視にて確認できる荷重(g)をもって評価することができる。
又、引掻き強度は1g以上であることが好ましく、5g以上であることがより好ましく、10g以上であることが特に好ましい。
これらの範囲において、フィルム表面の耐傷性、ハンドリング性が問題なく保持される。
引掻き強度は円錐頂角が90度で先端の半径が0.25mのサファイヤ針を用いて支持体表面を引掻き、引掻き跡が目視にて確認できる荷重(g)をもって評価することができる。
[フィルムの吸湿膨張係数]
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数を30×10-5/%RH以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、15×10-5/%RH以下とすることが好ましく、10×10-5/%RH以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、1.0×10-5/%RH以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの吸湿膨張係数を30×10-5/%RH以下とすることが好ましい。吸湿膨張係数は、15×10-5/%RH以下とすることが好ましく、10×10-5/%RH以下であることがさらに好ましい。また、吸湿膨張係数は小さい方が好ましいが、通常は、1.0×10-5/%RH以上の値である。吸湿膨張係数は、一定温度下において相対湿度を変化させた時の試料の長さの変化量を示す。
この吸湿膨張係数を調節することで、光学補償シートの光学補償機能を維持したまま、額縁状の透過率上昇すなわち歪みによる光漏れを防止することができる。
吸湿膨張係数の測定方法について以下に示す。作製したセルロースアシレートフィルムから幅5mm、長さ20mmの試料を切り出し、片方の端を固定して25℃、20%RH(R0)の雰囲気下にぶら下げた。他方の端に0.5gの重りをぶら下げて、10分間放置し長さ(L0)を測定した。次に、温度は25℃のまま、湿度を80%RH(R1)にして、長さ(L1)を測定した。吸湿膨張係数は下式により算出した。測定は同一試料につき10サンプル行い、平均値を採用した。
吸湿膨張係数[/%RH]={(L1−L0)/L0}/(R1−R0)
作製したセルロースアシレートフィルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水基を有する化合物或は微粒子等を添加することが好ましい。疎水基を有する化合物としては、分子中に脂肪族基や芳香族基のような疎水基を有する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これらの化合物の添加量は、調整する溶液(ドープ)に対して0.01乃至10質量%の範囲にあることが好ましい。
吸湿膨張係数[/%RH]={(L1−L0)/L0}/(R1−R0)
作製したセルロースアシレートフィルムの吸湿による寸度変化を小さくするには、疎水基を有する化合物或は微粒子等を添加することが好ましい。疎水基を有する化合物としては、分子中に脂肪族基や芳香族基のような疎水基を有する可塑剤や劣化防止剤の中で該当する素材が特に好ましく用いられる。これらの化合物の添加量は、調整する溶液(ドープ)に対して0.01乃至10質量%の範囲にあることが好ましい。
[フィルムの残留溶剤量]
本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は1.5%以下とすることでカールを抑制できる。該残留溶剤量が1.0%以下であることがより好ましい。
これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時に残留溶剤量を少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
具体的には、セルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、0.01〜1.5質量%の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは0.01〜1.0質量%である。
本発明において残留溶剤量とは、対固形分質量に対する揮発分のことで、以下の式で表される値とする。
残留溶剤量(質量%)=( (W−W0)/W0 )×100
W:試料軟膜質量
W0:試料軟膜Wを110℃、2時間乾燥したあとの試料質量
本発明に用いる透明支持体の残留溶剤量は1.5%以下とすることでカールを抑制できる。該残留溶剤量が1.0%以下であることがより好ましい。
これは、前述のソルベントキャスト方法による成膜時に残留溶剤量を少なくすることで自由体積が小さくなることが主要な効果要因になるためと思われる。
具体的には、セルロースアシレートフィルムに対する残留溶剤量が、0.01〜1.5質量%の範囲となる条件で乾燥することが好ましい。より好ましくは0.01〜1.0質量%である。
本発明において残留溶剤量とは、対固形分質量に対する揮発分のことで、以下の式で表される値とする。
残留溶剤量(質量%)=( (W−W0)/W0 )×100
W:試料軟膜質量
W0:試料軟膜Wを110℃、2時間乾燥したあとの試料質量
[フィルムの透湿度及び含水量]
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、JIS規格JISZ0208、B条件(温度40℃、湿度90%RH)において、2〜150g/m2・24hである。10〜120g/m2・24hであることがより好ましく、10〜100g/m2・24hであることが特に好ましい。150g/m2・24hを越えると、フィルムのRe値、Rth値の湿度依存性の絶対値が0.5nm/%RHを超える傾向が強くなってしまう。また、セルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層させた光学補償シートとした場合も、Re値、Rth値の湿度依存性の絶対値が0.3nm/%RHを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が2g/m2・24h未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
本発明の光学補償シートに用いるセルロースアシレートフィルムの透湿度は、JIS規格JISZ0208、B条件(温度40℃、湿度90%RH)において、2〜150g/m2・24hである。10〜120g/m2・24hであることがより好ましく、10〜100g/m2・24hであることが特に好ましい。150g/m2・24hを越えると、フィルムのRe値、Rth値の湿度依存性の絶対値が0.5nm/%RHを超える傾向が強くなってしまう。また、セルロースアシレートフィルムに光学異方性層を積層させた光学補償シートとした場合も、Re値、Rth値の湿度依存性の絶対値が0.3nm/%RHを超える傾向が強くなってしまい好ましくない。この光学補償シートや偏光板が液晶表示装置に組み込まれた場合、色味の変化や視野角の低下を引き起こす。また、セルロースアシレートフィルムの透湿度が2g/m2・24h未満では、偏光膜の両面などに貼り付けて偏光板を作製する場合に、セルロースアシレートフィルムにより接着剤の乾燥が妨げられ、接着不良を生じる。
透湿度の測定法は、「高分子の物性II」(高分子実験講座4 共立出版)p.285−294:蒸気透過量の測定(質量法、温度計法、蒸気圧法、吸着量法)に記載の方法を適用することができる。
本発明の光学補償シートを構成するセルロースアシレートフィルムの含水量は、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、30℃85%RH下で0.3〜12g/m2であることが好ましい。0.5〜5g/m2であることがより好ましい。12g/m2より大きいとレターデーションの湿度変化による依存性も大きくなりすぎてしまい好ましくない。
本発明の光学補償シートを構成するセルロースアシレートフィルムの含水量は、ポリビニルアルコールなどの水溶性ポリマーとの接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、30℃85%RH下で0.3〜12g/m2であることが好ましい。0.5〜5g/m2であることがより好ましい。12g/m2より大きいとレターデーションの湿度変化による依存性も大きくなりすぎてしまい好ましくない。
[透明支持体の光学異方性]
本発明に用いる透明支持体は光学異方性を示し、その程度を表すReレターデーション値およびRthレターデーション値は、それぞれ、下記式(I)および(II)で定義される。
(I) Re=(nx−ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
式(I)および(II)において、nxは、フィルム面内の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率である。
式(I)および(II)において、nyは、フィルム面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率である。
式(II)において、nzは、フィルムの厚み方向の屈折率である。
式(I)および(II)において、dは、単位をnmとするフィルムの厚さである。
本発明に用いる透明支持体は光学異方性を示し、その程度を表すReレターデーション値およびRthレターデーション値は、それぞれ、下記式(I)および(II)で定義される。
(I) Re=(nx−ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
式(I)および(II)において、nxは、フィルム面内の遅相軸方向(屈折率が最大となる方向)の屈折率である。
式(I)および(II)において、nyは、フィルム面内の進相軸方向(屈折率が最小となる方向)の屈折率である。
式(II)において、nzは、フィルムの厚み方向の屈折率である。
式(I)および(II)において、dは、単位をnmとするフィルムの厚さである。
本発明では、透明支持体のReレターデーション値が4〜200nm、そしてRthレターデーション値は50〜400nmの範囲である事が好ましい。
尚、透明支持体の複屈折率(Δn:nx−ny)は、波長550nmに対して0.000025〜0.0088であることが好ましく、より好ましくは0.0003〜0.005である。又、厚み方向の複屈折率{(nx+ny)/2−nz}は、波長550nmに対して0.0006〜0.02であることが好ましく、より好ましくは0.001〜0.007である。
尚、透明支持体の複屈折率(Δn:nx−ny)は、波長550nmに対して0.000025〜0.0088であることが好ましく、より好ましくは0.0003〜0.005である。又、厚み方向の複屈折率{(nx+ny)/2−nz}は、波長550nmに対して0.0006〜0.02であることが好ましく、より好ましくは0.001〜0.007である。
特にTNモードに用いる光学補償シートの透明支持体としては、Reレターデーション値が4〜40nm、そしてRthレターデーション値は50〜200nmの範囲である事が好ましく、OCB、HAN、VAN、ホモジニアス配向モード等のECBモードに用いる光学補償シートの支持体としては、Reレターデーション値が10〜70nm、そしてRthレターデーション値は70〜400nmの範囲である事が好ましい。
<透明支持体の密着性付与の方法>
本発明の透明支持体は、配向膜を塗布方式で設ける場合には、該透明支持体表面に密着性を付与し、配向膜用塗布液が均一に塗工されるように表面処理を施すことが好ましい。
表面処理の方法としては、配向膜の下塗り層を設ける方法が挙げられる。特開平7−333433号公報記載の下塗り層、或いは疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を一層のみ塗布する単層法第1層として高分子フィルムによく密着する層(以下、下塗第1層と略す)を設け、その上に第2層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布する所謂重層法(例えば、特開平11−248940号公報記載)が挙げられる。
本発明の透明支持体は、配向膜を塗布方式で設ける場合には、該透明支持体表面に密着性を付与し、配向膜用塗布液が均一に塗工されるように表面処理を施すことが好ましい。
表面処理の方法としては、配向膜の下塗り層を設ける方法が挙げられる。特開平7−333433号公報記載の下塗り層、或いは疎水性基と親水性基との両方を含有するゼラチン等の樹脂層を一層のみ塗布する単層法第1層として高分子フィルムによく密着する層(以下、下塗第1層と略す)を設け、その上に第2層として配向膜とよく密着するゼラチン等の親水性の樹脂層(以下、下塗第2層と略す)を塗布する所謂重層法(例えば、特開平11−248940号公報記載)が挙げられる。
[透明支持体の表面処理]
本発明のフィルムは薄層フィルムであることから、透明支持体表面を直接親水化処理を施すことが好ましい。
表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ鹸化処理等が挙げられる。アルカリ鹸化処理がより好ましい。
本発明のフィルムは薄層フィルムであることから、透明支持体表面を直接親水化処理を施すことが好ましい。
表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、オゾン処理、酸処理、アルカリ鹸化処理等が挙げられる。アルカリ鹸化処理がより好ましい。
[アルカリ鹸化処理]
アルカリ鹸化処理は、アルカリ溶液を透明支持体に浸漬、噴射若しくは塗布することで行い、塗布で鹸化処理することが好ましい。
アルカリ鹸化処理は、アルカリ溶液を透明支持体に浸漬、噴射若しくは塗布することで行い、塗布で鹸化処理することが好ましい。
[アルカリ溶液]
本発明においてアルカリ鹸化処理に用いるアルカリ溶液はpH11以上であることが好ましい。より好ましくはpH12〜14である。
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤の例として、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム等の無機アルカリ剤、又、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて併用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。
これらのアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム或は水酸化カリウムが、これらの量を調整することにより広いpH領域でのpH調整が可能となるため好ましい。
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリ剤の種類、反応温度および反応時間に応じて決定されるが、アルカリ剤の含有量は、アルカリ溶液中の0.1〜5mol/Kgが好ましく、0.5〜3mol/Kgがより好ましい。
本発明においてアルカリ鹸化処理に用いるアルカリ溶液はpH11以上であることが好ましい。より好ましくはpH12〜14である。
アルカリ溶液に用いられるアルカリ剤の例として、水酸化ナトリウム、同カリウム、同リチウム等の無機アルカリ剤、又、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、DBU(1,8−ジアザビシクロ[5,4,0]−7−ウンデセン)、DBN(1,5−ジアザビシクロ[4,3,0]−5−ノネン)、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド、テトラブチルアンモニウムヒドロキシド、トリエチルブチルアンモニウムヒドロキシドなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以上を組み合わせて併用することもでき、一部を例えばハロゲン化したような塩の形で添加してもよい。
これらのアルカリ剤の中でも、水酸化ナトリウム或は水酸化カリウムが、これらの量を調整することにより広いpH領域でのpH調整が可能となるため好ましい。
アルカリ溶液の濃度は、使用するアルカリ剤の種類、反応温度および反応時間に応じて決定されるが、アルカリ剤の含有量は、アルカリ溶液中の0.1〜5mol/Kgが好ましく、0.5〜3mol/Kgがより好ましい。
本発明のアルカリ溶液の溶媒は、水及び水溶性有機溶媒の混合溶液を含有することからなることが好ましい。有機溶媒としては、水と混和可能な有機溶媒であればいずれも用いることができ、好ましくは沸点120℃以下、特に100℃以下のものが好ましい。
その中でも好ましい有機溶媒は、無機性/有機性値(I/O値)が0.5以上、且つ溶解度パラメーターが16〜40[mJ/m3]1/2の範囲のものが好ましい。より好ましくは、I/O値が0.6〜10、且つ溶解度パラメーターが18〜31[mJ/m3]1/2である。I/O値がこの範囲よりも無機性が強いか、又は溶解度パラメーターが低いと、アルカリ鹸化速度が低下し、また鹸化度の全面均一性も不満足となる。一方、I/O値が上記範囲よりも有機性の側であるか、又は溶解度パラメーターが高溶解性の側では、鹸化速度は速いが、ヘイズを生じ易く、したがって全面均一性の点では同様に不満足となる。
その中でも好ましい有機溶媒は、無機性/有機性値(I/O値)が0.5以上、且つ溶解度パラメーターが16〜40[mJ/m3]1/2の範囲のものが好ましい。より好ましくは、I/O値が0.6〜10、且つ溶解度パラメーターが18〜31[mJ/m3]1/2である。I/O値がこの範囲よりも無機性が強いか、又は溶解度パラメーターが低いと、アルカリ鹸化速度が低下し、また鹸化度の全面均一性も不満足となる。一方、I/O値が上記範囲よりも有機性の側であるか、又は溶解度パラメーターが高溶解性の側では、鹸化速度は速いが、ヘイズを生じ易く、したがって全面均一性の点では同様に不満足となる。
また、有機溶媒、とりわけ有機性と溶解性の各範囲の有機溶媒を後述する界面活性剤、相溶化剤等と組み合わせて用いると高い鹸化速度が維持されて、かつ全面に亘る鹸化度の均一性が向上する。
好ましい特性値を有する有機溶媒は、例えば、有機合成化学協会編、「新版溶剤ポケットブック」((株)オーム社、1994年刊)等に記載のものが挙げられている。また、有機溶媒の無機性/有機性値(I/O値)については、例えば、甲田善生著「有機概念図」(三共出版社1983年刊)p.1−31に解説されている。
好ましい特性値を有する有機溶媒は、例えば、有機合成化学協会編、「新版溶剤ポケットブック」((株)オーム社、1994年刊)等に記載のものが挙げられている。また、有機溶媒の無機性/有機性値(I/O値)については、例えば、甲田善生著「有機概念図」(三共出版社1983年刊)p.1−31に解説されている。
具体的には、一価脂肪族アルコール類(例、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール等)、脂環式アルカノール(例、シクロヘキサノール、メチルシクロヘキサノール、メトキシシクロヘキサノール、シクロヘキシルメタノール、シクロヘキシルエタノール、シクロヘキシルプロパノール等)、フェニルアルカノール(例、べンジルアルコール、フェニルエタノール、フェニルプロパノール、フェノキシエタノール、メトキシベンジルアルコール、ベンジルオキシエタノール等)、複素環式アルカノール類(フルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコール等)、グリコール化合物のモノエーテル類(メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、プロピルセルソルブ、ブチルセルソルブ、ヘキシルセルソルブ、メチルカルビトール、エチルカルビトール、プロピルカルビトール、ブチルカルビトール、メトキシトリグリコール、エトキシトリグリコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル等)、ケトン類(例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等)、アミド類(例、N,N−ジメチルホルムアミド、ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3ジメチルイミダゾリジノン等)、スルホキシド類(例、ジメチルスルホキシド)およびエーテル類(例、テトラヒドロフラン、ピラン、ジオキサン、トリオキサン、ジメチルセルソルブ、ジエチルセルソルブ、ジプロピルセルソルブ、メチルエチルセルソルブ、ジメチルカルビトール、ジメチルカルビトール、メチルエチルカルビトール等)等が挙げられる。用いる有機溶媒は、単独若しくは2種以上を混合して用いてもよい。
有機溶媒を単独或いは2種以上を混合する場合の少なくとも一種の有機溶媒は、水への溶解性が大きなものが好ましい。有機溶媒の水の溶解度は、50質量%以上が好ましく、水と自由に混合するものがより好ましい。これによりアルカリ剤、鹸化処理で副生する脂肪酸の塩、空気中の二酸化炭素を吸収して生じた炭酸の塩等への溶解性が充分なアルカリ溶液を調製できる。
有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性(溶解性)、反応温度および反応時間に応じて決定する。
水と有機溶媒の混合比は、3/97〜85/15質量比が好ましい。より好ましくは5/95〜60/40質量比であり、更に好ましくは15/85〜40/60質量比である。この範囲において、アシレートフィルムの光学特性を損なうことなく容易にフィルム全面が均一に鹸化処理される。
有機溶媒の溶媒中の使用割合は、溶媒の種類、水との混和性(溶解性)、反応温度および反応時間に応じて決定する。
水と有機溶媒の混合比は、3/97〜85/15質量比が好ましい。より好ましくは5/95〜60/40質量比であり、更に好ましくは15/85〜40/60質量比である。この範囲において、アシレートフィルムの光学特性を損なうことなく容易にフィルム全面が均一に鹸化処理される。
本発明に用いるアルカリ溶液が含有する有機溶媒として、上記した好ましいI/O値を有する有機溶媒とは異なる有機溶媒(例えばフッ化アルコール等)を、後述の界面活性剤、相溶化剤の溶解助剤として併用してもよい。その含有量は使用液の総重量に対して0.1〜5%が好ましい。
