TWI451171B - 光學補償薄膜、偏光板及液晶顯示裝置 - Google Patents

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TWI451171B
TWI451171B TW096130414A TW96130414A TWI451171B TW I451171 B TWI451171 B TW I451171B TW 096130414 A TW096130414 A TW 096130414A TW 96130414 A TW96130414 A TW 96130414A TW I451171 B TWI451171 B TW I451171B
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Akinobu Ushiyama
Nobutaka Fukagawa
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Description

光學補償薄膜、偏光板及液晶顯示裝置
本發明係關於一種光學補償薄膜、偏光板及液晶顯示裝置。尤其,本發明係關於一種垂直配向型液晶顯示裝置、以及使用於該液晶顯示裝置之光學補償薄膜及偏光板。
利用VA模式之廣視角液晶顯示裝置業已實用化,因而在電視等之要求高品質影像的市場上,也急速地持續擴大液晶顯示裝置之需求。
VA模式液晶顯示裝置,與其他的液晶顯示模式比較之下,一般而言雖然是具有所謂高對比的優點,然而卻會有隨著視角而使得對比及色味之變化加大的問題。對於此點,例如,已揭示一種使用光學特性相異之2種類相位差薄膜,藉以提供即使在黑顯示時從斜方向觀察也是鮮明且無彩色之VA模式液晶顯示裝置之方法(例如,參照國際公開第2003/032060號手冊)。
但是,實際將前述2種類的相位差薄膜組入液晶顯示裝置之際,雖然多半與偏光板一體化地組入液晶顯示裝置,然而在此種情況下,則在製作偏光板之後,必須要有將2枚顯示預定的光學特性之相位差薄膜予以貼合之工程。因此,會有製造工程變繁雜、生產性降低、製造成本提高等之問題,於是尋求改良。
對於此點,例如,在特開2000-304931號公報上已提案以一種具有透明支撐體、和由碟狀液晶性分子形成的光學異方向性層之光學補償薄膜,來做為VA模式之液晶顯示裝置用光學補償薄膜。藉由使用醯化纖維素薄膜做為透明支撐體,可以將該醯化纖維素薄膜利用來做為偏光板之保護薄膜,並且可以解決上述生產性之問題。然而,為了得到VA模式的液晶顯示裝置之光學補償上必要的光學特性,則就必須使前述光學異方向性層之厚度達到某種程度厚,當藉由塗布來形成該光學異方向性層時,會有發生塗布不均的問題。又,在特開2005-128050號公報上,提案一種可做為於VA模式的液晶顯示裝置等之光學補償上使用的相位差板,其為含有在光學上具有負折射率異方向性、且前述折射率光學異方向性之絕對值為0.060以上~0.085以下、而Re值為-10~10奈米、更且相對於該相位差板的板面實質上水平配向之圓盤狀液晶化合物之相位差板。
再者,由高分子薄膜等形成的相位差板之遲滯,相對於任何的波長並非都是一樣的,而是隨著入射光的波長而產生某種程度的變化(以下,將此性質稱為「波長分散性」)。在高分子薄膜之中,包括當入射光波長變短時顯示出遲滯增加之波長分散性(以下,稱為「順分散性」)者、與當入射光波長變短時顯示出遲滯減少之波長分散性(以下,稱為「逆分散性」)之物。另一方面,液晶胞之複折射性方面也具有波長分散性,為了得到更理想的液晶胞之光學補償,則相位差板之遲滯的波長分散性也會有需要進行類似的調整之情況。例如,提案將負C板使用於VA模式液晶胞之黑顯示時的光學補償上,然而當負C板之厚度方向的遲滯(Rth)之波長分散性不與VA模液晶胞的波長分散性類似時,會隨著視角產生色味變化(有些情況稱為「色彩偏移」)。然而,向來做為VA模液晶胞的相位差板使用之聚合物薄膜,難以控制遲滯之波長分散性,且製作顯示出與液晶胞的複折射性相類似的理想波長分散性之相位差板是困難的。尤其,就聚合物薄膜而論,其是難以發現顯示出某種程度的絕對值大小的Rth、且該Rth的波長分散性為順分散性之光學特性;因而即使加入添加劑等加以控制,也會有不能同時控制波長分散和Rth之問題。又,在聚合物薄膜上形成光學異方向性層以製做光學補償薄膜的情況下,也難免會有光學異方向性層之波長分散性因聚合物薄膜之波長分散性而降低,因而難以得到整體預定的波長分散性。在像這樣的狀況下,於是要求提供一種對於各種模式、尤其是VA模式之液晶胞而言具有優異的光學補償薄能力之光學補償薄膜。
又,為了消除主要使在從斜方向觀看的情況之垂直尼科耳(Nicol)狀態的偏光板成為外觀上不是垂直狀態的原因,於是在IWD’02第525~527頁上提案一種使用負C板並加上使用逆分散性之正A板的方法。像這樣的逆分散性之正A板,係以純輔助WR(帝人化成(股)公司)之商品名販售。
本發明之課題在於提供一種於VA模式的液晶顯示裝置之光學補償上有用的新穎性光學補償薄膜、及偏光板、以及具有彼之視角特性已改善的VA模式之液晶顯示裝置。
又,經由本發明人研究的結果,明白:在使用逆分散性之正A板和負C板以光學補償VA模式之液晶胞的情況下,就負C板而言,需要厚度方向的遲滯為比使用於液晶胞的液晶之波長分散性更陡峭坡度之順分散性。
從而,本發明之第1態樣係以提供一種生產性高、無或者少光學特性及膜厚度之不均、且可以正確地光學補償液晶胞、尤其VA模式之液晶胞的光學補償薄膜做為課題,以及以提供一種使用它之偏光板。又,本發明之第1態樣也以提供一種無或者少因光學補償薄膜而引起顯示不均、且光學補償已良好的顯示特性之顯示裝置做為課題,尤其是以提供一種VA模式之液晶顯示裝置做為課題。
又,本發明人研究的結果,明白:向來做為VA模式的液晶胞之相位差板使用的聚合物薄膜,難以控制遲滯的波長分散性,因而製做一種顯示出與液晶胞之複折射波長分散性(通常是順分散性)同等或更陡峭坡度的波長分散性之相位差板是困難的,尤其,就聚合物薄膜而論,其是難以發現顯示出某種程度的絕對值大小的Rth、且該Rth的波長分散性為順分散性之光學特性;因而即使加入添加劑等加以控制,也會有不能同時控制波長分散和Rth之問題。
從而,本發明之第2態樣係以提供一種在光學補償(例如,VA模式之液晶胞的黑顯示時之光學補償)液晶胞上具有足夠的Rth,而它的波長分散性為顯示出順分散性、且能夠安定地製造之具備做為C板功能之光學補償薄膜做為課題。又,本發明之第2態樣也以提供於液晶顯示裝置做為課題,尤其是以提供一種VA模式的液晶顯示裝置之光學補償上有用的、且生產性亦優異的光學補償薄膜及偏光板做為課題。又,本發明之第2態樣亦以提供一種對於視角特性、尤其視角依存性之色味變化已減輕的液晶顯示裝置做為課題,特別是以提供一種VA模式的液晶顯示裝置做為課題。
又,本發明人研究結果,明白:當使用碟狀液晶而在長條支撐體上連續地形成光學異方向性層時,為了得到所需要的光學特性(尤其是高Rth值),由於塗布膜厚度變厚的綠故,因而發生塗布不均的問題。
從而,本發明之第3態樣係以提供一種沒有不均、且可以正確地光學補償液晶胞之光學補償薄膜做為課題,以及以提供一種使用該光學補償薄膜之偏光板及液晶顯示裝置做為課題,特別是以提供一種VA模式的液晶顯示裝置做為課題。
用以解決前述課題之手段係如以下所述。
〔1〕一種光學補償薄膜,其係在聚合物薄膜上具有至少一層的光學異方向性層之光學補償薄膜,面內遲滯為0~10奈米及厚度方向之遲滯為100~300奈米,且前述之薄膜滿足以下之關係式(1-1)~(1-3);式(1-1)-50 nm≦Rth(590)≦150 nm 式(1-2)-5 nm≦Rth(450)-Rth(550) 式(1-3)0≦Re(590)≦10 nm。
〔2〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中薄膜係更進一步地滿足以下之關係式(1-4)~(1-5);式(1-4)20 nm≦Rth(590)≦120 nm 式(1-5)1.0<Rth(450)/Rth(550)<4.0。
〔3〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中薄膜為含有以醯化纖維素為主的醯化纖維素系薄膜。
〔4〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有1質量%~30質量%之在250奈米~400奈米之波長區域具有極大吸收的波長分散控制劑之聚合物薄膜。
〔5〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有以下述式(B-1)所代表的化合物中之至少一種的聚合物薄膜; 式中,R1 及R2 係分別代表烷基或芳基。
〔6〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有以醯基取代度為2.90~3.00之醯化纖維素為主的醯化纖維素系薄膜。
〔7〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有以總醯基取代度為2.70~3.00之混合脂肪酸酯為主的醯化纖維素系薄膜。
〔8〕如〔1〕之光學補償薄膜,其係滿足下述式(1-6);式(1-6)1.06≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
〔9〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係滿足下述下述式(1-7)式(1-7)1.09≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
〔10〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係使含有碟狀液晶之聚合性組成物硬化而形成的層,在前述光學異方向性層之中,前述之碟狀液晶係在將其圓盤面配向成相對於層面而言為水平之狀態下被固定。
〔11〕如〔1〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係在光學活性向列型(膽固醇型)液晶相之狀態下,藉由聚合來固定含有液晶之聚合性組成物而形成之層。
〔12〕〔1〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係塗布高分子材料而形成之聚合物層,該聚合物層係具有負折射率異方向性,並且在層面之法線方向上具有光軸。
〔13〕如〔1〕光學補償薄膜,其光學異方向性層係包括含氟界面活性劑。
〔14〕一種偏光板,其係具有如〔1〕~〔13〕中任一項之光學補償薄膜。
〔15〕一種C板之光學補償薄膜,其係具有透明支撐體C1及光學異方向性層C2,且滿足下述式(2-1)~(2-4);(2-1)0≦Re630 (C1)≦10 (2-2)0≦Re550 (C2)≦10 (2-3)100≦Rth550 (C2)-Rth550 (C1) (2-4)| Rth450 (C2)/Rth550 (C2)-Rth450 (C)/Rth550 (C)|≦0.1〔式中,Re λ(C1)為透明支撐體C1之在波長λ奈米處的正面遲滯值(單位:奈米),Rth λ(C1)為透明支撐體C1之在波長λ奈米處的膜厚度方向之遲滯值(單位:奈米),Re λ(C2)為光學異方向性層C2之在波長λ奈米處之正面遲滯值(單位:奈米),Rth λ(C2)為光學異方向性層C2之在波長λ奈米處的膜厚度方向之遲滯值(單位:奈米)〕,Rth λ(C)為光學補償薄膜(C1和C2的積層體)之在波長λ奈米處的膜厚度方向之遲滯值(單位:奈米)〕。
〔16〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中透明支撐體C1及光學異方向性層C2係滿足下述式(2-5)~(2-8);(2-5)-25≦Rth630 (C1)≦25 (2-6)100≦Rth550 (C2)≦300 (2-7)-35≦Rth400 (C1)-Rth700 (C1)≦50 (2-8)1.04≦Rth450 (C2)/Rth550 (C2)≦1.30。
〔17〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中透明支撐體C1及/或光學異方向性層C2係負C板。
〔18〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中透明支撐體C1係由醯化纖維素類之薄膜、降烯系聚合物類之薄膜、環烯烴聚合物類之薄膜、內酯環含有聚合物系樹脂薄膜或聚碳酸酯類之薄膜所形成。
〔19〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層C2係將含有聚合性液晶化合物之至少一種的聚合性液晶組成物,於液晶相之狀態下予以固定而形成的層。
〔20〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層C2係將含有棒狀液晶化合物之聚合性液晶組成物,於膽固醇相之狀態下予以固定而形成的層。
〔21〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層C2係將含有膽固醇液晶化合物之聚合性液晶組成物,於使得該碟狀液晶化合物之分子垂直配向(homeotropic alignment)成向列液晶相之狀態下予以固定而形成的層。
〔22〕如〔19〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層C2係更進一步地含具有包括下述一般式(a)之重複單位的氟系聚合物之化合物; 在一般式(a)中,R1 、R2 及R3 為分別獨立地代表氫原子或取代基;Q係具有含至少一個苯基之羧基(-COOH)或其鹽、磺酸基(-SO3 H)或其鹽、磷酸氧基{-OP(=O)(OH)2 }或其鹽、親水性基(-OH)、或丙烯醯胺(-NR4 -(R4 係代表氫原子、烷基、芳基或芳烷基));L係代表從下述的連結基群中選出之任何的基、或彼等之2個以上組合而形成的2價之連結基;(連結基群)單鍵、-O-、-CO-、-S-、-SO2 -、-P(=O)(OR5 )-(R5 係代表烷基、芳基或芳烷基)、伸烷基、伸芳基。
〔23〕如〔19〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層C2係由更進一步地含有具2個以上之官能基的多官能單體之前述聚合性液晶組成物所形成的層。
〔24〕如〔15〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層C2係聚合物薄膜層。
〔25〕一種光學補償薄膜,其係在聚合物薄膜基材上具有光學異方向性層之光學補償薄膜,而面內遲滯(Re)為0~10奈米,厚度方向之遲滯(Rth)為100~300奈米,且該光學異方向性層之Rth/d(厚度方向之遲滯除以膜厚度之比例值)為0.065~0.16。
〔26〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層之Rth/d為0.085~0.16。
〔27〕如〔25〕之光學補償薄膜,其係滿足下述式(3-1);式(3-1)1.03≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
〔28〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係滿足下述式(3-2);式(3-2)1.06≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
〔29〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係由聚合性組成物所形成。
〔30〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係含有光聚合起始劑,該光聚合起始劑之感光域為在330奈米~450奈米之範圍,且該光聚合起始劑係產生鹵素游離基或除氫以外的原子數為8以下之烴游離基。
〔31〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係含有具4個以上之雙鍵的多官能單體。
〔32〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係為包括具有聚合性基的碟狀液晶性化合物之組成物,且在前述光學異方向性層之中,該碟狀液晶性化合物之碟狀構造單位相對於聚合物薄膜基材面而言為水平配向。
〔33〕如〔32〕之光學補償薄膜,其中碟狀液晶性化合物係以下述式(I)為代表的化合物。 〔式中,A1 及A2 係相互獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳原子數為1~12之烷基、或碳原子數為1~12之烷氧基;Y係表示氫原子、鹵素原子、碳原子數為1~12之烷基、碳原子數為1~12之烷氧基、碳原子數為2~13之醯基、或碳原子數為1~12之烷胺基、或碳原子數為2~13之醯氧基;或者也可以是A2 與Y鍵結而形成五員環或六員環;Z係表示鹵素原子、碳原子數為1~12之烷基、碳原子數為1~12之烷氧基、碳原子數為2~13之醯基、或碳原子數為1~12之烷胺基、或碳原子數為2~13之醯氧基;L係表示-O-、-CO-、-S-、-NH-、伸烷基、伸烯基、伸炔基、伸芳基及由此等組合而成之群組中所選出的二價連結基;Q係表示聚合性基;a係表示1~4之整數;b係表示0~(4-a)之整數〕。
〔34〕如〔29〕之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係包括光學活性向列型(膽固醇型)液晶性化合物。
〔35〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係包括含有氟基脂肪族的聚合物。
〔36]如〔25〕之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係包括在塗布之際具有負的折射率異方向性、且在面的法線方向上具有光軸之高分子材料。
〔37〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜基材之厚度方向的遲滯係-25~25奈米。
〔38〕如〔25〕之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係醯化纖維素薄膜。
〔39〕一種偏光板,其係具有如〔1〕~〔38〕中任一項之光學補償薄膜。
〔40〕一種液晶顯示裝置,其係具有吸收軸相互垂直的二枚偏光膜、及在前述二枚偏光板之間,具有一對基板及被挾持在該基板間的含有液晶性分子之液晶層,並且在不施加外部電場的非驅動狀態下,前述液晶性分子係配向成相對於前述基板而言為略呈垂直的方向之液晶胞、與如〔1〕至〔38〕中任一項之光學補償薄膜,或者前述偏光板中之一者為如〔39〕之偏光板。
〔41〕如〔40〕之液晶顯示裝置,其中液晶顯示裝置係更進一步地具有第二光學補償薄膜,前述第二光學補償薄膜為由高分子拉伸薄膜構成,正面遲滯及厚度方向之遲滯係滿足下述式(8)及下述式(9):式(8)70≦Re(550)≦180 式(9)30≦Rth(550)≦140。
〔42〕如〔40〕之液晶顯示裝置,其中第二光學補償薄膜係滿足下述式(10):式(10)0.7≦Re(450)/Re(550)≦1.0。
〔43〕如〔41〕之液晶顯示裝置,其中第二光學補償薄膜係由醯化纖維素薄膜、降烯系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、聚酯系薄膜及聚碸系薄膜之任何種類所構成。
〔44〕如〔41〕之液晶顯示裝置,其中第二光學補償薄膜係使其面內遲相軸相對於該偏光膜的吸收軸而言呈垂直地被直接積層在偏光膜之一側上。
依照本發明的話,可以提供一種於VA模式之液晶顯示裝置的光學補償上為有用的新穎性光學補償薄膜、及偏光板、以及具有它之視角特性已改善的VA模式之液晶顯示裝置。
尤其,依照本發明之第1態樣,能夠提供一種生產性高、無或者少光學特性及膜厚度之不均、且可以正確地光學補償液晶胞、尤其VA模式之液晶胞的光學補償薄膜,以及提供一種使用它之偏光板。又,依照本發明之第1態樣,能夠提供一種無或者少因光學補償薄膜而引起顯示不均、且光學補償已良好的顯示特性之顯示裝置,尤其是能夠提供一種VA模式之液晶顯示裝置。
尤其,依照本發明之第2態樣,能夠提供一種在光學補償(例如,VA模式之液晶胞的黑顯示時之光學補償)液晶胞上具有足夠的Rth,而它的波長分散性為顯示出順分散性、且能夠安定地製造之具備做為C板功能之光學補償薄膜。又,依照本發明之第2態樣的話,能夠提供一種於液晶顯示裝置、尤其是在VA模式的液晶顯示裝置之光學補償上有用的、且生產性亦優異的光學補償薄膜及偏光板。又,依照本發明之第2態樣的話,能夠提供一種對於視角特性、尤其視角依存性之色味變化已減輕的液晶顯示裝置、特別是VA模式的液晶顯示裝置。
尤其,依照本發明之第3態樣,能夠提供一種沒有不均之薄膜、且可以正確地光學補償液晶胞之光學補償薄膜。又,本發明之第3態樣的光學補償薄膜或含有具備該薄膜之偏光板的液晶顯示裝置、特別是VA模式的液晶顯示裝置,其視角特性是優異的。
【發明之實施形態】
以下,依序說明本發明之液晶顯示裝置的一實施形態及其構成部材。另外,在本說明書中,使用「~」所代表的數值之範圍,係表示包括以記載於「~」前後的數值做為下限值及上限值之範圍的意思。
在本說明書中,所謂的「平行」、「垂直」係指在小於嚴密的角度±10°之範圍的意思。此範圍較宜是與嚴密角度間之誤差小於±5°,更宜是小於±2°。「實質上平行」、「實質上直交」、「實質上垂直」也代表同樣的意思。又,「遲相軸」係指折射率成為最大之方向的意思。另外,折射率及相位差之測定波長,在沒有特別的說明時,其為可見光域之λ=590 nm的值。
在本說明書中所謂的「偏光板」,當未特別說明時,其係包括長條偏光板及裁切成組入於液晶裝置中的大小(在本說明書中,「裁切」也包括「沖壓(punching)」及「切割」等)之偏光板兩者的意思。又,在本說明書中,雖然區別地使用「偏光膜」及「偏光板」,然而「偏光板」係指在「偏光膜」之至少一單面上具有保護該偏光膜的透明保護膜之積層體的意思。
又,在本說明書中,「(甲基)丙烯酸酯」之記載係代表「丙烯酸酯及甲基丙烯酸酯中之至少任一種」的意思。「(甲基)丙烯酸」也是同樣。
在本說明書中,Re(λ)及Rth(λ)係各別表示波長λ之面內的遲滯及厚度方向的遲滯。測定波長λ奈米可以是在可見光區域之範圍,具體而言,只要是在400~800奈米之範圍內任何的波長均可,然而較宜是在400~750奈米之範圍,更宜是在400~700奈米之範圍。在本說明書中,在沒有特別指明時,Re、Rth係指在530~600奈米測定之值(或以此值為基礎所計算出來的值)。面內的遲滯(Re)係使得在KOBRA 21ADH或WR(王子計測機器(股)公司)中,波長λ奈米的光入射於薄膜法線方向所測定的值。在被測定的薄膜係代表1軸或2軸之折射率楕圓體之物的情況下,則依照以下方法來計算出Rth。
Rth係對於以面內遲相軸(依照KOBRA 21ADH或WR來決定)作為傾斜軸(旋轉軸)(在沒有遲相軸的情況下,則以薄膜面內之任意方向作為旋轉軸)的薄膜法線方向,從法線方向到單側50度為止,以每10度一個間隔(step),測定分別從其傾斜方向入射波長λ奈米的光之前述Re,全部共測定6點,基於所測定的遲滯值、平均折射率之假設值、及輸入之薄膜厚度值,藉由KOBRA 21ADH或WR而計算出來的。
在上述之中,當從法線方向、以面內遲滯軸作為旋轉軸、具有在某傾斜角度上之遲滯為零之方向的薄膜之情況下,則將比該傾斜角大之角度的遲滯之符號改為負以後,再藉由KOBRA 21ADH或WR而計算出來。
另外,可以遲相軸作為傾斜軸(旋轉軸)(若無遲相軸則以薄膜面內之任意方向作為旋轉軸),從任意2個傾斜方向測量遲滯值,基於該值、平均折射率之假設值及輸入之薄膜厚度值(d),依照以下之式(1)及(2)計算Rth。
式(2)Rth=((nx+ny)/2-nz)×d
在上述式中的Re(θ )係表示自法線方向傾斜θ 角度之方向的遲滯值。
在上述式中的nx係表示面內遲相軸方向之折射率,ny係表示面內中垂直於nx方向之折射率,nz係表示垂直於nx與ny方向之折射率。d係表示薄膜厚度。
當所測量薄膜無法以1或2軸之折射率橢圓體表現,即無所謂的光軸(opticaxis)之薄膜的情況下,則依照以下方法計算Rth。Rth係以面內遲相軸(依照KOBRA 21ADH或WR來決定)作為傾斜軸(旋轉軸),相對於薄膜法線方向從-50度到+50度為止,以每10度一個間隔(step),分別測定從其傾斜方向入射波長λ奈米的光之前述Re,全部共測定11點,基於所測定的遲滯值、平均折射率之假設值及輸入之薄膜厚度值,藉由KOBRA 21ADH或WR而計算出來的。藉由此所計算出的nx、ny及nz,更進一步地計算出Nz=(nx-nz)/(nx-ny)。另外,在本說明中,未特別指明時,測定波長是590奈米、於25℃、60%RH之測定值。
.第1態樣
〔第1態樣之光學補償薄膜〕本發明的第1態樣之光學補償薄膜係為在聚合物薄膜上具有至少一層的光學異方向性層之光學補償薄膜。本發明的第1態樣之光學補償薄膜係實質上沒有面內之遲滯、具有負的折射率異方向性、並在法線方向上具有光軸。本發明的第1態樣之光學補償薄膜之面內遲滯Re係0~10奈米,更宜是0~5奈米,特佳為0~3奈米。厚度方向的Rth係100~300奈米,更宜是120~270奈米,特佳為150~240奈米。就VA模式之液晶顯示裝置用光學補償薄膜的態樣而言,光學補償薄膜之波長分散性Rth(450)/Rth(550)較宜是1.06以上,更宜是1.09以上,更理想是1.12以上,又更理想是1.15以上。此處,Rth(450)係表示對於波長450奈米之光的Re值;Re(550)係表示對於波長550奈米之光的Re值。當滿足上述波長分散特性之條件時,則於可見光全域之範圍,均能夠補償VA模式之液晶顯示裝置。
