JP5400735B2 - 基板処理方法、その基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録した記録媒体及び基板処理装置 - Google Patents
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Description
11、12、13 基板処理装置
30 処理槽
31 処理液循環機構
40 移送装置
41 ウェハガイド
53 モータ
60 制御部
63 コントローラ
Claims (8)
- 基板を処理するための処理液を貯留する処理槽と、前記処理槽内で基板を保持可能な基板保持部と、前記基板保持部を昇降駆動する駆動部とを有する基板処理装置における基板処理方法であって、
前記基板保持部が保持している基板を前記処理槽が貯留している処理液に浸漬させて処理する際に、前記基板保持部を前記駆動部により前記処理槽から上昇させて前記基板を前記処理液から引き上げ、上昇させた前記基板保持部を前記駆動部により下降させて前記基板を再び前記処理液に浸漬させることによって、前記基板を処理する際に発生する気泡を前記基板から除去し、
前記処理槽から溢れた処理液を回収し、回収した処理液を清浄化し、清浄化した処理液を再び前記処理槽に供給することによって処理液を循環させ、
前記基板を前記処理液から引き上げている時に処理液を循環させる循環流量は、前記基板を前記処理液に浸漬させている時に処理液を循環させる循環流量よりも多い
基板処理方法。 - 前記基板を前記処理液から引き上げている時に、処理液を所定期間循環させて前記処理槽に貯留されている処理液を清浄化する、請求項1に記載の基板処理方法。
- 前記気泡を前記基板から除去するとともに、前記基板が前記処理液に溶解した溶解物を前記基板から除去するものである、請求項1又は請求項2に記載の基板処理方法。
- 前記基板は、シリコン基板であり、
前記処理液は、前記シリコン基板をエッチング処理するアルカリ性のエッチング液である、請求項1から請求項3のいずれかに記載の基板処理方法。 - コンピュータに請求項1から請求項4のいずれかに記載の基板処理方法を実行させるためのプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
- 基板を処理するための処理液を貯留する処理槽と、
前記処理槽内で基板を保持可能な基板保持部と、
前記基板保持部を昇降駆動する駆動部と、
前記基板保持部が保持している基板を前記処理槽が貯留している処理液に浸漬させて処理する際に、前記基板保持部を前記駆動部により前記処理槽から上昇させて前記基板を前記処理液から引き上げ、上昇させた前記基板保持部を前記駆動部により下降させて前記基板を再び前記処理液に浸漬させることによって、前記基板を処理する際に発生する気泡を前記基板から除去する、制御部と、
前記処理槽から溢れた処理液を回収し、回収した処理液を清浄化し、清浄化した処理液を再び前記処理槽に供給することによって処理液を循環させる処理液循環機構と
を有し、
前記制御部は、前記基板を前記処理液から引き上げている時の前記処理液循環機構による処理液を循環させる循環流量が、前記基板を前記処理液に浸漬させている時の前記処理液循環機構による処理液を循環させる循環流量よりも多くなるように、前記処理液循環機構を制御する基板処理装置。 - 前記制御部は、前記基板を前記処理液から引き上げている時に、前記処理液循環機構により処理液を所定期間循環させて前記処理槽に貯留されている処理液を清浄化する、請求項6に記載の基板処理装置。
- 前記基板は、シリコン基板であり、
前記処理液は、前記シリコン基板をエッチング処理するアルカリ性のエッチング液である、請求項6又は請求項7に記載の基板処理装置。
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