本発明に用いるアルカリ溶液は、界面活性剤を含有することが好ましい。界面活性剤を添加することによって表面張力を下げて塗布を容易にしたり、塗膜の均一性を上げてハジキ故障を防止し、かつ有機溶媒が存在すると起こり易いヘイズを抑止し、さらに鹸化反応が均一に進行する。その効果は、後述する相溶化剤の共存によって特に顕著となる。用いられる界面活性剤には特に制限はなく、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ノニオン性界面活性剤、フッ素系界面活性剤等のいずれであってもよい。
具体的には、例えば、吉田時行著「界面活性剤ハンドブック(新版)」(工学図書、1987年刊行)、「界面活性剤の機能創製・素材開発・応用技術」第1編(技術教育出版、2000年刊行)等記載の公知の化合物が挙げられる。
これらの界面活性剤の中でも、カチオン性界面活性剤としての4級アンモニウム塩類、ノニオン性界面活性剤としての各種のポリアルキレンレングリコール誘導体類、各種のポリエチレンオキサイド付加物類等のポリエチレンオキサイド誘導体類、両性界面活性剤としてのベタイン型化合物類が好ましい。
アルカリ溶液には、ノニオン活性剤とアニオン活性剤又はノニオン活性剤とカチオン活性剤を共存させて用いることも本発明の効果が高められて好ましい。
これらの界面活性剤の中でも、カチオン性界面活性剤としての4級アンモニウム塩類、ノニオン性界面活性剤としての各種のポリアルキレンレングリコール誘導体類、各種のポリエチレンオキサイド付加物類等のポリエチレンオキサイド誘導体類、両性界面活性剤としてのベタイン型化合物類が好ましい。
アルカリ溶液には、ノニオン活性剤とアニオン活性剤又はノニオン活性剤とカチオン活性剤を共存させて用いることも本発明の効果が高められて好ましい。
これらの界面活性剤のアルカリ溶液に対する添加量は、好ましくは、0.001〜10質量%であり、より好ましくは、0.01〜5質量%である。
本発明に用いられるアルカリ溶液は、相溶化剤を含有させることも好ましい。本発明において、「相溶化剤」とは、温度25℃において、相溶化剤100gに対して水の溶解度が50g以上となる親水性化合物をいう。相溶化剤の水の溶解度は、相溶化剤100gに対して、80g以上であるのが好ましく、100g以上であるのがより好ましい。また、相溶化剤が液状化合物である場合は、沸点が100℃以上であるのが好ましく、120℃以上であるのがより好ましい。
相溶化剤は、アルカリ溶液を貯留する浴等の壁面に付着したアルカリ溶液の乾燥を防止し、固着を抑制し、アルカリ溶液を安定に保持させる作用を有する。また、透明支持体の表面にアルカリ溶液を塗布して一定時間保持した後、鹸化処理を停止するまでの間に、塗布されたアルカリ溶液の薄膜が乾燥し、固形物の析出を生じ、水洗工程での固形物の洗い出しを困難にすることを防止する作用を有する。さらには、溶媒となる水と有機溶剤との相分離を防止する。特に、界面活性剤と有機溶剤と上述した相溶化剤との共存によって、処理された透明支持体は、ヘイズが少なく、かつ、長尺の連続鹸化処理の場合であっても安定して全面均一な鹸化度となる。
相溶化剤は、上記の条件を満たす材料であれば、特に限定されず、例えば、ポリオール化合物、糖類等のヒドロキシル基および/またはアミド基を有する繰り返し単位を含む水溶性重合体が好ましく挙げられる。
ポリオール化合物は、低分子化合物、オリゴマー化合物および高分子化合物のいずれも用いることができる。ポリオール化合物の具体例を以下に挙げる。
脂肪族ポリオール類としては、例えば、炭素数2〜8のアルカンジオール(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリンモノメチルエーテル、グリセリンモノエチルエーテル、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等)、ヒドロキシル基を3個以上含有する炭素数3〜18のアルカン類(例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、イノシットール等)が挙げられる。
ポリオール化合物は、低分子化合物、オリゴマー化合物および高分子化合物のいずれも用いることができる。ポリオール化合物の具体例を以下に挙げる。
脂肪族ポリオール類としては、例えば、炭素数2〜8のアルカンジオール(例えば、エチレングリコール、プロピレングリコール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール、グリセリンモノメチルエーテル、グリセリンモノエチルエーテル、シクロヘキサンジオール、シクロヘキサンジメタノール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール等)、ヒドロキシル基を3個以上含有する炭素数3〜18のアルカン類(例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、トリメチロールブタン、ヘキサントリオール、ペンタエリスリトール、ジグリセリン、ジペンタエリスリトール、イノシットール等)が挙げられる。
ポリアルキレンオキシポリオール類としては、上記のような同じアルキレンジオール同士が結合していてもよく、異なるアルキレンジオールが互いに結合していてもよいが、同じアルキレンジオール同士が結合したポリアルキレンポリオールがより好ましい。いずれの場合もの結合数は3〜100であるのが好ましく、3〜50であるのがより好ましい。具体的には、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリ(オキシエチレン−オキシプロピレン)が挙げられる。
糖類としては、例えば、高分子学会高分子実験学編集委員会編「天然高分子」第二章(共立出版(株)、1984年刊)、小田良平等編「近代工業化学22、天然物工業化学II」((株)朝倉書店、1967年刊)等に記載されている水溶性化合物が挙げられる。中でも、遊離のアルデヒド基およびケトン基を持たない、還元性を示さない糖類が好ましい。
糖類は、一般に、グルコース、スクロース、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類されるが、いずれも本発明に好適に用いられる。
例えば、サッカロース、トレハロース、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット、還元水あめが挙げられる。これらの糖類は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
糖類は、一般に、グルコース、スクロース、還元基同士の結合したトレハロース型少糖類、糖類の還元基と非糖類が結合した配糖体および糖類に水素添加して還元した糖アルコールに分類されるが、いずれも本発明に好適に用いられる。
例えば、サッカロース、トレハロース、アルキル配糖体、フェノール配糖体、カラシ油配糖体、D,L−アラビット、リビット、キシリット、D,L−ソルビット、D,L−マンニット、D,L−イジット、D,L−タリット、ズリシット、アロズルシット、還元水あめが挙げられる。これらの糖類は、単独でまたは2種以上を組み合わせて用いることができる。
ヒドロキシル基および/またはアミド基を有する繰り返し単位を有する水溶性重合体としては、例えば、天然ガム類(例えば、アラビアガム、グアーガム、トラガンドガム等)、ポリビニルピロリドン、ジヒドキシプロピルアクリレート重合体、セルロース類またはキトサン類とエポキシ化合物(エチレンオキサイドまたはプロピレンオキサイド)との付加反応体が挙げられる。
中でも、アルキレンポリオール、ポリアルキレンオキシポリオール、糖アルコール等のポリオール化合物が好ましい。
相溶化剤の含有量は、アルカリ溶液に対して、0.5〜25質量%であるのが好ましく、1〜20質量%であるのがより好ましい。
中でも、アルキレンポリオール、ポリアルキレンオキシポリオール、糖アルコール等のポリオール化合物が好ましい。
相溶化剤の含有量は、アルカリ溶液に対して、0.5〜25質量%であるのが好ましく、1〜20質量%であるのがより好ましい。
本発明に用いられるアルカリ溶液は、その他の添加剤を含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、消泡剤、アルカリ溶液安定化剤、pH緩衝剤、防腐剤、防菌剤等の公知のものが挙げられる。
[アルカリ鹸化方法]
上記のアルカリ溶液を用いたセルロースアシレートフィルムの表面処理方法は従来公知のいずれの方法でもよく、アルカリ溶液に浸漬すること、またはアルカリ溶液を塗布することが好ましく、特に、フィルムの片面のみをムラ無く均一に鹸化処理する場合は、塗布方式が好ましい。塗布の方法としては、従来公知の塗布方法[例えば、ダイコーター(エクストルージョンコーター、スライドコーター、スリットコーター)、ロールコーター(順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター)、ロッドコーター、ブレードコーター等]が好ましく利用できる。
上記のアルカリ溶液を用いたセルロースアシレートフィルムの表面処理方法は従来公知のいずれの方法でもよく、アルカリ溶液に浸漬すること、またはアルカリ溶液を塗布することが好ましく、特に、フィルムの片面のみをムラ無く均一に鹸化処理する場合は、塗布方式が好ましい。塗布の方法としては、従来公知の塗布方法[例えば、ダイコーター(エクストルージョンコーター、スライドコーター、スリットコーター)、ロールコーター(順転ロールコーター、逆転ロールコーター、グラビアコーター)、ロッドコーター、ブレードコーター等]が好ましく利用できる。
鹸化処理は、処理するフィルムの変形、処理液の変質等が生じない温度120℃を越えない範囲の処理温度で行うことが好ましい。更に温度10℃以上であり100℃以下の範囲が好ましい。特に、温度20〜80度が好ましい。
又、鹸化処理の時間は、アルカリ溶液、処理温度により適宜調整して決定するが、1秒から60秒の範囲で行われるのが好ましい。
更に、セルロースアシレートフィルムをその表面が少なくとも10℃以上の温度でアルカリ溶液で鹸化処理する工程、セルロースアシレートフィルムの温度を少なくとも10℃以上に維持する工程、そして、アルカリ溶液をセルロースアシレートフィルムから洗い落とす工程によりアルカリ鹸化処理を実施することが好ましい。
又、鹸化処理の時間は、アルカリ溶液、処理温度により適宜調整して決定するが、1秒から60秒の範囲で行われるのが好ましい。
更に、セルロースアシレートフィルムをその表面が少なくとも10℃以上の温度でアルカリ溶液で鹸化処理する工程、セルロースアシレートフィルムの温度を少なくとも10℃以上に維持する工程、そして、アルカリ溶液をセルロースアシレートフィルムから洗い落とす工程によりアルカリ鹸化処理を実施することが好ましい。
セルロースアシレートフィルムの表面を所定の温度でアルカリ溶液で鹸化処理には、塗布する前に予め所定の温度に調整する工程、アルカリ液を予め所定の温度に調整しておく工程、或いはこれらを組み合わせた工程等が挙げられる。塗布する前に予め所定の温度に調整する工程と組み合わせることが好ましい。
鹸化処理の反応工程は、アルカリ溶液の炭酸ガスによる劣化の抑制及び液の長寿命化等から、処理工程を半密閉若しくは密閉構造にする、不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガス等)の導入等を行うことが好ましい。
鹸化反応後は、水洗、中和し水洗等でフィルム表面からアルカリ溶液及び鹸化処理反応物とを洗浄し除去することが好ましい。
鹸化処理の反応工程は、アルカリ溶液の炭酸ガスによる劣化の抑制及び液の長寿命化等から、処理工程を半密閉若しくは密閉構造にする、不活性ガス(窒素ガス、アルゴンガス等)の導入等を行うことが好ましい。
鹸化反応後は、水洗、中和し水洗等でフィルム表面からアルカリ溶液及び鹸化処理反応物とを洗浄し除去することが好ましい。
表面処理後の透明支持体の水との接触角は20〜55度が好ましい。より好ましくは25〜45度である。又、表面エネルギーは、55mN/m以上であることが好ましく、55〜75mN/mであることがさらに好ましい。
透明支持体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社、1989.12.10発行)に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である2種の溶液を透明支持体に滴下し、液滴の表面と支持体表面との交点において、液滴に引いた接線と支持体表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算により支持体の表面エネルギーを算出する。
透明支持体の表面エネルギーは、「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社、1989.12.10発行)に記載のように接触角法、湿潤熱法、および吸着法により求めることができる。接触角法を用いることが好ましい。
具体的には、表面エネルギーが既知である2種の溶液を透明支持体に滴下し、液滴の表面と支持体表面との交点において、液滴に引いた接線と支持体表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算により支持体の表面エネルギーを算出する。
<配向膜>
本発明の配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)塗布液を塗布して形成される配向膜が好ましい。配向膜の膜自身の強度、下層或は上層となる光学異方性層との密着性の観点から硬化されたポリマー膜であることが好ましい。配向膜は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するために設けられる。配向規定の方法としては、従来公知のラビング、磁場或は電場の付与、光照射等が挙げられる。
本発明の配向膜は、有機化合物(好ましくはポリマー)塗布液を塗布して形成される配向膜が好ましい。配向膜の膜自身の強度、下層或は上層となる光学異方性層との密着性の観点から硬化されたポリマー膜であることが好ましい。配向膜は、その上に設けられる液晶性化合物の配向方向を規定するために設けられる。配向規定の方法としては、従来公知のラビング、磁場或は電場の付与、光照射等が挙げられる。
本発明に供される配向膜は、液晶セルの表示モードの種類に応じることが出来る。
液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直に配向している表示モード(例、VA、OCB、HAN)では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に水平に配向させる機能を有する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に水平に配向している表示モード(例、STN)では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に垂直に配向させる機能を有する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に斜めに配向している表示モード(例、TN)では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に斜めに配向させる機能を有する。
液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に垂直に配向している表示モード(例、VA、OCB、HAN)では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に水平に配向させる機能を有する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に水平に配向している表示モード(例、STN)では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に垂直に配向させる機能を有する。液晶セル内の棒状液晶性分子の多くが実質的に斜めに配向している表示モード(例、TN)では、光学的異方性層の液晶性分子を実質的に斜めに配向させる機能を有する。
本発明の配向膜に使用される具体的なポリマーの種類については、前述した様々な表示モードに対応するディスコティック液晶性分子を用いた光学補償シートについての文献に記載がある。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例として、例えば特開平8−338913号公報段落番号[0022]記載の化合物が挙げられる。好ましくは水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が挙げられ、この中でもゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
ポリビニルアルコールの鹸化度は、70乃至100モル%が好ましく、80乃至100モル%がさらに好ましく、85乃至95モル%が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、100乃至3000であることが好ましい。
配向膜に使用されるポリマーは、それ自体架橋可能なポリマーあるいは架橋剤により架橋されるポリマーのいずれも使用することができ、これらの組み合わせを複数使用することができる。ポリマーの例として、例えば特開平8−338913号公報段落番号[0022]記載の化合物が挙げられる。好ましくは水溶性ポリマー(例えば、ポリ(N−メチロールアクリルアミド)、カルボキシメチルセルロース、ゼラチン、ポリビニルアルコール、変性ポリビニルアルコール)が挙げられ、この中でもゼラチン、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールがさらに好ましく、ポリビニルアルコールおよび変性ポリビニルアルコールが最も好ましい。
ポリビニルアルコールの鹸化度は、70乃至100モル%が好ましく、80乃至100モル%がさらに好ましく、85乃至95モル%が最も好ましい。ポリビニルアルコールの重合度は、100乃至3000であることが好ましい。
変性ポリビニルアルコールの変性基は、共重合変性、連鎖移動変性またはブロック重合変性により導入できる。変性基の例には、親水性基(カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基、アミノ基、アンモニウム基、アミド基、チオール基等)、炭素数10〜100個の炭化水素基、フッ素原子置換の炭化水素基、チオエーテル基、重合性基(不飽和重合性基、エポキシ基、アジリニジル基等)、アルコキシシリル基(トリアルコキシ、ジアルコキシ、モノアルコキシ)等が挙げられる。これらの変性ポリビニルアルコール化合物の具体例として、例えば、特開2000−56310号公報段落番号[0074]、同2000−155216号公報段落番号[0022]〜[0145]、同2002−62426号公報段落番号[0018]〜[0022]に記載のもの等が挙げられる。
前記配向膜に使用するポリマー(好ましくは水溶性ポリマー、さらに好ましくはポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール)の架橋剤の例には、アルデヒド、N−メチロール化合物、ジオキサン誘導体、カルボキシル基を活性化することにより作用する化合物、活性ビニル化合物、活性ハロゲン化合物、イソオキサゾールおよびジアルデヒド澱粉が含まれる。二種類以上の架橋剤を併用してもよい。具体的には、例えば特開2002−62426号公報明細書中の段落番号[0023]〜[0024]記載の化合物等が挙げられる。反応活性の高いアルデヒド、特にグルタルアルデヒドが好ましい。
架橋剤の添加量は、ポリマーに対して0.1乃至20質量%が好ましく、0.5乃至15質量%がさらに好ましい。配向膜に残存する未反応の架橋剤の量は、1.0質量%以下であることが好ましく、0.5質量%以下であることがさらに好ましい。配向膜中に1.0質量%を超える量で架橋剤が残存していると、充分な耐久性が得られない。そのような配向膜を液晶表示装置に使用すると、長期使用、あるいは高温高湿の雰囲気下に長期間放置した場合にレチキュレーションが発生することがある。
配向膜は、基本的に、配向膜形成用組成物である前記ポリマー、架橋剤及び特定のカルボン酸を含む塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し(架橋させ)、配向処理することにより形成することができる硬化膜である。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成用組成物として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒(例、メタノール)と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水:メタノールが0:100〜99:1が好ましく、0:100〜91:9であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
配向膜は、基本的に、配向膜形成用組成物である前記ポリマー、架橋剤及び特定のカルボン酸を含む塗布液を透明支持体上に塗布した後、加熱乾燥し(架橋させ)、配向処理することにより形成することができる硬化膜である。架橋反応は、前記のように、透明支持体上に塗布した後、任意の時期に行なって良い。ポリビニルアルコールのような水溶性ポリマーを配向膜形成用組成物として用いる場合には、塗布液は消泡作用のある有機溶媒(例、メタノール)と水の混合溶媒とすることが好ましい。その比率は質量比で水:メタノールが0:100〜99:1が好ましく、0:100〜91:9であることがさらに好ましい。これにより、泡の発生が抑えられ、配向膜、更には光学異方性層の層表面の欠陥が著しく減少する。
配向膜の塗布方法は、スピンコーティング法、ディップコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法(エクストルージョンコーティング法、スライドコーティング法、スリットコーティング法等)、ロッドコーティング法またはロールコーティング法が好ましい。特にロッドコーティング法、ダイコーティング法が好ましい。また、乾燥後の膜厚は0.1乃至10μmが好ましい。加熱乾燥は、20℃〜110℃で行なうことができる。充分な架橋を形成するためには60℃〜100℃が好ましく、特に80℃〜100℃が好ましい。乾燥時間は1分〜36時間で行なうことができるが、好ましくは1分〜30分である。