以下,對於本發明的第1態樣之光學補償薄膜之要素的聚合物薄膜及光學異方向性層,分別詳細地說明。
〔聚合物薄膜〕本發明的第1態樣之光學補償薄膜所具有的聚合物薄膜,係滿足下述式(1-1)~(1-3)。
-50 nm≦Rth(590)≦150 nm………式(1-1) -5 nm≦Rth(450)-Rth(550)………式(1-2) 0≦Re(590)≦10 nm………式(1-3)
在式(1-1)中,Rth(590)較宜是-20奈米以上,更宜是0奈米以上,更理想是20奈米以上,特佳為40奈米以上。又,Rth(590)較宜是120奈米以下,更宜是100奈米以下,特佳為90奈米以下。
在式(1-2)中,〔Rth(450)-Rth(550)〕較宜是-5奈米以上,更宜是0奈米以上,特佳為5奈米以上;上限值雖然沒有特別地限定,然而較宜是100奈米以下,更宜是50奈米以下,更理想是30奈米以下。
在式(1-3)中,Re(590)較宜是0~5奈米。
又,當Rth(590)為20奈米以上時,較宜是滿足下述式(1-5)。
1.0<Rth(450)/Rth(550)<4.0 式(1-5)
Rth(450)/Rth(550)較宜是1.03以上,更宜是1.06以上,特佳為1.09以上。又,Rth(450)/Rth(550)較宜是3.0以下,更宜是2.0以下,特佳為1.5以下。
關於前述之聚合物薄膜的材料係沒有特別地限定,可以使用滿足上述光學特性之各式各樣的材料所形成的聚合物薄膜。其中,從原材料價格便宜及偏光板加工適性的觀點來看,較宜是醯化纖維素系薄膜。另外,在本說明書中,所謂「醯化纖維素系薄膜」係表示在構成薄膜的聚合物組成物之中所含有主成分之醯化纖維素,具體來說,含有相對於薄膜總重量而言為70質量%以上,較宜是80質量%以上之醯化纖維素。在本說明書中,以下所謂之「主要包括」、「主成分」係代表同樣的意思。
醯化纖維素係指纖維素中之氫氧基的一部分或全部為醯基所取代之物。所謂醯化纖維素之取代度係指存在於纖維素之構成單位((β)1,4-縮水甘油鍵結之葡萄糖)中的3個氫氧基經醯化之比例的意思。取代度(醯化度)係可以測定纖維素之每構成單位質量之結合脂肪酸量而計算出來。測定方法係以「ASTM D 817-91」為基準來實施。
於前述聚合物薄膜的原料中使用之其他的較佳醯化纖維素,係總醯基取代度為2.70~3.00之混合脂肪酸酯。更佳者是總醯基取代度為2.80~3.00、且碳原子數為3~4之具有醯基的混合脂肪酸酯。前述混合脂肪酸酯的醯基取代度,更宜是2.85~2.97。又,碳原子數為3~4之醯基取代度較宜是0.1~2.0,更宜是0.3~1.5。
在本發明之第1態樣中所使用的醯化纖維素較宜是具有350~800之質量平均聚合度,更宜是具有370~600之質量平均聚合度。又,在本發明之第1態樣中所使用的醯化纖維素較宜是具有70,000~230,000之數平均分子量,更宜是具有75,000~230,000之數平均分子量,最好是具有78,000~120,000之數平均分子量。
本發明之第1態樣所使用的醯化纖維素,係可以使用酸酐及酸氯化物做為醯化劑而合成。在前述之醯化劑為酸酐的情況下,係使用有機酸(例如,醋酸)及二氯甲烷來做為反應溶劑。又,可以使用像硫酸這樣的質子性觸媒來做為觸媒。在醯化劑為酸氯化物的情況下,則可以使用鹼性化合物來做為觸媒。工業上最為一般的合成方法,其係藉由含有乙醯基及對應於其他的醯基之有機酸(醋酸、丙酸、丁酸)或彼等之酸酐(醋酸酐、丙酸酐、丁酸酐)之混合有機酸成分,將纖維素予以酯化來合成醯化纖維素。
在此方法之中,如綿花短絮(linter)及木材紙漿這樣的纖維素,大多數的情況是以像醋酸這樣的有機酸將它予以活性化處理後,於硫酸觸媒之存在下,使用如以上所述的有機酸成分之混合液來進行酯化。有機酸配成分,相對於纖維素中所存在的氫氧基量而言,一般是過量使用。在此酯化處理中,除進行酯化反應,尚且進行纖維素主鏈((β)1,4-縮水甘油鍵)之水解反應(解聚合反應)。當進行主鏈之水解反應時,纖維素酯的聚合度會下降,並且所製造的纖維素酯薄膜的物性會下降。因此,如反應溫度等之反應條件較宜是考慮所得到的纖維素酯的聚合度及分子量而加以決定。
為了得到聚合度高(分子量大)之纖維素酯,則將酯化反應步驟中的最高溫度調節在50℃以下是重要的事。最高溫度較宜是調節成35~50℃,更宜是調節成37~47℃。如果反應溫度是35℃以上的話,由於酯化反應為圓滑地進行的緣故,所以較佳。又,如果反應溫度是50℃以下的話,由於不會產生纖維素酯的聚合度下降等之不合適的緣故,所以較佳。
當在酯化反應後,一邊抑制溫度上昇一邊停止反應時,則可以更進一步地抑制聚合度之下降,並可以合成高聚合度之纖維素酯。也就是說,當在反應終了後添加反應停止劑(例如,水、醋酸)時,則與酯化反應無關的過量酸酐會對應於水解而附帶產生有機酸。此種水解反應會隨著激烈的發熱而使得反應裝置內的溫度上昇。若反應停止劑的添加速度沒有過大的話,就不會發生超過反應裝置之冷卻能力而急劇地發熱、纖維素主鏈之水解反應顯著地進行、所得到的纖維素酯的聚合度下降等之問題。又,在酯化反應中,一部分的觸媒與纖維素鍵結,而大部分則在反應停止劑之添加中從纖維素解離出來。此時,若反應停止劑之添加速度沒有過大的話,則可確保觸媒解離上所需之充分反應時間,因而就難以發生一部分之觸媒鍵結於纖維素的狀態而殘留等之問題。部分鍵結有強酸觸媒之纖維素酯,其安定性非常不良,容易因製品乾燥時之熱等而分解以致聚合度下降。由於此等之理由,酯化反應後,較宜是以4分鐘以上、更宜是以4~30分鐘的時間來添加反應停止劑,期望停止反應。另外,若反應停止劑之添加時間是30分鐘以下的話,由於不會產生工業生產性下降等之問題,所以較佳。
反應停止劑,一般係可以使用分解酐之水及醇。但是,為了不使對各種有機溶劑之溶解性低的三酯析出,則較宜是使用水和有機酸之混合物來做為反應停止劑。當於像以上這樣的條件下實施酯化反應時,即可以容易地合成質量平均聚合度為500以上之高分子量纖維素酯。
在使用醯化纖維素系薄膜來做為前述之聚合物薄膜的情況下,該薄膜較宜是含有波長分散控制劑。此處所謂的「波長分散控制劑」係為調節薄膜之遲滯的波長分散之化合物。在本發明之第1態樣中使用的波長分散控制劑較宜是在250奈米~400奈米之波長範圍具有極大吸收的化合物,更宜是在270奈米~380奈米之波長範圍具有極大吸收的化合物。前述波長分散控制劑之極大吸收係為在二氯甲烷、甲醇或四氫呋喃中,以0.01克/升~0.1克/升之濃度進行溶解,使用島津製作所(股)製之分光光度計UV-3500等測定吸收光譜時所顯示的值。
前述之波長分散控制劑較宜是以一般式(Ⅲ)~(Ⅵ)所代表的化合物;其中,更宜是以一般式(Ⅲ)所代表的化合物。
式中,Q1 及Q2 係分別代表芳香族環。X係代表O(氧原子)、S(硫原子)或NR(N:氮原子,R:氫原子或取代基);Y係代表取代基。Y較宜是氫原子。XY也可以是氫原子。
以Q1 及Q2 所代表的芳香族環可以是芳香族烴環,也可以是芳香族雜環。又,此等可以是單環,也可以是更進一步地與其他的環形成縮合環。
做為以Q1 及Q2 所代表的芳香族烴環者,較佳係碳數為6~30之單環或二環的芳香族烴環(舉例來說,例如,苯環、萘環等),更佳是碳原子數為6~20之芳香族烴環,更理想是碳原子數為6~12之芳香族烴環。在此等之中,較宜是單環,特佳為苯環。
做為以Q1 及Q2 所代表的芳香族雜環者,較宜是至少含有氧原子、氮原子或硫原子中之任何一個的芳香族雜環。雜環之具體例子,舉例來說,例如,呋喃、吡咯、噻吩、咪唑、吡唑、吡啶、吡、嗒、三唑、三氮、吲哚、吲唑、嘌呤、噻唑啉、噻唑、噻二唑、噁唑啉、噁唑、噁二唑、喹啉、異喹啉、酞、萘啶、喹噁啉、喹唑啉、啉、喋啶、吖啶、啡啉、啡、四唑、苯并咪唑、苯并噁唑、苯并噻唑、苯并三唑、四吖茚等之各環。做為芳香族雜環者,較佳為吡啶、三氮、喹啉等。
做為以Q1 及Q2 所代表的芳香族環者,較佳為芳香族烴環,更宜是碳原子數為6~12之芳香族烴環,更理想是經取代或未經取代之苯環。
Q1 和Q2 係可以具有取代基,較宜是後述之取代基T,在可能的情況下,取代基彼此也可以連結而形成環構造。但是,在取代基中不含羧酸或磺酸、四級銨鹽。此等親水性基之溶解性低、又且是致使透水率惡化的原因。
X係代表NR(R係代表氫原子或取代基,該取代基可適用後述之取代基T)、氧原子或硫原子;X較佳為NR(R較佳為醯基、磺醯基,且此等之取代基也可以更進一步地加以取代)或氧原子,特佳為氧原子。
做為取代基T者,舉例來說,例如,其可以是烷基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~12,特佳為1~8,舉例來說,例如,甲基、乙基、iso-丙基、tert-丁基、n-辛基、n-癸基、n-十六烷基、環丙基、環戊基、環己基等);烯基(較佳為碳原子數為2~20,更佳為2~12,特佳為2~8,舉例來說,例如,乙烯基、烯丙基、2-丁烯基、3-戊烯基等);炔基(較佳為碳原子數為2~20,更佳為2~12,特佳為2~8,舉例來說,例如,炔丙基、3-戊炔基等);芳基(較佳為碳原子數為6~30,更佳為6~20,特佳為6~12,舉例來說,例如,苯基、p-甲基苯基、萘基等);取代或未取代之胺基(較佳為碳原子數為0~20,更佳為0~10,特佳為0~6,舉例來說,例如,胺基、甲基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、二苯甲基胺基等);烷氧基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~12,特佳為1~8,舉例來說,例如,甲氧基、乙氧基、丁氧基等);芳氧基(較佳為碳原子數為6~20,更佳為6~16,特佳為6~12,舉例來說,例如,苯氧基、2-萘氧基等);醯基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,乙醯基、苯甲醯基、甲醯基、三甲基乙醯基等);烷氧基羰基(較佳為碳原子數為2~20,更佳為2~16,特佳為2~12,舉例來說,例如,甲氧基羰基、乙氧基羰基等);芳氧基羰基(較佳為碳原子數為7~20,更佳為7~16,特佳為7~10,舉例來說,例如,苯氧基羰基等);醯氧基(較佳為碳原子數為2~20,更佳為2~16,特佳為2~10,舉例來說,例如,乙醯氧基、苯甲醯氧基等);醯胺基(較佳為碳原子數為2~20,更佳為2~16,特佳為2~10,舉例來說,例如,乙醯基胺基、苯甲醯胺基等);烷氧基羰基胺基(較佳為碳原子數為2~20,更佳為2~16,特佳為2~12,舉例來說,例如,甲氧基羰基胺基等);芳氧基羰基胺基(較佳為碳原子數為7~20,更佳為7~16,特佳為7~12,舉例來說,例如,苯氧基羰基胺基等);磺醯基胺基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,甲磺醯基胺基、苯磺醯基胺基等);胺磺醯基(較佳為碳原子數為0~20,更佳為0~16,特佳為0~12,舉例來說,例如,胺磺醯基、甲基胺磺醯基、二甲基胺磺醯基、苯基胺磺醯基等);胺甲醯基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,胺甲醯基、甲基胺甲醯基、二乙基胺甲醯基、苯基胺甲醯基等);烷硫基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,甲硫基、乙硫基等);芳硫基(較佳為碳原子數為6~20,更佳為6~16,特佳為6~12,舉例來說,例如,苯硫基等);磺醯基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,甲磺醯基、甲苯磺醯基等);亞磺醯基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,甲亞磺醯基、苯亞磺醯基等);脲基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,脲基、甲基脲基、苯基脲基等);磷酸醯胺基(較佳為碳原子數為1~20,更佳為1~16,特佳為1~12,舉例來說,例如,二乙基磷酸醯胺基、苯基磷酸醯胺基等);羥基、氫硫基、鹵素原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子);氰基、硝基、氧肟酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基;雜環基(較佳為碳原子數為1~30,更佳為1~12,雜原子,舉例來說,例如,氮原子、氧原子、硫原子,具體而言,例如,其可以是咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、哌啶基、嗎啉基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基等);矽烷基(較佳為碳原子數為3~40,更佳為3~30,特佳為3~24,舉例來說,例如,三甲基矽烷基、三苯基矽烷基等)等。此等之取代基也可以藉由上述的取代基T而更進一步地加以取代。又,在取代基為兩個以上的情況下,則可以是相同,也可以是不同。又,在可能的情況下,也可以互相連結而形成環。
做為一般式(Ⅲ)者,較宜是以下述之一般式(Ⅲ-A)所代表的化合物。
一般式(Ⅲ-A)
式中,R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 及R9 係分別獨立地代表氫原子或取代基。
R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、R7 、R8 及R9 係分別獨立地代表氫原子或取代基,而做為取代基者係可以適用前述之取代基T。又,此等之取代基也可以更進一步地藉由其他的取代基加以取代,也可以取代基彼此進行縮環而形成環。
做為R1 、R3 、R4 、R5 、R6 、R8 及R9 者,較宜是氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未經取代之胺基、烷氧基、芳氧基、羥基、鹵素原子;更宜是氫原子、烷基、芳基、烷氧基、芳氧基、鹵素原子;更理想是氫原子、碳原子數為1~12之烷基;特佳為氫原子、甲基;最佳為氫原子。
做為R2 者,較宜是氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未經取代之胺基、烷氧基、芳氧基、羥基、鹵素原子;更宜是氫原子、碳原子數為1~20之烷基、碳原子數為0~20之取代或未經取代之胺基、碳原子數為1~12之烷氧基、碳原子數為6~12之芳氧基、羥基;更理想是碳原子數為1~20之烷氧基;特佳為碳原子數為1~12之烷氧基。
做為R7 者,較宜是氫原子、烷基、烯基、炔基、芳基、取代或未經取代之胺基、烷氧基、芳氧基、羥基、鹵素原子;更宜是氫原子、碳原子數為1~20之烷基、碳原子數為0~20之取代或未經取代之胺基、碳原子數為1~12之烷氧基、碳原子數為6~12之芳氧基、羥基;更理想是氫原子、碳原子數為1~20之烷基(較宜是碳原子數為1~12,更宜是碳原子數為1~8,更理想是甲基);特佳為甲基、氫原子。
做為一般式(Ⅲ)者,更宜是以下述之一般式(Ⅲ-B)所代表的化合物。
式中,R10 係表示氫原子、取代或未經取代之烷基、取代或未經取代之烯基、取代或未經取代之炔基、取代或未經取代之芳基。
R10 係表示氫原子、取代或未經取代之烷基、取代或未經取代之烯基、取代或未經取代之炔基、取代或未經取代之芳基;做為取代基者係可以適用前述之取代基T。
做為R10 者,較宜是取代或未經取代之烷基,更宜是碳原子數為5~20的取代或未經取代之烷基,更理想是碳原子數為5~12的取代或未經取代之烷基(舉例來說,例如,n-己基、2-乙基己基、n-辛基、n-癸基、n-十二烷基、苯甲基等),特佳為碳原子數為6~12的取代或未經取代之烷基(舉例來說,例如,2-乙基己基、n-辛基、n-癸基、n-十二烷基、苯甲基等)。
以一般式(Ⅲ)所代表的化合物係可以藉由特開平11-12219號公報所記載的公知方法來合成。
以下,列舉以一般式(Ⅲ-A)所代表的化合物之具體例子,然而在本發明之第1態樣中所使用的化合物,未限定於下述之任何具體例子而已。
在本發明之第1態樣中,從揮發性的觀點來看,其係可以使用以上述一般式(Ⅲ)所代表的化合物中之分子量為250~1000之物;更宜是分子量為260~800、更理想是分子量為270~700、特佳是分子量為300~600之物。
一般式(Ⅳ)
在式(Ⅳ)中,R1 、R2 、R3 、R4 及R5 係分別為一價之有機基,R1 、R2 及R3 中之至少一個是總碳原子數為10~20之未取代的分枝或直鏈之烷基。
在式(V)中,R1 、R2 、R3 、R4 及R5 係分別為一價之有機基,R6 是分枝的烷基。
又,也較宜是於特開2003-315549號公報上所記載的以下述一般式(Ⅵ)所代表的化合物,因而可以使用。
在式(Ⅵ)中,R0 及R1 係分別表示氫原子、碳原子數為1~25之烷基、碳原子數為7~9之苯基烷基、未取代或碳原子數為1~4之烷基取代的苯基、取代或未經取代之氧羰基、或者取代或未經取代之胺基羰基。R2 ~R5 、及R19 ~R23 係分別表示氫原子、或者碳原子數為2~20的取代或未經取代之烷基。
做為前述波長分散控制劑者,其更佳的例子,舉例來說,例如,氧二苯甲酮系化合物、苯并三唑系化合物、水楊酸酯系化合物、氰丙烯酸酯系化合物、鎳錯鹽系化合物等。
苯并三唑系波長分散控制劑,舉例來說,例如,其可以是2-(2’-羥基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-tert-丁基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-tert-丁基-5’-甲基苯基)苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-tert-丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羥基-3’-(3”,4”,5”,6”-四酞醯亞胺甲基)-5’-甲基苯基)苯并三唑、2,2-亞甲基雙(4-(1,1,3,3-四甲基丁基)-6-(2H-苯并三唑-2-基)酚基)、2-(2’-羥基-3’-tert-丁基-5’-甲基苯基)-5-氯苯并三唑、2,4-二羥基二苯甲酮、2,2’-二羥基-4-甲氧基二苯甲酮、2-羥基-4-甲氧基-5-磺酸基二苯甲酮、雙(2-甲氧基-4-羥基-5-苯甲醯基苯基甲烷)、(2,4-雙-(n-辛基硫)-6-(4-羥基-3,5-二-tert-丁基苯胺基)-1,3,5-三、2-(2’-羥基-3’,5’-二-tert-丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2-(2’-羥基-3’,5’-二-tert-戊基苯基)-5-氯苯并三唑、2,6-二-tert-丁基-p-甲酚、季戊四醇-肆〔3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯基)丙酸酯〕、三乙二醇-雙〔3-(3-tert-丁基-5-甲基-4-羥苯基)丙酸酯〕、1,6-己二醇-雙〔3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯基)丙酸酯〕、2,4-雙-(n-辛基硫)-6-(4-羥基-3,5-二-tert-丁基苯胺基)-1,3,5-三、2,2-硫-二伸乙基雙〔3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯基)丙酸酯〕、十八烷基-3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯基)丙酸酯、N,N’-六亞甲基雙(3,5-二-tert-丁基-4-羥基-氫化肉桂醯胺)、1,3,5-三甲基-2,4,6-參(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯甲基)苯、參-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯甲基)-異三聚氰酸酯等。尤其,較宜是(2,4-雙-(n-辛基硫)-6-(4-羥基-3,5-二-tert-丁基苯胺基)-1,3,5-三、2-(2’-羥基-3’,5’-二-tert-丁基苯基)-5-氯苯并三唑、(2(2’-羥基-3’,5’-二-tert-丁基苯基)-5-氯苯并三唑、2,6-二-tert-丁基-p-甲酚、季戊四醇-肆〔3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯基)丙酸酯〕、三乙二醇-雙〔3-(3-tert-丁基-5-甲基-4-羥苯基)丙酸酯〕。又,例如,也可以併用N,N’-雙〔3-(3,5-二-tert-丁基-4-羥苯基)丙基〕肼等之肼系金屬惰性劑及參(2,4-二-tert-丁基苯基)磷化物等之磷系加工安定劑。此等化合物之添加量,相對於醯化纖維素之質量比例,較宜是1 ppm~1.0%,更宜是10~1000 ppm。
又,前述之波長分散控制劑也可以使用以下述一般式(Ⅶ)所代表之化合物。
一般式(Ⅶ)Q1 -Q2 -OH
式中,Q1 係代表1,3,5-三環,Q2 係代表芳香族環。
在以上述一般式(Ⅶ)所代表的化合物之中,較宜是以下述之一般式(Ⅶ-A)所代表的化合物。
一般式(Ⅶ-A)
在前述之一般式(Ⅶ-A)中,R1 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為5~12之環烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基;以苯基、OH、碳原子數為1~18之烷氧基、碳原子數為5~12之環烷氧基、碳原子數為3~18之烯氧基、鹵素原子、-COOH、-COOR4 、-O-CO-R5 、-O-CO-O-R6 、-CO-NH2 、-CO-NHR7 、-CO-N(R7 )(R8 )、CN、NH2 、NHR7 、-N(R7 )(R8 )、-NH-CO-R5 、苯氧基、以碳原子數為1~18之烷基取代的苯氧基、苯基-碳原子數為1~4之烷氧基、碳原子數為6~15之雙環烷氧基、碳原子數為6~15之雙環烷基烷氧基、碳原子數為6~15之雙環烯基烷氧基、或以碳原子數為6~15之三環烷氧基取代的碳原子數為1~18之烷基;OH、碳原子數為1~4之烷基、碳原子數為2~6之烯基或以-O-CO-R5 取代的碳原子數為5~12之環烷基;縮水甘油基;-CO-R9 或-SO2 -R10 ;或者R1 係代表經以1以上的氧原子中斷過的(即,藉由醚鍵(-O-)而連結的)及/或以OH、苯氧基或碳原子數為7~18之烷基苯氧基取代的碳原子數為3~50之烷基;或者R1 係代表以-A;-CH2 -CH(XA)-CH2 -O-R12 ;-CR13 R’13 -(CH2 )m -X-A;-CH2 -CH(OA)-R14 ;-CH2 -CH(OH)-CH2 -XA; -CR15 R’15 -C(=CH2 )-R”15 、-CR13 R’13 -(CH2 )m -CO-X-A、-CR13 R’13 -(CH2 )m -CO-O-CR15 R’15 -C(=CH2 )-R”15 或-CO-O-CR15 R’15 -C(=CH2 )-R”15 (式中,A係代表-CO-CR16 =CH-R17 )所定義之一者;基R2 係代表相互獨立之碳原子數為6~18之烷基、碳原子數為2~6之烯基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、COOR4 、CN、-NH-CO-R5 、鹵素原子、三氟甲基、-O-R3 、R3 係代表對於R1 所賦予之定義;R4 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為5~12之環烷基;或者R4 係代表可以經1以上的-O-、-NH-、-NR7 -、-S-中斷過的(即,藉由此等之任一者而連結的)及以OH、苯氧基或碳原子數為7~18之烷基苯氧基取代的碳原子數為3~50之烷基;R5 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為2~18之烯基、碳原子數為5~12之環烷基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為6~15之雙環烷基、碳原子數為6~15之雙環烯基、碳原子數為6~15之三環烷基;R6 係代表H、碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為5~12之環烷基;R7 及R8 係相互獨立地代表碳原子數為1~12之烷基、碳原子數為3~12之烷氧基烷基、碳原子數為4~16之二烷胺基烷基、或者碳原子數為5~12之環烷基;或者是R7 及R8 一起代表碳原子數為3~9之伸烷基、碳原子數為3~9之氧雜伸烷基或碳原子數為3~9之氮雜伸烷基;R9 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為2~18之烯基、苯基、碳原子數為5~12之環烷基、碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為6~15之雙環烷基、碳原子數為6~15之雙環烷基烷基、碳原子數為6~15之雙環烯基、碳原子數為6~15之三環烷基;R10 係代表碳原子數為1~12之烷基、苯基、萘基、或碳原子數為7~14之烷基苯基;基R11 係代表相互獨立的H、碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~6之烯基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、鹵素原子、碳原子數為1~18之烷氧基;R12 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基、以碳原子數為1~8之烷基、碳原子數為1~8之烷氧基、碳原子數為3~8之烯氧基、鹵素原子或三氟甲基取代1~3次之苯基;或者碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為5~12之環烷基、碳原子數為6~15之三環烷基、碳原子數為6~15之雙環烷基、碳原子數為6~15之雙環烷基烷基、碳原子數為6~15之雙環烯基烷基、-CO-R5 ;或者R12 係代表可以經1以上的-O-、-NH-、-NR7 -、-S-中斷過的(即,藉由此等之任一者而連結的)及以OH、苯氧基或碳原子數為7~18之烷基苯氧基取代的碳原子數為3~50之烷基;R13 及R’13 係相互獨立地代表H、碳原子數為1~18之烷基、苯基;R14 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~12之烷氧基烷基、苯基、苯基-碳原子數為1~4之烷基;R15 、R’15 及R”15 係相互獨立地代表H或CH3 ;R16 係代表H、-CH2 -COO-R4 、碳原子數為1~4之烷基、或CN;R17 係代表H、-COOR4 、碳原子數為1~17之烷基、或苯基;X係代表-NH-、-NR7 -、-O-、-NH-(CH2 )p -NH-、或-O-(CH2 )q -NH-;以及指數m係代表0~19之整數;n係代表1~8之整數;p係代表0~4之整數;q係代表2、3、或4。