更に、本発明の配向膜形成用組成物を含有する塗布液を支持体に塗布、乾燥し、配向手段で配向させたのちに光学異方性層用塗布液が塗布されるときに、該配向膜の表面がpH2.0〜6.9の範囲に保持されることがこの好ましい。更にはpH2.5〜5.0がより好ましい。
又、該光学異方性層用塗布液を塗布する際に、塗布の幅方向での配向膜表面のpHの変動幅△pHが±0.30の範囲で行われることが好ましい。より好ましくは、△pHが±0.15の範囲である。
配向膜表面のpH値の測定方法は、配向膜を塗設した試料を(温度25℃/湿度65%RH)の環境下に1日静置した後、窒素雰囲気下で純水を10ml乗せて速やかにpHメーターでpH値を読み取る。
本発明の配向膜表面のpH値を特定とし、且つ塗布幅方向での△pHを制御するには、上記のロッドコーティング方式による塗布により達成される。更には、膜表面の乾燥温度、乾燥風を用いる場合のその風量、風向等を調節することも有効である。
又、該光学異方性層用塗布液を塗布する際に、塗布の幅方向での配向膜表面のpHの変動幅△pHが±0.30の範囲で行われることが好ましい。より好ましくは、△pHが±0.15の範囲である。
配向膜表面のpH値の測定方法は、配向膜を塗設した試料を(温度25℃/湿度65%RH)の環境下に1日静置した後、窒素雰囲気下で純水を10ml乗せて速やかにpHメーターでpH値を読み取る。
本発明の配向膜表面のpH値を特定とし、且つ塗布幅方向での△pHを制御するには、上記のロッドコーティング方式による塗布により達成される。更には、膜表面の乾燥温度、乾燥風を用いる場合のその風量、風向等を調節することも有効である。
[ラビング処理]
ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。
本発明においてラビングは、上記の布を貼りつけたロールを、配向膜を設けたポリマーフィルムの搬送方向と任意の角度で配置し、布の植毛した毛先が配向膜に接触する状態で、ポリマーフィルムを1〜100m/分の速度で送りながら、ロールを100〜100000回/分の速度で回転させる事で行われる。
ロールとフィルムの搬送方向(長手方向)とのなす角度は任意に調整して行うことが出来る。45°〜90°の範囲が好ましく、更にその調整された角度は±5°に制御される事が好ましい。
ラビング処理は、配向膜の表面を、紙や布で一定方向に、数回こすることにより実施する。長さおよび太さが均一な繊維を均一に植毛した布を用いることが好ましい。
本発明においてラビングは、上記の布を貼りつけたロールを、配向膜を設けたポリマーフィルムの搬送方向と任意の角度で配置し、布の植毛した毛先が配向膜に接触する状態で、ポリマーフィルムを1〜100m/分の速度で送りながら、ロールを100〜100000回/分の速度で回転させる事で行われる。
ロールとフィルムの搬送方向(長手方向)とのなす角度は任意に調整して行うことが出来る。45°〜90°の範囲が好ましく、更にその調整された角度は±5°に制御される事が好ましい。
本発明の配向膜のラビング工程において、均一で安定した配向状態にラビングするには温度と湿度を一定に制御して行うことが好ましい。具体的には、温度20〜28度、湿度35から60%RH未満が好ましい。特に湿度を35〜50%RHで行うことが好ましい態様として挙げられる。
配向膜の表面をラビング布でラビングする場合、ラビング布と配向膜との摩擦によって静電気が発生し、発生した静電気が配向膜の表面に帯電するため、空気中の浮遊塵埃を配向膜の表面に吸着する原因となる。配向膜の表面に塵埃が付着すると、配向膜による液晶の配向状態が不均一になったり、光学的な点状欠陥等の視認性の悪化を生じる。
配向膜の表面をラビング布でラビングする場合、ラビング布と配向膜との摩擦によって静電気が発生し、発生した静電気が配向膜の表面に帯電するため、空気中の浮遊塵埃を配向膜の表面に吸着する原因となる。配向膜の表面に塵埃が付着すると、配向膜による液晶の配向状態が不均一になったり、光学的な点状欠陥等の視認性の悪化を生じる。
上記静電気に対する対策として、配向膜に帯電する静電気に対して逆極性のイオンを発生するイオンバー、軟X線の照射等の除電装置により静電気を除去とラビングで生じた微粉や付着する塵埃等を超音波除塵装置により除去とを、配向膜フィルムに対してラビング処理の前後で行うことが好ましい(例えば、特開平7−333613号公報、特開平11−305233号公報等記載)。
更には、長尺ロールを連続して処理する場合において、ラビング布の帯電電位が|1|KVを越えないように表面電位を検知して、この帯電量を超えないようにラビング布を除電することが好ましい。好ましくは、ラビング布の帯電電位が|0.5|KV以下、更には、0〜|0.2|KVで行うことが好ましい。尚、電荷の正負は配向膜とラビング材料との組み合わせにより決まる。
更には、長尺ロールを連続して処理する場合において、ラビング布の帯電電位が|1|KVを越えないように表面電位を検知して、この帯電量を超えないようにラビング布を除電することが好ましい。好ましくは、ラビング布の帯電電位が|0.5|KV以下、更には、0〜|0.2|KVで行うことが好ましい。尚、電荷の正負は配向膜とラビング材料との組み合わせにより決まる。
又、湿式方法として、特開2001−38306号公報記載されている、ラビングを行ったウェブが走行している状態で、液体、好ましくは配向膜を膨潤させないフロリナート、ヘキサン、トルエン等の溶剤で濡らした弾性体に擦った後、該弾性体で連続的に擦った面に液体、好ましくは前に使用した溶剤を噴射する湿式の除塵処理を行う方法(ラビング後の除塵方法)を適用する事も好ましい。
上記の方法により、配向の乱れ及び異物付着等による光学的な欠陥が軽減若しくは解消される。
上記の方法により、配向の乱れ及び異物付着等による光学的な欠陥が軽減若しくは解消される。
<光学異方性層>
光学異方性層を有する光学補償シートはベンド配向、ハイブリッド配向などを示すネマチック液晶からなる液晶セルの複屈折をキャンセルするために好ましく用いられ、構成、原理については、特許第3118197号明細書などに詳細が示されている。
光学異方性層を有する光学補償シートはベンド配向、ハイブリッド配向などを示すネマチック液晶からなる液晶セルの複屈折をキャンセルするために好ましく用いられ、構成、原理については、特許第3118197号明細書などに詳細が示されている。
光学異方性層を有する光学補償シートは、液晶セルに起因する複屈折をキャンセルするため、液晶セル内のネマチック液晶のラビング方向と、光学補償シートの、光学異方性層のレターデーションが最小値となる方向をシート面上へ正射影した方向とを平行にすることが好ましい。
光学異方性層に使用する液晶性化合物としては、棒状液晶性化合物や円盤状液晶性化合物(ディスコティック液晶性化合物とも称する)を用いることができる。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これら低分子液晶化合物は重合性基を分子内に有することが好ましい(例えば、特開2000−304932号公報段落番号[0016]等記載)。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。高分子液晶性化合物は、以上のような低分子液晶性化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性化合物を用いた光学補償シートについては、特開平5−53016号公報に記載がある。
棒状液晶性化合物としては、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類が好ましく用いられる。これら低分子液晶化合物は重合性基を分子内に有することが好ましい(例えば、特開2000−304932号公報段落番号[0016]等記載)。以上のような低分子液晶性化合物だけではなく、高分子液晶性化合物も用いることができる。高分子液晶性化合物は、以上のような低分子液晶性化合物に相当する側鎖を有するポリマーである。高分子液晶性化合物を用いた光学補償シートについては、特開平5−53016号公報に記載がある。
液晶性化合物としては、ディスコティック液晶性化合物が好ましい。さらに、ディスコティック液晶性化合物の円盤状構造単位の面が、セルロースアシレートフィルム表面に対して傾き、かつ円盤状構造単位の面とセルロースアシレートフィルム表面とのなす角度が、光学異方性層の深さ方向に変化していることが好ましい。このような光学異方性層は、セルロースアシレートフィルム上に配向膜を設け、その上に液晶性化合物からなる層を積層させ、ディスコティック液晶性化合物を例えば重合させるなどして、液晶性分子の配向を固定することで形成することができる。
ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献(C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol.71, page 111 (1981) ;日本化学会編、季刊化学総説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節(1994);B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985);J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994))に記載されている。ディスコティック液晶の重合については、特開平8−27284公報に記載がある。
ディスコティック液晶性化合物は、様々な文献(C. Destrade et al., Mol. Crysr. Liq. Cryst., vol.71, page 111 (1981) ;日本化学会編、季刊化学総説、No.22、液晶の化学、第5章、第10章第2節(1994);B. Kohne et al., Angew. Chem. Soc. Chem. Comm., page 1794 (1985);J. Zhang et al., J. Am. Chem. Soc., vol. 116, page 2655 (1994))に記載されている。ディスコティック液晶の重合については、特開平8−27284公報に記載がある。
ディスコティック液晶性化合物を重合により固定するためには、ディスコティック液晶性化合物の円盤状構造単位に、置換基として重合性基を結合させる必要がある。円盤状構造単位と重合性基は、連結基を介して結合するディスコティック液晶性化合物が好ましく、これにより重合反応においても配向状態を保つことができる。重合性基は、ラジカル重合性基またはカチオン重合性基から選ばれる重合性基であることが好ましく、エチレン性不飽和重合性基(アクリロイルオキシ基、メタクロイルオキシ基等)、エポキシ基であることが最も好ましい。
例えば、特開2000−155216号公報段落番号[0151]〜「0168」記載の化合物等が挙げられる。
例えば、特開2000−155216号公報段落番号[0151]〜「0168」記載の化合物等が挙げられる。
なお、STNモードのような棒状液晶性分子がねじれ配向している液晶セルを、光学的に補償するためには、ディスコティック液晶性分子もねじれ配向させることが好ましい。上記連結基に、不斉炭素原子を導入すると、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。また、不斉炭素原子を含む光学活性を示す化合物(カイラル剤)を光学的異方性層に添加しても、ディスコティック液晶性分子を螺旋状にねじれ配向させることができる。
二種類以上のディスコティック液晶性化合物を併用してもよい。例えば、以上述べたような重合性ディスコティック液晶性化合物と非重合性ディスコティック液晶性化合物とを併用することができる。
非重合性ディスコティック液晶性化合物は、重合性ディスコティック液晶性化合物の重合性基を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性化合物としては、例えば特許第2640083号明細書記載の化合物等が挙げられる。
非重合性ディスコティック液晶性化合物は、重合性ディスコティック液晶性化合物の重合性基を、水素原子またはアルキル基に変更した化合物であることが好ましい。すなわち、非重合性ディスコティック液晶性化合物としては、例えば特許第2640083号明細書記載の化合物等が挙げられる。
「光学異方性層の他の添加剤」
光学異方性層には、上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの添加剤は、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角(例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合、円盤状構造単位の面のフィルム表面からの傾斜角)の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
光学異方性層には、上記の液晶性化合物と共に、可塑剤、界面活性剤、重合性モノマー等を併用して、塗工膜の均一性、膜の強度、液晶性化合物の配向性等を向上させることができる。これらの添加剤は、液晶性化合物と相溶性を有し、液晶性分子の傾斜角(例えば、ディスコティック液晶性化合物の場合、円盤状構造単位の面のフィルム表面からの傾斜角)の変化を与えられるか、あるいは配向を阻害しないことが好ましい。
重合性モノマーとしては、ラジカル重合性若しくはカチオン重合性の化合物が挙げられる。好ましくは、多官能性ラジカル重合性モノマーであり、上記の重合性基含有の液晶性化合物と共重合性のものが好ましい。例えば、特開2002−296423号公報段落番号[0018]〜[0020]記載のものが挙げられる。上記化合物の添加量は、ディスコティック液晶性分子に対して一般に1〜50質量%の範囲にあり、5〜30質量%の範囲にあることが好ましい。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−330725号公報段落番号[0028]〜[0056]記載の化合物が挙げられる。
界面活性剤としては、従来公知の化合物が挙げられるが、特にフッ素系化合物が好ましい。具体的には、例えば特開2001−330725号公報段落番号[0028]〜[0056]記載の化合物が挙げられる。
ディスコティック液晶性化合物とともに使用するポリマーは、ディスコティック液晶性分子に傾斜角の変化を与えられることが好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開2000−155216号公報段落番号[0178]記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して0.1〜10質量%の範囲にあることが好ましく、0.1〜8質量%の範囲にあることがより好ましい。
ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、70〜300℃が好ましく、70〜170℃がさらに好ましい。
ポリマーの例としては、セルロースエステルを挙げることができる。セルロースエステルの好ましい例としては、特開2000−155216号公報段落番号[0178]記載のものが挙げられる。液晶性分子の配向を阻害しないように、上記ポリマーの添加量は、液晶性分子に対して0.1〜10質量%の範囲にあることが好ましく、0.1〜8質量%の範囲にあることがより好ましい。
ディスコティック液晶性化合物のディスコティックネマティック液晶相−固相転移温度は、70〜300℃が好ましく、70〜170℃がさらに好ましい。
光学的異方性層は、液晶性化合物、さらに下記の重合性開始剤や任意の添加剤(例、可塑剤、モノマー、界面活性剤、セルロースエステル、1,3,5−トリアジン化合物、カイラル剤)を含む塗布液を、配向膜の上に塗布することで形成する。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、トルエン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法(例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。
塗布液の調製に使用する溶媒としては、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒の例には、アミド(例、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチル−2−ピロリドン、1,3−ジメチルイミダゾリジノン)、スルホキシド(例、ジメチルスルホキシド)、ヘテロ環化合物(例、ピリジン)、炭化水素(例、トルエン、ヘキサン)、アルキルハライド(例、クロロホルム、ジクロロメタン)、エステル(例、酢酸メチル、酢酸ブチル)、ケトン(例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン)、エーテル(例、テトラヒドロフラン、1,2−ジメトキシエタン)が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。二種類以上の有機溶媒を併用してもよい。塗布液の塗布は、公知の方法(例、押し出しコーティング法、ダイレクトグラビアコーティング法、リバースグラビアコーティング法、ダイコーティング法)により実施できる。
[液晶性分子の配向状態の固定]
液晶性分子は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性分子の配向が固定されていることが最も好ましい。重合反応としては、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが挙げられる。光重合反応が好ましい。
液晶性分子は、実質的に均一に配向していることが好ましく、実質的に均一に配向している状態で固定されていることがさらに好ましく、重合反応により液晶性分子の配向が固定されていることが最も好ましい。重合反応としては、熱重合開始剤を用いる熱重合反応と光重合開始剤を用いる光重合反応とが挙げられる。光重合反応が好ましい。
光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物(米国特許第2367661号、同2367670号の各明細書記載)、アシロインエーテル(米国特許第2448828号明細書記載)、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物(米国特許第2722512号明細書記載)、多核キノン化合物(米国特許第3046127号、同2951758号の各明細書記載)、トリアリールイミダゾールダイマーとp−アミノフェニルケトンとの組み合わせ(米国特許第3549367号明細書記載)、アクリジンおよびフェナジン化合物(特開昭60−105667号公報、米国特許第4239850号明細書記載)およびオキサジアゾール化合物(米国特許第4212970号明細書記載)が含まれる。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。
光重合開始剤の使用量は、塗布液の固形分の0.01〜20質量%であることが好ましく、0.5〜5質量%であることがさらに好ましい。
ディスコティック液晶性分子の重合のための光照射は、紫外線を用いることが好ましい。
照射エネルギーは、20〜5000mJ/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光照射による光ラジカル重合の場合は空気又は不活性気体中で行うことができ、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のためにできるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。
照射エネルギーは、20〜5000mJ/cm2であることが好ましく、100〜800mJ/cm2であることがさらに好ましい。また、光重合反応を促進するため、加熱条件下で光照射を実施してもよい。光照射による光ラジカル重合の場合は空気又は不活性気体中で行うことができ、ラジカル重合性モノマーの重合の誘導期を短くするか、又は重合率を十分に高める等のためにできるだけ酸素濃度を少なくした雰囲気とすることが好ましい。
光学異方性層の厚さは、0.5〜100μmであることが好ましく、0.5〜30μmであることがさらに好ましい。0.5乃至5μmであることがさらに好ましい。但し、液晶セルのモードによっては、高い光学的異方性を得るために、光学的異方性層を厚く(3〜10μm)する場合がある。
光学的異方性層内での液晶性分子の配向状態は、前述したように、液晶セルの表示モードの種類に応じて決定される。液晶性分子の配向状態は、具体的には、液晶性分子の種類、配向膜の種類および光学異方性層内の添加剤(例、可塑剤、バインダー、界面活性剤)の使用によって制御される。
[光学補償シートの遅相軸角度]
本発明の光学補償シートは面内異方性を有し、その光学異方性はポリマーフィルム、またはレターデーション調整剤をあらかじめ添加したポリマーフィルムを延伸する、あるいはポリマーフィルム上に配向膜を塗布し、ラビング後液晶を配向させる等により発現させる事が出来る。
この場合面内で屈折率の最も大きい方向(遅相軸の方向)と長尺ロール形態のフィルムの長手方向(搬送方向)とのなす角度(遅相軸角度)は、延伸の角度、あるいはラビングの角度によって0°〜90°まで任意に制御する事ができる。
またこの遅相軸角度の面内でのばらつきは、遅相軸角度の平均値に対し3°以下であることが好ましく、2°以下であることがさらに好ましく、1°以下であることが最も好ましい。
延伸によりポリマーフィルムの遅相軸の方向をフィルムの搬送方法に対し所望の角度に傾斜させる方法については、特開昭60−157831号、特開平2−113920号、特開平3-124426号、特開平3−182701号、特開平4−164626号、特開2000−9912号公報に記載されている。
本発明の光学補償シートは面内異方性を有し、その光学異方性はポリマーフィルム、またはレターデーション調整剤をあらかじめ添加したポリマーフィルムを延伸する、あるいはポリマーフィルム上に配向膜を塗布し、ラビング後液晶を配向させる等により発現させる事が出来る。
この場合面内で屈折率の最も大きい方向(遅相軸の方向)と長尺ロール形態のフィルムの長手方向(搬送方向)とのなす角度(遅相軸角度)は、延伸の角度、あるいはラビングの角度によって0°〜90°まで任意に制御する事ができる。
またこの遅相軸角度の面内でのばらつきは、遅相軸角度の平均値に対し3°以下であることが好ましく、2°以下であることがさらに好ましく、1°以下であることが最も好ましい。
延伸によりポリマーフィルムの遅相軸の方向をフィルムの搬送方法に対し所望の角度に傾斜させる方法については、特開昭60−157831号、特開平2−113920号、特開平3-124426号、特開平3−182701号、特開平4−164626号、特開2000−9912号公報に記載されている。
[光学補償シートの表面処理]
本発明では、光学補償シートの偏光膜側の面を表面処理することにより、光学補償シートと偏光膜との接着を改善する。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、酸処理又はアルカリ鹸化処理を用いる。
コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、酸処理等の処理方法は、例えば、発明協会公開技法公技番号2001−1745号、p.30−31に記載の内容が挙げられる。本発明は、アルカリ鹸化処理することが好ましく、前記[透明支持体の表面処理]の[アルカリ鹸化処理]で記載したものと同様の内容のものが挙げられる。
本発明では、光学補償シートの偏光膜側の面を表面処理することにより、光学補償シートと偏光膜との接着を改善する。表面処理としては、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、酸処理又はアルカリ鹸化処理を用いる。
コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、酸処理等の処理方法は、例えば、発明協会公開技法公技番号2001−1745号、p.30−31に記載の内容が挙げられる。本発明は、アルカリ鹸化処理することが好ましく、前記[透明支持体の表面処理]の[アルカリ鹸化処理]で記載したものと同様の内容のものが挙げられる。
<偏光板>
[偏光板の透明保護膜]
偏光板の透明保護膜としては、ポリマーフィルムが用いられる。保護膜が透明であるとは、光透過率が80%以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはセルロースアシレートフィルムが用いられる。透明保護膜として用いるセルロースエステルフィルムは、前記のセルロースアシレートフィルムの製造方法についての説明で記載したソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、10〜200μmであることが好ましく、20〜100μmであることがさらに好ましい。特に好ましくは30〜80μmである。
[偏光板の透明保護膜]
偏光板の透明保護膜としては、ポリマーフィルムが用いられる。保護膜が透明であるとは、光透過率が80%以上であることを意味する。透明保護膜としては、一般にセルロースエステルフィルム、好ましくはセルロースアシレートフィルムが用いられる。透明保護膜として用いるセルロースエステルフィルムは、前記のセルロースアシレートフィルムの製造方法についての説明で記載したソルベントキャスト法により形成することが好ましい。透明保護膜の厚さは、10〜200μmであることが好ましく、20〜100μmであることがさらに好ましい。特に好ましくは30〜80μmである。
[偏光膜]
本発明の偏光板に用いられる偏光膜は、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜などを用いることができる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造される。
偏光膜としては、いかなる製法の偏光膜をも適用することができる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルムを連続的に供給し、その両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸する際に、フィルムの一方端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L1と、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L2が、左右の実質保持解除点の距離Wに対し、下記式(III)の関係にあると共に、左右の実質保持開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入されるフィルムの中心線と略直交するものとし、左右の実質保持解除点を結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィルムの中心線と略直交するようにして延伸したものであってもよい(米国特許出願公開第2002/8840号明細書参照。)
本発明の偏光板に用いられる偏光膜は、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を用いる染料系偏光膜やポリエン系偏光膜などを用いることができる。ヨウ素系偏光膜および染料系偏光膜は、一般にポリビニルアルコール系フィルムを用いて製造される。
偏光膜としては、いかなる製法の偏光膜をも適用することができる。例えば、ポリビニルアルコール系フィルムを連続的に供給し、その両端を保持手段により保持しつつ張力を付与して延伸する際に、フィルムの一方端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L1と、もう一端の実質保持開始点から実質保持解除点までの保持手段の軌跡L2が、左右の実質保持解除点の距離Wに対し、下記式(III)の関係にあると共に、左右の実質保持開始点を結ぶ直線は、保持工程に導入されるフィルムの中心線と略直交するものとし、左右の実質保持解除点を結ぶ直線は、次工程に送り出されるフィルムの中心線と略直交するようにして延伸したものであってもよい(米国特許出願公開第2002/8840号明細書参照。)
(III) |L2−L1|>0.4W
[偏光板]
偏光膜は機械的強度が弱く、また吸湿性を有するなどの特性を持つため保護能を有するフィルム(保護膜)を両側に配置することにより保護して偏光板を得ることができる。偏光膜の保護膜としては、通常は光学的に透明で複屈折の小さいフィルムが好ましく、前述のとおりセルローストリアセテートなどが用いられるが、偏光板に光学補償機能を持たせたい場合などは本発明のセルロースアシレート光学補償シートを、保護膜を兼ねるフィルムとして用いることができる。
偏光膜は機械的強度が弱く、また吸湿性を有するなどの特性を持つため保護能を有するフィルム(保護膜)を両側に配置することにより保護して偏光板を得ることができる。偏光膜の保護膜としては、通常は光学的に透明で複屈折の小さいフィルムが好ましく、前述のとおりセルローストリアセテートなどが用いられるが、偏光板に光学補償機能を持たせたい場合などは本発明のセルロースアシレート光学補償シートを、保護膜を兼ねるフィルムとして用いることができる。
本発明では、偏光膜の保護膜として本発明のセルロースアシレート光学補償シートを用い偏光板を得ることが好ましい。保護膜の遅相軸と偏光膜の透過軸のなす角度は3°以下になるように配置することが好ましく、2°以下になるように配置することがさらに好ましく、1°以下になるように配置することが最も好ましい。
保護膜としては、他にもハードコート層付基材フィルムや機能性薄膜付フィルムなどを併用することもできる。例えば、その最表面が防汚性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を設けてなることも好ましい。反射防止膜は、従来公知のいずれのものも用いることが出来る。
保護膜としては、他にもハードコート層付基材フィルムや機能性薄膜付フィルムなどを併用することもできる。例えば、その最表面が防汚性及び耐擦傷性を有する反射防止膜を設けてなることも好ましい。反射防止膜は、従来公知のいずれのものも用いることが出来る。
特に上記の偏光板保護膜の空気側面の上に反射防止膜を設けてなることが好ましい。空気側面とは、偏光膜の保護膜として本発明のセルロースアシレート光学補償シートを用いた面とは変更膜をはさんで反対側の面であり、視認側の面をいう。これにより、液晶表示装置の描画画像は外光の写り込みやギラツキ感の無い鮮明な画像が得られ、好ましい。
(反射防止膜)
反射防止膜は、防汚性層でもある低屈折率層を透明支持体上に設けて成ることが好ましい。さらに好ましくは、低屈折率層及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(即ち、高屈折率層、中屈折率層等)とを透明支持体上に設けて成ることである。
反射防止膜の形成方法として、屈折率の異なる無機化合物(金属酸化物等)の透明薄膜を積層させた多層膜を、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理(紫外線照射:特開平9−157855号公報、プラズマ処理:特開2002−327310号公報)して薄膜を形成する方法が挙げられる。
また、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が挙げられる。
さらには、上述したような塗布による反射防止膜に最上層表面が微細な凹凸の形状を有することにより防眩性を付与した反射防止膜も挙げられる。
反射防止膜は、防汚性層でもある低屈折率層を透明支持体上に設けて成ることが好ましい。さらに好ましくは、低屈折率層及び低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(即ち、高屈折率層、中屈折率層等)とを透明支持体上に設けて成ることである。
反射防止膜の形成方法として、屈折率の異なる無機化合物(金属酸化物等)の透明薄膜を積層させた多層膜を、化学蒸着(CVD)法や物理蒸着(PVD)法、金属アルコキシド等の金属化合物のゾルゲル方法でコロイド状金属酸化物粒子皮膜を形成後に後処理(紫外線照射:特開平9−157855号公報、プラズマ処理:特開2002−327310号公報)して薄膜を形成する方法が挙げられる。
また、生産性が高い反射防止膜として、無機粒子をマトリックスに分散されてなる薄膜を積層塗布してなる反射防止膜が挙げられる。
さらには、上述したような塗布による反射防止膜に最上層表面が微細な凹凸の形状を有することにより防眩性を付与した反射防止膜も挙げられる。
(塗布型反射防止膜の層構成)
反射防止膜は、前述のとおり、支持体上に低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(高屈折率層)および低屈折率層(最外層)の順序の層構成から成ることが好ましい。低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層を二層とする場合には、支持体上に中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層(最外層)の順序の層構成から成ることが好ましい。このような構成の反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
又、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、反射防止膜は、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載のものが挙げられる。
又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、5%以下あることが好ましく、3%以下がさらに好ましい。又膜の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
反射防止膜は、前述のとおり、支持体上に低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層(高屈折率層)および低屈折率層(最外層)の順序の層構成から成ることが好ましい。低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層を二層とする場合には、支持体上に中屈折率層、高屈折率層および低屈折率層(最外層)の順序の層構成から成ることが好ましい。このような構成の反射防止膜は、以下の関係を満足する屈折率を有する様に設計される。
高屈折率層の屈折率>中屈折率層の屈折率>透明支持体の屈折率>低屈折率層の屈折率
各屈折率層の屈折率は相対的なものである。
又、透明支持体と中屈折率層の間に、ハードコート層を設けてもよい。更には、反射防止膜は、中屈折率ハードコート層、高屈折率層及び低屈折率層からなってもよい。
例えば、特開平8−122504号公報、同8−110401号公報、同10−300902号公報、特開2002−243906号公報、特開2000−111706号公報等に記載のものが挙げられる。
又、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層としたもの(例、特開平10−206603号公報、特開2002−243906号公報等)等が挙げられる。
反射防止膜のヘイズは、5%以下あることが好ましく、3%以下がさらに好ましい。又膜の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験でH以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。
(反射防止膜に用いる透明支持体)
透明支持体の光透過率は、80%以上であることが好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、1.4乃至1.7であることが好ましい。
透明支持体としてプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例として、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等、)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトン等が挙げられる。特に偏光板に反射防止膜を設ける場合には、セルロースアシレートフィルムが好ましい。
透明支持体の光透過率は、80%以上であることが好ましく、86%以上であることがさらに好ましい。透明支持体のヘイズは、2.0%以下であることが好ましく、1.0%以下であることがさらに好ましい。透明支持体の屈折率は、1.4乃至1.7であることが好ましい。
透明支持体としてプラスチックフィルムを用いることが好ましい。プラスチックフィルムの材料の例として、セルロースエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリエステル(例、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等、)、ポリスチレン、ポリオレフィン、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアリレート、ポリエーテルイミド、ポリメチルメタクリレートおよびポリエーテルケトン等が挙げられる。特に偏光板に反射防止膜を設ける場合には、セルロースアシレートフィルムが好ましい。
(高屈折率層および中屈折率層)
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを含有する硬化性膜から成ることが好ましい。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
特に好ましくは、Co、Zr、ALから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子(以降、「特定の酸化物」と称することもある)が挙げられる。特に、好ましい元素はCoである。Tiに対する、Co、Al、Zrの総含有量は、Tiに対し0.05〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜10質量%、さらに好ましくは0.2〜7質量%、特に好ましくは0.3〜5質量%、最も好ましくは0.5〜3質量%である。Co、Al、Zrは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部や表面に存在する。Co、Al、Zrが二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在しても良い。
又、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率1.95以上となる金属元素から選ばれる少なくとも1種の金属元素(以下、「Met」とも略称する)との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はCoイオン、Zrイオン、及びAlイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも1種がドープされてなる無機微粒子(「特定の複酸化物」と称することもある)が挙げられる。ここで、該酸化物の屈折率が1.95以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ta、Zr、In、Nd、Sb,Sn、及びBiが好ましい。特には、Ta、Zr、Sn、Biが好ましい。複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属[Ti+Met]量に対して、25質量%を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは0.05〜10質量%、さらに好ましくは0.1〜5質量%、最も好ましくは0.3〜3質量%である。ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れで存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することが好ましい。表面と内部との両方に存在することがより好ましい。
反射防止膜の高い屈折率を有する層は、平均粒径100nm以下の高屈折率の無機化合物超微粒子及びマトリックスバインダーを含有する硬化性膜から成ることが好ましい。
高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率1.65以上の無機化合物が挙げられ、好ましくは屈折率1.9以上のものが挙げられる。例えば、Ti、Zn、Sb、Sn、Zr、Ce、Ta、La、In等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等が挙げられる。
特に好ましくは、Co、Zr、ALから選ばれる少なくとも1つの元素を含有する二酸化チタンを主成分とする無機微粒子(以降、「特定の酸化物」と称することもある)が挙げられる。特に、好ましい元素はCoである。Tiに対する、Co、Al、Zrの総含有量は、Tiに対し0.05〜30質量%であることが好ましく、より好ましくは0.1〜10質量%、さらに好ましくは0.2〜7質量%、特に好ましくは0.3〜5質量%、最も好ましくは0.5〜3質量%である。Co、Al、Zrは、二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部や表面に存在する。Co、Al、Zrが二酸化チタンを主成分とする無機微粒子の内部に存在することがより好ましく、内部と表面の両方に存在することが最も好ましい。これらの特定の金属元素は、酸化物として存在しても良い。
又、他の好ましい無機粒子として、チタン元素と酸化物が屈折率1.95以上となる金属元素から選ばれる少なくとも1種の金属元素(以下、「Met」とも略称する)との複合酸化物の粒子で、かつ該複合酸化物はCoイオン、Zrイオン、及びAlイオンから選ばれる金属イオンの少なくとも1種がドープされてなる無機微粒子(「特定の複酸化物」と称することもある)が挙げられる。ここで、該酸化物の屈折率が1.95以上となる金属酸化物の金属元素としては、Ta、Zr、In、Nd、Sb,Sn、及びBiが好ましい。特には、Ta、Zr、Sn、Biが好ましい。複合酸化物にドープされる金属イオンの含有量は、複合酸化物を構成する全金属[Ti+Met]量に対して、25質量%を越えない範囲で含有することが屈折率維持の観点から好ましい。より好ましくは0.05〜10質量%、さらに好ましくは0.1〜5質量%、最も好ましくは0.3〜3質量%である。ドープした金属イオンは、金属イオン、金属原子の何れで存在してもよく、複合酸化物の表面から内部まで適宜に存在することが好ましい。表面と内部との両方に存在することがより好ましい。
上記のような超微粒子とするには、粒子表面が表面処理剤で処理されること(例えば、シランカップリング剤等:特開平11−295503号公報、同11−153703号公報、特開2000−9908、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤:特開2001−310432号公報等)、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造とすること(特開2001−166104、米国特許2003/0202137A1号公報等)、特定の分散剤併用(例、特開平11−153703号公報、特許番号US6210858B1、特開2002−2776069号公報等)等が挙げられる。
マトリックスを形成する材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等が挙げられる。
更に、ラジカル重合性及び/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000−47004号公報、同2001−315242号公報、同2001−31871号公報、同2001−296401号公報等に記載の化合物が挙げられる。
又、金属アルコキシドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001−293818号公報等に記載されているものが挙げられる。