但是,在一般式(Ⅶ-A)中,R1 、R2 及R11 中之至少一個是含有2個以上之碳原子的基。
做為烷基之R1 ~R10 、R12 ~R14 、R16 及R17 中較宜是分別為直鏈或分枝的烷基,其具體例子係包括甲基、乙基、丙基、異丙基、n-丁基、第二丁基、異丁基、第三丁基、2-乙基丁基、n-戊基、異戊基、1-甲基戊基、1,3-二甲基丁基、n-己基、1-甲基己基、n-庚基、異庚基、1,1,3,3-四甲基丁基、1-甲基庚基、3-甲基庚基、n-辛基、2-乙基己基、1,1,3-三甲基己基、1,1,3,3-四甲基庚基、壬基、癸基、十一烷基、1-甲基十一烷基、十二烷基、1,1,3,3,5,5-六甲基己基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基及十八烷基。
當做碳原子數為5~12之環烷基的R1 、R3 ~R9 及R12 者,例如,其係環戊基、環己基、環丙基、環辛基、環壬基、環癸基、環十一烷基、環十二烷基;較宜是環戊基、環己基、環辛基及環十二烷基。
在當做烯基的R6 、R9 、R11 及R12 之中,較佳的例子係包括:烯丙基、異丙烯基、2-丁烯基、3-丁烯基、異丁烯基、n-戊-2,4-二烯基、3-甲基-丁2-烯基、n-辛-2-烯基、n-十二-2-烯、異-十二烯基、n-十二-2-烯基及n-十八-4-烯基。
經取代的烷基、環烷基或苯基的取代基數量較宜是1或2以上;在鍵結的碳原子中(在α位中)或其他的碳原子中可以持有取代基;在取代基為以雜原子(例如,烷氧基)鍵結的情況下,該取代基的鍵結位置較宜是α位以外者,又,經取代的烷基之碳原子數較宜是2以上,更宜是3以上。2以上的取代基較宜是與不同的碳原子鍵結。
經-O-、-NH-、-NR7 -、-S-中斷過的烷基可以是經以1.以上之此等基所中斷過的,在各個情況下,一般是在1個鍵中插入1個基,及不產生雜-雜鍵,例如,O-O、S-S、NH-NH等;在經中斷的烷基為更進一步地被取代的情況下,相對於雜原子而言,取代基通常不是在α位上。在1個基中產生經2以上的-O-、-NH-、-NR7 -、-S-中斷過的基之情況下,彼等通常是相同的。
芳基通常是芳香族烴基,例如,苯基、聯苯基或萘基,較宜是苯基及聯苯基。芳烷基通常是芳基,特別是經以苯基取代的烷基;從而,碳原子數為7~20之芳烷基係包括:例如,苄基、α-甲基苄基、苯基乙基、苯基丙基、苯基丁基、苯基戊基及苯基庚基;碳原子數為7~11之苯基烷基較宜是苯基、α-甲基苄基及α,α-二甲基苄基。
烷基苯基及烷基苯氧基係分別為經以烷基取代的苯基及苯氧基。
鹵素取代基的鹵素原子係氟原子、氯原子、溴原子或碘原子,較佳者為氟原子或氯原子,特佳為氯原子。
碳原子數為1~20之伸烷基,例如,其係亞甲基、伸乙基、伸丙基、伸丁基、伸戊基或伸己基等。此處的烷基鏈可以是直鏈或分枝,例如,伸異丙基。
碳原子數為4~12之環烯基,例如,其係2-環丁烯-2-基、2-環戊烯-1-基、2,4-環戊二烯-1-基、2-環己烯-1-基、2-環庚基-1-基、或2-環辛烯-1-基。
碳原子數為6~15之雙環烷基,例如,其係基、降基、〔2.2.2〕雙環辛基。較宜是基及降基,特佳為基及降-2-基。
碳原子數為6~15之雙環烷氧基,例如,其係氧基及降-2-氧基。
碳原子數為6~15之雙環烷基-烷基或-烷氧基係經以雙環烷基取代的烷基或烷氧基而碳原子總數為6~15之物;具體的例子係降烷-2-甲基及降基-2-甲氧基。
碳原子數為6~15之雙環烯基,例如,其係降烯基、降二烯基。較佳者為降烯基,尤其是降-5-烯基。
碳原子數為6~15之雙環烯基烷氧基係經以雙環烯基取代的烷氧基而碳原子總數為6~15之物,例如,降-5-烯-2-甲氧基。
碳原子數為6~15之三環烷基,例如,其係1-金剛烷基、2-金剛烷基。較佳者為1-金剛烷基。
碳原子數為6~15之三環烷氧基,例如,其係金剛烷氧基。碳原子數為3~12之雜芳基,較佳為吡啶基、嘧啶基、三基、吡咯基、呋喃基、硫苯基或喹啉基。
以一般式(Ⅶ-A)所代表的化合物更宜是R1 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為5~12之環烷基、碳原子數為3~12之烯基、苯基;以苯基、OH、碳原子數為1~18之烷氧基、碳原子數為5~12之環烷氧基、碳原子數為3~18之烯氧基、鹵素原子、-COOH、-COOR4 、-O-CO-R5 、-O-CO-O-R6 、-CO-NH2 、-CO-NHR7 、-CO-N(R7 )(R8 )、CN、NH2 、NHR7 、-N(R7 )(R8 )、-NH-CO-R5 、苯氧基、碳原子數為1~18之烷基取代的苯氧基、苯基-碳原子數為1~4之烷氧基、氧基、降烯-2-基氧基、降基-2-甲氧基、降-5-烯-2-甲氧基、金剛烷氧基取代的碳原子數為1~18之烷基;以OH、碳原子數為1~4之烷基、碳原子數為2~6之烯基或以-O-CO-R5 取代的碳原子數為5~12之環烷基;縮水甘油基;-CO-R9 或-SO2 -R10 ;或者R1 係代表經以1以上的氧原子中斷過的及/或以OH、苯氧基或碳原子數為7~18之烷基苯氧基取代的碳原子數為3~50之烷基;或者R1 係代表以-A;-CH2 -CH(XA)-CH2 -O-R12 ;-CR13 R’13 -(CH2 )m -X-A;-CH2 -CH(OA)-R14 ;-CH2 -CH(OH)-CH2 -XA; -CR15 R’15 -C(=CH2 )-R”15 、-CR13 R’13 -(CH2 )m -CO-X-A、-CR13 R’13 -(CH2 )m -CO-O-CR15 R’15 -C(=CH2 )-R”15 或-CO-O-CR15 R’15 -C(=CH2 )-R”15 (式中,A係代表-CO-CR16 =CH-R17 )所定義之一者;基R2 係代表碳原子數為6~18之烷基、碳原子數為2~6之烯基、苯基、-O-R3 或-NH-CO-R5 ;更且R3 係相互獨立代表對於R1 所賦予之定義;R4 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為5~12之環烷基;或者R4 係代表可以1以上的-O-、-NH-、-NR7 -、-S-中斷過的及以OH、苯氧基或碳原子數為7~18之烷基苯氧基取代的碳原子數為3~50之烷基;R5 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為2~18之烯基、碳原子數為5~12之環烷基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、降烯-2-基、降-5-烯-2-基、金剛烷基;R6 係代表H、碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基、碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為5~12之環烷基;R7 及R8 係相互獨立地代表碳原子數為1~12之烷基、碳原子數為3~12之烷氧基烷基、碳原子數為4~16之二烷胺基烷基、或者碳原子數為5~12之環烷基;或者是R7 及R8 一起代表碳原子數為3~9之伸烷基、碳原子數為3~9之氧雜伸烷基或碳原子數為3~9之氮雜伸烷基;R9 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為2~18之烯基、苯基、碳原子數為5~12之環烷基、碳原子數為7~11之苯基烷基、降烯-2-基、降-5-烯-2-基、金剛烷基;R10 係代表碳原子數為1~12之烷基、苯基、萘基、或碳原子數為7~14之烷基苯基;基R11 係代表相互獨立的H、碳原子數為1~18之烷基、或碳原子數為7~11之苯基烷基;R12 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~18之烯基、苯基、以碳原子數為1~8之烷基、碳原子數為1~8之烷氧基、碳原子數為3~8之烯氧基、鹵素原子或三氟甲基取代1~3次之苯基;;或者碳原子數為7~11之苯基烷基、碳原子數為5~12之環烷基、1-金剛烷基、2-金剛烷基、降基、降烷-2-甲基-、-CO-R5 ;或者R12 係代表可以經1以上的-O-、-NH-、-NR7 -、-S-中斷過的及以OH、苯氧基或碳原子數為7~18之烷基苯氧基取代的碳原子數為3~50之烷基;R13 及R’13 係相互獨立地代表H、碳原子數為1~18之烷基、苯基;R14 係代表碳原子數為1~18之烷基、碳原子數為3~12之烷氧基烷基、苯基、苯基-碳原子數為1~4之烷基;R15 、R’15 及R”15 係相互獨立地代表H或CH3 ;R16 係代表H、-CH2 -COO-R4 、碳原子數為1~4之烷基、或CN;R17 係代表H、-COOR4 、碳原子數為1~17之烷基、或苯基;X係代表-NH-、-NR7 -、-O-、-NH-(CH2 )p -NH-、或-O-(CH2 )q -NH-;以及指數m係代表0~19之整數;n係代表1~8之整數;p係代表0~4之整數;q係代表2、3、或4。
以一般式(Ⅶ)及一般式(Ⅶ-A)所代表的化合物係可以藉由公知的方法來製造。例如,可以按照歐洲特許第434608號公報或H.Brunetti及C.E.Luthi、Helv.Chim.Acta 55,1566(1972)之出版刊物上所示之方法、或藉由和它同樣相當的對於酚之鹵三之弗瑞迪克拉福茲(Friedel-Crafts)加成而得到與公知的化合物同樣之物。
其次,例示以一般式(Ⅶ)及一般式(Ⅶ-A)所代表的化合物之較佳例於下,然而可使用於本發明之第1態樣的化合物並未僅限定於此等之具體例子而已。
又,除此之外,也可使用於旭電化、塑膠用添加概要「艾迪卡斯塔布(adekastave)」之目錄上所記載的光安定劑。也可以使用汽巴特殊化學品之汽努賓製品介紹中所記載的光安定劑、紫外線吸收劑。亦可以使用SHIPRO化成公司之目錄上所記載的SEESORB、SEENOX、SEETEC等。也可以使用城北化學工業之UV吸收劑、氧化防止劑。亦可以使用共同藥品之VIOSORB、吉富製藥之紫外線吸收劑。
另外,在特開2001-166144號公報及特開2003-3446556號公報上所記載之圓盤狀化合物也是理想的做為前述之波長分散控制劑的物質,因而可以使用。
(遲滯減低劑)又,前述之聚合物薄膜較宜是含有具備減低遲滯(特別是Rth)的功能之劑(以下,簡稱為「Rth減低劑」)的至少一種;更宜是在上述250~400奈米的波長域中具有極大吸收之波長分散控制劑之至少一種、與具有減低遲滯之功能的劑之至少一種。
在本發明之第1態樣中所採用的聚合物薄膜為低遲滯醯化纖維素薄膜的情況下,波長分散控制劑較宜是含有與醯化纖維素薄膜間之親和性高的化合物。
做為在本發明之第1態樣中的遲滯減低劑者,其雖然是以下述式(1-A)或式(1-B)所代表的化合物,然而較宜是遲滯減低效果大者。
以下,詳細地說明以式(1-A)所代表的化合物。
在式(1-A)中,R4 、R5 及R6 係分別代表取代或未經取代的烷基。
在上述式(1-A)中,R4 、R5 及R6 係分別代表取代或未經取代的烷基。此處,烷基可以是直鏈、也可以是分枝、甚至也可以是環狀。烷基較宜是碳原子數為1~20之物,更宜是1~15之物,更理想是1~12之物。環狀之烷基,特佳為環己基。
在上述式(1-A)中的烷基也可以具有取代基。取代基較宜是鹵素原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、烷基、烷氧基、醯基、烷氧羰基、醯氧基、磺醯基胺基、羥基、氰基、胺基及醯基胺基;更宜是鹵素原子、烷基、烷氧基、磺醯基胺基及醯基胺基,特佳為烷基、磺醯基胺基。
其次,例示以式(1-A)所代表的化合物之較佳例於下,然而可使用於本發明之第1態樣的化合物並未僅限定於此等之具體例子而已。
上述的化合物中之任何一者均可以藉由已知的方法來製造。也就是說,以式(1-A)所代表的化合物可以藉由使用縮合劑(例如,二環己基羰二醯亞胺(DCC)等)之羧酸類和胺類間之脫水縮合反應、或羧酸氯化物衍生物和胺衍生物間之取代反應等而得到。
其次,說明以式(1-B)所代表的化合物。
在式(1-B)中,R1 及R2 係分別代表烷基或芳基。
R1 及R2 之碳原子數之總和,特佳為10以上。取代基較宜是氟原子、烷基、芳基、烷氧基、磺酸基、磺醯胺基,特佳為烷基、芳基、烷氧基、磺酸基、磺醯胺基。又,烷基可以是直鏈、也可以是分枝、甚至也可以是環狀,較宜是碳原子數為1~25之物,更宜是6~25之物,特佳為6~20之物(例如,甲基、乙基、丙基、異丙基、丁基、異丁基、tert-丁基、戊基、異戊基、tert-戊基、己基、環己基、庚基、辛基、雙環辛基、壬基、金剛烷基、癸基、tert-辛基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十四烷基、十五烷基、十六烷基、十七烷基、十八烷基、十九烷基、二十烷基)。
做為芳基者較宜是碳原子數為6~30之物,特佳為6~24之物(例如,苯基、聯苯基、聯三苯基、萘基、聯萘基、三苯基苯基)。
其次,例示以式(1-B)所代表的化合物之較佳例於下,然而可使用於本發明之第1態樣的化合物並未僅限定於此等之具體例子而已。此處,Pri 係代表異丙基。
前述之聚合物薄膜較宜是使用藉由溶劑流延法製做的醯化纖維素系薄膜。溶劑流延法係將醯化纖維素溶解於有機溶劑所調製而成的塗布(dope)液,流延於支撐體表面上並予以乾燥製膜。製膜後,為了得到所期望的光學特性,也可以實施拉伸處理。在以溶劑流延法製做醯化纖維素系薄膜的情況下,前述之波長分散控制劑及Rth減低劑係可以在溶解於(例如)醇或二氯甲烷、二烷之有機溶劑中之後,再添加醯化纖維素溶液,或者也可以直接添加於塗布液組成物中。又,也可以不將醯化纖維素添加於塗布液中,直到流延的任一時點再添加。在後者的情況下,可以在線上(in line)添加或混合由使醯化纖維素溶解於溶劑中而成的塗布液、與由使前述之波長分散控制劑及/或Rth減低劑溶解於溶劑中調成的溶液。為了進行線上添加或混合,例如,較宜是使用靜態混合機(東麗工程製)、SWJ(東麗靜止型管內混合器、Hi-Mixer)等之線上混合機等。在後添加的波長分散控制劑及Rth減低劑的溶液中,也可以同時混合消光劑、可塑劑、抗劣化劑、剝離促進劑等之其他的添加物。在使用線上混合機的情況下,較宜是在高壓下進行濃縮溶解,無需特別考慮加壓容器的種類,只要是可以耐得住預定的壓力,在加壓下進行加熱、攪拌的話就好。加壓容器可以使用適當配設有其他的壓力計、溫度計等之計量器類者。加壓係可以藉由壓入氮氣等惰性氣體之方法、及藉由加熱來進行以使得溶劑的蒸氣壓上昇。加熱較宜是從外部進行,例如,較佳是套筒型式者,因為溫度控制容易。添加溶劑的加熱溫度較宜是在使用溶劑的沸點以上、且該溶劑不會沸騰的範圍內之溫度,例如,理想上是設定在30~150℃之範圍。又,壓力係可以按照不會使得溶劑在設定溫度下沸騰的方式來進行調整。在溶解之後,可以一邊進行冷卻一邊從容器中取出,或者也可以藉由泵從容器中抽出、以熱交換器等予以冷卻,並將它供給到製膜器。此時之冷卻溫度雖然也可冷卻到室溫,然而冷卻到比沸點低5~10℃之溫度並以這樣的溫度進行流延時,因為可以減低塗布液的黏度,所以更理想。
又,前述波長分散控制劑係可以單獨使用,或者也可以混合2種類以上來使用。前述波長分散控制劑之添加量,相對於100質量份之醯化纖維素而言,較宜是1.0~20質量%,更宜是1.5~15質量%,最好是2.0~10質量%。又,前述之Rth減低劑也是可以單獨使用,或者也可以混合2種類以上來使用。前述之Rth減低劑的添加量,相對於100質量份之醯化纖維素而言,較宜是1~30質量%,更宜是2~30質量%,最好是5~20質量%。
〔光學異方向性層〕具有本發明之第1態樣的光學補償薄膜之光學異方向性層較宜是實質上無面內遲滯、具有負的折射率異方向性、並在法線方向上具有光軸的層。
光學異方向性層之厚度方向的遲滯(Rth)較宜是60~260奈米,更宜是80~220奈米,特佳為100~180奈米。藉由使Rth在上述之範圍,可以實現具有無不均且高Rth的光學補償薄膜。
又,光學異方向性層的厚度方向之遲滯Rth除以膜厚度d的值Rth/d較宜是0.065~0.160,更宜是0.075以上,更理想是0.085以上。又,較宜是在0.15以下,更宜是在0.14以下。面內遲滯Re宜是0~10奈米,較宜是0~5奈米。像這樣的光學異方向層係具有在連續塗布於長條支撐體上之際不易發生不均的有利點。
除此之外,光學異方向性層的波長分散性Rth(450)/Rth(550)較宜是1.09以上,更宜是1.12以上,更理想是1.15以上,特佳為1.18以上。當滿足此條件時,即可以在支撐體的聚合物薄膜上積層時,發現光學補償薄膜之前述波長分散特性,並能夠橫跨可見光全域補償液晶顯示元件、特別是VA模式之液晶顯示元件。
關於前述光學異方向性層之材料,其係沒有特別的限制。前述光學異方向性層之較佳例子,係為藉由含有液晶化合物的聚合性組成物所形成的光學異方向性層。具有光學上負的折射率異方向性、並在層面之法線方向上具有光軸的光學異方向性層,例如,可以將含有棒狀液晶化合物的聚合性組成物當做光學活性向列型(膽固醇型)液晶相,藉由聚合使之硬化來形成。又,可以將含有碟狀液晶化合物之聚合性組成物,做成將碟狀液晶化合物的分子予以配向而使其圓盤面相對於層面呈水平配向(垂直配向)的液晶相,藉由聚合使之硬化來形成。
《利用碟狀液晶之垂直配向而成的光學異方向性層》前述之光學異方向性層較宜是由含有碟狀液晶性化合物的聚合性組成物所形成之物。前述之聚合性組成物較宜是含有至少一種的促進碟狀液晶性化合物之水平配向(垂直配向)的後述之「水平配向劑」。碟狀液晶性化合物係可以藉由在後述「水平配向劑」之至少一種的存在下使之配向,而將其圓盤面配向成相對於層呈實質水平。所謂的實質水平係指碟狀液晶性化合物之圓盤面和光學異方向性層之層面間的平均角度(平均傾斜角)為在0°~10°之範圍內的意思。
能夠於前述光學異方向性層之形成上利用的碟狀液晶性化合物係可以從各式各樣的文獻(C.Destrade等、分子液晶、第71冊、第111頁(1981年);日本化學會編、季刊化學總說、第22冊、液晶化學、第5章、第10章第2節(1994年);B.Kohne等、Angew.化學協會化學通訊、第1794頁(1985年);J.Zhang等、美國化學協會期刊、第116冊、第2655頁(1994年))上所記載的各種物質中來選取。關於碟狀液晶性化合物之聚合,例如,可以採用特開平8-27284號公報上所記載的方法。
於前述光學異方向性層之形成上所利用的碟狀液晶性化合物,較宜是具有可藉由聚合加以固定的聚合性基。例如,可以考慮在碟狀液晶性化合物的圓盤狀芯上鍵結有做為取代基的聚合性基之構造。又,更宜是圓盤狀芯和聚合性基之間具有連結基的構造。當採用具有連結基的構造時,在聚合反應中保持配向狀態就會變為更容易。具有聚合性基的碟狀液晶性化合物,較宜是以下述一般式(Ⅵ)所代表的化合物。
一般式(Ⅵ)D(-L-P)n
在一般式(Ⅵ)中,D係圓盤狀芯,L係二價之連結基,P係聚合性基,n係4~12之整數。
前述式(Ⅵ)中之係圓盤狀芯(D)、二價之連結基(L)、聚合性基(P)的個別具體例子,其係分別如在特開2001-4837號公報上所例示記載的(D1)~(D15)、(L1)~(L25)、(P1)~(P18)。
在利用具有聚合性基的碟狀液晶性化合物之情況下,也和本發明之第1態樣中之上述說明同樣地,較宜是實質水平配向者。具有能夠水平配向的聚合性基之碟狀液晶性化合物的具體例子,較佳的可適用之物係為於國際公開WO 01/88574A1號公報之第58頁第6行~第65頁第8行上所記載者。
前述之光學異方向性層的波長分散性較宜是高的(例如,Rth係隨著波長而變大)。能夠形成波長分散性高的光學異方向性層之碟狀液晶性化合物的例子,例如,包括於特開2001-166147號公報〔0050〕~〔0142〕所例示之化合物。此等之中,較宜是該公報之〔0050〕中以一般式(I)所代表的化合物,更宜是〔0067〕中之以一般式(Ia)所代表的化合物,其中,更理想是於後述實施例中所使用的碟狀液晶化合物(Ⅱ)相同的化合物及其類似之化合物(乙烯基之長度為2~6左右)。
在形成前述光學異方向性層之際,較宜是在「水平配向劑」之至少一種的存在下將碟狀液晶性化合物予以配向。另外,在本發明之第1態樣中所的「水平配向」,雖然是指碟狀液晶性化合物的分子之長軸方向(即,芯之圓盤面)為平行於液晶層的水平面(例如,在液晶層為形成於支撐體上的情況下,其為支撐體的表面)之意;然而並非要求嚴密地平行,在本說明中,如以上所述,係指芯之圓盤面和水平面間所構成的傾斜角為10度以下之配向的意思。傾斜角較宜是5度以下,更宜是3度以下,更理想是2度以下,最好是1度以下。前述之傾斜角也可以是0度。
前述之水平配向劑,例如,較佳者可以使用特開2005-128050號公報〔0049〕~〔0082〕中所例示之化合物、或具有來自氟代脂肪族含有單體的重複單位、和以下述一般式(a)所代表的重複單位之共聚物。在本發明之第1態樣中,較宜是使用具有來自氟代脂肪族含有單體的重複單位、和以下述一般式(a)所代表的重複單位之共聚物(以下,有的情況將此共聚物稱為「聚合物A」)來做為水平配向劑。另外,聚合物A,也可以在使用後述的棒狀液晶化合物來形成光學異方向性層之際,添加於組成物中。
在上述一般式(a)中,R1 、R2 及R3 係分別代表氫原子或取代基。Q係具有含至少1個苯基之羧基(-COOH)或其鹽、磺酸基(-SO3 H)或其鹽、膦酸氧基{-OP(=O)(OH)2 }或其鹽、親水性基(-OH)、或丙烯醯胺(-NR4 -(R4 係代表氫原子、烷基、芳基或芳烷基))。L係代表從下述之連結基群中選出的任意基、或組合彼等之2個以上而形成的2價之連結基。
(連結基群)單鍵、-O-、-CO-、-S-、-SO2 -、-P(=O)(OR5 )-(R5 係代表烷基、芳基或芳烷基)、伸烷基、伸芳基。
在一般式(a)中,R2 及R3 係分別獨立地代表氫原子、或從下述所例示之取代基群中選出的取代基。較宜是氫原子,R1 較宜是氫原子或甲基。
(取代基群)烷基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是碳原子數為1~12、特佳為碳原子數為1~8之烷基;舉例來說,例如,其為甲基、乙基、異丙基、tert-丁基、n-辛基、n-癸基、n-十六烷基、環丙基、環戊基、環己基等)、烯基(較宜是碳原子數為2~20、更宜是碳原子數為2~12、特佳為碳原子數為2~8之烯基;舉例來說,例如,其為乙烯基、芳基、2-丁烯基、3-戊烯基等)、炔基(較宜是碳原子數為2~20、更宜是碳原子數為2~12、特佳為碳原子數為2~8之炔基;舉例來說,例如,其為丙炔基、3-戊炔基等)、芳基(較宜是碳原子數為6~30、更宜是碳原子數為6~20、特佳為碳原子數為6~12之芳基;舉例來說,例如,其為苯基、p-甲基苯基、萘基等)、芳烷基(較宜是碳原子數為7~30、更宜是碳原子數為7~20、特佳為碳原子數為7~12之芳烷基;舉例來說,例如,其為苯甲基、苯乙基、3-苯基丙基等)、取代或未經取代基之胺基(較宜是碳原子數為0~20、更宜是碳原子數為0~10、特佳為碳原子數為0~6之胺基;舉例來說,例如,其為未經取代的胺基、甲基胺基、二甲基胺基、二乙基胺基、苯胺基等)、烷氧基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是碳原子數為1~16、特佳為碳原子數為1~10之烷氧基;舉例來說,例如,其為甲氧基、乙氧基、丙氧基等)、烷氧基羰基(較宜是碳原子數為2~20、更宜是碳原子數為2~16、特佳為碳原子數為2~10之烷氧基羰基等;舉例來說,例如,其為甲氧基羰基、乙氧基羰基等)、醯氧基(較宜是碳原子數為2~20、更宜是碳原子數為2~16、特佳為碳原子數為2~10之醯氧基;舉例來說,例如,其為乙醯氧基、苯甲醯氧基等)、醯基胺基(較宜是碳原子數為2~20、更宜是碳原子數為2~16、特佳為碳原子數為2~10之醯基胺基;舉例來說,例如,其為乙醯基胺基、苯甲醯基胺基等)、烷氧基羰基胺基(較宜是碳原子數為2~20、更宜是碳原子數為2~16、特佳為碳原子數為2~12之烷氧基羰基胺基;舉例來說,例如,其為甲氧基羰基胺基等)、芳氧基羰基胺基(較宜是碳原子數為7~20、更宜是碳原子數為7~16、特佳為碳原子數為7~12之芳氧基羰基胺基;舉例來說,例如,其為苯氧基羰基胺基等)、磺醯基胺基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是碳原子數為1~16、特佳為碳原子數為1~12之磺醯基胺基;舉例來說,例如,其為甲烷磺醯基胺基、苯磺醯基胺基等)、胺磺醯基(較宜是碳原子數為0~20、更宜是碳原子數為0~16、特佳為碳原子數為0~12之胺磺醯基;舉例來說,例如,其為胺基磺醯基、甲基胺磺醯基、二甲基胺磺醯基、苯基胺磺醯基等)、胺甲醯胺基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是碳原子數為1~16、特佳為碳原子數為1~12之胺甲醯胺基;舉例來說,例如,其為未經取代的胺甲醯胺、甲基胺甲醯胺、二甲基胺甲醯胺基、苯基胺甲醯胺基等)、烷硫基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是碳原子數為1~16、特佳為碳原子數為1~12之烷硫基;舉例來說,例如,其為甲硫基、乙硫基等)、芳硫基(較宜是碳原子數為6~20、更宜是碳原子數為6~16、特佳為碳原子數為6~12之芳硫基;舉例來說,例如,其為苯硫基等)、磺醯基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是碳原子數為1~16、特佳為碳原子數為1~12之磺醯基;舉例來說,例如,其為甲磺醯基、甲苯磺醯基等)、亞磺醯基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是1~16、特佳為1~12之亞磺醯基;舉例來說,例如,其為甲亞磺醯基、苯亞磺醯基等)、脲基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是1~16、特佳為1~12之脲基,舉例來說,例如,其為未經取代的脲基、甲基脲基、苯基脲基等)、磷酸醯胺基(較宜是碳原子數為1~20、更宜是1~16、特佳為1~12之磷酸醯胺基,舉例來說,例如,其為二乙基磷酸醯胺基、苯基磷酸醯胺基等)、羥基、氫硫基、鹵素原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子)、氰基、磺酸基、羧基、硝基、氧肟酸基、亞磺酸基、肼基、亞胺基、雜環基(較宜是碳原子數為1~30、更宜是1~12之雜環基,例如,具有氮原子、氧原子、硫原子等之雜原子的雜環基,舉例來說,例如,其為咪唑基、吡啶基、喹啉基、呋喃基、哌啶基、嗎啉基、苯并噁唑基、苯并咪唑基、苯并噻唑基等)、矽烷基(較宜是碳原子數為3~40、更宜是3~30、特佳為3~24為之矽烷基,舉例來說,例如,其為三甲基矽烷基、三苯基矽烷基等)等。此等之取代基也可以藉由上述的取代基而更進一步地加以取代。又,在具有兩個以上的取代基之情況下,則可以是相同,也可以是不同。又,在可能的情況下,也可以互相連結而形成環。
R1 、R2 及R3 較宜是分別獨立地代表氫原子、烷基、鹵素原子(例如,氟原子、氯原子、溴原子、碘原子等)、或者是以後述之-L-Q所代表的基;更宜是氫、碳原子數為1~6之烷基、氯原子、以-L-Q所代表的基;更理想是氫原子、碳原子數為1~4之烷基;特佳為氫原子、碳原子數為1~2之烷基;最好是R2 及R3 為氫原子、R1 為氫原子或甲基。該烷基之具體例子,舉例來說,例如,其為甲基、乙基、n-丙基、n-丁基、sec-丁基等。該烷基也可具有適當的取代基。該取代基,舉例來說,例如,其可以是鹵素原子、芳基、雜環基、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、醯基、羥基、醯氧基、胺基、烷氧基羰基、醯基胺基、氧羰基、胺甲醯胺基、磺醯基、胺磺醯基、碸醯胺基、硫醯基、羧基等。另外,烷基之碳原子數係不包括取代基之碳原子。以下,關於其他的取代基之碳原子數也是同樣的。
L係代表從上述的連結基群中選出的2價之連結基、彼等之2個以上組合而形成的2價之連結基。在上述之連結基群中,-NR4 -之R4 係代表氫原子、烷基、芳基或芳烷基,較宜是代表氫原子或烷基。又,-PO(OR5 )-之R5 係代表烷基、芳基或芳烷基,較宜是代表烷基。R4 及R5 為代表烷基、芳基或芳烷基的情況之碳原子數係和在「取代基群」中已說明者相同。L較宜是包括單鍵、-O-、-CO-、-NR4 -、-S-、-SO2 -、伸烷基或伸芳基;特佳為包括單鍵、-CO-、-O-、-NR4 -、伸烷基或伸芳基;最好是包括-CO-、-O-、-NR4 -、伸烷基或伸芳基。在L為包括伸烷基的情況下,伸烷基的碳原子數較宜是1~10,更宜是1~8,特佳為1~6;特佳的伸烷基之具體例子,舉例來說,例如,其為亞甲基、伸乙基、三亞甲基、四伸丁基、六亞甲基等。在L為包括伸芳基的情況下,伸芳基的碳原子數較宜是6~24,更宜是6~18,特佳為6~12;特佳的伸芳基之具體例子,舉例來說,例如,其為伸苯基、伸萘基等。在L為包括由伸烷基和伸芳基組合而得到的2價之連結基(即,伸芳烷基)的情況下,伸芳烷基的碳原子數較宜是7~34,更宜是7~26,特佳為7~16;特佳的伸芳烷基之具體例子,舉例來說,例如,其為伸苯基亞甲基、伸苯基伸乙基、亞甲基伸苯基等。列舉來做為L的基,也可以具有適當的取代基。此種取代基,舉例來說,例如,其可以是和先前做為R1 ~R3 的取代基所列舉之取代基相同之物。
以下,雖然例示L之具體的構造,然而在本發明之第1態樣中所用的化合物並非僅限定於此等之物而已。
以下,雖然列舉在前述氟系聚合物之製造上所能夠利用的前述之式(a)對應單體之具體例子,然而並非僅限定於以下的具體例子而己。
前述之聚合物A,可以是含1種的以前述之一般式(a)代表的重複單位,也可以含有2種以上。又,前述之聚合物A也可以含有從前述氟脂肪族基含有單體所衍生的重複單位的1種或2種以上。前述之聚合物A較宜是含有從如以下所示之於特開2004-333861號公報上記載的以一般式〔1〕代表之氟脂肪族基含有單體所衍生的重複單位。
式中,R1 係代表氫原子或甲基;X係代表氧原子、硫原子或-N(R12 )-,Hf係代表氫原子或氟原子,m係代表1以上6以下之整數,n係代表2~4之整數。R12 係代表氫原子或碳原子數為1~4之烷基。
更且,前述之聚合物A也可以含有此等以外之其他的重複單位。前述之其他的重複單位係沒有特別地限制,舉例來說,例如,較佳的例子是從普通的能夠游離聚合反應之單體所衍生的重複單位。前述之聚合物A可以含有從在特開2004-333861號公報之〔0032〕~〔0044〕上記載的單體群衍生之重複單位中之1種,也可以含有2種以上。
在本發明之第1態樣中所使用的前述聚合物A之質量平均分子量較宜是1,000,000以下,更宜是500,000以下,更理想是5,000以上~50,000以下。質量平均分子量係可以藉由使用凝膠透析色譜分析儀(GPC),測定換算成聚苯乙烯(PS)之值來求得。
關於在製造前述之聚合物A時所採用的聚合方法,雖然是沒有特別的限制,然而較宜是採用在特開2004-46038號公報之〔0035〕~〔0041〕上記載的方法。
另外,前述之聚合物A,為了固定液晶化合物的配向狀態,則也可以是具有做為取代基的聚合性基之物。
在本發明之第1態樣中,上述之「水平配向劑」的「添加量」較宜是碟狀液晶性化合物量的0.01~20質量%,更宜是0.05~10質量%,特佳為0.1~5質量%。另外,上述之「水平配向劑」係可以單獨使用,也可以併用二種以上。
《利用膽固醇液晶相而成之光學異方向性層》前述之光學異方向性層較宜是利用膽固醇液晶相而形成之層。此種光學異方向性層可以將含有棒狀液晶性化合物的聚合性化合物做為膽固醇液晶相,藉由聚合使之硬化而形成。另外,膽固醇配向之螺旋軸較宜是實質垂直(法線方向)於光學異方向性層的面。
為了得到膽固醇液晶相,可以使用光學活性棒狀液晶性化合物、或者使用棒狀液晶性化合物和光學活性化合物之混合物。使用棒狀液晶性化合物和光學活性化合物之混合物者,在膽固醇配向之螺旋節距之調節上是合適的。
可使用於棒狀液晶性化合物的例子係包括偶氮亞甲基(azomethine)(甲亞胺)類、氧化偶氮基類、氰聯苯類、氰苯基酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰苯基環己烷類、氰基取代之苯基嘧啶類、烷氧基取代之苯基嘧啶類、苯基二噁烷類、二苯乙炔(tolane)類及烯基環己基苯甲腈類。
棒狀液晶性化合物的分子較宜是在光學異方向性層內被固定成配向狀態。更宜是藉由聚合來固定棒狀液晶性化合物的分子配向狀態。棒狀液晶性化合物較宜是具有聚合性基的化合物。
可使用的聚合性棒狀液晶性化合物的例子係包括於巨大分子化學、第190卷、第2255頁(1989年)、高等材料、第5卷、第107頁(1993年)、美國專利第4683327號說明書、美國專利第5622648號說明書、美國專利第5770107號說明書、國際公開WO 95/22586號公報、國際公開WO 95/24455號公報、國際公開WO 97/00600號公報、國際公開WO 98/23580號公報、國際公開WO 98/52905號公報、特開平1-272551號公報、特開平6-16616號公報、特開平7-110469號公報、特開平11-80081號公報、特開2001-328973號公報、特開2004-240188號公報、特開2005-99236號公報、特開2005-99237號公報、特開2005-121827號公報、特開2002-30042號公報等所記載的化合物。
又,前述光學活性(chiral)劑的例子係包括於特開2004-326089號公報之〔0047〕~〔0049〕中所記載的以一般式〔化12〕~〔化14〕代表之光學活性劑。
當入射平行於膽固醇配向之螺旋軸的光時,則會產生以等於液晶性化合物之平均折射率(nc)與膽固醇配向之螺旋節距(P)之積(nc.P)的值之光波長做為中心的選擇反射。按照使選擇反射含有比可見光的波長還短的波長之方式,即按照使nc.P的值落在可見光域之外的方式,來選定材料或節距。節距之控制係可以容易地藉由控制與液晶性化合物一起併用之光學活性化合物的量、或控制液晶性化合物的分子內所存在的光學活性部位的數量來進行。
膽固醇液晶之螺旋節距(P)較宜是10~300奈米,更宜是50~200奈米。又,膽固醇液晶之螺旋節距(P),只要是nc.P的值為在可見光區域以外即可,即使分散也是沒有關係的。
在利用含有液晶化合物的組成物來形成光學異方向性層的情況下,較宜是將經配向的液晶性化合物的分子維持其配向狀態下固定。固定化較宜是藉由液晶性化合物所具有聚合性基之聚合反應來實施。聚合反應,雖然是包括使用熱聚合起始劑的熱聚合反應、與使用光聚合起始劑的光聚合反應,然而更佳為光聚合反應。可使用的光聚合起始劑的例子包括α-羰基化合物(記載於美國專利第2367661號、美國專利第2367670號之各說明書上所記載之物)、偶因醚(於美國專利第2448828號之說明書上所記載之物)、α-烴取代芳香族偶因化合物(於美國專利第2722512號之說明書上所記載之物)、多核喹啉化合物(於美國專利第3046127號、美國專利第2951758號之各說明書上所記載之物)、三芳基咪唑二聚物和p-胺基二苯甲酮之組合(於美國專利第3549367號之說明書上所記載之物)、吖啶及啡啶化合物(於特開昭60-105667號、美國專利第4239850號之說明書上所記載之物)、及二唑化合物(於美國專利第4212970號之說明書上所記載之物)。
本發明之第1態樣的光學補償薄膜所具有的光學異方向性層,雖然較宜是具有高的Rth,然而為了提高Rth則就會產生將光學異方向性層的膜厚度更進一步地加厚之需要。因此,UV硬化時的UV光就會於下層衰減。為了補正之目的,則較宜使用光吸收發生在長波域、所產生的游離基之擴散性高的光聚合起始劑,更具體地來說,較宜是使用感光區域為在330奈米~450奈米之範圍、產生鹵素游離基或原子數為8以下之烴游離基之物來做為聚合起始游離基。鹵素游離基,舉例來說,例如,雖然其可以是氟、氯、溴或碘之游離基,然而特佳為氯游離基。除了氫以外的原子數為8以下的烴游離基,可以是具有鹵化烴游離基等之取代基的烴游離基,舉例來說,例如,其可以是甲基游離基、乙基游離基、丙基游離基、丁基游離基、苯基游離基、甲苯基游離基、氯苯基游離基、溴苯基游離基、苯甲醯基游離基等。感光波長和光源之匹配性是高感度化之必要條件。感光區域在330奈米~450奈米之光聚合起始劑,係具有與金屬鹵化物燈及高壓水銀燈等之UV光源間的匹配性佳、不只能促進低功率的UV光之聚合反應、且所得到的光學補償薄膜之著色亦少的優點。又,如以上所述,在光聚合起始劑之游離基的膨鬆度為小的時候,光學異方向性層和配向膜間之密合度變佳。推測這是由於膨鬆度小的光學異方向性層之聚合性游離基擴散到配向膜為止的結果,使得在配向膜之表面上生成化學鍵,又且在配向膜附近產生硬化而改良密合性所致。又,光聚合起始劑較宜是能以100 mJ/cm2 的能量分解30%以上之物。
本發明之第1態樣中可以使用的光聚合起始劑之例子,雖然記載於下,然而並非僅限定於此等之物而已。
光聚合起始劑之使用量較宜是組成物(在調製成塗布液的情況下為其固體成分)之0.01~20質量%,更宜是0.5~5質量%。液晶性化合物之分子聚合物用的光照射較宜是使用紫外線。照射能量較宜是20 mJ/cm2 ~50 J/cm2 ,更宜是100~800 mJ/cm2 。為了促進光聚合反應之目的,也可以在加熱條件下實施光照射。
所形成的光學異方向性層之厚度較宜是0.1~10微米,更宜是0.5~5微米。
在由含有液晶化合物的聚合性組成物來形成前述光學異方向性層的情況下,為了達成使光學異方向性層和其下層(配向膜等)間之密合性良好之目的,則較宜是使前述組成物中含有多官能單體。在前述光學異方向性層被要求顯示高Rth的情況下,則該層之膜厚度就有需要是比較厚的。當光學異方向性層之膜厚度為厚的時候,則與配向膜間的密合就會有惡化的傾向。藉由使在前述之光學異方向性層形成用組成物中具有2個以上的官能基之多官能單體,由於可以改良密合性的緣故,所以較理想。
分子內具有2以上之聚合性基的多官能單體,舉例來說,例如,其可以是多元醇和(甲基)丙烯酸的酯〔例如,乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、丁二醇二(甲基)丙烯酸酯、己二醇二(甲基)丙烯酸酯、1,4-環己烷二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯〕、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、三羥甲乙烷三(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、1,2,3-環己烷四甲基丙烯酸酯、聚胺基甲酸酯多丙烯酸酯、聚酯多丙烯酸酯〕、上述之環氧乙烷改性體、乙烯苯及其衍生物(例如,1,4-二乙烯苯、4-乙烯基安息香酸-2-丙烯醯基乙基酯、1,4-二乙烯基環己酮)、乙烯碸(例如,二乙烯碸)、丙烯醯胺(例如,亞甲基雙丙烯醯胺)及甲基丙烯醯胺。上述之單體也可以併用2種以上。
特佳為使用在分子內具有4以上之雙鍵的多官能單體。雙鍵較宜是乙烯性(脂肪族性)不飽和雙鍵。分子內雙鍵的數目較宜是4~20,更宜是5~15,最好是6~10。多官能單體較宜是在分子內具有4個以上之羥基的多醇、和不飽和脂肪酸的酯。不飽和脂肪酸的例子,其係包括丙烯酸、甲基丙烯酸、馬來酸及伊康酸。較宜是丙烯酸及甲基丙烯酸。在分子內具有4個以上之羥基的多醇較宜是四價以上的醇、或者三價以上的醇之寡聚物。寡聚物為具有以醚鍵、酯鍵或胺基甲酸酯鍵而與多價醇連結的分子構造。較宜是具有以醚鍵連結多價醇的分子構造之寡聚物。
多醇和(甲基)丙烯酸的酯,其係包括季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇五(甲基)丙烯酸酯、二季戊四醇六(甲基)丙烯酸酯、聚醚系多醇之聚(甲基)丙烯酸酯、聚酯系多醇之聚(甲基)丙烯酸酯及聚胺基甲酸酯系多醇之聚(甲基)丙烯酸酯。也可以使用多官能單體之市售品。由多醇和丙烯酸的酯構成之單體已為三菱麗陽(股)公司(商品名:大亞畢姆UK-4154)、東亞合成(股)公司(商品名:阿羅尼庫斯M450)、及日本化藥(股)公司(商品名:KYARAD.DPHA、SR355)所市售。也可以併用2種以上之多官能單體。
也可以併用在分子內具有4以上之雙鍵的多官能單體、和在分子內具有1~3個雙鍵的單體。單體之併用係對於黏度和強度間之調節是有效的。也就是說,隨著在單體中雙鍵數之增加,分子間相互作用變大、黏度上昇。當黏度上昇時,則液晶性化合物之分子的配向就會花費時間。另一方面,雙鍵的數目多的一方,所得到的光學補償薄膜之強度會變高。藉由併用二種類以上的單體,即可以容易地達成適當的黏度與適當的強度。在分子內具有4以上之雙鍵的多官能單體較宜是估單體總量之20~80質量%,更宜是30~70質量%。多官能單體係與液晶性分子一起添加於光學異方向性層。多官能單體的添加量,相對於液晶性分子而言,較宜是0.1~50質量%,更宜是1~20質量%。
在前述之光學異方向性層形成用的組成物中,可以使之含有液晶性化合物的至少一種、以及按照期望使之含有上述之光聚合起始劑、聚合性單體及其他的添加劑。前述之組成物也可以當做塗布液來調製。在調製塗布液時使用的溶劑,較佳為使用有機溶劑。做為有機溶劑者,例如,可以採用(例如,N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如,二甲基亞碸)、雜環化合物(例如,吡啶)、烴(例如,苯、己烷)、烷基鹵化物(例如,氯仿、二氯甲烷)、酯(例如,乙酸甲酯、乙酸丁酯)、酮(例如,丙酮、甲基乙基酮)、醚(例如,四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。在此等之中,較宜是烷基鹵化物及酮。另外,也可以併用2種以上之有機溶劑。塗布液之塗布係可以廣泛地採用公知的方法(例如,擠壓塗布法、直接凹印塗布法、反復凹印塗布法、模具塗布法)。
在前述光學異方向性層之形成上較宜是利用配向膜。配向膜係具有將前述組成物中之液晶化合物的分子配向成預定的方向之作用。通常使用聚合物層及其表面經摩擦過的聚合物層。又,也已知一種藉由提供電場、提供磁場或光照射來產生配向機能之配向膜。使用於配向膜之聚合物的種類係可以按照液晶性化合物之配向(尤其是平均傾斜角)來決定。例如,為了使液晶性呈水平配向,則使用不降低配向膜之表面能量之聚合物(一般之配向用聚合物)。關於具體的聚合物之種類,其係可以廣泛地採用關於液晶胞或光學補償薄膜之公知文獻上所記載的事項。尤其,在將液晶性化合物配向成相對於摩擦處理方向而言為垂直的方向之情況下,例如,較佳為可以使用在特開2002-62427號公報上所記載的改性聚乙烯醇、特開2002-98836號公報上記載之丙烯酸系共聚物、特開2002-268068號公報上記載之聚醯亞胺、聚醯胺酸。
又,為了更進一步地改善配向膜和光學異方向性層間之密合性的目的,則較宜是使用具有聚合性基的聚合物來做為於配向膜之形成上使用的聚合物。聚合性基係可以在側鏈上導入具有聚合性基的重複單位、或者做為環狀基之取代基而導入。更宜是使用在界面上形成液晶性化合物與化學鍵的配向膜,此種配向膜,例如,可以採用在特開平9-152509號公報上所記載之物。
配向膜之厚度較宜是0.01~5微米,更宜是0.05~2微米。另外,也可以在使用配向膜而將液晶性化合物的分子予以配向之後,再按照該配向狀態原樣地固定液晶性化合物之分子而形成光學異方向性層,並只將該光學異方向性層轉印在聚合物薄膜上。
《使用高分子材料而形成的光學異方向性層》又,前述之光學異方向性層也可以是塗布高分子材料而形成的聚合物層。當使用預定的高分子材料調製成含有它之塗布液並塗布於聚合物薄膜等之表面時,將該高分子予以面配向而呈現負的折射率異方向性,並形成在薄膜面之法線方向上具有光軸的光學異方向性層。具有此種性質之高分子的具體例子,其係包括在特開2000-190385號公報上記載的持有至少一種的芳香族環之高分子材料(聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺酸、聚酯或聚酯醯胺等之各種聚合物)。又,也可以在使用能夠提供此等之高分子的可聚合之低分子化合物等,經由塗布、乾燥而形成前述之光學異方向性層的過程中,進行聚合來形成聚合物。
本發明之第1態樣的光學補償薄膜,其係可以就這樣地組入於液晶顯示裝置中,又,也可以按照下述說明之方式,與偏光膜進行一體化而做成偏光板後,再組入於液晶顯示裝置中。
.第2態樣
另外,在本發明之第2態樣中,係將預定之構件X的波長λ奈米之面內遲滯Re及厚度方向的遲滯Rth表記為「Reλ (x)」及「Rthλ (X)」。
〔第2態樣之光學補償薄膜〕本發明之第2態樣係關於C板之光學補償薄膜C。本發明之第2態樣的光學補償薄膜C較宜是負的C板。Re550 (C)較宜是0~10奈米,更宜是0~5奈米,更理想是0~3奈米。又,Rth550 (C)較宜是100奈米以上,更宜是120~280奈米,更理想是160~220奈米。
本發明之第2態樣的光學補償薄膜C係具有透明支撐體C1、與藉由該透明支撐體C1所支持的光學異方向性層C2。前述之透明支撐體C1及前述之光學異方向性層C2係分別地滿足下述之式(2-1)~(2-3)。
(2-1)0≦Re630 (C1)≦10 (2-2)0≦Re550 (C2)≦10 (2-3)100≦Rth550 (C2)-Rth550 (C1)
由於透明支撐體C1及光學異方向性層C2係分別地滿足上述之式(2-1)和(2-2)的緣故,所以在面內實質上不具有光軸。另一方面,由於透明支撐體C1及光學異方向性層C2係滿足上述之關係式(2-3)的緣故,所以在光學異方向性層C2及透明支撐體C1之中至少有一者係在厚度方向上持有光軸的正或負C板。光學異方向性層C2及/或透明支撐體C1較宜是負的C板,理想上是光學異方向性層C2及透明支撐體C1雙方均為負的C板。
更且,本發明之第2態樣之光學補償薄膜C係滿足下述之式(2-4)。
(2-4)| Rth450 (C2)/Rth550 (C2)-Rth450 (C)/Rth550 (C)|≦0.1
波長450奈米及550奈米之Rth的比(Rth450 /Rth550 )係為該構件之波長分散性的指標。順分散性之構件的Rth450 /Rth550 係超過1,而逆分散性之構件的Rth450 /Rth550 係小於1。由於本發明之第2態樣的光學補償薄膜C和光學異方向性層C2係滿足上述之式(2-4)的緣故,所以光學補償薄膜C之波長分散性差不多等於光學異方向性層C2之波長分散性。
在透明支撐體C1及光學異方向性層C2雙方實質上只有厚度方向的相位差之C板的態樣中,其積層體之光學補償薄膜C之Rth係可以近似於雙方的Rth之和。同樣地,光學補償薄膜C之Rth的波長分散性(Rth450 /Rth550 )也是可以近似於在每一波長處之採用雙方的Rth之和所算出的波長分散性,等於考慮C1及C2之波長分散性(Rth450 /Rth550 )的符號之Rth550 而來的荷重平均值。亦即,C1及C2之貢獻率係差不多為個別的Rth之值所決定。
在透明支撐體C1之Rth的絕對值為足夠小的情況下,藉由使用滿足上述之式(2-3)的光學異方向性層C2,使得光學補償薄膜C之Rth變為差不多等於光學異方向性層C2之Rth。從而,在本態樣中,光學補償薄膜C之Rth的波長分散性係變成差不多類似於佔Rth貢獻之大半的光學異方向性層C2之波長分散性。
顯示高Rth值之負C板,例如,其係可以使得聚合性液晶組成物轉移成預定的液晶相,固定該狀態來製作。又,可以藉由塗布及乾燥聚醯亞胺等之含有預定聚合物之塗布液來製作。藉由此等方法所製作的光學異方向性層就會成為顯示高Rth值之負C板,且顯示出此等之光學異方向性層的Rth之波長分散性為順分散性。在本發明之第2態樣中,光學補償薄膜之Rth及其對於波長分散性之貢獻程度,與透明支撐體C1相較之下,由於光學異方向性層C2方面是特別的大之緣故,所以顯示出高的Rth,並且藉由將該Rth之波長分散性為順分散性之C板當做光學異方向性層C2使用而顯示出高的Rth,以及可以容易地得到該Rth之波長分散性為順分散性之C板。
像這樣地,本發明之第2態樣,係著眼於只以做為透明支撐體使用的高分子薄膜、來製作Rth值高且顯示該Rth之波長分散性為順分散性之C板是困難的事實,為了解決此問題點乃將光學補償薄膜做成由高分子薄膜構成的透明支撐體C1與光學異方向性層C2之積層體,因而可以得到比透明支撐體C1所頁獻的Rth還高的Rth值、且該Rth之波長分散性為順分散性之光學特性的光學異方向性層C2之Rth的頁獻更進一步地增大。將本發明之第2態樣的光學補償薄膜使用於液晶顯示裝置,尤其是使用於VA模式之液晶顯示裝置的光學補償時,就可以減輕黑顯示時隨著視角而產生之色味變化及光漏。又,在本發明之第2態樣中,由於透明支撐體C1的Rth之波長分散性的貢獻是小的緣故,所以(例如)即便使用Rth為顯示逆分散性傾向之醯化纖維素等,也可以提供一種Rth之波長分散性為顯示順分散性之光學補償薄膜。
以下,針對各構件之光學特性之更佳範圍及於製作上使用之材料進行詳細的說明。
〔透明支撐體C1及光學異方向性層C2之光學特性〕透明支撐體C1的面內遲滯Re較宜是0~10奈米,更宜是0~5奈米,更理想是0~3奈米。更且,厚度方向的遲滯Rth較宜是-25~100奈米,更宜是-25~50奈米,更理想是-25~25奈米。光學異方向性層C2的面內遲滯Re較宜是0~10奈米,更宜是0~5奈米,更理想是0~3奈米。更且,厚度方向的遲滯Rth較宜是100~300奈米,更宜是120~240奈米,更理想是150~210奈米。在本發明之第2態樣中,較宜是透明支撐體C1及光學異方向性層C2雙方均為負的C板。
又,透明支撐體C1的Rth之波長分散性,雖然可以是順分散性及逆分散性中之任一者,然而特別是在逆分散性的情況下,較宜是波長分散性的程度為小者。具體而言,Rth400 (C1)-Rth700 (C1)較宜是-35~50,更宜是-25~25。另一方面,光學異方向性層C2的Rth之波長分散性,由於差不多等於光學補償薄膜C之波長分散性的緣故,所以其較佳的性質會隨著光學補償薄膜之用途(成為光學補償薄膜的對象之液晶顯示裝置的模式)而不同,然而一般來說較佳為順分散者,對於使用於VA模式液晶顯示裝置之光學補償的態樣而言,Rth450 (C2)/Rth550 (C2)較宜是1.04~1.30,更宜是1.10~1.25。