高屈折率層の屈折率は、1.70〜2.20であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.70であることが好ましい。中屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。
更に、ラジカル重合性及び/又はカチオン重合性の重合性基を少なくとも2個以上含有の多官能性化合物含有組成物、加水分解性基を含有の有機金属化合物及びその部分縮合体組成物から選ばれる少なくとも1種の組成物が好ましい。例えば、特開2000−47004号公報、同2001−315242号公報、同2001−31871号公報、同2001−296401号公報等に記載の化合物が挙げられる。
又、金属アルコキシドの加水分解縮合物から得られるコロイド状金属酸化物と金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜も好ましい。例えば、特開2001−293818号公報等に記載されているものが挙げられる。
高屈折率層の屈折率は、1.70〜2.20であることが好ましい。高屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、1.50〜1.70であることが好ましい。中屈折率層の厚さは、5nm〜10μmであることが好ましく、10nm〜1μmであることがさらに好ましい。
(低屈折率層)
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成ることが好ましい。低屈折率層の屈折率は1.20〜1.55であることが好ましい。より好ましくは1.30〜1.50である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
低屈折率層は、高屈折率層の上に順次積層して成ることが好ましい。低屈折率層の屈折率は1.20〜1.55であることが好ましい。より好ましくは1.30〜1.50である。
耐擦傷性、防汚性を有する最外層として構築することが好ましい。耐擦傷性を大きく向上させる手段として表面への滑り性付与が有効で、従来公知のシリコーンの導入、フッ素の導入等から成る薄膜層の手段を適用できる。
含フッ素化合物の屈折率は1.35〜1.50であることが好ましい。より好ましくは1.36〜1.47である。また、含フッ素化合物はフッ素原子を35〜80質量%の範囲で含む架橋性若しくは重合性の官能基を含む化合物が好ましい。
例えば、特開平9−222503号公報明細書段落番号[0018]〜[0026]、同11−38202号公報明細書段落番号[0019]〜[0030]、特開2001-40284号公報明細書段落番号[0027]〜[0028]、特開2000−284102号公報、特開2004−45462号公報明細書等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造をを有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン(例、サイラプレーン(チッソ(株)製等)、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン(特開平11−258403号公報等)等が挙げられる。
例えば、特開平9−222503号公報明細書段落番号[0018]〜[0026]、同11−38202号公報明細書段落番号[0019]〜[0030]、特開2001-40284号公報明細書段落番号[0027]〜[0028]、特開2000−284102号公報、特開2004−45462号公報明細書等に記載の化合物が挙げられる。
シリコーン化合物としてはポリシロキサン構造を有する化合物であり、高分子鎖中に硬化性官能基あるいは重合性官能基を含有して、膜中で橋かけ構造をを有するものが好ましい。例えば、反応性シリコーン(例、サイラプレーン(チッソ(株)製等)、両末端にシラノール基含有のポリシロキサン(特開平11−258403号公報等)等が挙げられる。
架橋又は重合性基を有する含フッ素及び/又はシロキサンのポリマーの架橋又は重合反応は、重合開始剤、増感剤等を含有する最外層を形成するための塗布組成物を塗布と同時または塗布後に光照射や加熱することにより実施することが好ましい。重合開始剤、増感剤としては、従来公知のものを用いることができる。
又、シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化するゾルゲル硬化膜も好ましい。
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物(特開昭58−142958号公報、同58−147483号公報、同58−147484号公報、特開平9−157582号公報、同11−106704号公報記載等記載の化合物)、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物(特開2000−117902号公報、同2001−48590号公報、同2002−53804号公報記載の化合物等)等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤(例えば、二酸化珪素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化バリウム)等の一次粒子平均径が1〜150nmの低屈折率無機化合物を含有することが好ましい。
特に、上記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子を用いることが好ましい。中空の無機微粒子は屈折率が1.17〜1.40、好ましくは1.17〜1.37、さらに好ましくは1.17〜1.35である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の無機微粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。
この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記式(A)で表される空隙率w(%)は以下の通り計算される。
式(A) : w=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
例えば、ポリフルオロアルキル基含有シラン化合物またはその部分加水分解縮合物(特開昭58−142958号公報、同58−147483号公報、同58−147484号公報、特開平9−157582号公報、同11−106704号公報記載等記載の化合物)、フッ素含有長鎖基であるポリ「パーフルオロアルキルエーテル」基を含有するシリル化合物(特開2000−117902号公報、同2001−48590号公報、同2002−53804号公報記載の化合物等)等が挙げられる。
低屈折率層は、上記以外の添加剤として充填剤(例えば、二酸化珪素(シリカ)、含フッ素粒子(フッ化マグネシウム,フッ化カルシウム,フッ化バリウム)等の一次粒子平均径が1〜150nmの低屈折率無機化合物を含有することが好ましい。
特に、上記低屈折率層はその屈折率上昇をより一層少なくするために、中空の無機微粒子を用いることが好ましい。中空の無機微粒子は屈折率が1.17〜1.40、好ましくは1.17〜1.37、さらに好ましくは1.17〜1.35である。ここでの屈折率は粒子全体としての屈折率を表し、中空の無機微粒子を形成している外殻のみの屈折率を表すものではない。
この時、粒子内の空腔の半径をa、粒子外殻の半径をbとすると、下記式(A)で表される空隙率w(%)は以下の通り計算される。
式(A) : w=(4πa3/3)/(4πb3/3)×100
空隙率は、好ましくは10〜60%、さらに好ましくは20〜60%、最も好ましくは30〜60%である。中空粒子の屈折率は、粒子の強度および該中空粒子を含む低屈折率層の耐擦傷性の観点から、1.17以上とすることが好ましい。
該低屈折率層中の中空の無機微粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下であることが好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、無機微粒子の粒径は30nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
なお、これら中空の無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなうことができる。
該低屈折率層中の中空の無機微粒子の平均粒径は、該低屈折率層の厚みの30%以上100%以下であることが好ましく、より好ましくは35%以上80%以下、更に好ましくは40%以上60%以下である。即ち、低屈折率層の厚みが100nmであれば、無機微粒子の粒径は30nm以上100nm以下が好ましく、より好ましくは35nm以上80nm以下、更に好ましくは、40nm以上60nm以下である。
なお、これら中空の無機微粒子の屈折率はアッベ屈折率計(アタゴ(株)製)にて測定をおこなうことができる。
他の添加剤としては、特開平11−3820公報の段落番号[0020]〜[0038]に記載の有機微粒子等)、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有することができる。
低屈折率層が最外層の下層に位置する場合、低屈折率層は気相法(真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法等)により形成されても良い。安価に製造できる点で、塗布法が好ましい。
低屈折率層の膜厚は、30〜200nmであることが好ましく、50〜150nmであることがさらに好ましく、60〜120nmであることが最も好ましい。
低屈折率層の膜厚は、30〜200nmであることが好ましく、50〜150nmであることがさらに好ましく、60〜120nmであることが最も好ましい。
(反射防止膜の他の層)
反射防止膜にはさらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
反射防止膜にはさらに、ハードコート層、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層や保護層等を設けてもよい。
(ハードコート層)
ハードコート層は、反射防止膜に物理強度を付与することができ、透明支持体の表面に設けることが好ましい。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び/又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、WO00/46617号公報等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、反射防止膜に物理強度を付与することができ、透明支持体の表面に設けることが好ましい。特に、透明支持体と前記高屈折率層の間に設けることが好ましい。
ハードコート層は、光及び/又は熱の硬化性化合物の架橋反応、又は、重合反応により形成されることが好ましい。
硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましく、又加水分解性官能基含有の有機金属化合物は有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
これらの化合物の具体例としては、高屈折率層で例示したと同様のものが挙げられる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開2002−144913号公報、同2000−9908号公報、WO00/46617号公報等記載のものが挙げられる。
高屈折率層はハードコート層を兼ねることができる。このような場合、高屈折率層で記載した手法を用いて微粒子を微細に分散してハードコート層に含有させて形成することが好ましい。
ハードコート層は、平均粒径0.2〜10μmの粒子を含有させて防眩機能(アンチグレア機能(後述))を付与した防眩層を兼ねることもできる。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜7μmである。
ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。又、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
ハードコート層の膜厚は用途により適切に設計することができる。ハードコート層の膜厚は、0.2〜10μmであることが好ましく、より好ましくは0.5〜7μmである。
ハードコート層の強度は、JIS K5400に従う鉛筆硬度試験で、H以上であることが好ましく、2H以上であることがさらに好ましく、3H以上であることが最も好ましい。又、JIS K5400に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
(前方散乱層)
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合に、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与することができ、好ましい。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
前方散乱層としては、例えば、前方散乱係数を特定化した特開11−38208号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開2000−199809号公報、ヘイズ値を40%以上と規定した特開2002−107512号公報等に記載のものが挙げられる。
前方散乱層は、液晶表示装置に適用した場合に、上下左右方向に視角を傾斜させたときの視野角改良効果を付与することができ、好ましい。上記ハードコート層中に屈折率の異なる微粒子を分散することで、ハードコート機能と兼ねることもできる。
前方散乱層としては、例えば、前方散乱係数を特定化した特開11−38208号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定範囲とした特開2000−199809号公報、ヘイズ値を40%以上と規定した特開2002−107512号公報等に記載のものが挙げられる。
(反射防止膜の形成)
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書)により、塗布により形成することができる。
反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法やエクストルージョンコート法(米国特許2681294号明細書)により、塗布により形成することができる。
(アンチグレア機能)
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、3〜50%であることが好ましく、5〜30%であることがさらに好ましく、5〜20%であることが最も好ましい。
反射防止膜は、外光を散乱させるアンチグレア機能を有していてもよい。アンチグレア機能は、反射防止膜の表面に凹凸を形成することにより得られる。反射防止膜がアンチグレア機能を有する場合、反射防止膜のヘイズは、3〜50%であることが好ましく、5〜30%であることがさらに好ましく、5〜20%であることが最も好ましい。
反射防止膜表面に凹凸を形成する方法は、これらの表面形状を充分に保持できる方法であればいずれの方法でも適用できる。
例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法(例えば、特開2000−271878号公報等)、低屈折率層の下層(高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層)に比較的大きな粒子(粒径0.05〜2μm)を少量(0.1〜50質量%)添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法(例えば、特開2000−281410号公報、同2000−95893号公報、同2001−100004号公報、同2001−281407号公報等)、最上層(防汚性層)を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法(例えば、エンボス加工方法として、特開昭63−278839号公報、特開平11−183710号公報、特開2000−275401号公報等記載)等が挙げられる。
例えば、低屈折率層中に微粒子を使用して膜表面に凹凸を形成する方法(例えば、特開2000−271878号公報等)、低屈折率層の下層(高屈折率層、中屈折率層又はハードコート層)に比較的大きな粒子(粒径0.05〜2μm)を少量(0.1〜50質量%)添加して表面凹凸膜を形成し、その上にこれらの形状を維持して低屈折率層を設ける方法(例えば、特開2000−281410号公報、同2000−95893号公報、同2001−100004号公報、同2001−281407号公報等)、最上層(防汚性層)を塗設後の表面に物理的に凹凸形状を転写する方法(例えば、エンボス加工方法として、特開昭63−278839号公報、特開平11−183710号公報、特開2000−275401号公報等記載)等が挙げられる。
本発明の反射防止膜を設けた偏光板は、反射防止膜を設けた透明支持体が偏光板の保護フィルムを兼ねることが好ましい。透明支持体(好ましくはセルロースアシレートフィルム)の反射防止膜を設けた側とは反対側のセルロースアシレートフィルム表面を親水化処理して、偏光膜と接着剤で貼りあわせて作製することが好ましい。該親水化処理としては[光学補償シートの表面処理]において前記したと同様のものが挙げられる。偏光膜の反射防止膜とは偏光膜をはさんで反対側の面には、前記したとおり、本発明の光学補償シートを保護膜を兼ねるフィルムとして用いる。光学補償シートの透明支持体(好ましくはセルロースアシレートフィルム)の光学異方性層を設けたとは反対側の表面を親水化処理して、偏光膜と接着剤で貼りあわせて作製することが好ましい。これにより偏光板の厚みが薄くなり、液晶表示装置の軽量化が可能となり、好ましい。
<液晶表示装置>
本発明の液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板を含有することからなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
本発明の液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
本発明の透過型、反射型および半透過型液晶表示装置の駆動方式については単純マトリックス方式よりも、アクティブマトリックス方式が好ましく、TFT(Thin Film Transistor)、TFD(Thin Film Diode)またはMIM(Metal Insulator Metal)を使うことがより好ましい。TFTについては低温ポリシリコンまたは連続粒界シリコンを使うことがより好ましい。
詳細については、「液晶デバイスハンドブック」日本学術振興会第142委員会編、日刊工業新聞社、「液晶 応用編」岡野光治他、培風館、「カラー液晶ディスプレイ」小林俊介他、産業図書、「次世代液晶ディスプレイ技術」内田龍男、工業調査会、「液晶ディスプレイの最先端」液晶若手研究会編、シグマ出版、「液晶:LCDの基礎と新しい応用」液晶若手研究会編、シグマ出版等に記載されている。
本発明の液晶表示装置は、液晶セル及びその両側に配置された二枚の偏光板を含有することからなる。液晶セルは、二枚の電極基板の間に液晶を担持している。
光学補償シートは、液晶セルと一方の偏光板との間に、一枚配置するか、あるいは液晶セルと双方の偏光板との間に二枚配置する。
本発明の液晶表示装置は、印加電圧が低い時に明表示、高い時に暗表示であるノーマリーホワイトモードでも、印加電圧が低い時に暗表示、高い時に明表示であるノーマリーブラックモードでも用いることができる。
本発明の透過型、反射型および半透過型液晶表示装置の駆動方式については単純マトリックス方式よりも、アクティブマトリックス方式が好ましく、TFT(Thin Film Transistor)、TFD(Thin Film Diode)またはMIM(Metal Insulator Metal)を使うことがより好ましい。TFTについては低温ポリシリコンまたは連続粒界シリコンを使うことがより好ましい。
詳細については、「液晶デバイスハンドブック」日本学術振興会第142委員会編、日刊工業新聞社、「液晶 応用編」岡野光治他、培風館、「カラー液晶ディスプレイ」小林俊介他、産業図書、「次世代液晶ディスプレイ技術」内田龍男、工業調査会、「液晶ディスプレイの最先端」液晶若手研究会編、シグマ出版、「液晶:LCDの基礎と新しい応用」液晶若手研究会編、シグマ出版等に記載されている。
本発明の液晶表示装置には、例えばTNモード、STNモード、ECBモード等、ECBモードとしては例えばOCBモード、HANモード、VAモード、MVAモード、ホモジニアス配向モード等各種のモードの液晶セルが用いられるが、中でもTNモード並びにOCBモード、HANモード、VAモード、MVAモード及びホモジニアス配向モード等のECBモードの液晶セルが好ましい。液晶セルについては、「'99PDP/LCD構成材料・ケミカルスの市場」1999年7月30日、シーエムシー、「EL,PDP,LCDディスプレイ技術と市場の最新動向−」2001年3月、東レリサーチセンター等に記載されている。
各液晶モードにおける光学異方性層の好ましい形態について、以下で説明する。
(TNモード液晶表示装置)
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。TNモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(TNモード液晶表示装置)
TNモードの液晶セルは、カラーTFT液晶表示装置として最も多く利用されており、多数の文献に記載がある。TNモードの黒表示における液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(OCBモード液晶表示装置)
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
OCBモードの液晶セルもTNモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
OCBモードの液晶セルは、棒状液晶性分子を液晶セルの上部と下部とで実質的に逆の方向に(対称的に)配向させるベンド配向モードの液晶セルである。ベンド配向モードの液晶セルを用いた液晶表示装置は、米国特許4583825号、同5410422号の各明細書に開示されている。棒状液晶性分子が液晶セルの上部と下部とで対称的に配向しているため、ベンド配向モードの液晶セルは、自己光学補償機能を有する。そのため、この液晶モードは、OCB(Optically Compensatory Bend) 液晶モードとも呼ばれる。
OCBモードの液晶セルもTNモード同様、黒表示においては、液晶セル中の配向状態は、セル中央部で棒状液晶性分子が立ち上がり、セルの基板近傍では棒状液晶性分子が寝た配向状態にある。
(VAモード液晶表示装置)
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
VAモードの液晶セルでは、電圧無印加時に棒状液晶性分子が実質的に垂直に配向している。
VAモードの液晶セルには、(1)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直に配向させ、電圧印加時に実質的に水平に配向させる狭義のVAモードの液晶セル(特開平2−176625号公報記載)に加えて、(2)視野角拡大のため、VAモードをマルチドメイン化した(MVAモードの)液晶セル(SID97、Digest of tech. Papers(予稿集)28(1997)845記載)、(3)棒状液晶性分子を電圧無印加時に実質的に垂直配向させ、電圧印加時にねじれマルチドメイン配向させるモード(n−ASMモード)の液晶セル(日本液晶討論会の予稿集58〜59(1998)記載)および(4)SURVAIVALモードの液晶セル(LCDインターナショナル98で発表)が含まれる。
(その他液晶表示装置)
ECBモードおよびSTNモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考考え方で光学的に補償することができる。
ECBモードおよびSTNモードの液晶表示装置に対しては、上記と同様の考考え方で光学的に補償することができる。
以下、実施例に基づき本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されて解釈されるものではない。
[実施例1]
(セルローストリアセテート溶液の調製)
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌し、各成分を溶解してセルローストリアセテート溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルローストリアセテート溶液
セルローストリアセテート(酢化度60.7%、6位置換度0.90)
100質量部
トリフェニルホスフェート 8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート 6質量部
微粒子(シリカ(粒径20nm)) 0.5質量部
メチレンクロライド 300質量部
メタノール 55質量部
n−ブタノール 15質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
(セルローストリアセテート溶液の調製)
下記の成分をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌し、各成分を溶解してセルローストリアセテート溶液を調製した。
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セルローストリアセテート溶液
セルローストリアセテート(酢化度60.7%、6位置換度0.90)
100質量部
トリフェニルホスフェート 8質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート 6質量部
微粒子(シリカ(粒径20nm)) 0.5質量部
メチレンクロライド 300質量部
メタノール 55質量部
n−ブタノール 15質量部
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(レターデーション調整剤溶液の調製)
別のミキシングタンクに、下記の成分を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
レターデーション調整剤溶液
下記のレターデーション調整剤 160質量部
メチレンクロライド 80質量部
メタノール 190質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
別のミキシングタンクに、下記の成分を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。
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レターデーション調整剤溶液
下記のレターデーション調整剤 160質量部
メチレンクロライド 80質量部
メタノール 190質量部
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(セルロースアシレートフィルムの作製)
上のセルローストリアセテート溶液4770質量部に、レターデーション調整剤溶液520質量部を混合し攪拌した後に室温(25℃)にて3時間放置し、得られた不均一なゲル状溶液を、−70℃にて6時間冷却した後、50℃に加温・攪拌して完全に溶解したドープを得た。これをフィルター濾過及び脱泡を行ってドープを調製した。得られたドープをバンド流延機のバンド上に流延し、残留溶剤量が50質量%の状態のフィルムをバンドから剥離し、130℃の条件でテンターを用いて18%の延伸倍率で延伸し、テンターを延伸方向に対し45°屈曲させ、以後幅を一定に保ちつつ130℃で40秒間保持した後、テンターを離脱して、遅相軸がフィルムの搬送方向(長手方向)に対し45°の角度を有するセルロースアシレートフィルム(CA1−1)ロール(長さ3500m、幅1300mm、厚み78μm)を製造した。
ここで、金属支持体(流延バンド)としては、ステンレススチールからなり、幅2m、長さ56m(面積112m2)からなるものを用いた。該金属支持体の算術平均粗さ(Ra)は0.006μmで、最大高さ(Ry)は0.06μmであり、また十点平均粗さ(Rz)は0.009μmであった。算術平均粗さ(Ra)、最大高さ(Ry)、十点平均粗さ(Rz)の各測定は、JIS B 0601に規定によった。
得られたフィルム(CA1−1)の膜厚の変動幅は±2.8%であった。幅方向のカール値は0.2/mであり、残留溶剤量は0.3%であった。以上を実施例1−1とした。
上のセルローストリアセテート溶液4770質量部に、レターデーション調整剤溶液520質量部を混合し攪拌した後に室温(25℃)にて3時間放置し、得られた不均一なゲル状溶液を、−70℃にて6時間冷却した後、50℃に加温・攪拌して完全に溶解したドープを得た。これをフィルター濾過及び脱泡を行ってドープを調製した。得られたドープをバンド流延機のバンド上に流延し、残留溶剤量が50質量%の状態のフィルムをバンドから剥離し、130℃の条件でテンターを用いて18%の延伸倍率で延伸し、テンターを延伸方向に対し45°屈曲させ、以後幅を一定に保ちつつ130℃で40秒間保持した後、テンターを離脱して、遅相軸がフィルムの搬送方向(長手方向)に対し45°の角度を有するセルロースアシレートフィルム(CA1−1)ロール(長さ3500m、幅1300mm、厚み78μm)を製造した。
ここで、金属支持体(流延バンド)としては、ステンレススチールからなり、幅2m、長さ56m(面積112m2)からなるものを用いた。該金属支持体の算術平均粗さ(Ra)は0.006μmで、最大高さ(Ry)は0.06μmであり、また十点平均粗さ(Rz)は0.009μmであった。算術平均粗さ(Ra)、最大高さ(Ry)、十点平均粗さ(Rz)の各測定は、JIS B 0601に規定によった。
得られたフィルム(CA1−1)の膜厚の変動幅は±2.8%であった。幅方向のカール値は0.2/mであり、残留溶剤量は0.3%であった。以上を実施例1−1とした。
又、実施例1−1におけるドープ組成物の濃度或はフィルター工程での濾過条件等を変えて、表1に記載のフィルム表面の形状となる試料CA1−2〜CA1−3、比較用フィルムとしてCAR1−1〜CAR1−2を作製した。
(フィルムの表面性状及び光学特性の測定)
作製したセルロースアシレートフィルム(CA1−1〜CA1−3、CAR1−1〜CAR1−2)について、フィルム表面の凹凸形状をAFMで測定した。又、エリプソメーター(M−150、日本分光(株)製)を用い、波長550nmにおけるReレターデーション値およびRthレターデーション値を測定した。また、自動複屈折計(KOBRA−21ADH、王子計測機器(株))で遅相軸角度を測定した。測定は幅方向に10点とり、その平均値を算出し、結果を表1に示した。
作製したセルロースアシレートフィルム(CA1−1〜CA1−3、CAR1−1〜CAR1−2)について、フィルム表面の凹凸形状をAFMで測定した。又、エリプソメーター(M−150、日本分光(株)製)を用い、波長550nmにおけるReレターデーション値およびRthレターデーション値を測定した。また、自動複屈折計(KOBRA−21ADH、王子計測機器(株))で遅相軸角度を測定した。測定は幅方向に10点とり、その平均値を算出し、結果を表1に示した。
(鹸化処理)
セルロースアシレートフィルム(CA1−1〜CA1−3、CAR1−1〜CAR1−2)ロール上に、1.0モル/Kgの水酸化カリウム溶液(溶剤:イソプロパノール(沸点82.4℃)/プロピレングリコール/水=75/13/12質量%)を#6バーで塗布し、45℃で10秒間加熱した後、濡れたままの塗布面に#1.6バーで水を塗布し、すぐに40℃の洗浄水500cc/m2をノズルから吹き付け、エアナイフでフィルム表面の洗浄水を吹き飛ばす処理を三回連続して行い、100℃の温風で乾燥して、表面が鹸化されたセルロースアシレートフィルムロールを作製した。鹸化処理面の水との接触角は、各フィルムともに35〜36度の範囲であった。
セルロースアシレートフィルム(CA1−1〜CA1−3、CAR1−1〜CAR1−2)ロール上に、1.0モル/Kgの水酸化カリウム溶液(溶剤:イソプロパノール(沸点82.4℃)/プロピレングリコール/水=75/13/12質量%)を#6バーで塗布し、45℃で10秒間加熱した後、濡れたままの塗布面に#1.6バーで水を塗布し、すぐに40℃の洗浄水500cc/m2をノズルから吹き付け、エアナイフでフィルム表面の洗浄水を吹き飛ばす処理を三回連続して行い、100℃の温風で乾燥して、表面が鹸化されたセルロースアシレートフィルムロールを作製した。鹸化処理面の水との接触角は、各フィルムともに35〜36度の範囲であった。
(配向膜の形成)
この表面処理した各フィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドコーターで28ml/m2の塗布量で塗布した。60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。
乾燥後の塗布面のpHを測定した所、各フィルムともその値は4.1であった。又、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のpH値は各フィルムとも4.00〜4.20の範囲であった。
この表面処理した各フィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドコーターで28ml/m2の塗布量で塗布した。60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。
乾燥後の塗布面のpHを測定した所、各フィルムともその値は4.1であった。又、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のpH値は各フィルムとも4.00〜4.20の範囲であった。
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配向膜塗布液
下記変性ポリビニルアルコール 20質量部
下記のカルボン酸化合物(A−1) 0.07質量部
グルタルアルデヒド 0.5質量部
水 360質量部
メタノール 120質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
配向膜塗布液
下記変性ポリビニルアルコール 20質量部
下記のカルボン酸化合物(A−1) 0.07質量部
グルタルアルデヒド 0.5質量部
水 360質量部
メタノール 120質量部
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(配向膜面のラビング処理)
次に、環境条件(25℃/45%RH)のもとに、フィルムの長手方向に配向膜面に、市販のラビング布を貼り付けたラビングロールで搬送方向に対し平行にラビング処理を実施した。ラビング処理の前後に特開平7−333613号公報に記載されたと同様の静電気除電装置及び超音波除塵装置を設置して行った。更に、ラビングロール部の表面電位を表面電位計(Trek社製、Electrostatic VoltmeterMODEL344型)で計測してラビングロール布表面を静電気除電しつつ−100V未満で処理し、実施例1−1〜1−3、比較例1−1〜1−2とした。
次に、環境条件(25℃/45%RH)のもとに、フィルムの長手方向に配向膜面に、市販のラビング布を貼り付けたラビングロールで搬送方向に対し平行にラビング処理を実施した。ラビング処理の前後に特開平7−333613号公報に記載されたと同様の静電気除電装置及び超音波除塵装置を設置して行った。更に、ラビングロール部の表面電位を表面電位計(Trek社製、Electrostatic VoltmeterMODEL344型)で計測してラビングロール布表面を静電気除電しつつ−100V未満で処理し、実施例1−1〜1−3、比較例1−1〜1−2とした。
一方、比較例2−1及び2−2として、環境条件を(25℃/27%RH)と(25℃/65%RH)に変えた他は、実施例1−1〜1−3、比較例1−1〜1−2と同様にしてセルロースアシレートフィルムCA1−1の配向膜のラビング処理を行った。又、比較例3−1として、ラビングロール部の静電気帯電制御無しとした他は実施例1−1〜1−3、比較例1−1〜1−2と同様にしてセルロースアシレートフィルムCA1−1を処理した。ラビング時の条件を表2にまとめた。
(光学異方性層用塗布液の作製)
SUS製のタンク中に、下記構造のディスコティック液晶(DLC−A)41.0質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(V#360、大阪有機化学(株)製)4.0質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB551−0.2、イーストマンケミカル社製)0.9質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)0.2質量部、下記構造のフッ素系化合物(F−1)1.4質量部、光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.5質量部、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.5質量部を102質量部のメチルエチルケトンに溶解して光学異方性層用の塗布液を作製した。
SUS製のタンク中に、下記構造のディスコティック液晶(DLC−A)41.0質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(V#360、大阪有機化学(株)製)4.0質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB551−0.2、イーストマンケミカル社製)0.9質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)0.2質量部、下記構造のフッ素系化合物(F−1)1.4質量部、光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.5質量部、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.5質量部を102質量部のメチルエチルケトンに溶解して光学異方性層用の塗布液を作製した。
(光学補償シートの作製)
上記の配向膜面側に上記の塗布液を塗布し、これを130℃の恒温槽中で2分間加熱し、モノドメインのディスコティックネマティック相をとらせ、次に130℃で120W/cm高圧水銀灯で1分間UV照射し、ディスコティック液晶を重合させその後、室温まで放冷し、膜厚1.8μmからなる光学異方性層を有する本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を作製した。又、表2に記載の比較用の配向膜塗布フィルムを用いて比較用シート(HR−1)〜(HR−5)を作製した。
上記の配向膜面側に上記の塗布液を塗布し、これを130℃の恒温槽中で2分間加熱し、モノドメインのディスコティックネマティック相をとらせ、次に130℃で120W/cm高圧水銀灯で1分間UV照射し、ディスコティック液晶を重合させその後、室温まで放冷し、膜厚1.8μmからなる光学異方性層を有する本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を作製した。又、表2に記載の比較用の配向膜塗布フィルムを用いて比較用シート(HR−1)〜(HR−5)を作製した。
<光学補償シートの評価方法>
(レターデーションRe)
これらの光学補償シートの法線方向、レターデーションが最小値を取る方向と法線とを含む面内で法線方向から最小値の方向に40°傾いた方向、法線から逆に40°傾けた方向のレターデーション値をエリプソメーターで測定した。
測定値は633nmの値を求めた。
(フィルムの性状)
1300mm幅のサンプル5mをクロスニコルに2枚に偏光板を配置して、この間に試料をおいて目視観察により、ムラ(配向ムラ、スジムラ)及び輝度欠陥を評価した。配向ムラは、発生の有無を観察し、○は発生が見られない、×は僅かでも発生とした。輝度欠陥は、大きさが100μm以上の輝点の数を計測し、1メートル当たりの換算値として表した。又、スジ欠陥数も同様に表記した。
評価結果を表3に記載した。
(レターデーションRe)
これらの光学補償シートの法線方向、レターデーションが最小値を取る方向と法線とを含む面内で法線方向から最小値の方向に40°傾いた方向、法線から逆に40°傾けた方向のレターデーション値をエリプソメーターで測定した。
測定値は633nmの値を求めた。
(フィルムの性状)
1300mm幅のサンプル5mをクロスニコルに2枚に偏光板を配置して、この間に試料をおいて目視観察により、ムラ(配向ムラ、スジムラ)及び輝度欠陥を評価した。配向ムラは、発生の有無を観察し、○は発生が見られない、×は僅かでも発生とした。輝度欠陥は、大きさが100μm以上の輝点の数を計測し、1メートル当たりの換算値として表した。又、スジ欠陥数も同様に表記した。
評価結果を表3に記載した。
本発明の実施例1−1〜1−3は、配向ムラ、及びスジ状ムラが見られないもので、輝度欠陥も0.31〜0.33(個/m2)であり、実用上の視認性を妨げるものではない良好なものであった。
一方、比較例1−1と1−2は、配向ムラ発生は見られなかったが、輝度欠陥は1(個/m2)を越えていた。又、ラビング処理時の湿度が低湿或は高湿で作製された比較例2−1と2−2は配向ムラが著しく生じた。又、ラビング工程でラビング布の静帯電量を制御しなかった比較例3−1は、輝度欠陥が1.50(個/m2)と悪化した。
一方、比較例1−1と1−2は、配向ムラ発生は見られなかったが、輝度欠陥は1(個/m2)を越えていた。又、ラビング処理時の湿度が低湿或は高湿で作製された比較例2−1と2−2は配向ムラが著しく生じた。又、ラビング工程でラビング布の静帯電量を制御しなかった比較例3−1は、輝度欠陥が1.50(個/m2)と悪化した。
<偏光素子の作製>
PVAフィルムをヨウ素2.0kg/kL、ヨウ化カリウム4.0kg/kLの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10kg/kLの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、テンター延伸機に導入し、5.3倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し屈曲させ、以降幅を一定に保ち、収縮させながら80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱して巻き取った。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は31%で、乾燥後の含水率は1.5%であった。
左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は46゜であった。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
得られた偏光子の透過軸方向はテンターの搬送方向(長手方向)に対し45゜傾斜しており、この偏光子の550nmにおける透過率43.7%、偏光度99.97%であった。
PVAフィルムをヨウ素2.0kg/kL、ヨウ化カリウム4.0kg/kLの水溶液に25℃にて240秒浸漬し、さらにホウ酸10kg/kLの水溶液に25℃にて60秒浸漬後、テンター延伸機に導入し、5.3倍に延伸し、テンターを延伸方向に対し屈曲させ、以降幅を一定に保ち、収縮させながら80℃雰囲気で乾燥させた後テンターから離脱して巻き取った。延伸開始前のPVAフィルムの含水率は31%で、乾燥後の含水率は1.5%であった。
左右のテンタークリップの搬送速度差は、0.05%未満であり、導入されるフィルムの中心線と次工程に送られるフィルムの中心線のなす角は46゜であった。テンター出口におけるシワ、フィルム変形は観察されなかった。
得られた偏光子の透過軸方向はテンターの搬送方向(長手方向)に対し45゜傾斜しており、この偏光子の550nmにおける透過率43.7%、偏光度99.97%であった。
<偏光板の作製>