〔透明支撐體C1〕在本發明之第2態樣中,透明支撐體C1較宜是由高分子薄膜構成。只要滿足透明支撐體C1所要求的前述之光學特性,則其材料並沒有特別地限定,例如,在將本發明之第2態樣的光學補償薄膜與偏光膜貼合而進行偏光板加工的情況下,則也有必要使具有做為保護偏光膜之保護膜的機能,在此種態樣中,較宜是使用醯化纖維素薄膜、環烯烴聚合物、降烯系聚合物、內酯環含有聚合物系樹脂薄膜或聚碳酸酯。
在本發明之第2態樣中,如以上所述,因為希望得到具備持有充分傾斜的順分散性之透明支撐體,所以較宜是選擇Rth的絕對值小的高分子薄膜來做為透明支撐體C1,而將對於光學補償薄膜C之Rth的貢獻抑制到儘可能地小。Rth值小的C板,舉例來說,例如,其可以是特開2006-30937號公報之第0043~節0250欄上記載的醯化纖維素系薄膜、特開2002-22954號公報上記載的聚碳酸酯系薄膜,又,近年來快速開發的特開2006-171464號公報、WO 2006-112207手冊上記載的內酯環含有聚合物系樹脂薄膜等之高分子薄膜。
在此等之中,從偏光板加工適性之觀點來看,較宜是醯化纖維素系薄膜,又,內酯環含有聚合物系樹脂薄膜的光彈性係數低,尤其是做為C板之透明支撐體C1使用時,難以發現多餘的面內遲滯,因而較佳。
〔光學異方向性層C2〕光學異方向性層C2較宜是高Rth(至少比透明支撐體C1高的Rth值)之負的C板。只要是滿足光學異方向性層C2所要求的光學特性,則其材料並沒有特別地限定,可以是由聚合性液晶組成物構成的光學異方向性層,也可以是由高分子聚合物構成的光學異方向性層。Rth高且Rth的波長分散性為順分散性之負的C板之光學異方向性層係可以利用聚合性液晶組成物而容易地形成。
藉由液晶組成物來形成負的C板之光學異方向性層的方法,較宜是在透明支撐體的表面上塗布含有棒狀液晶化合物的液晶組成物,使該棒狀液晶化合物的分子指向(director)的方向實質上平行於層面而做為膽固醇(cholesteric)相,於該狀態下藉由聚合等予以固定而形成的方法;及在透明支撐體的表面上塗布含有膽固醇液晶化合物的分子之液晶組成物,使該膽固醇液晶化合物的分子垂直配向,即使該分子指向的方向實質上垂直於層面地配向而做為向列(nematic)相,於該配向狀態下藉由聚合等予後固定而形成的方法。
〔棒狀液晶性化合物〕可利用於光學異方向性層C2之形成上的棒狀液晶性化合物,較佳為使用偶氮亞甲基類、氧化偶氮基類、氰聯苯類、氰苯基酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰苯基環己烷類、氰基取代之苯基嘧啶類、烷氧基取代之苯基嘧啶類、苯基二噁烷類、二苯乙炔(tolane)類及烯基環己基苯甲腈類。不只是像以上這樣的低分子液晶性化合物,也可以使用高分子液晶性化合物。做為能夠藉由聚合來固定配向的棒狀液晶性化合物,係適合使用具有可藉由活性光線及電子線、熱等而引起聚合及交聯反應的部分構造之物。該部分構造的個數較宜是1~6個,更宜是1~3個。聚合性棒狀液晶性化合物,係可以使用於巨大分子化學、第190卷、第2255頁(1989年);高等材料、第5卷、第107頁(1993年);美國專利第4683327號說明書、美國專利第5622648號說明書、美國專利第5770107號說明書、國際公開WO 95/22586號公報、國際公開WO 95/24455號公報、國際公開WO 97/00600號公報、國際公開WO 98/23580號公報、國際公開WO 98/52905號公報、特開平1-272551號公報、特開平6-16616號公報、特開平7-110469號公報、特開平11-80081號公報、特開2001-328973號公報、特開2004-240188號公報、特開2005-99236號公報、特開2005-99237號公報、特開2005-121827號公報、特開2002-30042號公報等所記載的化合物。
在棒狀液晶性化合物之中,如以上所述,較宜是可轉移成膽固醇相之液晶性化合物,具體而言,較宜是使用在特開2004-110003號公報之第0077欄~第0081欄上記載的聚合性液晶性化合物及聚合性光學活性(chiral)劑
〔碟狀液晶性化合物〕可利用於光學異方向性層C2之形成上的碟狀液晶性化合物係包括C.Destrade等人於研究報告(Mol.Cryst.、第71冊、第111頁(1981年))上記載之苯衍生物,C.Destrade等人於研究報告(Mol.Cryst.、第122冊、第141頁(1985年),Physics lett,A、第78冊、第82頁(1990年))上記載之甲氧苯(toluxene)衍生物;B.Kohne等人於研究報告(Angew.Chem.、第96冊、第70頁(1984年))上所記載之環己烷衍生物;及J.M.Lehn等人於研究報告(J.Chem.Commun.、第1794頁(1985年))、J.Zhang等人於研究報告(J.Am.Chem.Soc.、第116冊、第2655頁(1994年))上記載之氮雜冠狀系及苯基乙炔系巨環。
做為碟狀液晶性化合物者,也包括:對於分子中心之母核,直鏈之烷基、烷氧基或取代苯甲醯氧基經取代成放射線狀而作為母核的側鏈的結構之化合物。分子或分子之集合體較佳為具有旋轉對稱性,且能賦予一定的配向之化合物。碟狀液晶性化合物之較佳的例子係記載於特開平8-50206號公報上。又,關於碟狀液晶性化合物之聚合則係記載於特開8-27284號公報上。
另外,關於棒狀液晶性化合物也是同樣,然而由含有碟狀液晶性化合物的液晶性組成物形成的光學異方向性層,則在光學異方向性層中最終所含的化合物不必是液晶性化合物,例如,當低分子之碟狀液晶性化合物具有以熱或光會反應之基時,結果就會因熱、光反應而聚合或交聯、高分子量化而喪失液晶性。
〔氟系聚合物〕在前述光學異方向性層C2之製作的過程中,為了使棒狀液晶性化合物之分子指向的方向量質上平行(Re實質上為0奈米)於層面、或者為了使碟狀液晶性化合物的分子呈水平配向,即碟狀分子指向的方向實質上垂直(Re實質上為0奈米)於層面,則較宜是使存在著含有以下述之一般式(a)所代表的重複單位之氟系聚合物(以下,有的情況是稱為「聚合物A」),亦即較宜是使在光學異方向性層C2之形成上所使用的液晶性組成物中含有聚合物A之至少1種。
關於一般式(a)之定義及其較佳例等係與在上述第1態樣中所說明者相同。
以下,雖然例示於本發明之第2態樣中適合使用的做為前述聚合物A之具體例子,然而本發明之第2態樣則未限定於此等之具體例子而已。在此式中之數值(a、b、c、d等之數值)係分別表示各單體的組成比之質量百分率,Mw係藉由使用TSK Gel GMHxL、TSK Gel G4000 HxL、TSK Gel G2000 HxL(任一者均為東受(股)公司之商品名)的管柱之GPC分析裝置、THF之溶劑、經由示差折射計檢出的經換算成聚苯乙烯所表示的質量平均分子量。
〔多官能單體〕為了使光學異方向性層C2和透明支撐體C1間之密合性良好之目的,則在用以形成光學異方向性層C2的液晶性組成物中,較宜是使之含有多官能單體。光學異方向性層C2之膜厚度,雖然是隨著目的之遲滯而不同,然而為使呈現某種程度大小的Rth值,則較宜是0.5微米以上。在由聚合性液晶性組成物形成0.5微米以上之層的情況下,和透明支撐體C1間之密合性有時會有顯著下降的情形。當使前述之液晶性組成物中含有具有2以上之官能基的多官能單體時,由於可以改良光學異方向性層C2和透明支撐體C1間之密合性,所以較理想。
在本發明之第2態樣中能夠使用的多官能單體係與在上述第1態樣中能夠使用的多官能單體相同。
光學異方向性層C2係可以將聚合性液晶性組成物調製成塗布液,將該塗布液塗布於透明支撐體C1並予以乾燥、轉移成所期望的液晶相之後,於該配向狀態下藉由聚合予以固定而形成。關於能夠在調製塗布液之際使用的溶劑、能夠添加於聚合性液晶性組成物中的聚合起始劑、聚合時所照射的UV光之強度等條件,係可以參考習用公知的各種材料、方法、條件等(例如,可以參考在特開2005-173567號公報等之上所記載的該等材料及條件等)。又,在光學異方向性層C2之形成方面係可以利用配向膜,轉移成膽固醇相、及在使碟狀液晶性化合物呈垂直配向上能夠利用的配向膜,舉例來說,例如,其可以是在特開2005-49866號公報之第0165欄等之上所記載的配向膜。
〔光學異方向性層C2用的高分子〕也可以藉由聚合物組成物來形成成為C板的光學異方向性層C2。例如,在將聚合物組成物成形為薄膜狀之物顯示出光學異方向性層C2所要求的預定之光學特性的情況下,可以依照原樣地使用來做為光學異方向性層C2。又,為了滿足預定的光學特性,則可以適合使用經實施拉伸處理過的拉伸薄膜、或使用以配向薄膜所製造之物等來做為光學異方向性層C2。更且,也可以在與透明支撐體C1積層之後,再實施拉伸處理。
在光學異方向性層C2之形成上使用的高分子,較宜是從乙酸樹脂、聚酯樹脂、聚醚碸樹脂、聚碸樹脂、聚碳酸酯樹脂、聚醯胺樹脂、聚醯亞胺樹脂、聚烯烴樹脂、丙烯酸樹脂、降烯樹脂、纖維素樹脂、聚丙烯酸酯樹脂、聚苯乙烯樹脂、聚乙烯醇樹脂、聚氯化乙烯樹脂、聚偏氯乙烯樹脂、聚丙烯酸樹脂、此等之混合樹脂、液晶聚合物、及在側鏈上具有取代醯亞胺基或非取代醯亞胺基之熱可塑性樹脂和在側鏈上具有取代苯基或非取代苯基與腈基之熱可塑性樹脂的混合物而成的群組中所選出的至少一種之聚合物。在此等之中,更宜是從聚碳酸酯、環烯烴烯聚合物及降烯系聚合物、醯化纖維素薄膜中所選出的拉伸薄膜、或者從聚醯胺、聚醯亞胺、聚酯、聚醚酮、聚醯胺醯亞胺及聚酯醯亞胺中所選出的至少一種做為材料的配向薄膜。
.第3態樣
以下,詳細地說明本發明之第3態樣的光學補償薄膜。
〔第3態樣之光學補償薄膜〕本發明之第3態樣的光學補償薄膜係實質上沒有面內遲滯、具有負的折射率異方向性、並在法線方向上具有光軸。
本發明之第3態樣的光學補償薄膜之面內遲滯是0~10奈米,較宜是0~5奈米,特佳為0~3奈米。厚度方向的遲滯是100~300奈米,更宜是120~270奈米,特佳為150~240奈米。
除此之外,光學補償薄膜之波長分散性Rth(450)/Rth(550)較宜是1.03以上,更宜是1.06以上,更理想是1.09以上,特佳為1.12以上(此處,Rth(450)係表示在450奈米的Re值,Rth(550)係表示在550奈米的Re值)。當滿足像這樣的條件時,即能夠於涵蓋整個可見光域地補償液晶顯示元件。
〔光學異方向性層〕本發明之第3態樣的光學補償薄膜中之光學異方向性層之厚度方向的遲滯Rth除以光學異方向性層之膜厚度的值Rth/d宜是0.065~0.160,較宜是0.075以上,更宜是0.085以上。又,較宜是0.15以下,更宜是0.14以下。面內遲滯Re宜0~10奈米,較宜是0~5奈米。像這樣的光學異方向性層,在連續塗布於長條的支撐體之際,其係具有難以發生不均現象的有利點。
除此之外,光學異方向性層之波長分散性Rth(450)/Rth(550)較宜是1.06以上,更宜是1.09以上,更理想是1.12以上,特佳為1.15以上(此處,Rth(450)係表示在450奈米的Re值,Rth(550)係表示在550奈米的Re值)。當滿足像這樣的條件時,即可以呈現做為光學補償薄膜之前述波長分散特性、並且能夠於涵蓋整個可見光域地補償液晶顯示元件。
〔由液晶性化合物而成的光學異方向性層〕本發明之第3態樣之光學補償薄膜係藉由在聚合物薄膜基材上積層光學異方向性層而形成的。光學異方向性層較宜是由聚合性組成物所形成者,特佳為由包括持有光學上負折射率異方向性、且具有聚合性基之液晶性化合物的組成物所形成者。像這樣的光學異方向性層,舉例來說,例如,其可以是由含有光學活性向列型(膽固醇型)液晶性化合物之聚合性組成物所形成的層、含有碟狀液晶性化合物之組成物所形成、而來自該碟狀液晶化合物的碟狀構造單位為相對於聚合物薄膜而言呈水平配向者。
所謂的光學活性向列型(膽固醇型)液晶性化合物係指含有該化合物之組成物係在被塗布於聚合物基材上之際形成光學活性向列型(膽固醇型)液晶相的化合物之意;做為像這樣的化合物者,舉例來說,例如,其為棒狀液晶性化合物或高分子液晶性化合物。
為了使棒狀液晶性化合物呈光學活性向列型(膽固醇型)配向,可使用光學活性的棒狀液晶性化合物,或者使用棒狀液晶性化合物與光學活性化合物之混合物。棒狀液晶性化合物較宜是偶氮亞甲基類、氧化偶氮基類、氰聯苯類、氰苯基酯類、苯甲酸酯類、環己烷羧酸苯酯類、氰苯基環己烷類、氰基取代之苯基嘧啶類、烷氧基取代之苯基嘧啶類、苯基二噁烷類、二苯乙炔類及烯基環己基苯甲腈類。
可以將含有該化合物的組成物塗布在聚合物薄膜基材上,並和後述之由碟狀液晶性化合物形成光學異方向性層的作成方法同樣地維持配向狀態而予以固定。
又,光學異方向性層也可以在實施塗布之際,使用具有負的折射率異方向性、且在薄膜面之法線方向上具有光軸的高分子材料而形成。此種高分子材料,像在特開2000-190385號公報上所提案者這樣的持有至少一種類以上的芳香族環之成膜材料(聚醯胺、聚醯亞胺、聚醯胺酸、聚酯或聚酯醯胺等之各種聚合物,或者能夠提供此等之聚合物的可聚合之低分子化合物等),其係在塗布之際具有負的折射率異方向性、在面的法線方向上具有光軸、且通常具有正波長分散性之遲滯。
〔由碟狀液晶性化合物而成的光學異方向性層〕在本發明之第3態樣中,光學異方向性層較宜是由含有碟狀液晶性化合物的組成物所形成者。
碟狀液晶性化合物係可以廣泛地採用於各種文獻(C.Destrade等、分子液晶、第71冊、第111頁(1981年);日本化學會編、季刊化學總說、第22冊、液晶化學、第5章、第10章第2節(1994年);B.Kohne等、Angew.化學協會化學通訊、第1794頁(1985年);J.Zhang等、美國化學協會期刊、第116冊、第2655頁(1994年))上所記載之物。關於碟狀液晶性化合物之聚合,例如,可以採用特開平8-27284號公報上所記載的方法。
碟狀液晶性化合物較宜是具有可藉由聚合加以固定的聚合性基。例如,可以考慮在碟狀液晶性化合物的圓盤狀芯上鍵結有做為取代基的聚合性基之構造。又,更宜是圓盤狀芯和聚合性基之間具有連結基的構造。當採用具有連結基的構造時,在聚合反應中保持配向狀態就會變為更容易。具有聚合性基的碟狀液晶性化合物,較宜是以下述一般式(Ⅵ)所代表的化合物。
一般式(Ⅵ)D(-L-P)n(在一般式(Ⅵ)中,D係圓盤狀芯,L係二價之連結基,P係聚合性基,n係4~12之整數)。
前述式(Ⅵ)中之係圓盤狀芯(D)、二價之連結基(L)、聚合性基(P),例如,其係可以分別使用在特開2001-4837號公報上所例示記載的(D1)~(D15)、(L1)~(L25)、(P1)~(P18)。
在具有聚合性基的碟狀液晶性化合物之情況下,也和上述同樣地使之實質上呈水平配向。此種情況之碟狀液晶性化合物的具體例子,舉例來說,例如,更佳者為在國際公開WO 01/88574A1號公報之第58頁第6行~第65頁第8行上所記載之物。
本發明之第3態樣的光學補償薄膜中之光學異方向性層的折射率異方向性,較宜是高的;能夠提供高的折射率異方向性層之碟狀液晶性化合物係可以適合使用於特開2001-166147號公報〔0050〕~〔0142〕所例示之化合物。此等之中,較宜是該公報之〔0050〕中以一般式〔化10〕所代表的化合物,特佳為於後述〔實施例〕中之以碟狀液晶化合物(Ⅱ)所代表的化合物。
〔水平配向劑〕用以形成光學異方向性層之組成物較宜是除了碟狀液晶性化合物之外,尚且含有至少一種的「水平配向劑」。藉由使在該組成物中含有至少一種的「水平配向劑」,可以使得所形成的光學異方向性層中的碟狀構造單位,相對於聚合物薄膜而言呈實質水平配向。另外,本說明書中所謂的「水平配向」不是要求碟狀液晶性化合物的長軸方向(即,芯之圓盤面)係嚴密地平行於液晶層的水平面(例如,在液晶層形成於支撐體上的情況下,其為支撐體的表面),在本說明書中係指芯之圓盤與水平面所成的角度為小於10度配向的意思。傾斜角較宜是5度以下,更宜是3度以下,更理想是2度以下,最好是1度以下。前述之傾斜角也可以0度。
前述之水平配向劑,雖然可以適合使用特開2005-128050號公報〔0049〕~〔0082〕中所例示之化合物、或氟代脂肪族含有聚合物,然而在本發明之第3態樣中更宜是使用氟代脂肪族含有聚合物,在氟代脂肪族含有聚合物之中,特佳者是氟代脂肪族含有單體與下述一般式(a)間之共聚物。
〔氟代脂肪族含有單體與一般式(a)之共聚物〕用以形成前述之光學異方向性層的組成物,為了使棒狀液晶性化合物之指向的方向實質上平行(Re實質上為0奈米)於基板、或者為了使碟狀液晶性化合物呈水平配向,即指向的方向實質上垂直(Re實質上為0奈米)於基板,則較宜是含有以下述之一般式(a)所代表的重複單位之氟代脂肪族含有聚合物(以下,有的情況是稱為「聚合物A」)。
關於一般式(a)之定義及其較佳例等係與上述之第1態樣相同。
在本發明之第3態樣中,上述之「水平配向劑」的添加量較宜是碟狀液晶性化合物的質量之0.01~20質量%,更宜是0.05~10質量%,特佳為0.1~5質量%。另外,上述之「水平配向劑」係可以單獨使用,也可以併用2種以上。
〔液晶性化合物之配向狀態的固定化〕在由含有液晶性化合物的組成物來形成光學異方向性層的情況下,較宜是使經配向過的液晶性化合物維持其配向狀態地加以固定。固定化較宜是藉由液晶性化合物中所導入的聚合性基之聚合反應來實施。聚合反應雖然是包括使用熱聚合起始劑之熱聚合反應、和使用光聚合起始劑之光聚合反應,然而更佳為光聚合起始劑。
〔光聚合起始劑〕光聚合起始劑,例如,可以採用α-羰基化合物(美國專利第2367661號、美國專利第2367670號之各說明書上所記載之物)、偶因醚(於美國專利第2448828號之說明書上所記載之物)、α-烴取代芳香族偶因化合物(於美國專利第2722512號之說明書上所記載之物)、多核喹啉化合物(於美國專利第3046127號、美國專利第2951758號之各說明書上所記載之物)、三芳基咪唑二聚物和p-胺基二苯甲酮之組合(於美國專利第3549367號之說明書上所記載之物)、吖啶及啡啶化合物(於特開昭60-105667號、美國專利第4239850號之說明書上所記載之物)、及二唑化合物(於美國專利第4212970號之說明書上所記載之物)。
本發明之第3態樣的光學補償薄膜雖然較宜是加減降低紫外線光量地製作而得,然而在此情況下,在光學異方向性層的厚度方向上產生光不能達到的部分,因而可能無法均一地進行用以形成光學異方向性層之聚合。因此,為了保持厚度方向之均一聚合性,則光聚合起始劑較宜是一種光吸收為在長波域、且所產生的游離基之擴散性高之物;比較具體地來說,較宜是使用一種感光域為在330奈米~450奈米之範圍、並產生鹵素游離基或除了氫原子以外之原子數為8以下之烴游離基來做為聚合起始游離基之物。鹵素游離基,舉例來說,例如,其可以是氟、氯、溴或碘之游離基,然而特佳為氯游離基。除了氫原子以外之原子數為8以下之烴游離基可以是具有鹵化烴游離基等之取代基的烴游離基,它的例子,舉例來說,例如,甲基游離基、乙基游離基、丙基游離基、丁基游離基、苯基游離基、甲苯基游離基、氯苯基游離基、溴苯基游離基、苯甲醯基游離基等。感光波長和光源之匹配性(matching)係為高感度化之必要要件。感光域為在330奈米~450奈米之光聚合起始劑係具有不只與金屬鹵化燈及高壓水銀燈等之UV光源間的匹配性良好、能夠促進低功率UV光之聚合反應的優點,而且具有光學補償薄膜之著色少的優點。又,如以上所述,當光聚合起始劑之游離基的鬆密度小時,光學異方向性層與配向膜間之密合會變好。這推測是因為鬆密度小的光學異方向性層之聚合性游離基擴散到配向膜的結果,使得在配向膜之表面上產生化學鍵,又且在配向膜表面附近發生硬化而改良密合性。
另外,光聚合起始劑較宜是可以100 mJ/cm2 之能量分解30%以上之物。光聚合起始劑的例子,雖然是如以下所述,然而在本發明之第3態樣中可使用之光聚合起始劑未限定於此等之物而已。
光聚合起始劑之使用量較宜是塗布液之固體成分的0.01~20質量%,更宜是0.5~5質量%。液晶性化合物之聚合用的光照射較宜是使用紫外線。照射能量較宜是50 mJ/cm2 ~800 mJ/cm2 ,更宜是100~500 mJ/cm2 。為了促進光聚合反應也可以在加熱條件下實施光照射。光學異方向性層之厚度較宜是0.1~10微米,更宜是0.5~5微米。
〔多官能單體〕含有光學異方向性層形成用之液晶性化合物之組成物較宜是含有以使得與後述配向膜間之密合性良好做為目的之多官能單體。在以比通常者還低之紫外線光量來形成光學異方向性層之情況下,雖然使得成為光學異方向性層之下層的支撐體、和光學異方向性層間之密合性產生低減,然而藉由使光學異方向性層含有具2個以上之官能基的多官能單體,就能可改良容易惡化之密合性。
關於可使用的多官能單體,其係與上述第1態樣中可使用之多官能單體相同。
在由含有液晶性化合物的組成物來形成光學異方向性層的情況下,較宜是以該組成物做為塗布液,塗布於配向膜之上而形成者。於塗布液之調製上使用的溶劑,其係適合使用有機溶劑。做為有機溶劑者,例如,可以採用醯胺(例如,N,N-二甲基甲醯胺)、亞碸(例如,二甲基亞碸)、雜環化合物(例如,吡啶)、烴(例如,苯、己烷)、烷基鹵化物(例如,氯仿、二氯甲烷)、酯(例如,乙酸甲酯、乙酸丁酯)、酮(例如,丙酮、甲基乙基酮)、醚(例如,四氫呋喃、1,2-二甲氧基乙烷)。在此等之中,較宜是烷基鹵化物及酮。另外,也可以併用二種類以上之有機溶劑。塗布液之塗布係可以廣泛地採用公知的方法(例如,擠壓塗布法、直接凹印塗布法、反復凹印塗布法、模具塗布法)。
〔配向膜〕為了使液晶性化合物配向之目的,則較宜使用配向膜。另外,也已知道:藉由提供電場、賦予磁場或光照射而產生配向功能之配向膜。於配向膜使用的聚合物之種類係可以按照液晶性化合物之配向(特別是平均傾斜角)來決定。例如,為使液晶性化合物呈水平配向,則使用不降低配向膜之表面能量的聚合物(一般之配向用聚合物)。關於具體的聚合物之種類,其係可以廣泛地採用關於液晶胞或光學補償薄膜之公知文獻上所記載的事項。尤其,在將液晶性化合物配向成相對於摩擦處理方向而言為垂直的方向之情況下,例如,較佳為可以使用在特開2002-62427號公報上所記載的改性聚乙烯醇、特開2002-98836號公報上記載之丙烯酸系共聚物、特開2002-268068號公報上記載之聚醯亞胺、聚醯胺酸。在任何之配向膜之中,為了達成使液晶性化合物和聚合物薄膜基材間的密合性更良好之目的,則較宜是具有聚合性基。聚合性基係可以在側鏈上導入具有聚合性基的重複單位、或者做為環狀基之取代基而導入。更宜是使用在界面上形成液晶性化合物與化學鍵的配向膜,此種配向膜,例如,可以採用在特開平9-152509號公報上所記載之物。
配向膜之厚度較宜是0.01~5微米,更宜是0.05~2微米。另外,也可以在使用配向膜而將液晶性化合物的分子予以配向之後,再按照該配向狀態原樣地固定液晶性化合物之分子而形成光學異方向性層,並只將該光學異方向性層轉印在聚合物薄膜上。
〔聚合物薄膜基材〕做為在本發明之第3態樣中之聚合物薄膜基材者,舉例來說,例如,其可以是降烯系高分子薄膜、聚碳酸酯系高分子薄膜、聚酯系高分子薄膜、聚碸系等之芳香族系高分子薄膜、醯化纖維素薄膜等,然而在使用醯化纖維素薄膜之情況下,將光學補償薄膜當做偏光板保護膜來使用變得容易,因而是特別理想的。像這樣的聚合物薄膜係可以擠壓成形方式或流延製膜方式等之適宜的方式來製造。
又,本發明之第3態樣的聚合物薄膜基材也可以使用雙軸拉伸薄膜等拉伸薄膜。拉伸薄膜,例如可將前述製作的未拉伸薄膜,以輥縱拉伸方式、拉幅機橫拉伸方式及雙軸拉伸方式等進行拉伸處理來形成。拉伸溫度較宜是處理對象之薄膜的玻璃轉移溫度(Tg)的附近、當中、Tg以上~小於熔點。
如先前記載所述,為了得到良好的顯示特性,本發明之第3態樣的光學補償薄膜之厚度方向的遲滯之波長分散性Rth(450)/Rth(550)較宜是高者。另一方面,一般聚合物薄膜之波長分散性係比由液晶性化合物形成的光學異方向性層還低,在具有一定的Rth之光學補償薄膜之中,由積層聚合物薄膜和光學異方向性層而成的光學補償薄膜整體之波長分散性,當聚合物薄膜之Rth愈高時則愈低。從而,較宜是聚合物薄膜之Rth為小者。
於本發明使用的聚合物薄膜基材之Rth,較宜是-40~100奈米,更宜是-30~50奈米,更理想是-25~25奈米,特佳為-10~10奈米。
聚合物薄膜基材之厚度係可以藉由相位差等而適當地決定,然而一般來說,從薄型化觀點來看,較宜是10~200微米,更宜是20~150微米,特佳為30~100微米。
上述本發明之第1、第2及第3之光學補償薄膜(以下,合併稱為「本發明之光學補償薄膜」)係可以使用於各種用途,尤其,特佳為使用於VA模式之液晶顯示裝置之光學補償薄膜。
本發明之光學補償薄膜係可以貼合於直線偏光膜(以下,在單純地稱呼「偏光膜」的情況是意謂著「直線偏光膜」)而能做為圓偏光板或楕圓偏光板來使用。在此種態樣中,光學異方向性層的支撐體之聚合物薄膜,較宜是也能得到做為偏光膜之保護膜的機能;從此一觀點來看,較佳為醯化纖維素薄膜。
以下,詳細地說明由附加本發明之光學補償薄膜而成的本發明之偏光板。
〔偏光板〕本發明之偏光板係至少具有本發明的光學補償薄膜與偏光膜。
關於前述之偏光膜,其係沒有特別的限制,可以廣泛地採用公知之物。例如,可以使用在由聚乙烯醇及部分甲醛化聚乙烯醇、乙烯.乙酸乙烯酯共聚物部分皂化物等之親水性聚合物構成的薄膜中,使之吸附由碘及/或偶氮系及蒽醌系、四系等之雙色性染料等構成之雙色性物質並進行拉伸配向處理過的物質等。在本發明中較宜是使用在特開2002-131548號公報上所記載的拉伸方法,尤其,特佳為使用偏光膜之吸收軸為實質正交於長軸方向的寬度方向單軸拉伸型拉幅式拉伸機。
偏光膜通常是做為表面上以透明保護膜(也稱為保護薄膜)所保護的偏光板來使用。透明保護膜之種類係沒有特別地限定,可以使用乙酸纖維素、乙酸纖維素丁酸酯、纖維素丙酸酯等之纖維素酯類、聚碳酸酯、聚烯烴、聚苯乙烯、聚酯等。透明保護膜通常較宜是以圓筒形態來供給,按照使長軸方向與長條的偏光膜一致的方式進行連續貼合。此處,透明保護膜的配向軸(遲相軸)可以是任意方向,然而從操作上之簡便性來看,透明保護膜之配向軸較宜是平行於長軸方向。又透明保護膜之遲相軸(配向軸)和偏光膜之吸收軸(拉伸軸)間之角度也是沒有特別的限制,可以隨著偏光板之目的而適當地設定。