フジタック(TD80U、商品名:富士写真フィルム(株)製)上に、熱架橋性含フッソポリマー(JN−7228、固形分濃度6質量%、JSR(株)製)210質量部にシリカゾル(MEK−ST、平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%、日産化学(株)製)18質量部、およびMEK200質量部を添加、攪拌後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタで濾過した低屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、80℃で5分乾燥後、120℃で10分間加熱してポリマーを架橋させ、厚さ0.1μmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
この反射防止フィルムおよび上記の各光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を、55℃の1.5モル/L NaOH水溶液に1分間浸漬してセルロースアシレートの表面を鹸化した後、希硫酸および水で十分洗浄し、乾燥後それぞれのセルロースアシレート側にポリビニルアルコール系粘着材を約30μの厚みに塗布し、上記偏光子の両側にロールtoロールで貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して偏光板を作製した。
フジタック(TD80U、商品名:富士写真フィルム(株)製)上に、熱架橋性含フッソポリマー(JN−7228、固形分濃度6質量%、JSR(株)製)210質量部にシリカゾル(MEK−ST、平均粒径10〜20nm、固形分濃度30質量%、日産化学(株)製)18質量部、およびMEK200質量部を添加、攪拌後、孔径1μmのポリプロピレン製フィルタで濾過した低屈折率層用塗布液をバーコーターで塗布し、80℃で5分乾燥後、120℃で10分間加熱してポリマーを架橋させ、厚さ0.1μmの低屈折率層を形成し、反射防止フィルムを作製した。
この反射防止フィルムおよび上記の各光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を、55℃の1.5モル/L NaOH水溶液に1分間浸漬してセルロースアシレートの表面を鹸化した後、希硫酸および水で十分洗浄し、乾燥後それぞれのセルロースアシレート側にポリビニルアルコール系粘着材を約30μの厚みに塗布し、上記偏光子の両側にロールtoロールで貼り合わせ、さらに80℃で乾燥して偏光板を作製した。
<ベンド配向液晶セルの作製>
ITO電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを6μmに設定した。セルギャップにΔnが0.1396の液晶性化合物(ZLI1132、メルク社製)を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
ITO電極付きのガラス基板に、ポリイミド膜を配向膜として設け、配向膜にラビング処理を行った。得られた二枚のガラス基板をラビング方向が平行となる配置で向かい合わせ、セルギャップを6μmに設定した。セルギャップにΔnが0.1396の液晶性化合物(ZLI1132、メルク社製)を注入し、ベンド配向液晶セルを作製した。
<ベンド配向モード透過型液晶表示装置の作製>
作製したベンド配向セルを挟むように、上記の偏光板(「反射防止フィルム/偏光素子/透明支持体/光学異方性層」よりなる)の光学異方性層上にアクリル系粘着剤をつけ、液晶セルのラビング方向と光学補償シートのラビング方向とが反平行となる様にして、各光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を貼り合せ、ベンド配向モードの透過型液晶表示装置を作製した。
この液晶表示装置の液晶セルに、白表示電圧2V、黒表示電圧6Vを印加し、測定機(EZ−Contrast 160D、ELDIM社製)を用いて、正面コントラスト比を測定した。さらに左右方向(セルのラビング方向と直交方向)の視野角(コントラスト比が10以上となる角度範囲)を調べた。結果を表4に示した。
作製したベンド配向セルを挟むように、上記の偏光板(「反射防止フィルム/偏光素子/透明支持体/光学異方性層」よりなる)の光学異方性層上にアクリル系粘着剤をつけ、液晶セルのラビング方向と光学補償シートのラビング方向とが反平行となる様にして、各光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を貼り合せ、ベンド配向モードの透過型液晶表示装置を作製した。
この液晶表示装置の液晶セルに、白表示電圧2V、黒表示電圧6Vを印加し、測定機(EZ−Contrast 160D、ELDIM社製)を用いて、正面コントラスト比を測定した。さらに左右方向(セルのラビング方向と直交方向)の視野角(コントラスト比が10以上となる角度範囲)を調べた。結果を表4に示した。
本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)を用いた実施例1−1〜1−3のいずれもコントラスト及び視野角が良好であった。又、黒表示の時に輝点、あるいはスジと認識される欠点は殆どなく、見やすい画面となっていた。
[実施例2]
(セルロースアシレートフィルムの作製)
酢酸メチル290質量部、アセトン25質量部、メタノール25質量部、エタノール25質量部、及びn−ブタノール25質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ酢化度59.9%(6位置置換度0.90)のセルローストリアセテート粉体100質量部、トリフェニルホスフェート6.8質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート4.9質量部、シリカ(粒径20nm)0.5質量部を投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解した。
一方、酢酸メチル70質量部、アセトン6質量部、メタノール6質量部、エタノール6質量部、及びn−ブタノール6質量部を予め混合した溶液に、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン12質量部、及び2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン4質量部を投入し加熱して溶解してレターデーション調整剤溶液を調整した。
(セルロースアシレートフィルムの作製)
酢酸メチル290質量部、アセトン25質量部、メタノール25質量部、エタノール25質量部、及びn−ブタノール25質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ酢化度59.9%(6位置置換度0.90)のセルローストリアセテート粉体100質量部、トリフェニルホスフェート6.8質量部、ビフェニルジフェニルホスフェート4.9質量部、シリカ(粒径20nm)0.5質量部を投入し、加熱しながら攪拌して各成分を溶解した。
一方、酢酸メチル70質量部、アセトン6質量部、メタノール6質量部、エタノール6質量部、及びn−ブタノール6質量部を予め混合した溶液に、2−ヒドロキシ−4−ベンジルオキシベンゾフェノン12質量部、及び2,4−ベンジルオキシベンゾフェノン4質量部を投入し加熱して溶解してレターデーション調整剤溶液を調整した。
上記のセルローストリアセテート溶液4740質量部に、攪拌しながら上記のレターデーション調整剤溶液220質量部を徐々に添加して加えた。
その後は実施例1と同様の方法で製膜して、膜厚65μm(膜厚変動幅が±1.2%以内)で、遅相軸が長尺フィルム(長さ1300m、幅1100mm)の搬送方向に対し45°傾いたセルローストリアシレートフィルム(CA2)を作製した。実施例1と同様にしてフィルムの特性を調べ、その結果を表5に記載した。
その後は実施例1と同様の方法で製膜して、膜厚65μm(膜厚変動幅が±1.2%以内)で、遅相軸が長尺フィルム(長さ1300m、幅1100mm)の搬送方向に対し45°傾いたセルローストリアシレートフィルム(CA2)を作製した。実施例1と同様にしてフィルムの特性を調べ、その結果を表5に記載した。
(鹸化処理)
セルロースアシレートフィルム(CA2)上に、温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度40℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液(S−1)をロッドコーターを用いて塗布量12cc/m2で塗布し、110℃に加熱した(株)ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に15秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を3cc/m2塗布した。この時のフィルム温度は40℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後に70℃の乾燥ゾーンに5秒間滞留させて乾燥した。
セルロースアシレートフィルム(CA2)上に、温度60℃の誘電式加熱ロールを通過させ、フィルム表面温度40℃に昇温した後に、下記に示す組成のアルカリ溶液(S−1)をロッドコーターを用いて塗布量12cc/m2で塗布し、110℃に加熱した(株)ノリタケカンパニーリミテド製のスチーム式遠赤外ヒーターの下に15秒滞留させた後に、同じくロッドコーターを用いて純水を3cc/m2塗布した。この時のフィルム温度は40℃であった。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを3回繰り返した後に70℃の乾燥ゾーンに5秒間滞留させて乾燥した。
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アルカリ溶液(S−1)組成
水酸化カリウム 8.55質量部
水 23.235質量部
イソプロパノール(沸点82.4℃) 54.20質量部
界面活性剤(K−1:C14H29O(CH2CH2O)20H) 1.0質量部
プロピレングリコール 13.0質量部
消泡剤サーフィノールDF110D(日信化学工業(株)製)
0.015質量部
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アルカリ溶液(S−1)組成
水酸化カリウム 8.55質量部
水 23.235質量部
イソプロパノール(沸点82.4℃) 54.20質量部
界面活性剤(K−1:C14H29O(CH2CH2O)20H) 1.0質量部
プロピレングリコール 13.0質量部
消泡剤サーフィノールDF110D(日信化学工業(株)製)
0.015質量部
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得られたフィルム表面の水との接触角は37度、表面エネルギー63mN/mであった。
なお、表面特性の表面エネルギーの評価方法は、「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社、1989年刊行)に記載の接触角法に準拠した。具体的には、表面エネルギーが既知の2種類の溶媒をセルロースエステルフィルムに滴下し、液滴表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出した。
なお、表面特性の表面エネルギーの評価方法は、「ぬれの基礎と応用」(リアライズ社、1989年刊行)に記載の接触角法に準拠した。具体的には、表面エネルギーが既知の2種類の溶媒をセルロースエステルフィルムに滴下し、液滴表面とフィルム表面との交点において、液滴に引いた接線とフィルム表面のなす角で、液滴を含む方の角を接触角と定義し、計算によりフィルムの表面エネルギーを算出した。
(配向膜の形成)
この表面処理したフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドコーターで28ml/m2の塗布量で塗布した。60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。
乾燥後の塗布面のpHを測定した所、その値は3.95であった。又、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のpH値は3.90〜4.05の範囲であった。
この表面処理したフィルム上に、下記の組成の配向膜塗布液をロッドコーターで28ml/m2の塗布量で塗布した。60℃の温風で60秒、さらに90℃の温風で150秒乾燥した。
乾燥後の塗布面のpHを測定した所、その値は3.95であった。又、塗布幅方向での中央と左右両端の位置のpH値は3.90〜4.05の範囲であった。
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配向膜塗布液
下記変性ポリビニルアルコール 20質量部
クエン酸 0.05質量部
グルタルアルデヒド 0.5質量部
水 360質量部
メタノール 120質量部
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配向膜塗布液
下記変性ポリビニルアルコール 20質量部
クエン酸 0.05質量部
グルタルアルデヒド 0.5質量部
水 360質量部
メタノール 120質量部
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(配向膜面のラビング処理)
次に、環境条件(25℃/45%RH)のもとに、フィルムの長手方向に配向膜面に、市販のラビング布を貼り付けたラビングロールで搬送方向に対し平行にラビング処理を実施した。ラビング処理の前後に特開平7−333613号公報に記載されたと同様の静電気除電装置を設置して行った。その後フロリナートで濡らしたバイトンゴム被覆アルミロールでラビング面を擦り、すぐに幅1mmのリンスノズルから30L/分の量のフロリナートを吹き付け、乾燥により、ラビングした配向膜面の除塵を行った。更に、ラビングロール部の表面電位を実施例1記載と同様にして、計測してラビングロール布表面を静電気除電しつつ−100V未満で処理した。
次に、環境条件(25℃/45%RH)のもとに、フィルムの長手方向に配向膜面に、市販のラビング布を貼り付けたラビングロールで搬送方向に対し平行にラビング処理を実施した。ラビング処理の前後に特開平7−333613号公報に記載されたと同様の静電気除電装置を設置して行った。その後フロリナートで濡らしたバイトンゴム被覆アルミロールでラビング面を擦り、すぐに幅1mmのリンスノズルから30L/分の量のフロリナートを吹き付け、乾燥により、ラビングした配向膜面の除塵を行った。更に、ラビングロール部の表面電位を実施例1記載と同様にして、計測してラビングロール布表面を静電気除電しつつ−100V未満で処理した。
(光学異方性層の形成)
配向膜上に、下記構造のディスコティック液晶性化合物(DLC−B)41.01質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(V#360、大阪有機化学(株)製)4.06質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB551−0.2、イーストマンケミカル社製)0.90質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)0.23質量部、光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.35質量部、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.45質量部、下記構造のフッ素系界面活性剤(F−2)0.40質量部を、102質量部のメチルエチルケトンに溶解した溶液と塗布液とし、これを、#3.4のワイヤーバーで塗布した。これを130℃の恒温ゾーンで2分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、60℃の雰囲気下で120W/cmの高圧水銀灯を用いて、1分間UV照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、膜厚2.0μmの光学異方性層を形成し、光学補償シート(H2)を作製した。
配向膜上に、下記構造のディスコティック液晶性化合物(DLC−B)41.01質量部、エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート(V#360、大阪有機化学(株)製)4.06質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB551−0.2、イーストマンケミカル社製)0.90質量部、セルロースアセテートブチレート(CAB531−1、イーストマンケミカル社製)0.23質量部、光重合開始剤(イルガキュアー907、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)1.35質量部、増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)0.45質量部、下記構造のフッ素系界面活性剤(F−2)0.40質量部を、102質量部のメチルエチルケトンに溶解した溶液と塗布液とし、これを、#3.4のワイヤーバーで塗布した。これを130℃の恒温ゾーンで2分間加熱し、ディスコティック液晶性化合物を配向させた。次に、60℃の雰囲気下で120W/cmの高圧水銀灯を用いて、1分間UV照射し、ディスコティック液晶性化合物を重合させた。その後、室温まで放冷した。このようにして、膜厚2.0μmの光学異方性層を形成し、光学補償シート(H2)を作製した。
(光学補償シートの性能)
得られたフィルム(H2)を、実施例1と同様にして評価し、その結果を表6に記載した。
得られたフィルム(H2)を、実施例1と同様にして評価し、その結果を表6に記載した。
又、実施例1−1と同様にして光学補償シート(H1−1)の代わりに(H2)を用いた他は実施例1と同様にして表示装置を作製し、描画画像を評価した。得られた結果は実施例1−1と同等のコントラスト及び視野角の広さを示す、良好なものであった。
[実施例3]
(セルローストリアセテート溶液の調整)
酢酸メチル240質量部、シクロヘキサノン100質量部、メタノール25質量部、およびエタノール25質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ酢化度60.5%のセルローストリアセテート粉体(平均サイズ:2mm、ダイセル(株)製)100質量部、トリフェニルホスフェート6.8質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート)6.0質量部、二酸化ケイ素微粒子R972(表面にメチル基を有する二酸化ケイ素微粒子、日本アエロジル社製)0.6質量部、下記のUV吸収剤(U1)4.5質量部、及び下記のUV吸収剤(U2)3.5質量部を投入し、加熱下に攪拌した。
(セルローストリアセテート溶液の調整)
酢酸メチル240質量部、シクロヘキサノン100質量部、メタノール25質量部、およびエタノール25質量部を予め混合した溶液に、よく攪拌しつつ酢化度60.5%のセルローストリアセテート粉体(平均サイズ:2mm、ダイセル(株)製)100質量部、トリフェニルホスフェート6.8質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアセテート)6.0質量部、二酸化ケイ素微粒子R972(表面にメチル基を有する二酸化ケイ素微粒子、日本アエロジル社製)0.6質量部、下記のUV吸収剤(U1)4.5質量部、及び下記のUV吸収剤(U2)3.5質量部を投入し、加熱下に攪拌した。
(レターデーション調整剤溶液の調製)
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション調整剤180質量部、メチレンクロライド80質量部、およびメタノール190質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。
別のミキシングタンクに、下記のレターデーション調整剤180質量部、メチレンクロライド80質量部、およびメタノール190質量部を投入し、加熱しながら攪拌して、レターデーション調整剤溶液を調製した。
(セルロースアシレートフィルムの作製)
上記のセルローストリアセテート溶液4770質量部に、レターデーション調整剤溶液520質量部を混合し攪拌した。以降の操作は、実施例1と同様に行いセルロースアシレートフィルム(CA3)ロール(長さ3500m、幅1100mm、厚み62μm:膜厚変動幅±1.4%)を作製した。
幅方向のカール値は0.15/mであり、残留溶剤量は0.25%であった。又、実施例1と同様にして、フィルムの表面性状及びレターデーションを測定し、結果を表7に記載した。
上記のセルローストリアセテート溶液4770質量部に、レターデーション調整剤溶液520質量部を混合し攪拌した。以降の操作は、実施例1と同様に行いセルロースアシレートフィルム(CA3)ロール(長さ3500m、幅1100mm、厚み62μm:膜厚変動幅±1.4%)を作製した。
幅方向のカール値は0.15/mであり、残留溶剤量は0.25%であった。又、実施例1と同様にして、フィルムの表面性状及びレターデーションを測定し、結果を表7に記載した。
(鹸化処理)
セルロースアシレートフィルム(CA3)上に、100℃の熱風を衝突させ、45℃まで加熱した後に、25℃に保温した下記内容のアルカリ溶液(S−2)をロッドコーターを用いて14cc/m2 塗布し、13秒間経過後、再びロッドコーターを用いて純水を5cc/m2 塗布した。この時のフィルム温度は45℃であった。次いで、エクストルージョン型コーターを用いて1000cc/m2 の純水を塗布し、水洗を行い、5秒間経過後に100m/秒の風をエアナイフより水塗布面に衝突させた。このエクストルージョンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを2回繰り返した後に80℃の乾燥ゾーンに10秒間滞留させて乾燥した。
処理表面の水との接触角は32度であった。
セルロースアシレートフィルム(CA3)上に、100℃の熱風を衝突させ、45℃まで加熱した後に、25℃に保温した下記内容のアルカリ溶液(S−2)をロッドコーターを用いて14cc/m2 塗布し、13秒間経過後、再びロッドコーターを用いて純水を5cc/m2 塗布した。この時のフィルム温度は45℃であった。次いで、エクストルージョン型コーターを用いて1000cc/m2 の純水を塗布し、水洗を行い、5秒間経過後に100m/秒の風をエアナイフより水塗布面に衝突させた。このエクストルージョンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りを2回繰り返した後に80℃の乾燥ゾーンに10秒間滞留させて乾燥した。
処理表面の水との接触角は32度であった。
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アルカリ溶液(S−2)組成
水酸化ナトリウム 4.0質量部
水 62.0質量部
n−プロパノール(沸点97.2℃) 33.0質量部
界面活性剤(K−2:エチレンジアミンエチレンオキシド付加物)
1.0質量部
消泡剤サーフィノール104(日信化学工業(株)製) 0.01質量部
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アルカリ溶液(S−2)組成
水酸化ナトリウム 4.0質量部
水 62.0質量部
n−プロパノール(沸点97.2℃) 33.0質量部
界面活性剤(K−2:エチレンジアミンエチレンオキシド付加物)
1.0質量部
消泡剤サーフィノール104(日信化学工業(株)製) 0.01質量部
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得られたセルロースアシレートフィルム(CA3)を用いる以外は、実施例1−1と全く同様の処理を行い、本発明の光学補償シート(H3)を作製した。
この光学補償シート(H3)の特性について、実施例1と同様にして測定・評価を行い、その結果を表8に記載した。
この光学補償シート(H3)の特性について、実施例1と同様にして測定・評価を行い、その結果を表8に記載した。
配向ムラ及びスジ状ムラの発生が全く見られず、輝度欠陥も0.18個/m2と小さかった。
<ベンド配向モード透過型液晶表示装置の作製>
光学補償シート(H1−1)の代わりに光学補償シート(H3)を用いる以外は、実施例1と全く同様にして、本発明のベンド配向モード透過型液晶表示装置を作製した。
この液晶表示装置の液晶セルに、白表示電圧2V、黒表示電圧6Vを印加し、測定機(EZ−Contrast 160D、ELDIM社製)を用いて、正面コントラスト比を測定した所、120であった。さらに左右方向(セルのラビング方向と直交方向)の視野角(コントラスト比が10以上となる角度範囲)を調べた結果、160°であった。黒表示の時に輝点、あるいはスジと認識される欠点は殆どなく、コントラストと視野角の広い、見やすい画面となっていた。
光学補償シート(H1−1)の代わりに光学補償シート(H3)を用いる以外は、実施例1と全く同様にして、本発明のベンド配向モード透過型液晶表示装置を作製した。
この液晶表示装置の液晶セルに、白表示電圧2V、黒表示電圧6Vを印加し、測定機(EZ−Contrast 160D、ELDIM社製)を用いて、正面コントラスト比を測定した所、120であった。さらに左右方向(セルのラビング方向と直交方向)の視野角(コントラスト比が10以上となる角度範囲)を調べた結果、160°であった。黒表示の時に輝点、あるいはスジと認識される欠点は殆どなく、コントラストと視野角の広い、見やすい画面となっていた。
[実施例4]
TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(AQUOS LC20C1S、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏光板の代わりに本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)、(H−2)および(H−3)を用いた偏光板の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付け、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸は直交するように配置して作製したTN型液晶表示装置においても実施例1〜3と同様に、輝度欠陥が認められない、コントラストと視野角の広い、良好な視認性を示す画面であることが確認できた。
TN型液晶セルを使用した液晶表示装置(AQUOS LC20C1S、シャープ(株)製)に設けられている一対の偏光板の代わりに本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)、(H−2)および(H−3)を用いた偏光板の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側及びバックライト側に一枚ずつ貼り付け、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸は直交するように配置して作製したTN型液晶表示装置においても実施例1〜3と同様に、輝度欠陥が認められない、コントラストと視野角の広い、良好な視認性を示す画面であることが確認できた。
[実施例5]
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置(VL−1530S、富士通(株)製)に設けられている一対の偏光板の代わりに本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)及び(H−3)を用いた偏光板の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。バックライト側には市販の偏光板(HLC2−5618HCS(株)サンリッツ製)を一枚貼り付け、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸は直交するように配置して作製したVA型液晶表示装置においても実施例1と同様に、輝度欠陥が認められない、コントラストと視野角の広い、良好な視認性を示す画面であることが確認できた。
[実施例6]
(反射防止膜の作製)
(ハードコート層用塗布液の調製)
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA、日本化薬(株)製)750.0質量部に、質量平均分子量3000のポリ(グリシジルメタクリレート)270.0質量部、メチルエチルケトン730.0質量部、シクロヘキサノン500.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50.0質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
垂直配向型液晶セルを使用した液晶表示装置(VL−1530S、富士通(株)製)に設けられている一対の偏光板の代わりに本発明の光学補償シート(H1−1)〜(H1−3)及び(H−3)を用いた偏光板の光学異方性層が液晶セル側となるようにアクリル系粘着剤を介して、観察者側に一枚貼り付けた。バックライト側には市販の偏光板(HLC2−5618HCS(株)サンリッツ製)を一枚貼り付け、観察者側の偏光板の透過軸とバックライト側の偏光板の透過軸は直交するように配置して作製したVA型液晶表示装置においても実施例1と同様に、輝度欠陥が認められない、コントラストと視野角の広い、良好な視認性を示す画面であることが確認できた。
[実施例6]
(反射防止膜の作製)
(ハードコート層用塗布液の調製)
トリメチロールプロパントリアクリレート(TMPTA、日本化薬(株)製)750.0質量部に、質量平均分子量3000のポリ(グリシジルメタクリレート)270.0質量部、メチルエチルケトン730.0質量部、シクロヘキサノン500.0質量部及び光重合開始剤(イルガキュア184、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)50.0質量部を添加して攪拌した。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート層用の塗布液を調製した。
(二酸化チタン微粒子分散液Aの調製)
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129、石原産業(株)製)を使用した。
この粒子257.1質量部に、下記分散剤38.6質量部、およびシクロヘキサノン704.3質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径70nmの二酸化チタン微粒子分散液Aを調製した。
二酸化チタン微粒子としては、コバルトを含有し、かつ水酸化アルミニウムと水酸化ジルコニウムを用いて表面処理を施した二酸化チタン微粒子(MPT−129、石原産業(株)製)を使用した。
この粒子257.1質量部に、下記分散剤38.6質量部、およびシクロヘキサノン704.3質量部を添加してダイノミルにより分散し、質量平均径70nmの二酸化チタン微粒子分散液Aを調製した。
(中屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン微粒子分散液A 88.9質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)58.4質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)3.1質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.1質量部、メチルエチルケトン482.4質量部、及びシクロヘキサノン1869.8質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌して得られた溶液を、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
上記の二酸化チタン微粒子分散液A 88.9質量部に、ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物(DPHA)58.4質量部、光重合開始剤(イルガキュア907)3.1質量部、光増感剤(カヤキュアーDETX、日本化薬(株)製)1.1質量部、メチルエチルケトン482.4質量部、及びシクロヘキサノン1869.8質量部を添加して攪拌した。十分に攪拌して得られた溶液を、孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して中屈折率層用塗布液を調製した。
(高屈折率層用塗布液の調製)
上記の二酸化チタン微粒子分散液A:586.8質量部に、上記のDPHA:47.9質量部、イルガキュア907:4.0質量部、カヤキュア−DETX:1.3質量部、メチルエチルケトン455.8質量部、およびシクロヘキサノン1427.8質量部を添加して攪拌して溶液を得た。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液を調製した。
上記の二酸化チタン微粒子分散液A:586.8質量部に、上記のDPHA:47.9質量部、イルガキュア907:4.0質量部、カヤキュア−DETX:1.3質量部、メチルエチルケトン455.8質量部、およびシクロヘキサノン1427.8質量部を添加して攪拌して溶液を得た。孔径0.4μmのポリプロピレン製フィルターで濾過して高屈折率層用塗布液を調製した。
(低屈折率層用塗布液の調製)
上記のDPHA、1.4質量部、下記構造の含フッ素樹脂(PF−1)5.6質量部、中空シリカ(平均粒径40nm、シェル層厚7nm、屈折率1.31、イソプロパノール18質量%)20.0質量部、反応性シリコーンRMS−033(Gelest(株)製)0.7質量部、下記内容のゾル液a:6.2質量部、及びイルガキュア907:0.2質量部をメチルエチルケトン315.9質量部に投入して攪拌して溶液を得た。得られた溶液を孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
上記のDPHA、1.4質量部、下記構造の含フッ素樹脂(PF−1)5.6質量部、中空シリカ(平均粒径40nm、シェル層厚7nm、屈折率1.31、イソプロパノール18質量%)20.0質量部、反応性シリコーンRMS−033(Gelest(株)製)0.7質量部、下記内容のゾル液a:6.2質量部、及びイルガキュア907:0.2質量部をメチルエチルケトン315.9質量部に投入して攪拌して溶液を得た。得られた溶液を孔径1μmのポリプロピレン製フィルターでろ過して、低屈折率層用塗布液を調製した。
(ゾル液aの調製)
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
攪拌機、還流冷却器を備えた反応器、メチルエチルケトン120部、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン(KBM−5103、信越化学工業(株)製)100部、ジイソプロポキシアルミニウムエチルアセトアセテート3部を加え混合したのち、イオン交換水30部を加え、60℃で4時間反応させたのち、室温まで冷却し、ゾル液aを得た。質量平均分子量は1600であり、オリゴマー成分以上の成分のうち、分子量が1000〜20000の成分は100%であった。また、ガスクロマトグラフィー分析から、原料のアクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランは全く残存していなかった。
(反射防止フィルムの作製)
上記のロール形態のセルロースアシレートフィルム(CA1−1)上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を3つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布し、反射防止フィルムを作成した。
上記のロール形態のセルロースアシレートフィルム(CA1−1)上に、ハードコート層用塗布液をグラビアコーターを用いて塗布した。100℃で乾燥した後、酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら160W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量300mJ/cm2の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、厚さ8μmのハードコート層を形成した。
ハードコート層の上に、中屈折率層用塗布液、高屈折率層用塗布液及び低屈折率層用塗布液を3つの塗布ステーションを有するグラビアコーターを用いて連続して塗布し、反射防止フィルムを作成した。
中屈折率層の乾燥条件は100℃、2分間とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら180W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量400mJ/cm2の照射量とした。硬化後の中屈折率層は屈折率1.630、膜厚67nmであった。
高屈折率層の乾燥条件はいずれも90℃、1分の後、100℃、1分とし、紫外線硬化条件は酸素濃度が1.0体積%以下の雰囲気になるように窒素パージしながら240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度600mW/cm2、照射量600mJ/cm2の照射量とした。硬化後の高屈折率層は屈折率1.905、膜厚107nmであった。
低屈折率層の乾燥条件は120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量900mJ/cm2の紫外線を照射した。硬化後の低屈折率層は屈折率1.43、厚さ100nmであった。 得られた反射防止フィルムの反射防止膜とは反対側のフィルム表面を実施例1と同様にしてアルカリ鹸化処理して、水との接触角が35度の表面に親水化した
(偏光板の作製)
実施例1において用いた反射防止フィルムの代わりに上記の反射防止フィルムを用いた他は、実施例1と同様にして「反射防止膜/セルロースアシレートフィルム(CA1−1)/偏光膜/セルロースアシレートフィルム(CA1−1)/光学補償層」から構成される偏光板を作製した。
(液晶表示装置)
実施例1において用いた偏光板の代わりに上記の偏光板を用いた他は実施例1と同様にして、ベント配向モードの液晶表示装置を作製した。実施例1同様に、輝度欠陥が認められない、コントラストと視野角の広い、良好な視認性を示す画面であり、且つ外光の写り込みのない鮮明な画面であることが確認できた。
低屈折率層の乾燥条件は120℃で150秒乾燥の後、更に140℃で8分乾燥させてから窒素パージ下で240W/cmの空冷メタルハライドランプ(アイグラフィックス(株)製)を用いて、照度400mW/cm2、照射量900mJ/cm2の紫外線を照射した。硬化後の低屈折率層は屈折率1.43、厚さ100nmであった。 得られた反射防止フィルムの反射防止膜とは反対側のフィルム表面を実施例1と同様にしてアルカリ鹸化処理して、水との接触角が35度の表面に親水化した
(偏光板の作製)
実施例1において用いた反射防止フィルムの代わりに上記の反射防止フィルムを用いた他は、実施例1と同様にして「反射防止膜/セルロースアシレートフィルム(CA1−1)/偏光膜/セルロースアシレートフィルム(CA1−1)/光学補償層」から構成される偏光板を作製した。
(液晶表示装置)
実施例1において用いた偏光板の代わりに上記の偏光板を用いた他は実施例1と同様にして、ベント配向モードの液晶表示装置を作製した。実施例1同様に、輝度欠陥が認められない、コントラストと視野角の広い、良好な視認性を示す画面であり、且つ外光の写り込みのない鮮明な画面であることが確認できた。
Claims (13)
- 透明支持体上に、配向膜および光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートであって、該透明支持体の膜厚が20μm以上80μm未満及びその膜厚変動幅が±3%以内であり、該光学補償シートのRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)の値がそれぞれ35±25nm、35±25nm及び105±55nmの範囲にあり、かつ視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下であることを特徴とする光学補償シート。
ここでRe(0°)、Re(−40°)及びRe(40°)は、該光学異方性層のレターデーションが最小値を取る方向と法線を含む平面内で、法線方向、法線から最小値の方向に40°傾いた方向及び法線から逆に40°傾いた方向からそれぞれ測定した該光学補償シートのレターデーション値を表す。 - 該透明支持体の表面が、JISB0601−1994に基づく表面凹凸の算術平均粗さ(Ra)が0.1μm以下、及び最大高さ(Ry)が0.5μm以下であることを特徴とする請求項1に記載の光学補償シート。
- 該透明支持体が、長さ100〜5000m及び幅0.7〜2mの長尺品であって、かつ幅方向のカールが−10/m〜+10/mであり、残留溶剤量が1.5%以下であることを特徴とする請求項1または2に記載の光学補償シート。
- 該透明支持体が、式(I)で定義されるReの値が4〜200nm、かつ式(II)で定義されるRthの値が50〜400nmの範囲にあることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載の光学補償シート。
(I) Re=(nx−ny)×d
(II) Rth={(nx+ny)/2−nz}×d
[式中、nxは、透明支持体面内の遅相軸方向の屈折率であり;nyは、透明支持体面内の進相軸方向の屈折率であり;nzは、透明支持体の厚み方向の屈折率であり;そしてdは、透明支持体の厚さである]。 - 該透明支持体が、少なくとも2つの芳香族環を有する芳香族化合物を含有するセルロースアシレートフィルムであることを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の光学補償シート。
- 該透明支持体が、沸点120℃以下の水溶性有機溶媒、並びに界面活性剤及び相溶化剤の少なくともいずれかを含有するアルカリ溶液により表面処理されたものである事を特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載の光学補償シート。
- 請求項1〜6のいずれかに記載の光学補償シートであって、走行するウェブが液体で濡らした弾性体で連続的に擦られ、該弾性体で擦られた面に液体を噴射することによる除塵工程の後に、液晶層が塗設され、光学異方性層の配向が固定される工程によって製造されたものであることを特徴とする光学補償シート。
- 透明支持体上に、配向膜および光学異方性層をこの順序で積層して成る光学補償シートの製造方法であって、配向膜のラビング工程においてラビング部材の表面電位を検知しつつ、その静帯電電位が|1|KVを越えない範囲でラビングすることを特徴とする、視覚的な大きさが100μm以上である光学的欠陥の数が1m2当たり1個以下である光学補償シートの製造方法。
- 偏光膜、及びその両側に配置された2枚の透明保護膜からなる偏光板であって、該透明保護膜の一方が請求項1〜8のいずれかに記載の光学補償シートを用いたものであることを特徴とする偏光板。
- 請求項9記載の偏光板であって、光学補償シートと反対側の保護膜上に反射防止膜を設けてなることを特徴とする偏光板
- 液晶セル、及びその両側に配置された2枚の偏光板からなり、偏光板が偏光膜、及びその両側に配置された2枚の透明保護膜からなる液晶表示装置であって、液晶セルと偏光膜との間に配置される2枚の透明保護膜のうち少なくとも一方が請求項1〜7のいずれかに記載の光学補償シートを用いたものであることを特徴とする液晶表示装置。
- 請求項11記載の液晶表示装置であって、液晶セルの上側の偏光板の保護膜上に反射防止膜を設けて成る偏光板を付設してなることを特徴とする液晶表示装置。
- 該液晶セルがTNモード、VAモード、MVAモード、n−ASMモード、またはOCBモードの液晶セルであることを特徴とする請求項12に記載の液晶表示装置。
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2004
- 2004-06-07 JP JP2004168263A patent/JP2005037904A/ja active Pending
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