另外,在使用寬度方向單軸拉伸型拉幅式拉伸機來製作前述偏光膜之情況下,較宜是使透明保護膜之遲相軸(配向軸)和偏光膜之吸收軸(拉伸軸)實質上正交地進行積層。
透明保護膜之Re值,例如,在632.8奈米處較宜是10奈米以下,更宜是5奈米以下。從像這樣低的遲滯之觀點來看,當做透明保護膜使用之聚合物係適合採用如乙酸纖維素、芮歐尼庫斯、芮歐諾阿(均為日本芮翁(股)公司製)、ARTON(JSR(股)公司製)這樣的聚烯烴類。除此之外,舉例來說,例如,其可以是像在特開平8-110402號公報或特開平11-293116號公報上所記載的非複折射性光學樹脂材料。另外,在使用乙酸纖維素於透明保護膜之情況下,從使因環境之溫溼度而引起的遲滯變化小之抑制目的來看,較宜是Re及Rth分別小於10奈米,更宜是2奈米以下。
本發明之偏光板係具有本發明的光學補償薄膜。前述之光學補償薄膜可以貼附在偏光膜和挾持它之一對保護膜的積層體之外側上,從薄型化之觀點來看,亦可直接貼附在偏光膜之表面上來代替前述一對的保護膜中之一者。在此種情況,較宜是將前述光學補償薄膜之聚合物薄膜張貼在偏光膜側者。前述之光學補償薄膜和偏光膜,從防止光學軸之偏差及防止污物等之異物的入侵等之觀點來看,較宜是利用黏著劑而加以固定。具體而言,偏光膜之表面和光學補償薄膜(聚合物薄膜)之表面,較宜是藉由黏著劑而加以黏著、或者隔著黏著層而加以貼合。關於黏著劑之種類係沒有特別地限定,從防止構成組件之光學特性之變化的觀點來看,較宜是在進行黏著處理時之硬化及乾燥之際不需要高溫之加工處理者,期望是不需要長時間之硬化處理及乾燥時間者。從像這樣的觀點來看,較宜是使用親水性聚合物系黏著劑或黏著層。
前述黏著層之形成,例如,其係可以使用由利用丙烯酸系聚合物及聚矽氧系聚合物、聚酯及聚胺基甲酸酯、聚醚及合成橡膠等之適當的聚合物而成的透明黏著劑。在此等之中,從光學透明性及黏著特性、耐候性等之觀點來看,較宜是丙烯酸系黏著劑。另外,黏著層也可以按照需要而將液晶胞等之被著體的黏著性設置在目標偏光板之單面或雙面上。在此情況下,當黏著層露出在表面上時,則較宜是在到達將它供應實際應用為止的期間,暫時貼合分隔材等以防止黏著層表面之污染等。
亦可在偏光膜之單面或雙面上形成以前述透明保護膜為準的具有耐水性等各種功能之保護膜、以防止表面反射等做為目的之抗反射層防眩處理層等適當的功能層。前述抗反射層,例如可藉由塗布、乾燥氟系聚合物來形成,亦可做成多層的金屬蒸鍍膜而形成,除此之外,亦可適合利用其他的光干涉性膜。又,前述防眩處理層,例如,其係可以塗布含有微粒子的樹脂組成物來形成。又,前述之防眩處理層,其係可以利用藉由鑲嵌加工、砂磨加工及蝕刻加工等之能夠在表面上賦予微細凹凸構造之方法,按照使表面反射光擴散的方式進行處理而形成。於前述之防眩處理層中所使用之微粒子,例如,其係可以使用平均粒徑為0.5~20微米之矽石及氧化鋁、鋁石及氧化鈦、氧化鋯、及氧化錫、氧化銦及氧化鎘、氧化銻等之也具有導電性的無機系微粒子、以及由如聚甲基丙烯酸甲酯和聚胺基甲酸酯之適當的聚合物構成之交聯或未交聯的有機系微粒子等合適的物質中之1種或2種以上。
又,使在上述之黏著劑或黏著層中含有此種微粒子,也可以使得由黏著劑構成的層及黏著層持有光擴散性。
本發明之偏光板的光學性質及耐久性(短期、長期之保存性)較宜是具有和市售的超高對比品(例如,三立股份有限公司製之HLC2-5618等)同等以上之性能的物質。具體而言,較宜是可見光透射率為42.5%以上、偏光度({(Tp-Tc)/(Tp+Tc)}1/2≧0.9995(但,Tp為平行透射率,Tc為垂直透射率),在溫度60℃、溼度90%RH之氛圍氣下歷500小時及於80℃、乾燥氛圍氣下放置500小時的情況之前、後中的光透射率之變化率的絕對值較佳為3%以下,更佳是1%以下,偏光度的變化率之絕對值為1%以下,更佳為0.1%以下。
本發明之偏光板,從生產性之觀點來看,例如,較宜是以輥對輥(ROLL TO ROLL),將長條狀之保護膜、長條狀之偏光膜和長條狀之本發明的光學補償薄膜之總共3片薄膜予以貼合所製作而成者。
〔液晶顯示裝置〕以下,說明本發明之液晶顯示裝置。
首先,使用第1圖及第2圖說明本發明之液晶顯示裝置。第1圖係顯示本發明之液晶顯示裝置的一例之構成的模式圖;第2圖係顯示本發明之偏光板的一例之構成的模式圖。於第1圖所示的液晶顯示裝置係電場效果型之液晶顯示裝置的例子,其為一能夠使用負的介電異方向性之向列液晶加以驅動之構成例。
在第1圖中,液晶顯示元件係具有液晶胞(5~8)及配置在液晶胞之兩側的一對偏光板1及14。在偏光板1和液晶胞5~8之間係配置單軸性或雙軸性之光學異方向性層3,然而在偏光板14和液晶胞5~8之間則配置光軸為垂直於層面、且在面內實質上不具有光軸之單軸性的光學異方向性層10。液晶胞係由上側電極基板5和下側電極基板8、與被此等所挾持的液晶分子7所構成。液晶性分子7係由於電極基板5及8之對向面上之實施的摩擦處理的方向6及9,在不施加外部電場之非驅動狀態下,而被控制成配向為約略垂直於前述基板的方向。又,上側之偏光板1及下側之偏光板14係按照使它的吸收軸2和吸收軸15呈概略垂直的方式被積層。
如第2圖所示,偏光板1和14係由偏光膜103、與保護它的保護膜101和105所構成。偏光板1和14,也可以是平行於保護膜101及105之遲相軸102及106、與偏光板之吸收軸104,由於當它是此種配置關係時,偏光板之尺寸變化及捲曲就難以發生而成為機械安定性高之偏光板,所以較理想。又,若由3片薄膜構成的至少2個軸,例如,一側之保護膜之遲相軸和偏光膜之吸收軸、或2片之保護薄膜的遲相軸等為實質上平行的話,亦可得到相同的效果。
在第1圖中,光學異方向性層3係藉由光學上單軸或雙軸之相位差板所構成,並沒有特別地限定,然而,舉例來說,例如,其可以是由降烯系高分子、聚碳酸酯系高分子、聚烯丙酯系高分子、聚酯系高分子或聚碸、或者由此等聚合物中之2種或3種以上混合物而成的聚合物等。此等之中,較宜是複折射特性之控制性及透明性、耐熱性優異之物。光學異方向性層3更宜是雙軸性。光學異方向性層3較宜是滿足下述之式(8)及(9),更宜是顯示下述之式(10)之波長分散性者。
式(8)70≦Re(550)≦180 式(9)30≦Rth(550)≦140 式(10)0.7≦Re(450)/Re(550)≦1.0
另一方面,光學異方向性層10係為具有本發明之光學補償薄膜之光學異方向性層。較佳者為在面內實質上不具有光軸、持有光學上負的折射率異方向性、光學軸為垂直於層面的方向之層。折射率異方向性之絕對值較宜是0.060~0.085,面內遲滯Re較宜是-10~10奈米。光學異方向性層10,如前述,其較宜是利用棒狀液晶化合物之膽固醇液晶相而形成的層、利用碟狀液晶化合物之分子的水平配向(垂直配向)而形成的層、或塗布預定的高分子材料而形成的層。光學異方向性層3及10可解除液晶胞之影像著色、並賦予視角擴大。
另外,第1圖之液晶顯示裝置是具有個別為1層之光學異方向性層3和10之例子,然而也可以具有2層以上之光學異方向性層3和10。
於第1圖中,在以觀察者側為上測時,第1圖所顯示的構成是:光學異方向性層3為配置在觀察者側的偏光板1和觀察者側液晶胞用基板5之間,而光學異方向性層10為配置在背面側之偏光板14和背面側液晶胞用基板8之間;然而也可以是光學異方向性層3和光學異方向性層10互換之構成。又,也可以是光學異方向性層3和10雙方均為配置在觀察者側的偏光板1和觀察者側液晶胞用基板5之間,或者也可以是兩者均配置在背面側之偏光板14和背面側液晶胞用基板8之間。
又,光學異方向性層3可以是與偏光板1一體化,亦可以在與偏光板1一體化之狀態下組入到液晶顯示元件內。例如,也可以由聚合物薄膜來構成光學異方向性層3,並使之具有做為偏光膜之一的側邊的保護膜之機能。又,在光學異方向性層3為由液晶組成物形成的層之情況下,也可以使之具有將支持它之支撐體當做偏光膜之一的側邊的保護膜之機能。在後者的情況下,例如較宜是按照透明保護膜、偏光膜、透明保護膜(兼用作透明支撐體)及光學異方向性層的順序積層而成的一體化型偏光板。在將前述之一體化型偏光板組入於液晶顯示元件內的情況下,較宜是從裝置之外側(遠離液晶胞之側)起,按照透明保護膜、偏光膜、透明保護膜(兼透明支撐體)及光學異方向性層3之順序組入。在製作一體化型偏光板之情況下,較宜是使光學異方向性層3(或支持它的支撐體和光學異方向性層3之積層體)的遲相軸、及所積層的偏光膜之吸收軸概略垂直地進行貼附。
如以上所述,光學異方向性層10是本發明之光學補償薄膜的一部分。光學異方向性層10,其係和上述之光學異方向性層3同樣地可以做為與偏光板14一體化而成的一體化型偏光板而組入於液晶顯示元件內。在光學異方向性層10為由含有液晶性化合物的組成物所形成之層的態樣中,偏光板14之一側的保護膜也可以是光學異方向性層10的支撐體之聚合物薄膜。在此種態樣中,較宜是製作出以透明保護膜、偏光膜、聚合物薄膜及光學異方向性層10之順序積層而成的一體化型偏光板,並將該一體化型偏光板,從外側(遠離液晶胞之側)起,按照透明保護膜、偏光膜、聚合物薄膜及光學異方向性層10順序的方式組入液晶顯示裝置內。
第1圖之液晶顯示裝置所具有的液晶胞較宜是垂直排列模式(VA模式)。VA模式之液晶胞,其係在對向面經摩擦處理過的上下基板5及8之間具有封入介電異方向性為負的液晶性分子7而形成的液晶層。例如,可以使用△n=0.0813及△ε=-4.6左右的液晶分子,來製作出顯示液晶分子之配向方向之指向(即,傾斜角)為約89°的液晶胞。此時,液晶層的厚度d可以設定為3.5微米左右。白顯示之明亮度會隨著液晶層之厚度d(奈米)、和折射率異方向性△n之積△n.d之大小而變化。為了得到最大的明亮度,則液晶層的厚度d較宜是在2~5微米(2000~5000奈米)之範圍,而△n是在0.060~0.085之範圍。此處,折射率異方向性△n係代表△n=Rth/膜厚度(奈米)。
在基板5和基板8之內側上係形成有透明電極(圖中未顯示),然而在不施加驅動電壓於電極之非驅動狀態下,液晶層中之液晶分子7係配向成概略地垂直於基板5和8之面,結果通過液晶面板之光的偏光狀態幾乎沒有變化。如以上所述,由於液晶胞之上側偏光板1之吸收軸2和下側偏光板14之吸收軸15變成概略垂直的緣故,所以光不會通過偏光板。也就是說,第1圖之液晶顯示元件中,在非驅動狀態下係成為黑狀態。相對於此,在驅動狀態下,液晶分子係向平行於基板5和8的方向傾斜,通過液晶面板的光乃因此種傾斜的液晶分子量而改變偏光狀態,通過偏光板,即成為白狀態。
VA模式之特徵在於高速應答及高對比。但是,對比會有雖然在正面上高而在斜方向上卻低的問題。黑顯示時之液晶性分子係垂直配向於基板面。從正面觀察時,由於液晶分子幾乎沒有複折射的緣故,所以透射率低而得不到高對比。惟,在從斜方向觀察的情況下,液晶分子發生複折射。更且,上下偏光板吸收軸之交差角,從正面看是90°之直角,然而從斜方向看的情況則為大於90°。由於此2個因素,所以在斜方向上會有容易發生漏光、對比降低的傾向。又,因液晶胞的複折射,在黑狀態中從斜方向觀察的情況下,會有看到色味變化的情形。在本發明中,為了解決此等問題,於是配置一種由滿足預定的光學特性之聚合物薄膜和光學異方向性層所構成的本發明之光學補償薄膜(第1圖中之10)。更且,在第1圖之液晶顯示裝置中,由於配置單軸性或雙軸性之光學異方向性層3的緣故,所以更能減輕黑狀態中斜方向之光漏等。
在第1圖中係顯示:使用像因在上下基板5和8之間施加電場而使得液晶分子7垂直應答於電場方向這樣之介電率異方向為負的液晶材料之例子。又,在將電極配置在一側的基板上、於和基板面平行的橫方向上施加電場之情況下,可以使用一種具有正介電率異方向性之液晶材料。另外,在VA模式之液晶顯示裝置中,雖然一般在扭轉向列(Twisted Nematic)模式之液晶顯示裝置中使用的濾光材料之添加,由於會使得動態應答特性劣化而很少使用,然而也有為了減低配向不良而添加者。
在VA模式中,白顯示時液晶性分子是傾斜配向,然而與傾斜方向相反方向中,從斜方向觀察時之液晶性分子之複折射的大小不同,並產生亮度及色調上之差異。為了解決它,則液晶胞較宜是複領域(multidomain)。所謂的複領域係指在一個畫素中形成有配向狀態不同之複數個領域。例如,在複領域方式之VA模式的液晶胞之中,其係在一個畫素中存在著施加電場時之液晶性分子之傾斜角互不相同的複數個領域。在複領域方式之VA模式的液晶胞之中,其係可以將因施加電場所引起的液晶性分子之傾斜角予以平均化於每個畫素,藉此即可以將視角特性予以平均化。在一畫素內分割配向上,藉由在電極上設置狹縫、設置突起、改變電場方向而使之持有電場密度上之不均。為在全方向上得到均等的視角,可以提高此分割數。
又,在配向分割之領域邊界上,液晶分子係難以應答。因此,在以正常方塊(normally block)顯示中,由於維持在黑顯示而造成亮度下降之問題。在液晶材料添加濾光劑,則會造成邊界領域縮小。
本發明之液晶顯示裝置係不受限於第1圖所示之構成而已,也可以包括其他的構件。例如,也可以在液晶胞與偏光膜之間配置彩色濾光片。又,在透射型液晶顯示裝置之態樣中,其係可以在背面上配置以冷陰極或熱陰極螢光管、或發光二極體、場致發射元件、電致發光元件做為光源之背光。另一方面,在反射型液晶顯示裝置中,其係可以只在觀察側上配置1片之偏光板,也可以在液晶胞之背面或液晶胞之下側基板的內面上設置反射膜。無庸侈言,在液晶胞觀察側上設置使用前述光源之前光(frontlight)當然也是可以的。更且,也可以是在顯示裝置之1畫素內設置有透射部和反射部之半透射型。
本發明之液晶顯示裝置的種類係沒有特別地限定,也包括影像直視型、影像投影型或光調變型中之任意的液晶顯示元件。在本發明中,其係特別有效地適用像TFT或MIM這樣的使用3端子或2端子半導體元件之主動式矩陣型液晶顯示裝置。不用多說,當然也可以有效地適用稱為時間分割驅動的以超扭轉向列型(Super Twisted Nematic型,STN型)為代表的被動式矩陣型液晶顯示裝置。
【實施例】
以下,列舉實施例和比較例而更進一步具體地說明本發明之特徵。在以下之實施例中所示的材料、使用量、比例、處理內容、處理順序等,只要是在不脫離本發明之意旨的範圍內,即可以進行適當的變更。從而,本發明不應被解釋為僅限定於以下所示之具體例子而已。
首先,說明本發明之第1態樣的實施例及比較例。
〔例1-1〕
使用醯化纖維素薄膜做為聚合物薄膜,以及在它之上形成一在將聚合性碟狀化合物予以水平配向後利用聚合加以固定化之光學異方向性層,進而製作成光學補償薄膜。以下,說明製作方法及評價結果。
(順波長分散性之聚合物薄膜T1之製作)<醯化纖維素溶液之調製>將下述之組成物投入混合槽中,進行攪拌使各成分溶解而調製成醯化纖維素溶液A。
<消光劑溶液之調製>將下述之組成物投入分散機中,進行攪拌使各成分溶解而調製成消光劑溶液。
<波長分散控制劑溶液之調製>將下述之組成物投入混合槽中,一邊加熱一邊進行攪拌,使各成分溶解而調製成波長分散控制劑。
將95.7質量份之上述的醯化纖維素溶液A、1.3質量份之消光劑溶液、3.6質量份之紫外線吸收劑溶液過濾後予以混合,使用帶式(band)流延機流延1600毫米之寬度。殘留溶劑含量為50質量%時從帶上剝離薄膜,於100℃之條件下,以拉幅機鉗夾來保持薄膜,以4%之拉伸倍率進行橫向拉伸,進行乾燥直到殘留溶液含量成為5質量%為止(乾燥1)。更進一步地,將薄膜按照拉伸後的寬度原樣地保持於100℃下歷30秒。從拉幅機鉗夾鬆開薄膜,自薄膜之橫方向兩端各切除5%之後,更進一步地在幅方向為自由(未被保持)的狀態下,以20秒通過135℃之乾燥區後(乾燥2),將薄膜捲取於圓筒(roll)上。所得到的醯化纖維素薄膜之殘留溶劑量為0.1質量%,膜厚度為81微米。使用它來做為順波長分散性之聚合物薄膜T1。
(順波長分散性之聚合物薄膜T2~T6之製作)除了將醯化纖維素之種類、以及添加劑之種類、添加量和薄膜之厚度變更為表1-1之內容以外,以和上述同樣的作法而製作成順波長分散性之聚合物薄膜T2~T6。
(醯化纖維素薄膜(TR1)之製作)將下述之組成物投入混合槽中,一邊加熱一邊進行攪拌,使各成分溶解而調製成醯化纖維素溶液。
使用三層共流延模頭,將所得到的內層用摻混液(dope)及外層用摻混,流延於經冷卻到0℃之輪鼓(drum)上。從輪鼓剝取殘留溶劑量為70質量%之薄膜,將兩端固定於栓拉幅機,將運送方向的拉引(draw)比設定為110%,一邊運送一邊於80℃進行乾燥,更進一步地在殘留溶劑量變成10%之際,於110℃進行乾燥。然後,於140℃之溫度進行乾燥30分鐘而製造出殘留溶劑為0.3質量%之醯化纖維素薄膜(TR1)(外層:3微米,內層:74微米,外層:3微米)。所得到的薄膜之光學特性:Re=8奈米,Rth=82奈米。
使所製作的各薄膜通過溫度60℃之介電式加熱輥,於薄膜表面溫度昇溫到40℃之後,再藉由條塗機塗布下述組成之鹼溶液A達14 ml/m2 ,於經加熱到110℃之蒸汽式遠紅外線加熱器(諾利塔克(股)公司製)之下滯留10秒,使用相同的條塗機塗布純水達3 ml/m2 。此時薄膜之溫度為40℃。接著,以噴水機進行水洗及以氣刀進行水切反復3次之後,使於70℃之乾燥區中滯留2秒進行乾燥。
<光學補償薄膜F11之製作>(光學異方向性層之製作)在上述所製作的醯化纖維素薄膜(T1)之實施鹼化處理過的面上,以線塗機連續塗布下述組成之配向膜塗布液。於60℃之溫風下乾燥60秒,更進一步地於100℃之溫風乾燥120秒而形成配向膜。
將含有下述組成之碟狀液晶化合物之塗布液(S1),以線塗機連續塗布於上述所製作的配向膜上。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。藉由從室溫連續加溫到80℃之步驟而使溶劑乾燥,然後,於120℃之乾燥區加熱90秒,並使碟狀液晶性化合物之分子配向。繼續,將薄膜之溫度保持於90℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定碟狀分子之配向,形成光學異方性層而製作成本發明之第1態樣的光學補償薄膜F11。
從所製作的光學補償薄膜F11,只剝離該使用碟狀液晶性化合物所形成的光學異方向性層之物,使用自動複折射率計(KOBRA-21ADH、王子計測機器(股)公司製)測定光學特性。於波長590奈米測定的Re為0奈米,Rth為163奈米。可以確認已形成:該碟狀液晶性分子相對於薄膜面而言為實質上水平配向的光學異方向性層。
又,光學異方向性層之膜厚度為2.15微米。
<光學補償薄膜F12~F16之製作>對於上述所製作的光學補償薄膜F11,除了將醯化纖維素薄膜(T1)分別變更為醯化纖維素薄膜(T2)~(T6)以外,更進一步地調整光學異方向性層的膜厚度,使光學補償薄膜之Rth成為200奈米而製作出本發明之第1態樣的光學補償薄膜F12~F16。
<光學補償薄膜F17~F18之製作>對於上述所製作的光學補償薄膜F11,以上述所製作的醯化纖維素薄膜(T1)、及市售的乙酸纖維素(Fujitack TD80UF,富士照相軟片(股)公司製,Re:2奈米,Rth:46奈米)來代替醯化纖維素薄膜(T1),並按照使光學補償薄膜之Rth成為200奈米的方式來調整光學異方向性層的膜厚度,而製作出比較例的光學補償薄膜F17及F18。
關於上述所製作的光學補償薄膜之光學異方向性層的膜厚度、Rth、Rth/d(Rth除以光學異方向性層之膜厚度的值)、波長分散性:Rth(450)/Rth(550)及光學補償薄膜之Rth、波長分散性:Rth(450)/Rth(550)、不均係整理於表1-4中。另外,光學補償薄膜之不均係按照下述之評價方法來進行評價。
設定在暗室內之展示箱(schaukasten)上,將2片偏光板相互地設置成十字尼科耳(cross Nicol)配置。將試料之光學補償薄膜置於2片偏光板之間,從距離法線60度方向1公尺處觀察,按照以下之基準評價不均。
◎:即使極力觀察也確認沒有產生不均。○:幾乎不能確認有產生不均。○△:些許產生不均。△:部分可見到不均。X:全面均可見到不均。
由表1-4所示之結果來看,以下之事情是至為顯然的。
使用滿足式(1-1)~式(1-3)的聚合物薄膜之光學補償薄膜F11~F16的Rth(450)/Rth(550)為1.1以上,其係可以得到關於Rth之高波長分散性。另一方面,使用不滿足式(1-1)~式(1-3)醯化纖維素薄膜TR1及TD80UF的光學補償薄膜F17及F18之Rth(450)/Rth(550)為小於1.1,不能得到關於Rth之足夠的波長分散性。特別是藉由使用Rth(450)/Rth(550)為1.3以上之聚合物薄膜的光學補償薄膜F11~F14,可以得到Rth(450)/Rth(550)為1.15以上之非常高的波長分散性。
尤其,使用在250奈米~400奈米之波長領域具有極大吸收之波長分散控制劑A和以式(B)所代表的添加劑D-5之醯化纖維素薄膜,如T2、T3所示,其係可以得到Rth(590)為40奈米以上之光學特性;使用此等光學補償薄膜F12、F13的Rth(450)/Rth(550)為非常高之1.15,亦不會發生不均,其係非常地良好。
〔例1-2〕
以醯化纖維素薄膜做為聚合物薄膜,在其上使聚合性棒狀液晶性化合物呈光學活性向列配向之後,藉由聚合予以固定而形成光學異方向性層來製作光學補償薄膜。以下,說明此一製作方法及評價結果。
<光學補償薄膜F22之製作>和F12同樣地在醯化纖維素薄膜(T2)之上形成以改性聚乙烯醇為主成分之配向膜。
將含有下述組成之棒狀液晶化合物之塗布液(S2),以線塗機連續塗布於上述所製作的配向膜上。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。藉由從室溫連續加溫到80℃之步驟而使溶劑乾燥,然後,於120℃之乾燥區加熱90秒,並使棒狀液晶性化合物之分子配向。繼續,將薄膜之溫度保持於90℃,使用高壓水銀燈,照射100 mJ/cm2 之UV光,固定棒狀液晶化合物的分子之配向,形成光學異方性層而製作成本發明之第1態樣的光學補償薄膜F21。
從所製作的光學補償薄膜F21,只剝離該使用碟狀液晶性化合物所形成的光學異方向性層之物,使用自動複折射率計(KOBRA-21ADH、王子計測機器(股)公司製)測定光學特性。只有於波長590奈米測定的光學異方向性層之Re為0奈米,Rth為143奈米。
<光學補償薄膜F23、F25~F26之製作>對於上述所製作的光學補償薄膜F22,除了將醯化纖維素薄膜(T2)分別變更為醯化纖維素薄膜(T3)、T(5)~(T6)以外,更進一步地調整膜厚度,使光學補償薄膜之Rth成為200奈米而製作出本發明之第1態樣的光學補償薄膜F23、F25~F26。
<光學補償薄膜F27~F28之製作>對於上述所製作的光學補償薄膜F22,除了將醯化纖維素薄膜(T2)分別替換成醯化纖維素薄膜(TR1)、及市售的乙酸纖維素薄膜(Fujitack TD80UF,富士照相軟片(股)公司製,Re:2奈米,Rth:46奈米)以外,更進一步地調整光學異方向性層的膜厚度,使光學補償薄膜之Rth成為200奈米而製作出本發明之第1態樣的光學補償薄膜F7及F28。
上述所製作的光學補償薄膜之評價結果係整理於表1-5中。評價方法係和前述的例之1-1相同。
由表1-5所示之結果來看,以下之事情是至為顯然的。
可以理解到:即使就使用同一聚合物薄膜之光學補償薄膜而論,與在表1-5所示的具有利用膽固醇液晶相而形成的光學異方向性層之光學補償薄膜比較之下,則於表1-4所示的具有利用碟狀液晶之垂直配向而形成的光學異方向性層之光學補償薄膜方面係顯示出比較高的關於Rth之波長分散性。
亦可以理解到:使用滿足式(1-1)~式(1-3)的聚合物薄膜之光學補償薄膜F22、F25~F26顯示其Rth(450)/Rth(550)為1.1以上、關於Rth之高波長分散性;然而使用不滿足式(1-1)~式(1-3)之TD80UF的光學補償薄膜之Rth(450)/Rth(550)為小於1.1,則顯示不足夠的波長分散性。
也可以理解到:在Rth(450)-Rth(550)為小於-5奈米之聚合物薄膜上具有利用膽固醇液晶相而形成的光學異方向性層之光學補償薄膜,Rth(450)/Rth(550)為約略變成1,不顯示正的波長分散性。從而,在聚合物薄膜上具有利用膽固醇液晶相而形成的光學異方向性層之光學補償薄膜的態樣中,使Rth(450)-Rth(550)成為-5奈米以上是重要的事。
又,可以理解到:由於利用碟狀液晶之垂直配向相而形成的光學異方向性層,與利用膽固醇液晶相而形成的光學異方向性層比較之下,係具有於較薄的膜厚度下可得到高的Rth之傾向,所以能夠形成更無塗布不均、顯示均一的光學特性之層。可以理解到:即使是在聚合物薄膜上,具有利用碟狀液晶之垂直配向而形成的光學異方向性層之光學補償薄膜的態樣中,當使用Rth(590)為80奈米以上、且Rth(450)-Rth(550)為-5奈米以上的醯化纖維素薄膜時,特別能夠得到沒有不均、波長分散性高的光學補償薄膜。
〔例1-3〕
以醯化纖維素薄膜、和在其上使波長分散性高的聚合性碟狀化合物呈水平配向(垂直配向)之後,藉由聚合予以固定而形成光學異方向性層,進而製作成波長分散性高的光學補償薄膜。以下,說明製作方法及其評價結果。
和F11同樣地在醯化纖維素薄膜(T1)之上形成以改性聚乙烯醇為主成分之配向膜。
將含有下述組成之碟狀液晶化合物之塗布液(S3),以線塗機連續塗布於上述所製作的配向膜上。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。藉由從室溫連續加溫到80℃之步驟而使溶劑乾燥,然後,於120℃之乾燥區加熱90秒,並使碟狀液晶性化合物之分子配向。繼續,將薄膜之溫度保持於90℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定碟狀分子之配向,形成光學異方性層而製作成本發明之第1態樣的光學補償薄膜F31。
聚合起始劑A
從所製作的光學補償薄膜F31,只剝離該使用碟狀液晶性化合物所形成的光學異方向性層之物,使用自動複折射率計(KOBRA-21ADH、王子計測機器(股)公司製)測定光學特性。於波長590奈米測定之Re為0奈米,Rth為163奈米。可確認:已形成碟狀液晶分子相對於薄膜面而言為實質上水平配向的光學異方向性層。
<光學補償薄膜F32~F36之製作>對於上述所製作的光學補償薄膜F31,除了將醯化纖維素薄膜(T1)分別變更為醯化纖維素薄膜(T2)~(T6)以外,更進一步地調整膜厚度,使光學補償薄膜之Rth成為200奈米而製作出本發明之第1態樣的光學補償薄膜F32~F36。
上述所製作的光學補償薄膜之評價結果係整理於表1-6中。評價方法係和前述的例之1-1相同。
由表1-6所示之結果來看,以下之事情是至為顯然的。
可以理解到:藉由波長分散性高的聚合物薄膜、和利用波長分散性高的碟狀液晶之垂直配向而成的光學異方向性層之組合,能夠得到沒有不均且波長分散性高的光學補償薄膜。
〔例1-4〕
<液晶顯示裝置之製作>在3重量%之聚乙烯醇的水溶液中,添加1重量%之十八烷基二甲基氯化銨(偶合劑)。將它旋塗在附有ITO電極的玻璃基板上,於160℃進行熱處理之後,再實施摩擦處理而形成垂直配向膜。摩擦處理係按照使2片玻璃基板成相對方向的方式來實施。按照使胞隙(cell gap)(d)成為約5.0微米的方式相向合併2片玻璃基板。將以酯系和乙烷系為主成分之液晶性化合物(△n:0.06)注入胞隙中而製作成垂直配向液晶胞A。△n和d之積為300奈米。
(上側偏光板之製作)將帝人化成(股)公司製之聚碳酸酯薄膜『Pure Ace WR』予以熱緩和到Tg附近,而得到Re為120奈米、Rth為70奈米之第二光學補償薄膜A。
對碘水溶液中連續染色之厚度為80微米的圓筒狀聚乙烯醇薄膜於運送方向進行5倍拉伸,進行乾燥而得到長條的偏光膜。在此偏光膜的一側之表面上,使用聚乙烯醇系黏著劑,按照使偏光膜之透射軸和第二光學補償薄膜A之遲相軸成為平行的方式,貼合上述之第二光學補償薄膜A;另一側的表面上,則使用聚乙烯醇系黏著劑,連續地貼合經鹼化處理過的市售之乙酸纖維素薄膜(Fujitack TD80UL,富士照相軟片(股)公司製)而製作成上側偏光板(P1)。
(下側偏光板之製作)將上述所製作的光學補償薄膜(F11)及Fujitack TD80UF予以鹼化處理,使用聚乙烯醇系黏著劑,以輥對輥(roll to roll)貼附在偏光膜的兩面上而製作成一體化型偏光板(P11)。此時,光學補償薄膜之光學補償層係向著偏光板之外側。
對於一體化型偏光板(P11),將光學補償薄膜(F11)代換成上述所製作的光學補償薄膜(F12)~(F18)、(F22)~(F28)及(F31)~(F36)而製作成一體化型偏光板(P12)~(P18)、(P22)~(P28)及(P31)~(P36)。
又,對於上述所製作的一體化型偏光板(P11),將光學補償薄膜(F11)代換成市售的低遲滯TAC(z-TAC,富士照相軟片(股)公司製),而製作成偏光板(P0)。
(偏光板之組入)關於各薄膜之積層角度,當以從顯示裝置之上方觀看時的左右方向為基準(0°)時,如第2圖所示,其係將偏光膜吸收軸104(在第1圖則為15)的軸角度設定為90°、保護膜遲相軸102及106之角度設定為90°。將於上述製作的各光學補償薄膜,按照使光學異方向性層(在第1圖中為10)與液晶胞基板(在第1圖中為8)相接的方式(偏光板(P0)的Z-TAC與液晶胞基板相接的方式),組入於下側偏光板和液晶胞之間。另外,使用上述所製作的偏光板來做為下側偏光板。
又,將於上述製作的上側偏光板(在第1圖中為1),以第二光學補償薄膜A做為基板側而組入於上側液晶胞基板(在第1圖中為5)。此時,第二光學補償薄膜A之遲相軸係按照使之與上側偏光板之透射軸一致的方式來構成。
製作如表1-7所示的之已組入上述所製作的本發明之第1態樣的光學補償薄膜之液晶顯示裝置。關於此等所製作的液晶顯示裝置,以下述之方法來評價正面及斜方向的漏光、從正面及斜方向觀察時之色彩偏移、及不均,並整理於表1-7中。
(1)漏光(正面)在設定於暗室內之展示箱上,於不貼合偏光板的狀態下放置液晶胞,以設置在距離法線方向1公尺處之亮度計(分光放射亮度計CS-1000:MINOLUTA(股)公司製)進行測定亮度1。
接著,在和上述同樣的展示箱上,放置貼合有偏光板之各液晶顯示裝置,和上述同樣地進行測亮度2,以表示此亮度相對於亮度1之比例做為漏光。
(2)漏光(斜方向)在設定於暗室內之展示箱上,於不貼合偏光板的狀態下放置液晶胞,以液晶胞的摩擦方向做為基準,設置在於左方向上45度方位、且距離液晶胞之法線方向的60度方向1公尺處之亮度計(分光放射亮度計CS-1000:MINOLUTA(股)公司製)進行測定亮度1。
接著,在和上述同樣的展示箱上,放置貼合有偏光板之各液晶顯示裝置,和上述同樣地進行測亮度2,以表示此亮度相對於亮度1之100分率做為斜方向漏光。
(3)黑顯示時之色彩偏移(正面)在設定於暗室內之展示箱上,放置貼合偏光板的狀態之液晶胞,從距離法線方向1公尺處觀察液晶胞,以下述之基準評價色味及其強度。
○:無法見到特定的色味。○△:可見到些微之特定的色味。△:可見到少許之特定的色味。×:可清楚地見到特定的色味。
(4)黑顯示時之色彩偏移(斜方向)在設定於暗室內之展示箱上,放置貼合偏光板的狀態之液晶胞,以液晶胞的摩擦方向做為基準,從左方向上45度方位、且距離液晶胞之法線方向的60度方向1公尺處觀察,以和上述(3)之同樣的基準評價黑顯示時之色彩偏移。
(5)不均在設定於暗室內之展示箱上,按照得形成有電極的基板是在展示箱側的方式,放置不貼合偏光板的狀態之液晶胞A,以液晶胞的摩擦方向做為基準,從左方向上45度方位、且距離液晶胞之法線方向的60度方向1公尺處觀察,按照以下的基準評價不均。
◎:就算是極力地觀察也無法確認有不均。○:幾乎不能確認有產生不均。○△:些微產生不均。△:部分可見到不均×:在全面上均可見到不均。
由表1-7之結果來看,以下之事情是至為顯然的。
將本發明之第1態樣的光學補償薄膜使用於垂直配向液晶胞A之光學補償的液晶顯示裝置(L1~L16、L26、L31及L32),其不均少、正面及斜方向之漏光少、且從正面及斜方向觀看時之色彩偏移亦少,與不使用光學補償薄膜之液晶顯示裝置(L0)及使用取代它之比較例的光學補償薄膜之液晶顯示裝置(L17、L18及L28)比較之下,其係顯示出特別優異的顯示特性。
以下,說明本發明之第2態樣的實施例及比較例。
〔例2-1〕
(透明支撐體C1之製作)(乙酸纖維素溶液之調製)將下述之組成物投入混合槽中,進行攪拌使各成分溶解,製作成乙酸纖維素溶液A。
乙酸纖維素溶液A之組成
(消光劑溶液之調製)將20質量份之平均粒徑為16奈米的矽石粒子(AEROSIL R972,日本艾羅迪魯(股)公司製)、及80質量份之甲醇充分攪拌混合30分鐘而調製成矽石粒子分散液。將此分散液與下述之組成物一起投入分散機中,更進一步地攪拌30分鐘以上,使各成分溶解而調製成消光劑溶液。
消光劑溶液之組成
(添加劑溶液之調製)將下述之組成物投入混合槽中,一邊加熱一邊進行攪拌,使各成分溶解而調製成乙酸纖維素溶液。
溶液之組成
光學異方向性減低劑
(乙酸纖維素薄膜之製作)將94.6質量份之上述的乙酸纖維素溶液A、1.3質量份之消光劑溶液、4.1質量份之添加劑溶液分別地過濾後予以混合,使用帶式(band)流延機進行流延。在上述之組成中,降低光學異方向性之化合物及波長分散調整劑之相對於乙酸纖維素的質量比分別是12%、1.2%。在殘留溶劑含量為30質量%時,從帶上剝離薄膜,於140℃進行乾燥40分鐘而製造出厚度為80微米之長尺狀乙酸纖維素薄膜T0。所得到的薄膜之面內遲滯(Re)為1奈米(遲相軸係為與薄膜長軸方向成垂直的方向),厚度方向之遲滯(Rth)係-1奈米。使用此物做為透明支撐體C1。
使溫度為60℃之介電式加熱輥通過在上述所製作的透明支撐體C1,將薄膜表面溫度昇混到40℃之後,再使用桿塗機,以17.3 mL/m2 之塗布量、60公尺/分之塗布速度塗布如下述所示之鹼溶液(S-1),於加熱(鹼化溫度)到110℃的諾利塔克(股)公司製之蒸汽式遠紅外線加熱器之下滯留8秒(鹼化時間)。接著,使用同一桿塗機塗布2.8 mL/m2 之純水。此時之薄膜溫度為40℃。其次,以噴水機進行水洗及以氣刀進行水切反復進行4次之後,使於70℃之乾燥區中滯留5秒進行乾燥,實施鹼化處理。
在經實施鹼化處理過的透明支撐體C1之鹼化處理面上,塗布下述組成之配向膜塗布液,進行乾燥而形成配向膜。
(配向膜塗布液之組成)下述之改性聚乙烯醇 10質量份水 371質量份甲醇 119質量份戊二醛(交聯劑) 0.5質量份
(光學異方向性層C2用塗布液之調製)將下述之組成物溶解於102公斤之甲基乙基酮中而調製成塗布液。
下述之碟狀液晶性化合物(1) 41.01質量份環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(V#360、大阪有機化學(股)公司製) 4.06質量份下述之聚合物A-1 0.13質量份下述之光聚合起始劑 0.90質量份 聚合物A-1
將上述之光學異方向性層C2之組成物溶解於102質量份之甲基乙基酮中而做成塗布液,以#4.2之線狀桿條,將它連續地塗布於上述配向膜之表面上,於130℃之狀態下加熱1分鐘,將碟狀液晶性化合物予以配向。接著,於100℃下,使用120 W/cm之高壓水銀燈照射UV,使碟狀液晶性化合物聚合。然後,放置冷卻到室溫。所得到的光學異方向性層之在波長550奈米測定之Re為0.5奈米,Rth為180奈米,滿足光學異方向性層C2所要求之光學特性。
(光學補償片之密合性評價)光學補償片之密合性係按照JIS K 5400之8.5.2棋盤方格帶法來製作試驗片並進行評價。但是,評價係使用日東電工製之聚酯黏著帶NO31RH來進行的。結果示於表中。
<光學補償片的偏光板之製作>對碘水溶液中連續染色之厚度為80微米的圓筒狀聚乙烯醇薄膜於運送方向進行5倍拉伸,進行乾燥而得到長條的偏光膜。在此偏光膜的一側之表面上,使用聚乙烯醇系黏著劑,連續地貼合經鹼化處理過的上述之光學補償片(K-1),另一側的表面上,則貼合經鹼化處理過的市售之乙酸纖維素薄膜(Fujitack TD80UL,富士照相軟片(股)公司製)而製作成上側偏光板(P-1)。
(光學異方向性層A之製作)將帝人化成(股)公司製之聚碳酸酯薄膜『Pure Ace WR』予以熱緩和到Tg附近,而得到Re為120奈米、Rth為78奈米之光學異方向性層A。
<附有光學異方向性層A的偏光板之製作>對碘水溶液中連續染色之厚度為80微米的圓筒狀聚乙烯醇薄膜於運送方向進行5倍拉伸,進行乾燥而得到長條的偏光膜。在此偏光膜的一側之表面上,使用聚乙烯醇系黏著劑,按照使偏光膜之透射軸和光學異方向性層A之遲相軸成為平行的方式,貼合上述之光學異方向性層A;另一側的表面上,則使用聚乙烯醇系黏著劑,連續地貼合經鹼化處理過的市售之乙酸纖維素薄膜(Fujitack TD80UL,富士照相軟片(股)公司製)而製作成上側偏光板(P-A1)。
<VA面板之實裝>將被設置在使用垂直配向型液晶胞而成之液晶顯示裝置〔夏普製(LC-37GE2)〕上之一對偏光板及一對光學補償片予以剝離,取出液晶胞。
按照使光學異方向性層C2成為液晶胞側的方式,經由黏著劑將於上述製作的偏光板P-1貼附在背光側之液晶胞上;更進一步地按照使光學異方向性層A成為液晶胞側的方式,經由黏著劑將上所製作的偏光板P-A1貼附在偏光板P-1之相反側的液晶胞上,用以代替被設置在使用上述之垂直配向型液晶胞而成之液晶顯示裝置上之一對偏光板及一對光學補償片。此時,偏光板P-1與偏光板P-A1的透射軸係呈交叉狀地與液晶胞貼合。於液晶胞上施加55Hz之矩形電壓。白顯示為5V、黑顯示為0V之正常方塊模式(Normally Block Mode)。求出關於黑顯示之在0°方位角、60°極角方向視野角的黑顯示透射率(%),以及在0°方位角、60°極角與在180°方位角、60°極角間之色偏移△x。結果示於表中。
色味變化(△x)◎:小於0.02○:0.02~0.04△:0.04~0.06×:0.06以上
〔例2-2〕
除了以#3.6之線狀桿條製作光學異方向性層C2、Re為0.4奈米、Rth為160奈米以外,和例2-1同樣地製作光學補償片、偏光板。除了使用此偏光板來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-3〕
除了以#4.8之線狀桿條製作光學異方向性層C2、Re為0.4奈米、Rth為200奈米以外,和例2-1同樣地製作光學補償片、偏光板。除了使用此偏光板來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-4~例2-6〕
除了改變在製作透明支撐體C1時使用的波長分散調整劑之添加量,並使用變更Re、Rth、Rth400 (C1)-Rth700 (C1)的值之醯化纖維素薄膜來做為透明支撐體C1以外,和例2-1~例2-3同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-7~例2-9〕
製作藉由下述方法所製作的環狀烯烴(COC)薄膜來做為透明支撐體C1。
(透明支撐體C1之製作)將述之組成物投入耐壓密閉槽中,攪拌之後,於溫水中加熱到80℃使各成分溶解。冷卻之後,以平均孔徑為34微米之過濾紙及平均孔徑為10微米之燒結金屬過濾器進行過濾。
接著,將含有以上述方法所製作的環狀聚烯烴溶液D-2之下述組成物投入分散機中,調製成消光劑。
將100質量份之上述環狀聚烯烴溶液D-2、1.1質量份之消光劑分散液M-2予以混合,調製成製膜用塗布液。使用帶式流延機流延上述的塗布液。將在殘留溶劑含量為約25質量%時從帶上剝取之薄膜,使用拉幅機於寬度方向以2%之拉伸率進行拉伸,一邊保持使薄膜不產生皺紋,一邊以熱風進行乾燥。然後,從拉幅機運送移到輥運送,更進一步地以100℃~120℃進行乾燥並捲曲。所製作的COC薄膜,如表所示,其係滿足做為透明支撐體C1之光學特性。
對上述所製作的COC薄膜進行電暈處理。除了使用以此經實施電暈處理過的COC薄膜做為透明支撐體C1,來代替經實施鹼化處理過的乙酸纖維素薄膜以外,和例2-1~例2-3同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-10~例2-12〕
製作藉由下述方法所製作的環狀烯烴(COC)薄膜來做為透明支撐體C1。
(透明支撐體C1之製作)除了以下述之製膜用塗布液以外,和例2-7~2-9同樣的作法,而得到環狀烯烴系樹脂COP薄膜。
Arton G(JSR(股)製) 100質量份二氯甲烷 390質量份化合物A-7(東京化成工業(股)公司製) 10.0質量份
對以上述之方法製作的COP薄膜進行電暈處理。除了使用以此經實施電暈處理過的COP薄膜做為透明支撐體C1,來代替經實施鹼化處理過的乙酸纖維素薄膜以外,和例2-1~例2-3同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-13~例2-15〕
使用藉由下述方法製作的2軸拉伸內酯環含有聚合物系樹脂(LCA)薄膜來做為透明支撐體C1。
(內酯環含有聚合物系樹脂)在具備攪拌裝置、溫度感測器、冷卻管、氮氣導入管之30L反應釜中,投入8000克整甲基丙烯酸甲酯(MMA)、2000克之2-(羥甲基)丙烯酸甲酯(MHMA)、10000克之甲苯,在其中持續通入氮氣進行昇溫直到105℃為止,進行迴流,添加10.0克之做為起始劑的三級鋁過氧異壬酸鹽(阿投菲納吉富製、商品名:魯帕若魯570),同時一邊以4小時滴下由20.0克之起始劑和100克之甲苯所構成的溶液,一邊於迴流(約105~110℃)下進行溶液聚合,更且進一步地以4小時進行熟成。
在所得到的聚合物溶液中,加入10克之磷酸硬脂酸酯/磷酸二硬脂酸酯的混合物(堺化學製、商品名:Phoslex A-18),於迴流下(約90~110℃)進行環化縮合反應歷5小時。接著,將上述之環化縮合反應所得到的聚合物溶液,以換算成樹脂量為2.0公斤/小時的處理速度,導入到桶溫度為260℃、旋轉數為100 rpm、減壓度為13.3~400 hPa(10~300 mmHg)、後通氣口數為1個、前通氣口數為4個之通氣口式螺旋雙軸擠壓機(ψ=29.75毫米、L/D=30)中,於該擠壓機內進行環化縮合反應及脫揮,藉由擠壓而得到透明的內酯環含有聚合物系樹脂丸粒(1A)。
內酯環含有聚合物系樹脂丸粒(1A)的內酯環率為97.0%,平均分子量為147700,熔流率為11.0克/10分鐘,Tg(玻璃轉移溫度)為130℃。
(基材薄膜之製作)相對於100份之內酯環含有聚合物系樹脂丸粒(1A),混合1份之TINUVIN1577(汽巴特殊化學品公司製)、1份之阿得卡司塔卜LA-31(旭電化工業公司製)、10份之丙烯腈-苯乙烯共聚物、0.12份之做為發泡抑制劑之乙酸鋅,藉由擠壓機從模具溫度為250℃的T模擠壓出來,而得到120微米之末拉伸薄膜。將此未拉伸薄膜,於縱方向、145℃下進行1.5倍拉伸,於橫方向、145℃下進行1.8倍拉伸,得到厚度為60微米之2軸拉伸薄膜。
對以上述方法製作的LCA薄膜進行電暈處理。除了使用以此經實施電暈處理過的LCA薄膜做為透明支撐體C1,來代替經實施鹼化處理過的乙酸纖維素薄膜以外,和例2-1~例2-3同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-16~2-18〕
除了在形成光學異方向性層C2時,對配向膜之表面進行摩擦處理、及使用下述組成的塗布來形成光學異方向性層C2,以及按照將光學異方向性層C2之Re、Rth成為如表所示之值的方式來調整膜厚度以外,和例2-1同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,但依視角而定的色味變化雖然是比例2-1稍稍地增加,然而卻仍是在十分良好的範圍。
(含有棒狀液晶性化合物的塗布液之組成)
〔例2-19~2-21〕
對以上述方法製作的LCA薄膜進行電暈處理。除了使用以此經實施電暈處理過的LCA薄膜做為透明支撐體C1,來代替經實施鹼化處理過的乙酸纖維素薄膜以外,和例2-16~2-18同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,但依視角而定的色味變化雖然是比例2-1稍稍地增加,然而卻仍是在十分良好的範圍。
〔例2-22~2-24〕
除了將在光學異方向性層C2之形成上使用的碟狀液晶化合物(1),代換成下述之碟狀液晶化合物(2),並按照使光學異方向性層C2之Re、Rth成為如表所示之值的方式來調整膜厚度以外,和例2-1同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣地少、良好。
〔例2-25~2-27〕
除了將在光學異方向性層C2之形成上使用的水平配向劑之聚合物A-1,代換成下述之聚合物A-2,且按照使光學異方向性層C2之Re、Rth為如表所示之值的方式來調整膜厚度以外,和例2-1同樣地分別製作光學補償片、偏光板。除了使用所得到偏光板分別來代替偏光板P-1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣的少,其是良好的。
〔例2-28〕
使用藉由下述記載之方法所製作的聚合物薄膜來做為透明支撐體C1。
(聚合物1之製作)將下述之組成物投入四口燒瓶(裝設有投入口、溫度計、環流冷卻管、氮氣導入口、攪拌機)中,慢慢地昇溫到80℃,一邊攪拌一邊進行聚合歷5小時,聚合終了後,將聚合物溶液投入多量的甲醇中使之沉澱,更進一步地以甲醇洗淨,進行精製、乾燥而得到重量平均分子量為3000(以GPC測定)之聚合物1。
丙烯酸甲酯 10質量份丙烯酸2-羥乙酯 1質量份偶氮雙異丁腈(AIBN) 1質量份甲苯 30質量份
(透明支撐體C1之製作)將下述之塗布液組成物投入加壓密閉容器中,加熱到70℃,容器內壓力上昇到1氣壓以上,一邊攪拌一邊使纖維素酯完全溶解,將塗布液溫度下降到35℃靜止放置一晚,使用安積濾紙(股)製之編號244安積濾紙過濾此塗布液後,更進一步地靜置一晚脫除泡沫。其次,使用日本精線(股)公司製之精細網目NM(絕對過濾精度100微米)、精細孔NF(使用按照絕對過濾精度50微米、15微米、5微米之順序依次提高過濾精度),於1.0×106 Pa之過濾壓力下過濾並供給到製膜。膜厚度為40微米。
(塗布液組成物)乙酸纖維素(取代度為2.83) 100質量份上述合成之聚合物1 15質量份下述之UV劑(1) 0.8質量份下述之UV劑(2) 0.2質量份二氯甲烷 475質量份乙醇 50質量份
所得到的聚合物薄膜之光學特性如表所示,其係滿足做為透明支撐體C1之要件。除了使用此聚合物薄膜來做為透明支撐體C1以外,和例2-16同樣地形成光學異方向性層C2,製作光學補償片、偏光板。更進一步地使用此偏光板,同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化雖是比例2-1有某種程度上之增加,但卻仍是十分良好。
〔例2-29〕
使用藉由下述記載之方法所製作的醯化纖維素薄膜來做為透明支撐體C1。
(透明支撐體C1之製作)將下述塗布液組成物投入加壓密閉容器中,加熱到70℃,容器內壓力上昇到1氣壓以上,邊攪拌邊使纖維素酯完全溶解,將塗布液溫度下降到35℃靜置一晚,使用安積濾紙(股)製之編號244安積濾紙過濾此塗布液後,進一步地靜置一晚脫除泡沫。其次,使用日本精線(股)公司製之精細網目NM(絕對過濾精度100微米)、精細孔NF(使用按照絕對過濾精度50微米、15微米、5微米之順序依次提高過濾精度),於1.0×106 Pa之過濾壓力下過濾並供給到製膜。膜厚度為40微米。
(塗布液組成物)乙酸纖維素(取代度為2.83) 100質量份上述合成之聚合物1 15質量份下述之UV劑(1) 0.8質量份下述之UV劑(2) 0.2質量份二氯甲烷 475質量份乙醇 50質量份
所得到的聚合物薄膜之光學特性如表所示,其係滿足做為透明支撐體C1之要件。除了使用此聚合物薄膜來做為透明支撐體C1以外,和例2-16同樣地形成光學異方向性層C2,製作光學補償片、偏光板。更進一步地使用此偏光板,同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化雖是比例2-1有某種程度上之增加,但卻仍是十分良好。
〔例2-30〕
在例2-28中之聚合物薄膜之製作中,除了將膜厚度定為80微米、並使用膜厚度經調成使得Re、Rth為顯示之值的透明支撐體C1以外,和例2-28同樣地分別製作光學補償片、偏光板。使用此偏光板同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,依視角而定的色味變化雖然有比例2-1某種程度的增加,然而卻仍是十分良好。
〔例2-31〕
除了使用在例2-30製作的聚合物薄膜來做為透明支撐體C1以外,和例2-1同樣地形成光學異方向性層C2,並製作光學補償片及偏光板。使用此偏光板同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣地少、良好。
〔例2-32~2-34〕
使用以下述方法製作、且膜厚度經調整成使得Re、Rth、Rth450/Rth550為顯示之值的方式所形成之聚醯亞胺層,來做為光學異方向性層C2。
(聚醯亞胺層之製作)將由2,2’-雙(3,4-二羧基苯基)六氟丙烷、和2,2’-雙(三氟甲基)-4,4’-二胺基聯苯基所成的重量平均分子量(MW)為120,000的聚醯亞胺,溶解於環己酮中而調製成15重量%之聚醯亞胺溶液。然後,於例2-1中所記載的透明支撐體C1上塗布前述之聚醯亞胺溶液。於100℃下乾燥處理此塗布膜歷10分鐘,結果製成膜厚度為5微米~6微米之光學補償片,分別得到如表所示之光學特性的光學補償片。分別地使用此等之光學補償片,和例2-1同樣地製作偏光板。更進一步同樣地製作液晶顯示裝置,進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和比例2-1同樣地少、良好。
〔例2-35~2-37〕
除了使用在例2-13製作的聚合物薄膜來做為透明支撐體C1以外,和例2-32~2-34同樣地形成光學異方向性層C2,並製作光學補償片及偏光板。使用此偏光板同樣地製作液晶顯示裝置,同樣地進行色味視角測定。結果示於表中,然而依視角而定的色味變化係和例2-1同樣地少、良好。
〔例2-1’〕
在例2-1中,雖然使用從在光學異方向性層C2之形成上使用的組成物除去聚合物A-1的組成物,並和例2-1同樣地形成光學異方向性層,然而碟狀液晶化合物未配向而不能形成所期望的光學特性之光學異方向性層C2。
〔例2-2’〕
使用Re、Rth、Rth 400-Rth 700為如表所示之值的聚合物薄膜來做為透明支撐體,以代替實施例2-1之透明支撐體C1。除此之外,和例1同樣地製作液晶顯示裝置。同樣地進行色味視角測定之結果,可明白色味變化變差。
〔例2-3’〕
除了使用Re為如表所示之值的聚合物薄膜來代替例2-1之透明支撐體C1,且按照使光學異方向性層C2之Rth成為如表所示之值的方式來調整膜厚度以外,和例1同樣地製作液晶顯示裝置。同樣地進行色味視角測定之結果,可明白色味變化變差。
〔例2-4’〕
除了使用Rth 400-Rth 700為如表所示之值的聚合物薄膜來代替例2-1之透明支撐體C1以外,和例2-1同樣地製作液晶顯示裝置。同樣地進行色味視角測定之結果,可明白色味變化稍稍地變差。
另外,從例2-1的光學異方向性層C2之形成上使用的組成物中除去多官能單體(環氧乙烷改性三羥甲基丙烷三丙烯酸酯(V#360、大阪有機化學(股)公司製)而形成光學異方向性層之外,和例2-1同樣地製作光學補償片。可明白:光學補償片之透明支撐體C1和光學異方向性層C2間之密合評為6點。
以下,說明本發明之第3態樣的實施例及比較例。
〔例3-1〕
茲以下述之光學補償薄膜為例,說明本發明之第3態樣;該光學補償薄膜係一種具有以醯化纖維素做為聚合物薄膜基材,在它之上塗布含有聚合性碟狀液晶性化合物的組成物,於將碟狀構造單位予以水平配向之後,藉由聚合加以固定形成的光學異方向性層的光學補償薄膜。
<乙酸纖維素薄膜(T1)之製作>(乙酸纖維素溶液之調製)將下述之組成物投入混合槽中,進行攪拌使各成分溶解,調製成乙酸纖維素溶液A。
乙酸纖維素溶液A之組成
(消光劑溶液之調製)將20質量份之平均粒徑為16奈米的矽石粒子(AEROSIL R972,日本艾羅迪魯(股)公司製)、及80質量份之甲醇充分攪拌混合30分鐘而調製成矽石粒子分散液。將此分散液與下述之組成物一起投入分散機中,更進一步地攪拌30分鐘以上,使各成分溶解而調製成消光劑溶液。
消光劑溶液之組成
(添加劑溶液之調製)將下述之組成物投入混合槽中,一邊加熱一邊進行攪拌,使各成分溶解而調製成乙酸纖維素溶液。
添加劑溶液之組成
(乙酸纖維素薄膜之製作)將94.6質量份之上述的乙酸纖維素溶液A、1.3質量份之消光劑溶液、4.1質量份之添加劑溶液分別地過濾後予以混合,使用帶式流延機進行流延。在上述之組成中,降低光學異方向性之化合物及波長分散調整劑之相對於乙酸纖維素的質量比分別是12%、1.2%。在殘留溶劑含量為30質量%時,從帶上剝離薄膜,於140℃進行乾燥40分鐘而製造出厚度為80微米之長尺狀乙酸纖維素薄膜T1。所得到的薄膜之面內遲滯(Re)為1奈米(遲相軸係為與薄膜長軸方向成垂直的方向),厚度方向之遲滯(Rth)係-1奈米。
使溫度為60℃之介電式加熱輥通過在上述所製作的薄膜,將薄膜表面溫度昇溫到40℃之後,再使用桿塗機,以14 mL/m2 之塗布量塗布下述組成之鹼溶液A,於加熱到110℃之蒸汽式遠紅外線(諾利塔克(股)公司製)加熱器之下滯留10秒。接著,使用同一桿塗機塗布3 mL/m2 之純水。此時之薄膜溫度為40℃。其次,以噴水機進行水洗及以氣刀進行水切反復進行3次之後,使於70℃之乾燥區中滯留2秒進行乾燥,實施鹼化處理。
<光學補償薄膜F11之製作>(光學異方向性層之製作)在上述所製作之長尺狀醯化纖維素薄膜(T1)之經實施鹼化處理過的面上,以#14之線塗機連續塗布下述組成之配向膜塗布液。以60℃之溫風進行乾燥60秒,更進一步地以100℃之溫風乾燥120秒而形成配向膜。
將含有下述組成之碟狀液晶性化合物之塗布液(S1),以#6.0線塗機,連續塗布於上述所製作的配向膜上。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。以從室溫連續加溫到80℃之步驟,,將溶劑予以乾燥,然後於120℃之乾燥區加熱90秒,將碟狀液晶性化合物予以配向。繼續使薄膜之溫度保持於90℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定液晶化合物之配向,形成光學異方性層B1而製作成光學補償薄膜F11-200。
從所製作的光學補償薄膜F11-200、及從光學補償薄膜F11-200只剝離該含有碟狀液晶性化合物的光學異方向性層所成之物,使用自動複折射率計(KOBRA-21ADH、王子計測機器(股)公司製)測定光學特性。於波長590奈米測定的Re為2奈米,Rth為200奈米。又,光學補償薄膜F1中只有光學異方向性層的Re為0奈米,Rth為200奈米。又,可以確認:已形成該碟狀液晶構造單位相對於薄膜面而言為實質上水平配向的光學異方向性層。
又,光學異方向性層之膜厚度為2.65微米。折射率異方向性為0.075。
對於上述所製作的光學補償薄膜F11-200,按照使Rth成為180奈米、160奈米、140奈米的方式變更塗布膜之厚度,分別地製作薄膜F11-180、F11-160、F11-140。
<光學補償薄膜F12之製作>相對於上述所製作的光學補償薄膜F11-200,以市售的乙酸纖維素(Fujitack TD80UF,富士照相軟片(股)公司製,Re:3奈米,Rth:45奈米)來代替醯化纖維素薄膜(T1),並按照使Rth成為200奈米的方式來調整光學異方向性層之厚度,製作成薄膜F12-200。
更進-步地,相對於上述所製作的光學補償薄膜F12-200,按照使得Rth成為180奈米、160奈米、140奈米的方式變更塗布膜之厚度,分別地製作薄膜F12-180、F12-160、F12-140。
<光學補償薄膜F21之製作>和光學補償薄膜F11-200同樣地,在醯化纖維素薄膜(T1)上形成配向膜,於配向膜上,以#6.0線塗機連續塗布含有下述組成之碟狀液晶性化合物之塗布液(S2)。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。以從室溫連續加溫到90℃之步驟來乾燥溶劑,然後再於120℃之乾燥區加熱90秒,將碟狀液晶性化合物予以配向。繼續使薄膜之溫度保持於90℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定液晶化合物之配向,形成光學異方性層B2而製作成光學補償薄膜F21-200。
從所製作的光學補償薄膜F21-200、及從光學補償薄膜F21-200只剝離該含有碟狀液晶性化合物的光學異方向性層所成之物,使用自動複折射率計(KOBRA-21ADH、王子計測機器(股)公司製)測定光學特性。於波長590奈米測定的Re為2奈米,Rth為200奈米。光學補償薄膜F1之外,僅光學異方向層的Re為0奈米,Rth為200奈米。又,可以確認:已形成該碟狀液晶性分子相對於薄膜面而言為實質上水平配向的光學異方向性層。
又,光學異方向性層之膜厚度為2.2微米。折射率異方向性為0.091。
對於上述所製作的光學補償薄膜F21-200,按照使Rth成為180奈米、160奈米、140奈米的方式變更塗布膜之厚度,分別地製作薄膜F21-180、F21-160、F21-140。
<光學補償薄膜F22之製作>相對於上述所製作的光學補償薄膜F21-200,以市售的乙酸纖維素(Fujitack TD80UF,富士照相軟片(股)公司製,Re:3奈米,Rth:45奈米)來代替醯化纖維素薄膜(T1),並按照使Rth成為200奈米的方式來調整光學異方向性層之厚度,製作成薄膜F21-200。
更進一步地,相對於上述所製作的光學補償薄膜F22-200,按照使得Rth成為180奈米、160奈米、140奈米的方式變更塗布膜之厚度,分別地製作薄膜F22-180、F22-160、F22-140。
<光學補償薄膜F31之製作>和光學補償薄膜F11-200同樣地,在醯化纖維素薄膜(T1)上形成配向膜,於配向膜上,以線塗機連續塗布含有下述組成之碟狀液晶性化合物之塗布液(S3)。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。以從室溫連續加溫到90℃之步驟,將溶劑予以乾燥,然後於120℃之乾燥區加熱90秒,將碟狀液晶性化合物予以配向。繼續使薄膜之溫度保持於90℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定液晶化合物之配向,形成光學異方性層B3而製作成光學補償薄膜F31-200。
對於上述所製作的光學補償薄膜F31-200,按照使Rth成為180奈米、160奈米、140奈米的方式變更塗布膜之厚度,分別地製作薄膜F31-180、F31-160、F31-140。
<光學補償薄膜F32之製作>相對於上述所製作的光學補償薄膜F31-200,以市售的乙酸纖維素(Fujitack TD80UF,富士照相軟片(股)公司製,Re:3奈米,Rth:45奈米)來代替醯化纖維素薄膜(T1),並按照使Rth成為200奈米的方式來調整光學異方向性層之厚度,製作成薄膜F31-200。
更進一步地,相對於上述所製作的光學補償薄膜F32-200,按照使得Rth成為180奈米、160奈米、140奈米的方式變更塗布膜之厚度,分別地製作薄膜F32-180、F32-160、F32-140。
上述所製作的光學補償薄膜之結果係示於表3-1。
從上述之結果來看,可明白:藉由使用以一般式(1)所代表的碟狀化合物可以大幅地提昇Rth/d。
〔例3-2〕
對上述之光學補償薄膜(F11-200)及Fujitack TD80UF進行鹼化處理,並使用聚乙烯醇系黏著劑、以輥對輥貼附在偏光膜的兩面上,製作成-體化型偏光板(P11-200)。此時,光學補償薄膜之光學補償層係朝向偏光板之外側。
關於表3-1所示之其他的光學補償薄膜,也是以和P11-200同樣的作法而製作成偏光板。
〔例3-3〕
<液晶顯示裝置之製作>(垂直配向液晶胞之製作)在3重量%之聚乙烯醇的水溶液中,添加1重量%之十八烷基二甲基氯化銨(偶合劑)。將它旋塗在附有ITO電極的玻璃基板上,於160℃進行熱處理之後,再實施摩擦處理而形成垂直配向膜。摩擦處理係按照使2片玻璃基板成相對方向的方式來實施。按照使胞隙(d)成為約5.0微米的方式相向合併2片玻璃基板。將以酯系和乙烷系為主成分之液晶性化合物(△n:0.06)注入胞隙內而製作成垂直配向液晶胞A。△n和d之積為300奈米。
(上側偏光板之製作)將帝人化成(股)公司製之聚碳酸酯薄膜『Pure Ace WR』予以熱緩和到Tg附近,而得到Re為120奈米、Rth為78奈米之第二光學補償薄膜A。對碘水溶液中連續染色之厚度為80微米的圓筒狀聚乙烯醇薄膜,於運送方向進行5倍拉伸,進行乾燥而得到長條的偏光膜。在此偏光膜的一側之表面上,使用聚乙烯醇系黏著劑,按照使偏光膜之透射軸和第二光學補償薄膜A之遲相軸成為平行的方式,貼合上述之第二光學補償薄膜A;另一側的表面上,則使用聚乙烯醇系黏著劑,連續地貼合經鹼化處理過的市售之乙酸纖維素薄膜(Fujitack TD80UL,富士照相軟片(股)公司製)而製作成上側偏光板(P1)。
(偏光板之組入)關於各薄膜之積層角度,當以從顯示裝置之上方觀看時的左右方向為基準(0°)時,如第2圖所示,係將偏光膜吸收軸104(在第1圖則為15)的軸角度設定為90°、保護膜遲相軸102及106之角度設定為90°。將於上述製作的下側偏光板,按照使光學異方向性層(在第1圖中為10)與液晶胞基板(在第1圖中為8)相接的方式,組入液晶顯示裝置中。
又,在上側偏光板(在第1圖中為1)和上側液晶胞基板(在第1圖中為5)之間,按照使第二光學補償薄膜出來的方式配置上側偏光板。此時,第二光學補償薄膜之遲相軸係按照使它與上側偏光板之透射軸一致的方式來構成。
如表2所示這樣地製作已組入有上述所製作的本發明之第3態樣的光學補償薄膜之液晶顯示裝置。
對於上述所製作的液晶顯示裝置,以下述之方法來評價正面及斜方向的漏光、從正面及斜方向觀察時之色彩偏移、及不均,並整理於表3-2中。
(1)漏光(正面)在設定於暗室內之展示箱上,於不貼合偏光板的狀態下放置液晶胞,以設置在距離法線方向1公尺處之亮度計(分光放射亮度計CS-1000:MINOLUTA(股)公司製)進行測定亮度1。
接著,在和上述同樣的展示箱上,放置貼合有偏光板之各液晶顯示裝置,和上述同樣地進行測亮度2,以表示此亮度相對於亮度1之比例做為漏光。
(2)漏光(斜方向)在設定於暗室內之展示箱上,於不貼合偏光板的狀態下放置液晶胞,以液晶胞的摩擦方向做為基準,設置在於左方向上45度方位、且距離液晶胞之法線方向的60度方向1公尺處之亮度計(分光放射亮度計CS-1000:MINOLUTA(股)公司製)進行測定亮度1。
接著,在和上述同樣的展示箱上,放置貼合有偏光板之各液晶顯示裝置,和上述同樣地進行測亮度2,以表示此亮度相對於亮度1之100分率做為斜方向漏光。
(3)黑顯示時之色彩偏移(正面)在設定於暗室內之展示箱上,放置貼合偏光板的狀態之液晶胞,從距離法線方向1公尺處觀察液晶胞,以下述之基準評價色味及其強度。
○:無法見到特定的色味。○△:可見到些微之特定的色味。△:可見到少許之特定的色味。×:可清楚地見到特定的色味。
(4)黑顯示時之色彩偏移(斜方向)在設定於暗室內之展示箱上,放置貼合偏光板的狀態之液晶胞,以液晶胞的摩擦方向做為基準,從左方向上45度方位、且距離液晶胞之法線方向的60度方向1公尺處觀察,以和上述(3)之同樣的基準評價黑顯示時之色彩偏移。
(5)不均在設定於暗室內之展示箱上,按照得形成有電極的基板是在展示箱側的方式,放置不貼合偏光板的狀態之液晶胞1,以液晶胞的摩擦方向做為基準,從左方向上45度方位、且距離液晶胞之法線方向的60度方向1公尺處觀察,按照以下的基準評價不均。
○:不能確認有產生不均。○△:些微產生不均。△:部分可見到不均。×:在全面上均可見到不均。
由表3-2之結果來看,以下之事情是至為顯然的。
於使用液晶胞A之液晶顯示裝置中,在各光學補償薄膜的厚度方向之遲滯Rth為180奈米時,正面及斜方向之漏光最少,從正面及斜方向觀看時之色味亦少,顯示出最優的光學特性。
在各光學補償薄膜中,相較於使用聚合物薄膜之Rth為45奈米的TD80UF者而言,使用Rth為0奈米的T1者之光學特性是良好的。
一般而言,光學異方向性層之Rth愈高、膜厚度愈厚,則愈易引起不均。藉由提高Rth/膜厚度,即可以使得相同Rth之膜厚度變薄,並可以改善不均。藉由使得光學異方向性層之Rth/膜厚度成為0.065以上,可以得到光學異方向性層之Rth即使是在150奈米以上也沒有不均之良好的面相。
〔例3-4〕
在此說明藉由減低UV照射量來提昇Rth/d之方法。
於使用F11-200之配向膜狀上的含有上述之碟狀液晶顯示化合物之塗布液(S1),以#6.0線塗機連續塗布於上述所製作的配向膜上。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。以從室溫連續加溫到80℃之步驟,將溶劑予以乾燥,然後於120℃之乾燥區加熱90秒,將碟狀液晶性化合物予以配向。繼續使薄膜之溫度保持於80℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定液晶化合物之配向,形成光學異方性層而製作成光學補償薄膜F51。
對於上述所製作的光學補償薄膜F51,按照表3-3的方式變更UV光之照射量,製作成F52~F54。
於使用F11-200之配向膜狀上的含有上述之碟狀液晶顯示化合物之塗布液(S4),以#6.0線塗機連續塗布於上述所製作的配向膜上。薄膜之運送速度為20公尺/分鐘。以從室溫連續加溫到80℃之步驟,將溶劑予以乾燥,然後於120℃之乾燥區加熱90秒,將碟狀液晶性化合物予以配向。繼續使薄膜之溫度保持於80℃,使用高壓水銀燈,照射500 mJ/cm2 之UV光,固定液晶化合物之配向,形成光學異方性層而製作成光學補償薄膜F61。
對於上述所製作的光學補償薄膜F61,按照表3-3的方式變更UV光之照射量,製作成F62~F64。
更進一步地,將使用於上述光學補償薄膜F51~F54之塗布液,從碟狀液晶性化合物(S1)變更為(S2),製作成薄膜F71~F74。
又,將使用於上述光學補償薄膜F51~F54之塗布液,從碟狀液晶性化合物(S1)變更為(S5),製作成薄膜F81~F84。
對於上述所製作的光學補償薄膜F51~54、F61~64、F71~74及F81~F84,以利表3-1同樣的方法進行評價,其結果示於表3-3。
另外,密合性試驗係以下述之方法來進行。
(6)密合性評價在各抗反射薄膜試料之具有低折射率層之側的表面上,以切割刀切割成縱11條、橫11條之棋盤格狀,總計刻劃出100個正方形方格,壓合日東電工(股)公司製之聚酯黏著膠帶”編號31B”,進行密合試驗。以目視觀察有無剝離,進行下述之4段評價。
◎:確認在100個方格中全部沒有剝離者。○:在100個方格中,經確認剝離者為2格以內者。△:在100個方格中,經確認剝離者為3~10格者。×:在100個方格中,經確認剝離者為超過10格者。
由表3-3之結果來看,以下之事實至為顯然。
當減低UV照射量進行時,可以提高Rth/d。此時,雖然隨著UV照射量之減低,密合性會有惡化的傾向,然而當使用感光域為330奈米~450奈米、產生鹵素游離基的聚合起始劑A時,就難以引起密合性之惡化。從而,為了提高Rth/d,則較佳的態樣是使用感光域為330奈米~450奈米、產生鹵素游離基的聚合起始劑A。
又,由F71~F74和F81~F84之比較來看,當減低UV照射量進行時,可以提高Rth/d。此時,雖然隨著UV照射量之減低,密合性會有惡化的傾向,然而使用具有4官能以上之聚合性基的多官能單體來做為多官能單體者(F71~F74),比使用3官能之多官能單體者(F81~F84)還難以引起密合性惡化。從而,為了提高Rth/d,則較佳的態樣是使用具有4官能以上之聚合性基的多官能單體。
其次,對於光學補償薄膜F71,將含有碟狀液晶性化合物之塗布液(S2)的碟狀液晶性化合物(Ⅱ)及多官能單體DPHA之量,變更為如表3-4所示,製作F75~F77。
又,對於光學補償薄膜F81,將含有碟狀液晶性化合物之塗布液(S5)的碟狀液晶性化合物(Ⅱ)及多官能單體V#360之量,按照表3-4進行變更,製作F85~F87。
由表3-4之結果來看,以下之事實至為顯然。
當降低所含有的多官能單體之量進行時,可以提高Rth/d。此時,雖然隨著聚合物量之減低,密合性會有惡化的傾向,然而使用具有4官能以上之聚合性基的多官能單體來做為多官能單體者(F71和F75~F77),比使用3官能之多官能單體者(F81和F85~F87)還難以引起密合性惡化。從而,為了提高Rth/d,則較佳的態樣是使用具有4官能以上之聚合性基的多官能單體。
1...上側偏光板
2...下側偏光板
3...單軸或雙軸之光學異方向性層
4...單軸或雙軸之光學異方向性層遲相軸之方向
5...液晶胞上電極基板
6...上基板配向控制方向
7...液晶性分子
8...液晶胞下電極基板
9...下基板配向控制方向
10...光學異方向性層(本發明之光學補償薄膜之光學異方向性層)
14...下側偏光板
15...下側偏光板吸收軸之方向
101...偏光板保護膜
102...偏光板保護膜遲相軸之方向
103...偏光板偏光膜
104...偏光板吸收軸方向
105...偏光板保護膜
106...偏光板保護膜遲相軸之方向
第1圖為顯示本發明之液晶顯示元件之一例的概略模示圖。
第2圖係顯示本發明之偏光板之一例的概略模示圖。

Claims (32)

  1. 一種光學補償薄膜,其係在聚合物薄膜上具有至少一層的光學異方向性層之光學補償薄膜,590nm中的面內遲滯為0~10奈米及590nm中的厚度方向之遲滯為100~300奈米,且前述之薄膜滿足以下之關係式(1-1)~(1-3);式(1-1)-50nm≦Rth(590)≦150nm 式(1-2)-5nm≦Rth(450)-Rth(550) 式(1-3)0≦Re(590)≦10nm該聚合物薄膜進一步滿足以下之關係式(1-5),式(1-5)1.0<Rth(450)/Rth(550)<4.0且該光學補償薄膜進一步滿足以下之關係式(1-6),式(1-6)1.06≦Rth(450)/Rth(550)<1.30。
  2. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中薄膜係更進一步地滿足以下之關係式(1-4);式(1-4)20nm≦Rth(590)≦120nm。
  3. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中薄膜為含有以醯化纖維素為主的醯化纖維素系薄膜。
  4. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有1質量%~30質量%之在250奈米~400奈米之波長區域具有極大吸收的波長分散控制劑之聚合物薄膜。
  5. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有以下述式(B-1)所代表的化合物中之至少一 種的聚合物薄膜; 式中,R1 及R2 係分別代表烷基或芳基。
  6. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有以醯基取代度為2.90~3.00之醯化纖維素為主的醯化纖維素系薄膜。
  7. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係含有以總醯基取代度為2.70~3.00之混合脂肪酸酯為主的醯化纖維素系薄膜。
  8. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係滿足下述下述式(1-7)式(1-7)1.09≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
  9. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係使含有碟狀液晶之聚合性組成物硬化而形成的層,在前述光學異方向性層之中,前述之碟狀液晶係在將其圓盤面配向成相對於層面而言為水平之狀態下被固定。
  10. 如申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係在光學活性向列型(chiral nematic)(膽固醇型(cholesteric))液晶相之狀態下,藉由聚合來固定含有液晶之聚合性組成物而形成之層。
  11. 申請專利範圍第1項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係塗布高分子材料而形成之聚合物層,該聚合物層係具有負折射率異方向性,並且在層面之法線方向上具有光軸。
  12. 如申請專利範圍第1項光學補償薄膜,其光學異方向性層係包括含氟界面活性劑。
  13. 一種偏光板,其係具有如申請專利範圍第1至12項中任一項之光學補償薄膜。
  14. 一種光學補償薄膜,其係在聚合物薄膜基材上具有光學異方向性層之光學補償薄膜,而590nm中的面內遲滯(Re)為0~10奈米,590nm中的厚度方向之遲滯(Rth)為100~300奈米,且該光學異方向性層之Rth/d(厚度方向之遲滯除以膜厚度之比例值)為0.065~0.16,且滿足下述式(3-1);式(3-1)1.03≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
  15. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層之Rth/d為0.085~0.16。
  16. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係滿足下述式(3-2);式(3-2)1.06≦Rth(450)/Rth(550)≦1.30。
  17. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係由聚合性組成物所形成。
  18. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係含有光聚合起始劑,該光聚合起始劑之感光域為 在330奈米~450奈米之範圍,且該光聚合起始劑係產生鹵素游離基或除氫以外的原子數為8以下之烴游離基。
  19. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係含有具4個以上之雙鍵的多官能單體。
  20. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係為包括具有聚合性基的碟狀液晶性化合物之組成物,且在前述光學異方向性層之中,該碟狀液晶性化合物之碟狀構造單位相對於聚合物薄膜基材面而言為水平配向。
  21. 如申請專利範圍第20項之光學補償薄膜,其中碟狀液晶性化合物係以下述式(I)為代表的化合物, 〔式中,A1 及A2 係相互獨立地表示氫原子、鹵素原子、碳原子數為1~12之烷基、或碳原子數為1~12之烷氧基;Y係表示氫原子、鹵素原子、碳原子數為1~12之烷基、碳原子數為1~12之烷氧基、碳原子數為2~13之醯基、或碳原子數為1~12之烷胺基、或碳原子數為2~13之醯氧基;或者也可以是A2 與Y鍵結而形成五員環或六員環;Z係表示鹵素原子、碳原子 數為1~12之烷基、碳原子數為1~12之烷氧基、碳原子數為2~13之醯基、或碳原子數為1~12之烷胺基、或碳原子數為2~13之醯氧基;L係表示-O-、-CO-、-S-、-NH-、伸烷基、伸烯基、伸炔基、伸芳基及由此等組合而成之群組中所選出的二價連結基;Q係表示聚合性基;a係表示1~4之整數;b係表示0~(4-a)之整數〕。
  22. 如申請專利範圍第17項之光學補償薄膜,其中聚合性組成物係包括光學活性向列型(膽固醇型)液晶性化合物。
  23. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係包括含有氟基脂肪族的聚合物。
  24. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中光學異方向性層係包括在塗布之際具有負的折射率異方向性、且在面的法線方向上具有光軸之高分子材料。
  25. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜基材之厚度方向的遲滯係-25~25奈米。
  26. 如申請專利範圍第14項之光學補償薄膜,其中聚合物薄膜係醯化纖維素薄膜。
  27. 一種偏光板,其係具有如申請專利範圍第1至26項中任一項之光學補償薄膜。
  28. 一種液晶顯示裝置,其係具有吸收軸相互垂直的二枚偏光膜、及在前述二枚偏光板之間,具有一對基板及被挾持在該基板間的含有液晶性分子之液晶層,並且在不施 加外部電場的非驅動狀態下,前述液晶性分子係配向成相對於前述基板而言為呈90±10°的方向之液晶胞、與如申請專利範圍第1至26項中任一項之光學補償薄膜,或者前述偏光板中之一者為如申請專利範圍第27項之偏光板。
  29. 如申請專利範圍第28項之液晶顯示裝置,其中液晶顯示裝置係更進一步地具有第二光學補償薄膜,前述第二光學補償薄膜為由高分子拉伸薄膜構成,正面遲滯及厚度方向之遲滯係滿足下述式(8)及下述式(9):式(8)70≦Re(550)≦180 式(9)30≦Rth(550)≦140。
  30. 如申請專利範圍第28項之液晶顯示裝置,其中第二光學補償薄膜係滿足下述式(10):式(10)0.7≦Re(450)/Re(550)≦1.0。
  31. 如申請專利範圍第29項之液晶顯示裝置,其中第二光學補償薄膜係由醯化纖維素薄膜、降烯系薄膜、聚碳酸酯系薄膜、聚酯系薄膜及聚碸系薄膜之任一種類所構成。
  32. 如申請專利範圍第29項之液晶顯示裝置,其中第二光學補償薄膜係使其面內遲相軸相對於該偏光膜的吸收軸而言呈垂直地被直接積層在偏光膜之一側上。
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